natgillin/translations-raw huggingface dataset:
The resin forms the matrix of the composite.
begränsade till ett arbetsstycke som är högst 150 mm i ytterdiameter eller längd. b)
In 1C210, 'fibrous or filamentary materials' is restricted to continuous "monofilaments", "yarns", "rovings", "tows" or "tapes".
Maskiner speciellt konstruerade som jiggslipmaskiner som inte har någon z-axel eller w-axel och vars ”repetitionsnoggrannhet avseende en maskinrörelse i en riktning till en position” är mindre (bättre) än 1,1 μm. c)
Maraging steel, other than that specified in 1C116, 'capable of' an ultimate tensile strength of 1950 MPa or more, at 293 K (20 °C).
Planslipmaskiner.
1C216 does not control forms in which all linear dimensions are 75 mm or less.
Trådlös elektrisk gnistbearbetningsmaskin (EDM) som har två eller flera roterande axlar som kan styras samtidigt för att uppnå ”konturstyrning”.
The phrase maraging steel 'capable of' encompasses maraging steel before or after heat treatment.
Verktygsmaskiner för borttagning av metaller, keramer eller ”kompositer” som har allt av följande:
Boron enriched in the boron-10 (10B) isotope to greater than its natural isotopic abundance, as follows: elemental boron, compounds, mixtures containing boron, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing.
Borttagning av material med hjälp av
In 1C225 mixtures containing boron include boron loaded materials.
vatten eller andra sprutade vätskor, inklusive sådana som innehåller slipmedelstillsatser,
The natural isotopic abundance of boron-10 is approximately 18,5 weight per cent (20 atom per cent).
elektronstrålar, eller
Tungsten, tungsten carbide, and alloys containing more than 90% tungsten by weight, other than that specified by 1C117, having both of the following characteristics:
laserstrålar, och
a.
som har minst två roterande axlar som både
In forms with a hollow cylindrical symmetry (including cylinder segments) with an inside diameter between 100 mm and 300 mm; and
kan styras samtidigt för att uppnå ”konturstyrning”, och
b.
har en positionerings”noggrannhet” som är mindre (bättre) än 0,003o.
A mass greater than 20 kg.
Långhålsborrmaskiner och svarvar som är modifierade för långhålsborrning, som har en borrkapacitet som är större än 5 m.
1C226 does not control manufactures specially designed as weights or gamma-ray collimators.
”Numeriskt styrda” verktygsmaskiner för optisk slutbearbetning, utrustade för selektivt borttagande av material för att producera icke-sfäriska optiska ytor med allt av följande:
Calcium having both of the following characteristics:
Slutbearbetar formen till mindre (bättre) än 1,0 μm.
a.
Slutbearbetar till en ojämnhet som är mindre (bättre) än 100 nm rms.
Containing less than 1000 parts per million by weight of metallic impurities other than magnesium; and
Minst fyra axlar som kan styras samtidigt för ”konturstyrning”.
b.
Använder någon av följande processer:
Containing less than 10 parts per million by weight of boron.
Magnetreologisk slutbearbetning (’MRF’).
Magnesium having both of the following characteristics:
Elektroreologisk slutbearbetning (’ERF’).
a.
’Slutbearbetning med energirik partikelstråle’.
Containing less than 200 parts per million by weight of metallic impurities other than calcium; and
’Slutbearbetning med tänjbart membran’.
Bismuth having both of the following characteristics:
’Slutbearbetning med vätskestråle’.
a.
I avsnitt 2B002 avses med
A purity of 99,99 % or greater by weight; and
’MRF’: borttagande av material med hjälp av en magnetisk slipvätska vars viskositet styrs av ett magnetfält,
b.
’ERF’: borttagande med hjälp av en slipvätska vars viskositet styrs av ett elektriskt fält,
Containing less than 10 ppm (parts per million) by weight of silver.
’slutbearbetning med energirik partikelstråle’: användning av RAP (Reactive Atom Plasmas) eller jonstrålar för selektivt borttagande av material,
Beryllium metal, alloys containing more than 50 % beryllium by weight, beryllium compounds, manufactures thereof, and waste or scrap of any of the foregoing, other than that specified in the Military Goods Controls.
’slutbearbetning med tänjbart membran’: en process som använder ett membran som utsätts för tryck och ändrar form för att komma i kontakt med arbetsstycket över en liten area.
1C230 does not control the following:
’slutbearbetning med vätskestråle’: användning av en vätskeström för borttagning av material.
Metal windows for X-ray machines, or for bore-hole logging devices;
”Manuellt eller ”numeriskt styrda” verktygsmaskiner, och speciellt konstruerade komponenter, styrutrustningar och tillbehör för dem, speciellt konstruerade för skärning, finslipning, polering eller hening av härdade (Rockwell = 40 eller mer) spår, spiralskurna och dubbelspiralskurna kugghjul med en delningsdiameter som är större än 1250 mm och med en kuggbredd som är minst 15 % av delningsdiametern, och som har bearbetats till en kvalitet av AGMA 14 eller bättre (motsvarande ISO 1328 klass 3).
Oxide shapes in fabricated or semi-fabricated forms specially designed for electronic component parts or as substrates for electronic circuits;
Varma ”isostatiska pressar” som har alla följande egenskaper samt till dessa speciellt konstruerade komponenter och tillbehör:
Beryl (silicate of beryllium and aluminium) in the form of emeralds or aquamarines.
SE ÄVEN AVSNITTEN 2B104 och 2B204.
Hafnium metal, alloys containing more than 60 % hafnium by weight, hafnium compounds containing more than 60 % hafnium by weight, manufactures thereof, and waste or scrap of any of the foregoing.
En kontrollerad termisk omgivning i slutet utrymme och ett kammarutrymme med en innerdiameter på minst 406 mm.
Helium-3 (3He), mixtures containing helium-3, and products or devices containing any of the foregoing.
Har något av följande:
1C232 does not control a product or device containing less than 1 g of helium-3.
Ett maximalt arbetstryck som överstiger 207 MPa.
Lithium enriched in the lithium-6 (6Li) isotope to greater than its natural isotopic abundance, and products or devices containing enriched lithium, as follows: elemental lithium, alloys, compounds, mixtures containing lithium, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing.
En kontrollerad termisk omgivning som överstiger 1773 K (1500 °C).
1C233 does not control thermoluminescent dosimeters.
En anordning för kolväteimpregnering och för bortforsling av uppkomna restgaser.
The natural isotopic abundance of lithium-6 is approximately 6,5 weight per cent (7,5 atom per cent).
Med kammarens innerdiameter avses den del av kammaren där arbetstemperatur och -tryck kan hållas.
Zirconium with a hafnium content of less than 1 part hafnium to 500 parts zirconium by weight, as follows: metal, alloys containing more than 50 % zirconium by weight, compounds, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing, other than those specified in 0A001.f.
I diametern ska inte inräknas utrymme för lasthållare.
1C234 does not control zirconium in the form of foil having a thickness of 0,10 mm or less.
I diametern ska inte inräknas utrymme för lasthållare.
Tritium, tritium compounds, mixtures containing tritium in which the ratio of tritium to hydrogen atoms exceeds 1 part in 1000, and products or devices containing any of the foregoing.
Innerdiametern är den mindre av tryckkammarens eller den isolerade ugnskammarens, beroende på vilken av de två som är placerad i den andra.
1C235 does not control a product or device containing less than 1.48 × 103 GBq (40 Ci) of tritium.
För speciellt konstruerade kapslar, formar och verktyg, se avsnitten 1B003 och 9B009 samt kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.
'Radionuclides' appropriate for making neutron sources based on alpha-n reaction, other than those specified in 0C001 and 1C012.a., in the following forms:
Följande utrustning, som är speciellt konstruerad för utfällning, behandling och styrning under behandlingen av oorganiska beläggningar, ytbeläggningar och ytförändringsbeläggningar, för substrat som anges i kolumn 2, med processer som beskrivs i kolumn 1 i tabellen efter avsnitt 2E003.f, samt speciellt konstruerad utrustning till denna för automatisk hantering, positionering, manövrering och styrning:
a.
Utrustning för produktion med kemisk förångningsdeponering (CVD) som har alla följande egenskaper:
Elemental;
SE ÄVEN AVSNITT 2B105.
c.
Styrd nukleär termisk deponering (CNTD, Controlled nucleation thermal deposition).
Mixtures having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
Plasmaförstärkt eller plasmaassisterad CVD.
d.
Fast monterade roterande högvakuumtätningar (tryck lika med eller mindre än 0,01 Pa).
Products or devices containing any of the foregoing.
Fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt.
1C236 does not control a product or device containing less than 3,7 GBq (100 millicuries) of activity.
Produktionsutrustning för jonimplantation som kan leverera 5 mA eller mera i jonstrålen.
Actinium-225 (Ac-225)
Vätskenivåkontroll med hjälp av ett ”laser”-assisterat mätsystem som med precision kan styra inmatningen av götet, eller
Actinium-227 (Ac-227)
en datorkontrollerad matningshastighet som övervakas med bildskärmar som arbetar med principen att genom luminiscens från de joniserade atomerna i förångningsstrålen mäta beläggningshastigheten för beläggningar som innehåller två eller flera beståndsdelar.
Californium-253 (Cf-253)
Produktionsutrustning för plasmasprutning med något av följande:
Curium-240 (Cm-240)
Arbetar med styrd och reducerad atmosfär (lika med eller mindre än 10 kPa mätt ovanför och inom ett avstånd av 300 mm från strålkanonens munstycke) i en vakuumkammare, där trycket före plasmasprutningen kan sänkas ner till 0,01 Pa, eller
Curium-241 (Cm-241)
innehåller fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt.
Curium-242 (Cm-242)
Produktionsutrustning för sputtering som kan avge strömtätheter på minst 0,1 mA/mm2 vid en förångningshastighet på minst 15 μm/tim.
Curium-243 (Cm-243)
Produktionsutrustning för katodstrålebeläggning med hjälp av en utrustning som innehåller ett galler bestående av elektromagneter för att styra strålningspunkten på katoden.
Curium-244 (Cm-244)
Produktionsutrustning för jonplätering kapabel till in situ-mätning av något av följande:
Einsteinium-253 (Es-253)
Tjocklek på substratet och matningshastighet, eller
Einsteinium-254 (Es-254)
optiska egenskaper.
Gadolinium-148 (Gd-148)
Avsnitt 2B005 omfattar inte utrustning för kemisk förångningsdeponering, katodstråle, sputtering, jonplätering eller joninplantation speciellt konstruerad för skärande och bearbetande verktyg.
Plutonium-236 (Pu-236)
Mät- eller inspektionssystem, utrustning och ”elektroniska sammansättningar” enligt följande:
Plutonium-238 (Pu-238)
Datorstyrda eller ”numeriskt styrda” koordinatmätmaskiner (CMM) som har en tredimensionell (volymetrisk) maximal tillåten längdmåttsavvikelse (E0,MPE) vid varje punkt inom maskinens arbetsområde (dvs. inom axellängden) som är lika med eller mindre (bättre) än (1,7 + L/1 000) μm (L är den uppmätta längden i mm), enligt ISO 10360–2 (2009).
Polonium-208 (Po-208)
E0,MPE för den mest noggranna konfigurationen av CMM enligt tillverkarens specifikation (t.ex. bäst av följande: prob, mätstiftslängd, rörelseparametrar, omgivning) och med ”alla tillgängliga kompensationer” ska jämföras med tröskeln på 1,7+L/1 000 μm.
Polonium-209 (Po-209)
SE ÄVEN AVSNITT 2B206.
Polonium-210 (Po-210)
Mätinstrument för mätning av linjär- och vinkelförskjutning enligt följande:
Radium-223 (Ra-223)
Instrument för mätning av ’linjärförskjutning’, som har någon av följande egenskaper:
Thorium-227 (Th-227)
Teknisk anmärkning:
Thorium-228 (Th-228)
I avsnitt 2B206.c avses med ’linjärförskjutning’: ändring av avståndet mellan mätprob och mätobjekt.
Uranium-230 (U-230)
1.
Uranium-232 (U-232)
System som mäter kontaktlöst med en ”upplösning” som är lika med eller mindre (bättre) än 0,2 μm inom ett mätområde upp till 0,2 mm.
Radium-226 (226Ra), radium-226 alloys, radium-226 compounds, mixtures containing radium-226, manufactures thereof, and products or devices containing any of the foregoing.
System med linjära differentialtransformatorer (LVDT) som har allt av följande:
1C237 does not control the following:
”Linjäriteten” är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % mätt från 0 till ’full funktionsradie’ för LVDT-system med en ’full funktionsradie’ på upp till och med ± 5 mm, eller
Medical applicators;
”linjäriteten” är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % mätt från 0 till 5 mm för LVDT-system med en ’full funktionsradie’ på över ± 5 mm, och
A product or device containing less than 0,37 GBq (10 millicuries) of radium-226.
avdrift lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % per dag i normal testrumstemperatur ± 1 K.
Chlorine trifluoride (ClF3).
Mätsystem som har allt av följande:
High explosives, other than those specified in the Military Goods Controls, or substances or mixtures containing more than 2 % by weight thereof, with a crystal density greater than 1,8 g/cm3 and having a detonation velocity greater than 8000 m/s.
Innehåller ”laser”.
Nickel powder and porous nickel metal, other than those specified in 0C005, as follows:
En ”upplösning” över hela skalområdet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,200 nm.
a.
Förmåga att uppnå en ”mätosäkerhet” som är lika med eller mindre (bättre) än (1,6 + L/2 000) nm (L är den uppmätta längden i mm) vid varje punkt inom ett mätområde, när det kompenseras för refraktionsindexet för luft och mätningen löper över 30 sekunder vid en temperatur på 20±0,01 °C.
Nickel powder having both of the following characteristics:
”Elektroniska sammansättningar” som är särskilt konstruerade för att ge återkopplingskapacitet i system som specificeras i avsnitt 2B006.b.1.c.
A nickel purity content of 99,0 % or greater by weight; and
Avsnitt 2B006.b.1 omfattar inte interferometersystem för mätning, med ett automatiskt kontrollsystem som är konstruerat för att inte använda någon återkopplingsteknik, och som innehåller en ”laser” för att mäta slidens rörelsefel på verktygsmaskiner, mätmaskiner eller liknande utrustning.
A mean particle size of less than 10 μm measured by American Society for Testing and Materials (ASTM) B330 standard;
Instrument för mätning av vinkelpositionerings ”noggrannhet” som är lika med eller mindre (bättre) än 0,00025o.
b.
Avsnitt 2B006.b.2 omfattar inte optiska instrument såsom autokollimatorer som använder parallellt ljus (t.ex. ”laser”-ljus) för att upptäcka vinkelförskjutning hos en spegel.
Porous nickel metal produced from materials specified in 1C240.a.
Utrustning för mätning av ytjämnhet (inklusive ytdefekter), genom att mäta den optiska spridningen med en känslighet som är 0,5 nm eller mindre (bättre).
1C240 does not control the following:
2B006 inkluderar andra verktygsmaskiner än dem som specificeras i 2B001, förutsatt att de kan användas som mät- eller avsyningsmaskiner och uppfyller eller överskrider de kriterier som anges för mät- och avsyningsmaskiner.
Filamentary nickel powders;
”Robotar” som har någon av följande egenskaper samt därtill hörande särskilt konstruerade styrsystem och ”manipulatorer”:
Single porous nickel sheets with an area of 1000 cm2 per sheet or less.
SE ÄVEN AVSNITT 2B207.
1C240.b. refers to porous metal formed by compacting and sintering the materials in 1C240.a. to form a metal material with fine pores interconnected throughout the structure.
I realtid kan utföra en fullständig 3-dimensionell bildbehandling eller ’analys av en bild’ för att generera eller modifiera ”program” eller data för ett numeriskt program.
Rhenium, and alloys containing 90 % by weight or more rhenium; and alloys of rhenium and tungsten containing 90 % by weight or more of any combination of rhenium and tungsten, other than those specified in 1C226, having both of the following characteristics:
Begränsningen avseende ’analys av en bild’ innefattar inte approximation av den tredje dimensionen genom att man betraktar föremålen med en given vinkel eller genom att man med begränsad gråskaletolkning får en djup- eller mönsterförnimmelse av det analyserade föremålet (2,5-D).
a.
Speciellt konstruerade för att tillåtas arbeta i en potentiellt explosiv omgivning enligt nationella säkerhetsbestämmelser.
In forms with a hollow cylindrical symmetry (including cylinder segments) with an inside diameter between 100 and 300 mm; and
Avsnitt 2B007.b omfattar inte ”robotar” som är särskilt konstruerade för sprutlackeringsbås.
b.
Speciellt konstruerade för eller specificerade som strålningståliga för att motstå en total strålningsdos som är större än 5 × 103 Gy (kisel) utan försämrad prestanda.
A mass greater than 20kg.
Termen Gy (kisel) avser den energi uttryckt i joule per kg som ett oavskärmat kiselprov absorberar när den utsätts för joniserande strålning.
Chemicals, which may be used as precursors for toxic chemical agents, as follows, and "chemical mixtures" containing one or more thereof:
Specialkonstruerade för drift på höjder över 30000 m.
SEE ALSO MILITARY GOODS CONTROLS AND 1C450.
Sammansättningar eller enheter som är särskilt konstruerade för verktygsmaskiner eller mät- och inspektionsutrustning och -system enligt följande:
Thiodiglycol (111-48-8);
Linjära återkopplade positioneringsenheter som har en ”noggrannhet” som är mindre (bättre) än (800 + [600 × L/1 000]) nm (L är den effektiva längden i mm).
Phosphorus oxychloride (10025-87-3);
För ”laser”system, se även anmärkningen till avsnitt 2B006.b.1.c., 2B006.b.1.d. och 2B206.c.
Dimethyl methylphosphonate (756-79-6);
Roterande återkopplade positionsenheter som har en ”noggrannhet” som är mindre (bättre) än 0,00025o.
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Methyl phosphonyl difluoride (676-99-3);
För ”laser”system, se även anmärkningen till avsnitt 2B006.b.2.
Methyl phosphonyl dichloride (676-97-1);
2B008.a och 2B008.b omfattar enheter som är konstruerade för att fastställa positioneringsinformation för återkopplingskontroll, såsom induktiva enheter, graderade skalor, infraröda system eller ”laser”mätsystem.
Dimethyl phosphite (DMP) (868-85-9);
”Tipp- och vridbara arbetsbord” och ”tippbara spindlar” som enligt tillverkarens specifikationer kan förbättra prestanda hos verktygsmaskiner till eller över de prestandanivåer som specificeras i avsnitt 2B.
Phosphorus trichloride (7719-12-2);
Maskiner för trycksvarvning och maskiner för tryckvalsning vilka enligt tillverkarens tekniska specifikation kan utrustas med ”numeriska styrenheter” eller en datorkontroll och som har allt av följande:
Trimethyl phosphite (TMP) (121-45-9);
SE ÄVEN AVSNITTEN 2B109 OCH 2B209.
Thionyl chloride (7719-09-7);
Tre eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå ”konturstyrning”.
ydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);
Kraften från pressrullen är större än 60 kN.
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethyl chloride (96-79-7);
I avsnitt 2B009 ska maskiner som kombinerar trycksvarvning och tryckvalsning betraktas som maskiner för tryckvalsning.
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethane thiol (5842-07-9);
”Isostatiska pressar”, andra än de som specificeras i avsnitt 2B004, med alla följande egenskaper:
uinuclidinol (1619-34-7);
SE ÄVEN AVSNITT 2B204.
Potassium fluoride (7789-23-3);
Maximalt arbetstryck av 69 MPa eller högre.
hloroethanol (107-07-3);
Utformade för att uppnå och bibehålla en termiskt reglerad miljö av 873 K (600 °C) eller mer.
Dimethylamine (124-40-3);
Kammarutrymme med en innerdiameter av 254 mm eller större.
Diethyl ethylphosphonate (78-38-6);
Ugnar för kemisk förångningsdeposition (CVD), andra än de som specificeras i avsnitt 2B005.a, som är konstruerade eller modifierade för förtätning av kol-kol-kompositer.
Diethyl N,N-dimethylphosphoramidate (2404-03-7);
Maskiner för tryckvalsning, andra än de som specificeras i avsnitt 2B009, och särskilt konstruerade komponenter enligt följande:
Diethyl phosphite (762-04-9);
SE ÄVEN AVSNITT 2B209.
Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);
Maskiner för tryckvalsning med alla följande egenskaper:
Ethyl phosphinyl dichloride (1498-40-4);
Maskinerna kan enligt tillverkarens tekniska specifikation utrustas med ”numeriska styrenheter” eller en datorkontroll, även om de inte är försedda med sådana enheter, och
Ethyl phosphonyl dichloride (1066-50-8);
de har mer än två axlar som kan styras samtidigt för att uppnå ”konturstyrning”.
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Ethyl phosphonyl difluoride (753-98-0);
Särskilt konstruerade komponenter för maskiner för tryckvalsning som specificeras i avsnitt 2B009 eller 2B109.a.
Hydrogen fluoride (7664-39-3);
Avsnitt 2B109 omfattar inte maskiner som inte kan användas för produktion av framdrivningskomponenter och -utrustning (t.ex. motorhus och mellansteg härför) i de system som specificeras i avsnitt 9A005, 9A007.a eller 9A105.a.
Methyl benzilate (76-89-1);
Maskiner som kombinerar trycksvarvning och tryckvalsning ska i avsnitt 2B109 betraktas som maskiner för tryckvalsning.
Methyl phosphinyl dichloride (676-83-5);
Vibrationsprovsystem med därtill hörande utrustning och komponenter enligt följande:
N,N-Diisopropyl-(beta)-amino ethanol (96-80-0);
Vibrationsprovsystem med återkoppling och sluten slinga och digital styrteknik, i stånd att vibrera ett system vid en acceleration som är lika med eller högre än 10 g rms mellan 20 Hz och 2 kHz och överföra krafter som är lika med eller större än 50 kN, mätta vid ’obelastat bord’.
Pinacolyl alcohol (464-07-3);
Digital styrutrustning, tillsammans med särskilt utformad programvara för vibrationsprovning, med en ’realtidskontrollbandbredd’ större än 5 kHz och utformad för vibrationsprovsystem som specificeras i avsnitt 2B116.a.
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for O-Ethyl O-2-diisopropylaminoethyl methylphosphonite (QL) (57856-11-8);
I avsnitt 2B116.b avses med ’realtidskontrollbandbredd’ den maximala hastighet med vilken en styrutrustning kan utföra fullständiga cykler av insamling, databehandling och utsändning av kontrollsignaler.
Triethyl phosphite (122-52-1);
Vibratorer (skakutrustningar), med eller utan tillhörande förstärkare, som kan åstadkomma en kraft som är lika med eller större än 50 kN, mätt vid ’obelastat bord’, och användbara i provningssystem som specificeras i avsnitt 2B116.a.
Arsenic trichloride (7784-34-1);
Stödkonstruktioner och elektroniska enheter utformade för att kombinera flera skakenheter till ett komplett skakbordsystem som kan åstadkomma en sammansatt effektiv kraft som är lika med eller större än 50 kN, mätt vid ’obelastat bord’ och användbart i vibrationssystem som specificeras i avsnitt 2B116.a.
Benzilic acid (76-93-7);
Med ’obelastat bord’ avses i avsnitt 2B116 ett arbetsbord eller en yta utan fixtur eller fastspänningsanordningar.
Diethyl methylphosphonite (15715-41-0);
Utrustning och processregleringssystem, andra än de som specificeras i avsnitt 2B004, 2B005.a, 2B104 eller 2B105, som konstruerats eller modifierats för förtätning och pyrolys av raketdysor och nosspetsar på farkoster för återinträde i jordatmosfären.
Dimethyl ethylphosphonate (6163-75-3);
Balanseringsmaskiner och tillhörande utrustning enligt följande:
Ethyl phosphinyl difluoride (430-78-4);
SE ÄVEN AVSNITT 2B219.
Methyl phosphinyl difluoride (753-59-3);
Balanseringsmaskiner som har samtliga följande egenskaper:
uinuclidone (3731-38-2);
Kan inte balansera rotorer/enheter som har en massa som överstiger 3 kg.
Phosphorus pentachloride (10026-13-8);
Kan balansera rotorer/enheter vid hastigheter som överstiger 12500 varv/min.
Pinacolone (75-97-8);
Kan korrigera obalans i minst två plan.
Potassium cyanide (151-50-8);
Kan balansera till en specifik återstående obalans av 0,2 g mm per kg rotormassa.
Potassium bifluoride (7789-29-9);
Avsnitt 2B119.a omfattar inte balanseringsmaskiner som är konstruerade eller modifierade för tandläkarutrustning eller annan medicinsk utrustning.
Ammonium hydrogen fluoride or ammonium bifluoride (1341-49-7);
Avläsningsenheter som är konstruerade eller modifierade för att användas i maskiner som specificeras i avsnitt 2B119.a.
Sodium fluoride (7681-49-4);
Avläsningsenheter betecknas ibland som balanseringsinstrument.
Sodium bifluoride (1333-83-1);
Rörelsesimulatorer eller vridbara bord med alla följande egenskaper:
Sodium cyanide (143-33-9);
Minst två axlar.
Triethanolamine (102-71-6);
Konstruerade eller modifierade för att innehålla släpringar eller integrerade kontaktfria anordningar som kan överföra elkraft, signalinformation eller båda delarna.