セラミック粉末であって、次のイからハまでの全てに該当するもの
イ
次のいずれかに該当するものからなるもの
（一）
ジルコニウムの単一又は複合酸化物及びシリコン又はアルミニウムの複合酸化物
（二）
ほう素の単一窒化物（立方晶窒化ほう素に限る。）
（三）
シリコン又はほう素の単一又は複合炭化物
（四）
シリコンの単一又は複合窒化物
ロ
金属不純物の含有量の全重量に占める割合が、次の数値未満のもの
（一）
単一酸化物又は単一炭化物にあっては、〇・一パーセント
（二）
複合化合物又は単一窒化物にあっては、〇・五パーセント
ハ
次のいずれかに該当するもの
（一）
酸化ジルコニウムであって、粒子の径の平均値が一マイクロメートル以下のもののうち、径が五マイクロメートルを超える粒子の重量の合計が全重量の十パーセント以下であるもの
（二）
粒子の径の平均値が五マイクロメートル以下であって、径が十マイクロメートルを超える粒子の重量の合計が全重量の十パーセント以下であるもの（（一）に該当するものを除く。）
二
前号の物質からなるセラミック（研磨材を除く。）
４
外為令別表の五の項（四）の経済産業省令で定める技術は、ポリベンゾチアゾール又はポリベンゾオキサゾールの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。
５
外為令別表の五の項（五）の経済産業省令で定める技術は、ビニルエーテルのモノマーを含むゴム状のふっ素化合物の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。
６
外為令別表の五の項（七）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。
一
第四条第十二号ハ若しくはニ若しくは第十五号ハ若しくはニ又は第十四条第一号に該当するものを設計するためのプログラム
二
有機物、金属又は炭素をマトリックスとする複合材料を設計するためのプログラム（前号に該当するものを除く。）
７
外為令別表の五の項（八）の経済産業省令で定める技術は、第十四条第二号に該当する電波の吸収材又は導電性高分子の使用（据付、保守又は修理に係るものに限る。）に係る技術（プログラムを除く。）とする。
第十八条
外為令別表の六の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。
一
次のいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）
イ
第五条第二号イ又は同号ロ（一）若しくは（二）のいずれかに該当するものであって、いずれか一軸以上の直線軸の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇〇九ミリメートル以下のもの
ロ
第五条第二号ロ（三）若しくはニ、第三号又は第五号のいずれかに該当するもの
二
前号に掲げるもののほか、第五条に該当する貨物の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）
三
次のいずれかに該当するものを設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）
イ
第五条第二号イ又は同号ロ（一）若しくは（二）のいずれかに該当するものであって、いずれか一軸以上の直線軸の一方向位置決めの繰返し性が〇・〇〇〇九ミリメートル以下のもの
ロ
第五条第二号ロ（三）若しくはニ、第三号又は第五号のいずれかに該当するもの
四
前号に掲げるもののほか、第五条に該当する貨物を設計し、若しくは製造するために設計したプログラム又はそのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）
２
外為令別表の六の項（二）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。
一
第五条第一号ハ、第二号、第三号又は第五号から第十一号までのいずれかに該当するものを使用するために設計したプログラム
二
第五条第四号に該当するものを操作するために設計又は改造したプログラムであって、工作物を任意の形状に加工するために光学設計、工作物の寸法及び材料除去機能を数値制御コマンドに変換するもの
三
前二号に掲げるプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）
３
外為令別表の六の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。
一
数値制御装置として機能することを可能にするプログラムであって、輪郭制御をすることができる軸数が五以上のもの又はそのプログラムの設計に必要な技術（プログラムを除く。）
二
削除
三
削除
四
意思決定を支援するエキスパートシステムを数値制御装置に組み込むためのプログラムの設計に係る技術（プログラムを除く。）
五
別表第三の第二欄に掲げるコーティング方法を用いる非電子的基板用コーティング技術であって、同表の第三欄に掲げる基材に対して行う同表の第四欄に掲げるコーティングに係るもの（プログラムを除く。）
４
外為令別表の六の項（四）の経済産業省令で定める技術は、超塑性成形、拡散接合又は直圧式液圧プレスによる金属の加工用の工具（型を含む。）の設計に係る技術（プログラムを除く。）とする。
５
外為令別表の六の項（五）の経済産業省令で定める技術は、航空機材の製造用の液圧式引張成形機（その型を含む。）の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）とする。
第十九条
外為令別表の七の項（一）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。
一
第六条第二号ハ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくはニ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくは４又は第十六号ロに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）
二
第六条に該当するもの（同条第二号ハ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくはニ（一）５若しくは６若しくは（二）３若しくは４又は第十六号ロに該当するものを除く。）の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれにも該当しないもの
イ
同条第十六号の二に該当するものの製造に必要な技術
ロ
同条第一号ハからルまでのいずれかに該当する集積回路のうち、次の（一）及び（二）に該当するものの設計又は製造に必要な技術
（一）
最小線幅が〇・一三〇マイクロメートル以上のもの
（二）
多層構造を有するもの（金属層が三層以下のものに限る。）
ハ
プロセスデザインキット（同条第一号から第八号の四までのいずれかに該当する貨物に係る機能又は技術を実装するライブラリが含まれているものを除く。）
三
第六条第十六号ロに該当するものを設計し、又は製造するために設計したプログラム
四
第六条第十六号の二に該当するものを設計するために設計したプログラム
五
第六条に該当するもの（前二号又は同条第一号若しくは第十八号から第二十四号までのいずれかに該当するものを除く。）を設計し、又は製造するために設計したプログラム
２
外為令別表の七の項（二）の経済産業省令で定める技術は、第六条第十七号イ、ロ、ホ、ヘ又はヌからフまでのいずれかに該当するものを使用するために設計したプログラムとする。
３
外為令別表の七の項（三）の経済産業省令で定める技術は、次のいずれかに該当するものとする。
一
極端紫外を用いて集積回路を製造するための装置用のマスク又はレチクルのパターンを設計するために特に設計したコンピューテーショナル・リソグラフィ・プログラム
二
絶縁体が二酸化けい素からなる集積回路の基板であって、シリコンオンインシュレータ構造を有するものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）
三
マイクロプロセッサ、マイクロコンピュータ又はマイクロコントローラのコアであって、論理演算ユニットのアクセス幅のビット数が三二以上のもののうち、次のいずれかに該当するものの設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）
イ
ベクトル演算器であって、浮動小数点ベクトル演算処理を同時に二を超えて実現できるように設計したもの
ロ
六四ビット以上の浮動小数点演算処理を一サイクル当たり四を超えて実現できるように設計したもの
ハ
一六ビットの固定小数点積和演算処理を一サイクル当たり八を超えて実現できるように設計したもの
四
電磁パルス又は静電放電による中断から一ミリ秒以内に動作の連続性を失うことなくマイクロコンピュータ又はマイクロプロセッサを正常状態に回復するように特に設計したプログラム
五
直径三〇〇ミリメートルのシリコンウエハーの外周の除外領域を二ミリメートル以下としたウエハーの表面に対するスライス、研削及び研磨の技術のうち、長さ二六ミリメートル、幅八ミリメートルの長方形に分割されたいずれの領域における平坦度が二〇ナノメートル以下を達成するために必要な技術（プログラムを除く。）
六
ゲートオールアラウンド電界効果トランジスタ（ＧＡＡＦＥＴ）の構造を有する集積回路を設計するために特に設計したＥＣＡＤプログラムであって、次のいずれかに該当するもの
イ
レジスタ転送レベル（ＲＴＬ）をＧＤＳⅡ又はこれと同等のデータベースファイル形式に実装するために特に設計したもの
ロ
設計する集積回路内のデータ処理における消費電力又はデータを転送するまでに要する時間を最適化するために特に設計したもの
七
走査型電子顕微鏡により取得した画像からＧＤＳⅡデータ又はこれと同等の標準レイアウトデータを抽出し、当該データの層間位置合わせ機能を実行し、多層のＧＤＳⅡデータ又は回路のネットリストを生成するために設計したプログラム
八
ゲートオールアラウンド電界効果トランジスタ（ＧＡＡＦＥＴ）の構造を有する集積回路又は半導体素子の設計又は製造に必要な技術（プログラムを除く。）であって、次のいずれにも該当しないもの
イ
プロセスデザインキット（第六条第一号から第八号の四までのいずれかに該当する貨物に係る機能又は技術を実装するライブラリが含まれているものを除く。）
ロ
ツールの認定又は保守に用いるもの
４