English: 7/ 00 Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor (using photoresist structures for special production processes, see the relevant places, e.g. B 44 C, H 01 L, e.g. H 01 L 21/00, H 05 K) [3,5] 7/ 004 . Photosensitive materials (G 03 F 7/12, G 03 F 7/14 take precedence) [5] 7/ 008 . . Azides (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 012 . . . Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders [5] 7/ 016 . . Diazonium salts or compounds (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 021 . . . Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders [5] 7/ 022 . . Quinonediazides (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 023 . . . Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders [5] 7/ 025 . . Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon triple bonds, e.g. acetylenic compounds (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 027 . . Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 028 . . . with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators [5] 7/ 029 . . . . Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur [5] 7/ 031 . . . . Organic compounds not covered by group G 03 F 7/029 [5] 7/ 032 . . . with binders [5] 7/ 033 . . . . the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers [5] 7/ 035 . . . . the binders being polyurethanes [5] 7/ 037 . . . . the binders being polyamides or polyimides [5] 7/ 038 . . Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable (G 03 F 7/075 takes precedence; macromolecular azides G 03 F 7/012; macromolecular diazonium compounds G 03 F 7/021) [5] 7/ 039 . . Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists (G 03 F 7/075 takes precedence; macromolecular quinonediazides G 03 F 7/023) [5] 7/ 04 . . Chromates (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 06 . . Silver salts (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 07 . . . used for diffusion transfer [5] 7/ 075 . . Silicon-containing compounds [5] 7/ 085 . . Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 09 . . characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers (supports for printing plates in general B 41 N) [5] 7/ 095 . . . having more than one photosensitive layer (G 03 F 7/075 takes precedence) [5] 7/ 105 . . . having substances, e.g. indicators, for forming visible images [5] 7/ 11 . . . having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers [5] 7/ 115 . . . having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing [5] 7/ 12 . Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils 7/ 14 . Production of collotype printing forms 7/ 16 . Coating processes; Apparatus therefor (applying coatings to base materials in general B 05; applying photosensitive compositions to the base for photographic purposes G 03 C 1/74) 7/ 18 . . Coating curved surfaces 7/ 20 . Exposure; Apparatus therefor (photographic printing apparatus for making copies G 03 B 27/00) [4] 7/ 207 . . Means for focusing, e.g. automatically (combination of positioning and focusing G 03 F 9/02; systems for automatic generation of focusing signals in general G 02 B 7/28; means for automatic focusing of projection printing apparatus G 03 B 27/34) [4] 7/ 213 . . Exposing with the same light pattern different positions of the same surface at the same time (G 03 F 7/207 takes precedence) [4] 7/ 22 . . Exposing sequentially with the same light pattern different positions of the same surface (G 03 F 7/207 takes precedence) [4] 7/ 23 . . . Automatic means therefor [4] 7/ 24 . . Curved surfaces 7/ 26 . Processing photosensitive materials; Apparatus therefor (G 03 F 7/12 to G 03 F 7/24 take precedence) [3,5] 7/ 28 . . for obtaining powder images (G 03 F 3/10 takes precedence) [5] 7/ 30 . . Imagewise removal using liquid means [5] 7/ 32 . . . Liquid compositions therefor, e.g. developers [5] 7/ 34 . . Imagewise removal by selective transfer, e.g. peeling away [5] 7/ 36 . . Imagewise removal not covered by groups G 03 F 7/30 to G 03 F 7/34, e.g. using gas streams, using plasma [5] 7/ 38 . . Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking [5] 7/ 40 . . Treatment after imagewise removal, e.g. baking [5] 7/ 42 . . Stripping or agents therefor [5]
French: 7/ 00 Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet (utilisant des structures de photoréserves pour des procédés de production particuliers, voir les endroits appropriés, p.ex. B 44 C, H 01 L, p.ex. H 01 L 21/00, H 05 K) [3,5] 7/ 004 . Matériaux photosensibles (G 03 F 7/12, G 03 F 7/14 ont priorité) [5] 7/ 008 . . Azides (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 012 . . . Azides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants [5] 7/ 016 . . Sels de diazonium ou leurs composés (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 021 . . . Composés de diazonium macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants [5] 7/ 022 . . Quinonediazides (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 023 . . . Quinonediazides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants [5] 7/ 025 . . Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des triples liaisons carbone-carbone, p.ex. composés acétyléniques (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 027 . . Composés photopolymérisables non macromoléculaires contenant des doubles liaisons carbone-carbone, p.ex. composés éthyléniques (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 028 . . . avec des substances accroissant la photosensibilité, p.ex. photo-initiateurs [5] 7/ 029 . . . . Composés minéraux; Composés d'onium; Composés organiques contenant des hétéro-atomes autres que l'oxygène, l'azote ou le soufre [5] 7/ 031 . . . . Composés organiques non couverts par le groupe G 03 F 7/029 [5] 7/ 032 . . . avec des liants [5] 7/ 033 . . . . les liants étant des polymères obtenus par des réactions faisant intervenir uniquement des liaisons non saturées carbone-carbone, p.ex. polymères vinyliques [5] 7/ 035 . . . . les liants étant des polyuréthanes [5] 7/ 037 . . . . les liants étant des polyamides ou des polyimides [5] 7/ 038 . . Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables (G 03 F 7/075 a priorité; azides macromoléculaires G 03 F 7/012; composés de diazonium macromoléculaires G 03 F 7/021) [5] 7/ 039 . . Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons (G 03 F 7/075 a priorité; quinonediazides macromoléculaires G 03 F 7/023) [5] 7/ 04 . . Chromates (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 06 . . Sels d'argent (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 07 . . . pour diffusion par transfert [5] 7/ 075 . . Composés contenant du silicium [5] 7/ 085 . . Compositions photosensibles caractérisées par les additifs non macromoléculaires augmentant l'adhérence (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 09 . . caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires (supports pour plaques d'impression en général B 41 N) [5] 7/ 095 . . . ayant plus d'une couche photosensible (G 03 F 7/075 a priorité) [5] 7/ 105 . . . avec des substances, p.ex. des indicateurs, pour obtenir des images visibles [5] 7/ 11 . . . avec des couches de recouvrement ou des couches intermédiaires, p.ex. couches d'ancrage [5] 7/ 115 . . . avec des supports ou couches ayant des moyens pour obtenir un effet de réseau ou pour augmenter le contact dans le tirage sous vide [5] 7/ 12 . Production de formes d'impression pour sérigraphie ou de formes d'impression similaires, p.ex. stencils 7/ 14 . Production de formes d'impression pour collotypie 7/ 16 . Procédés de couchage; Appareillages à cet effet (application des couches sur les matériaux de support en général B 05; application des couches photosensibles sur le support pour la photographie G 03 C 1/74) 7/ 18 . . Couchage des surfaces incurvées 7/ 20 . Exposition; Appareillages à cet effet (dispositifs de tirage photographique de copies G 03 B 27/00) [4] 7/ 207 . . Dispositifs de mise au point, p.ex. automatique (positionnement et mise au point combinés G 03 F 9/02; systèmes pour la génération automatique de signaux de mise au point G 02 B 7/28; dispositifs de mise au point pour le tirage photographique G 03 B 27/34) [4] 7/ 213 . . Exposition simultanée avec le même motif lumineux de différentes zones de la même surface (G 03 F 7/207 a priorité) [4] 7/ 22 . . Exposition successive avec le même motif lumineux de différentes zones de la même surface (G 03 F 7/207 a priorité) [4] 7/ 23 . . . Dispositifs automatiques à cet effet [4] 7/ 24 . . Surfaces incurvées 7/ 26 . Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet (G 03 F 7/12 à G 03 F 7/24 ont priorité) [3,5] 7/ 28 . . pour obtenir des images par poudrage (G 03 F 3/10 a priorité) [5] 7/ 30 . . Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides [5] 7/ 32 . . . Compositions liquides à cet effet, p.ex. développateurs [5] 7/ 34 . . Dépouillement selon l'image par transfert sélectif, p.ex. par arrachement [5] 7/ 36 . . Dépouillement selon l'image non couvert par les groupes G 03 F 7/30 à G 03 F 7/34, p.ex. utilisant un courant gazeux, un plasma [5] 7/ 38 . . Traitement avant le dépouillement selon l'image, p.ex. préchauffage [5] 7/ 40 . . Traitement après le dépouillement selon l'image, p.ex. émaillage [5] 7/ 42 . . Elimination des réserves ou agents à cet effet [5]