株式会社日立ハイテクノロジーズ
有価証券報告書－第100期(平成30年4月1日－平成31年3月31日)

２【沿革】当社は1947年４月12日に株式会社日之出商会として設立されました。設立後まもなく商号を日製産業株式会社に変更しました。日製産業の名称は、日立製作所の「日」と「製」に因んでおります。設立当初は、内外有名メーカーの製品販売の商事会社としての方針を明確にし、国内主要都市及び海外主要地域へ逐次営業地域を拡張してまいりました。2001年10月１日に、株式会社日立製作所が吸収分割した計測器事業及び半導体製造装置事業を承継したことにより、製造機能を併せもつ会社となりました。これに伴い、商号を株式会社日立ハイテクノロジーズに変更しました。設立から現在までの経緯を表示しますと以下の通りであります。年月経歴西暦年月1947.４資本金195千円をもって、株式会社日之出商会として、東京都中央区に設立1947.10日製産業株式会社に商号変更1953.１本店所在地を東京都港区に移転1958.１本店所在地を東京都千代田区に移転1960.５ニューヨーク出張所を設置(支店を経て1969年４月アメリカ日製産業Ltd.として独立)1960.７デュッセルドルフ出張所を設置(1964年４月ドイツ日製産業G.m.b.H.として独立、2002年４月HitachiHigh-TechnologiesEuropeGmbHに商号変更)1964.２香港駐在所設置(支店を経て1995年４月日製産業香港有限公司として独立、2002年４月日立高科技香港有限公司に商号変更)1964.３本店所在地を東京都港区西新橋二丁目に移転1965．４日立計測器サービス㈱を設立(2006年７月㈱日立ハイテクフィールディングに商号変更)1971.10東京証券取引所第二部に上場1972.３シンガポール出張所を設置(1973年４月シンガポール日製産業Pte.Ltd.として独立、2002年４月HitachiHigh-Technologies(Singapore)Pte.Ltd.に商号変更)1972．４日製石油販売㈱を設立(1989年10月㈱日製メックスに商号変更し、その後2006年７月㈱日立ハイテクマテリアルズに商号変更)1972.５ブラジル日製産業Ltda.を設立(2002年４月HitachiHigh-TechnologiesdoBrasilLtda.に商号変更)1972.10大阪証券取引所第二部に上場1973．７㈱日製エレクトロニクスを設立1980.４カナダ日製産業Inc.を設立(2002年４月HitachiHigh-TechnologiesCanada,Inc.に商号変更)1983.９東京証券取引所、大阪証券取引所第一部に上場(2013年７月両現物市場の統合に伴い、大阪証券取引所第一部は東京証券取引所第一部に統合)日製ソフトウェア㈱を設立(2004年９月㈱日立ハイテクソリューションズに商号変更)1986.３本店所在地を東京都港区西新橋一丁目に移転1987.４日製サービス㈱を設立(2006年４月㈱日立ハイテクサポートに商号変更)1987.10日製エンジニアリング㈱を設立1993.４㈱日製サイエンスを設立1994.１タイランド日製産業Co.,Ltd.を設立(2002年４月HitachiHigh-Technologies(Thailand)Ltd.に商号変更)1994.10上海日製産業有限公司を設立(2002年５月日立高新技術(上海)国際貿易有限公司に商号変更)1998.１マレーシア日製産業IPCSdn.Bhd.を設立(2002年４月HitachiHigh-TechnologiesIPC(Malaysia)Sdn.Bhd.に商号変更)2001.10㈱日立製作所との吸収分割に伴い、商号を㈱日立ハイテクノロジーズに変更、㈱日立サイエンスシステムズ(2006年４月㈱日立ハイテクサイエンスシステムズに商号変更)、日立那珂エレクトロニクス㈱(2006年４月㈱日立ハイテクコントロールシステムズに商号変更)、那珂インスツルメンツ㈱(2003年６月日立那珂インスツルメンツ㈱に商号変更)他４社を子会社化2002.１日製産業貿易(深圳)有限公司を設立(2003年４月日立高新技術(深圳)貿易有限公司に商号変更)2002.３ギーゼッケ・アンド・デブリエント㈱を設立2002.４HitachiHighTechnologiesAmerica,Inc.を設立(アメリカ日製産業Ltd.、日立インスツルメンツInc.は合併により消滅、H.H.T.A.SemiconductorEquipmentIsrael,Ltd.他２社を子会社化)2003.４三洋ハイテクノロジー㈱と三洋ハイテクサービス㈱の全株式を取得し、それぞれ㈱日立ハイテクインスツルメンツ及び㈱日立ハイテクインスツルメンツサービスに商号変更2003.６商法特例法に定める委員会等設置会社に移行2004.３日立電子エンジニアリング㈱(2004年４月日立ハイテク電子エンジニアリング㈱に商号変更)の全株式を取得し、他４社を子会社化2004.４日製エンジニアリング㈱と㈱日製エレクトロニクスが合併し、㈱日立ハイテクトレーディングに商号変更(2012年４月㈱日立ハイテクソリューションズに商号変更)2004.７計測テクノロジー㈱と日立那珂インスツルメンツ㈱が合併し、㈱日立ハイテクマニファクチャ＆サービスに商号変更2005.４㈱日製サイエンスを吸収合併2005.４HitachiHigh-TechnologiesKoreaCo.,Ltd.を設立2005.５日立高科技貿易(上海)有限公司を設立2005.９日立先端科技股份有限公司を設立2006.４日立ハイテク電子エンジニアリング㈱を吸収合併2007.４㈱日立ハイテクサイエンスシステムズを吸収合併2007.６日立ハイテクデーイーテクノロジー㈱と㈱日立ハイテクインスツルメンツサービスが合併し、㈱日立ハイテクエンジニアリングサービスに商号変更(2013年４月㈱日立ハイテクファインシステムズに商号変更)2010.４㈱日立ハイテクインスツルメンツが、㈱ルネサス東日本セミコンダクタの電子装置事業及びこれに付随する事業を吸収分割承継2011.３日立高新技術(上海)国際貿易有限公司が日立高科技貿易(上海)有限公司を吸収合併2011.９PT.HitachiHigh-TechnologiesIndonesiaを設立2012.４㈱日立ハイテクトレーディングと㈱日立ハイテクソリューションズが㈱日立ハイテクトレーディングを存続会社として合併し、㈱日立ハイテクソリューションズに商号変更2013.１エスアイアイ・ナノテクノロジー㈱(㈱日立ハイテクサイエンスに商号変更)の全株式を取得し、他３社を子会社化2013.４ファインテックシステム事業統括本部の全事業を㈱日立ハイテクエンジニアリングサービスに譲渡し、同社は㈱日立ハイテクファインシステムズに商号変更2013.４2013.４ChorusCallAsia㈱を設立HitachiHigh-TechnologiesIndiaPrivateLimitedを設立2013.10㈱日立ハイテクサイエンスが、当社の分析装置事業の設計及び国内販売機能を吸収分割承継2013.10㈱日立ハイテクコントロールシステムズが、㈱日立ハイテクサイエンス、㈱日立ハイテクソリューションズを承継会社とする吸収分割、㈱日立ハイテクマニファクチャ＆サービスを存続会社とする合併を行い、解散2014.１HitachiHigh-TechnologiesRUSLimitedLiabilityCompanyを設立2014.４HitachiHigh-TechnologiesMexicoS.A.deC.V.を設立2014.６HitachiHigh-TechAWCryo,Inc.を設立2015.３㈱日立ハイテクインスツルメンツとの共同新設分割により、ファスフォードテクロノジ㈱を設立して両社の半導体後工程事業を承継させ、同社の全発行済株式を㈱TYホールディングスに譲渡2015.９㈱日立ハイテクインスツルメンツを吸収合併2016.９㈱日立ハイテク九州を設立2017.７OxfordInstrumentsplcの子会社MaterialsAnalysisLtd.(HitachiHigh-TechAnalyticalScienceLtd.に商号変更)他４社の全株式を取得し、子会社化2018.５SmartFactory&amp;ServicesHoldings(Thailand)Co.,Ltd.を設立2018.６HitachiHigh-TechAmataSmartServicesCo.,Ltd.を設立2019.１AppliedPhysicsTechnologiesInc.の全株式を取得し、子会社化