アルファ中性子反応により中性子源を発生させるに適した放射性核種又はその化合物若しくは混合物（装置に内蔵された化合物又は混合物であって、一装置当たりの崩壊による放射能の総量が三・七ギガベクレル未満のものを除く。）であって、一キログラム当たりの崩壊による放射能の総量が三七ギガベクレル以上のもの
二十五
ほう素、ほう素化合物若しくはほう素混合物又はこれらの半製品若しくは一次製品であって、ほう素一〇のほう素一〇及びほう素一一に対する比率が天然の比率を超えて濃縮されたほう素から構成されるもの又はそのほう素を含むもの
二十六
核燃料物質の製造用の還元剤又は酸化剤として用いられる物質であって、次のいずれかに該当するもの
イ
カルシウムであって、次の（一）及び（二）に該当するもの
（一）
カルシウム又はマグネシウム以外の金属の含有量が全重量の〇・一パーセント未満のもの
（二）
ほう素の含有量が全重量の〇・〇〇一パーセント未満のもの
ロ
三ふっ化塩素
ハ
マグネシウムであって、次の（一）及び（二）に該当するもの
（一）
マグネシウム又はカルシウム以外の金属の含有量が全重量の〇・〇二パーセント未満のもの
（二）
ほう素の含有量が全重量の〇・〇〇一パーセント未満のもの
二十七
アクチニドに対して耐食性のある材料を用いたるつぼであって、次のいずれかに該当するもの
イ
容量が〇・一五リットル超八リットル未満のるつぼであって、次のいずれかに該当する材料若しくはこれらを組み合わせたもの（不純物の総重量の当該るつぼの総重量に対する割合が二パーセント以下のものに限る。）からなるもの又はその材料により被覆されたもの
（一）
ふっ化カルシウム
（二）
メタジルコン酸カルシウム
（三）
硫化セリウム
（四）
酸化エルビウム
（五）
酸化ハフニウム
（六）
酸化マグネシウム
（七）
ニオブ、チタン及びタングステンからなる合金であって、窒化したもの
（八）
酸化イットリウム
（九）
酸化ジルコニウム
ロ
容量が〇・〇五リットル超二リットル未満のるつぼであって、重量比による純度が九九・九パーセント以上のタンタル製のもの又はそのタンタルで裏打ちされたもの
ハ
容量が〇・〇五リットル超二リットル未満のるつぼであって、重量比による純度が九八パーセント以上のタンタル製のもの又はそのタンタルで裏打ちされたもののうち、タンタルの炭化物、窒化物、ほう化物又はこれらのいずれかを組み合わせたもので被覆されたもの
二十八
ハフニウム若しくはハフニウム合金（ハフニウムの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるものに限る。）の地金若しくはくず若しくはハフニウム化合物（ハフニウムの含有量が全重量の六〇パーセントを超えるものに限る。）又はこれらの半製品若しくは一次製品
二十九
リチウム若しくはリチウム合金の地金若しくはくず若しくはリチウム化合物若しくはリチウム混合物又はこれらの半製品若しくは一次製品であって、リチウム六のリチウム六及びリチウム七に対する比率が天然の比率を超えて濃縮されたリチウムから構成されるもの又はそのリチウムを含むもの（熱ルミネセンス線量計に組み込まれたリチウム化合物又はリチウム混合物を除く。）
三十
タングステン、タングステンの炭化物又はタングステンの含有量が全重量の九〇パーセントを超える合金であって、質量が二〇キログラムを超え、かつ、内径が一〇〇ミリメートル超三〇〇ミリメートル未満の円筒形のもの若しくは中空の半球形のもの又はこれらを組み合わせたもの（おもり又はガンマ線のコリメータ用に設計されたものを除く。）
三十一
ジルコニウム若しくはジルコニウム合金（ジルコニウムの含有量が全重量の五〇パーセントを超えるものに限る。）の地金若しくはくず若しくはジルコニウム化合物（ハフニウムの含有量がジルコニウムの含有量の五〇〇分の一未満のものに限る。）又はこれらの半製品若しくは一次製品（厚さが〇・一ミリメートル以下のはくを除く。）
三十二
ふっ素製造用の電解槽であって、製造能力が一時間当たり二五〇グラムを超えるもの
三十三
ガス遠心分離機のロータの製造用若しくは組立用の装置又はその部分品であって、次のいずれかに該当するもの
イ
ガス遠心分離機のロータのチューブ、バッフル及びエンドキャップの組立用の装置
ロ
ガス遠心分離機のロータのチューブの中心軸を調整するための装置
ハ
次の（一）から（三）までのすべてに該当するベローズ（アルミニウム合金、マルエージング鋼又は繊維で強化した複合材料からなるものに限る。）の製造用のマンドレル又は型
（一）
内径が七五ミリメートル超六五〇ミリメートル未満のもの
（二）
溝のピッチが一二・七ミリメートル以上のもの
（三）
溝の深さが二ミリメートルを超えるもの
三十四
遠心力式釣合い試験機（一面釣合い試験機を除く。）であって、次のいずれかに該当するもの（第三条第十七号の三ロに該当するものを除く。）
イ
長さが六〇〇ミリメートル以上の弾性ロータを試験することができるように設計したものであって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの
（一）
外径が七五ミリメートルを超える弾性ロータを試験することができるもの又はジャーナルの径が七五ミリメートルを超えるもの
（二）
重量が〇・九キログラム以上二三キログラム以下の弾性ロータを試験することができるもの
（三）
一分につき五、〇〇〇回転を超える回転数で試験することができるもの
ロ
円筒形のロータを試験することができるように設計したものであって、次の（一）から（四）までの全てに該当するもの
（一）
ジャナールの径が七五ミリメートルを超えるもの
（二）
重量が〇・九キログラム以上二三キログラム以下のロータを試験することができるもの
（三）
修正面上の到達最小比不釣合いが一キログラム当たり一〇グラムミリメートル以下のもの
（四）
ベルト駆動式のもの
三十五
フィラメントワインディング装置であって、次のイ及びロに該当するもの又はその制御装置若しくはマンドレル
イ
繊維を位置決めし、包み及び巻く作業を行うもののうち、それらの作業を相関して制御することができる軸数が二以上のもの
ロ
内径が七五ミリメートル超六五〇ミリメートル未満であって、かつ、長さが三〇〇ミリメートル以上の円筒形のチューブを製造することができるもの
三十六
ガスレーザー発振器、固体レーザー発振器又は色素レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
イ
五〇〇ナノメートル超六〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計した金属蒸気レーザー発振器（銅レーザー発振器に限る。）であって、平均出力が三〇ワット以上のもの
ロ
四〇〇ナノメートル超五一五ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計したアルゴンイオンレーザー発振器であって、平均出力が四〇ワットを超えるもの
ハ
九、〇〇〇ナノメートル超一一、〇〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計した二酸化炭素レーザー発振器であって、パルスを発振するように設計したもののうち、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの
（一）
パルス繰返し周波数が二五〇ヘルツを超えるもの
（二）
平均出力が五〇〇ワットを超えるもの
（三）
パルス幅が二〇〇ナノ秒未満のもの
ニ
二四〇ナノメートル超三六〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計したエキシマレーザー発振器であって、パルスを発振するように設計したもののうち、次の（一）及び（二）に該当するもの
（一）
パルス繰返し周波数が二五〇ヘルツを超えるもの
（二）
平均出力が五〇〇ワットを超えるもの
ホ
一六マイクロメートルの波長で用いるように設計したパラ水素を用いたラマンレーザー発振器であって、パルス繰返し周波数が二五〇ヘルツを超えるもの
ヘ
七二〇ナノメートル超八〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計したアレキサンドライトレーザー発振器であって、次の（一）から（三）までのすべてに該当するもの
（一）
パルス繰返し周波数が一二五ヘルツを超えるもの
（二）
平均出力が三〇ワットを超えるもの
（三）
レーザー光のスペクトル線幅が〇・〇〇五ナノメートル以下のもの
ト
一、〇〇〇ナノメートル超一、一〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計したネオジムを添加した固体レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの（ネオジムガラスレーザー発振器を除く。）
（一）
パルス励起及びキュースイッチを用いたものであって、一ナノ秒以上のパルス幅のパルスを発振するもののうち、次のいずれかに該当するもの
１
単一横モードのパルスを発振するものであって、平均出力が四〇ワットを超えるもの
２
多重横モードのパルスを発振するものであって、平均出力が五〇ワットを超えるもの
（二）
波長範囲が五〇〇ナノメートル超五五〇ナノメートル未満で、かつ、平均出力が四〇ワットを超える第二高調波を発生するように設計したもの
チ
三〇〇ナノメートル超八〇〇ナノメートル未満の波長範囲で用いるように設計した色素レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
（一）
単一モードのパルスを発振する波長可変レーザー発振器（レーザー光の増幅のみを行う装置を除く。）であって、次の１から３までのすべてに該当するもの
１
パルス繰返し周波数が一キロヘルツを超えるもの
２
平均出力が一ワットを超えるもの
３
パルス幅が一〇〇ナノ秒未満のもの
（二）
パルスを発振する波長可変レーザー発振器であって、次の１から３までのすべてに該当するもの（（一）に該当するものを除く。）
１
パルス繰返し周波数が一キロヘルツを超えるもの
２
平均出力が三〇ワットを超えるもの
３
パルス幅が一〇〇ナノ秒未満のもの
リ