一パルス当たり一ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が二〇ワットを超えるもの
２
平均出力又は持続波の定格出力が二〇ワットを超えるもの
（三）
一、四〇〇ナノメートルを超える波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの
１
一パルス当たり五〇ミリジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が一ワットを超えるもの
２
平均出力又は持続波の定格出力が一ワットを超えるもの
ニ
レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
（一）
半導体レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
１
単一横モードで発振する単一の半導体レーザーダイオードであって、次のいずれかに該当するもの
一
一、五七〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二・〇ワットを超えるもの
二
一、五七〇ナノメートルを超える波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が五〇〇ミリワットを超えるもの
２
多重横モードで発振する単一の半導体レーザーダイオードであって、次のいずれかに該当するもの
一
一、四〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二五ワットを超えるもの
二
一、四〇〇ナノメートル以上一、九〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二・五ワットを超えるもの
三
一、九〇〇ナノメートル以上の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が一ワットを超えるもの
３
単一の半導体レーザーバーであって、次のいずれかに該当するもの（４又は５の半導体レーザースタックアレーに組み込まれたものを除く。）
一
一、四〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が一〇〇ワットを超えるもの
二
一、四〇〇ナノメートル以上一、九〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が二五ワットを超えるもの
三
一、九〇〇ナノメートル以上の波長範囲で使用するように設計したものであって、平均出力又は持続波の定格出力が一〇ワットを超えるもの
４
半導体レーザースタックアレーであって、次のいずれかに該当するもの
一
一、四〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの
イ
総平均出力又は持続波の総定格出力が三キロワット未満であって、平均出力密度又は持続波の定格出力密度が五〇〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの
ロ
総平均出力又は持続波の総定格出力が三キロワット以上五キロワット以下であって、平均出力密度又は持続波の定格出力密度が三五〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの
ハ
総平均出力又は持続波の総定格出力が五キロワットを超えるもの
ニ
ピークパルス出力密度が二、五〇〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの（エピタキシャル成長によって形成されたモノリシック型のものを除く。）
ホ
空間的に干渉し得る波の総平均出力又は持続波の総定格出力が一五〇ワットを超えるもの
二
一、四〇〇ナノメートル以上一、九〇〇ナノメートル未満の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの
イ
総平均出力又は持続波の総定格出力が二五〇ワット未満であって、平均出力密度又は持続波の定格出力密度が一五〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの
ロ
総平均出力又は持続波の総定格出力が二五〇ワット以上五〇〇ワット以下であって、平均出力密度又は持続波の定格出力密度が五〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの
ハ
総平均出力又は持続波の総定格出力が五〇〇ワットを超えるもの
ニ
ピークパルス出力密度が五〇〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの（エピタキシャル成長によって形成されたモノリシック型のものを除く。）
ホ
空間的に干渉し得る波の総平均出力又は持続波の総定格出力が一五ワットを超えるもの
三
一、九〇〇ナノメートル以上の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの
イ
平均出力密度又は持続波の定格出力密度が五〇ワット毎平方センチメートルを超えるもの
ロ
総平均出力又は持続波の総定格出力が十ワットを超えるもの
ハ
空間的に干渉し得る波の総平均出力又は持続波の総定格出力が一・五ワットを超えるもの
四
３に該当する半導体レーザーバーを一以上含むもの
５
半導体レーザースタックアレーであって、他の半導体レーザースタックアレーと結合するように設計したもののうち、他の半導体レーザースタックアレーと電子回路及び冷却ユニットを共有するための接合部を有するもの（４に該当するものを除く。）
（二）
一酸化炭素レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
１
一パルス当たり二ジュールを超えるパルスを発振し、かつ、ピーク出力が五キロワットを超えるもの
２
平均出力又は持続波の定格出力が五キロワットを超えるもの
（三）
二酸化炭素レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
１
持続波の定格出力が一五キロワットを超えるもの
２
一〇マイクロ秒を超えるパルス幅でパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの
一
平均出力が一〇キロワットを超えるもの
二
ピーク出力が一〇〇キロワットを超えるもの
３
一〇マイクロ秒以下のパルス幅でパルスを発振するものであって、次のいずれかに該当するもの
一
一パルス当たり五ジュールを超えるパルスを発振するもの
二
平均出力が二・五キロワットを超えるもの
（四）
エキシマレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
１
一五〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの
一
一パルス当たり五〇ミリジュールを超えるパルスを発振するもの
二
平均出力が一ワットを超えるもの
２
一五〇ナノメートル超一九〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの
一
一パルス当たり一・五ジュールを超えるパルスを発振するもの
二
平均出力が一二〇ワットを超えるもの
３
一九〇ナノメートル超三六〇ナノメートル以下の波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの
一
一パルス当たり一〇ジュールを超えるパルスを発振するもの
二
平均出力が五〇〇ワットを超えるもの
４
三六〇ナノメートルを超える波長範囲で使用するように設計したものであって、次のいずれかに該当するもの
一
一パルス当たり一・五ジュールを超えるパルスを発振するもの
二
平均出力が三〇ワットを超えるもの
（五）
化学レーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
１
ふっ化水素レーザー発振器
２
ふっ化重水素レーザー発振器
３
トランスファーレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
一
酸素からの励起移動によって励起するように設計したよう素レーザー発振器
二
ふっ化重水素からの励起移動によって励起するように設計した二酸化炭素レーザー発振器
（六）
非繰返しパルスを発振するネオジムガラスレーザー発振器であって、次のいずれかに該当するもの
１
一マイクロ秒以下のパルス幅でパルスを発振し、かつ、一パルス当たり五〇ジュールを超えるパルスを発振するもの
２
一マイクロ秒を超えるパルス幅でパルスを発振し、かつ、一パルス当たり一〇〇ジュールを超えるパルスを発振するもの
ホ
レーザー発振器の部分品であって、次のいずれかに該当するもの
（一）
反射鏡であって、ヒートパイプを用いることにより又は鏡面下一ミリメートル未満の位置に流体を流すことにより冷却するように設計したもの
（二）
反射鏡又は透過性を有する（部分的に透過する場合を含む。）光学部品若しくは電気光学部品であって、イからニまでのいずれかに該当するレーザー発振器に使用するように設計したもの（融着型テーパーファイバーコンバイナー及び多層膜誘電体グレーティングを除く。）
（三）
ファイバーレーザー発振器の部分品であって、次のいずれかに該当するもの
１
入出力ともにマルチモードファイバーを用いた融着型テーパーファイバーコンバイナーであって、次の一及び二に該当するもの
一
一、〇〇〇ワットを超える総定格平均出力又は持続波の総定格出力（シングルモードコアを通って伝送される出力を除く。）における挿入損失が〇・三デシベル以下に維持されるもの
二
入力ファイバーの数が三以上のもの
２
入力にシングルモードファイバーを、出力にマルチモードファイバーを用いた融着型テーパーファイバーコンバイナーであって、次の全てに該当するもの
一
四、六〇〇ワットを超える総定格平均出力又は持続波の総定格出力における挿入損失が〇・五デシベル未満に維持されるもの
二
入力ファイバーの数が三以上のもの
三
次のいずれかに該当するもの
イ
入力ファイバーの数が五以下であって、出力におけるビームパラメータ積が一・五ミリメートル・ミリラジアン以下のもの
ロ
入力ファイバーの数が五を超えるものであって、出力におけるビームパラメータ積が二・五ミリメートル・ミリラジアン以下のもの
３
多層膜誘電体グレーティングであって、次の一及び二に該当するもの
一
五以上のファイバーレーザー発振器のビームをスペクトル的又はコヒーレント的に結合するために設計されたもの
二
持続波レーザー損傷閾値が一平方センチメートル当たり一〇キロワット以上のもの
ヘ