natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; and
Detektorfönster-material (9)
b.
Termisk förångning Fysisk förångningsdeposition (TE-PVD)
Three or four axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
Fysisk förångningsdeposition (PVD): Elektronstrålar (EB-PVD)
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
Kisellegeringar
a.
Modifierat zirkonium (12)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
Korrosionsbeständigt stål (7)
c.
Borider
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m.
Titanlegeringar (13)
2B001.c. does not control grinding machine as follows:
Nitrider
Cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines, having all of the following:
Jonassisterad resistivt upphettad fysisk förångningsdeposition (PVD) (Jonplätering)
Limited to cylindrical grinding; and
Keramer (19) och glas med låg expansion (14)
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
Hårdmetall innehållande volframkarbid (16), Silikonkarbid
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a "unidirectional positioning repeatability" less (better) than 1,1 μm
Fysisk förångningsdeposition (PVD): ”Laser”-förångning
Surface grinders.
Fysisk förångningsdeposition (PVD): Katodstråleurladdning
Electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
C. Pack cementation (se A ovan out-of-pack cementation) (10)
Machine tools for removing metals, ceramics or "composites", having all of the following:
Oxider
Removing material by means of any of the following:
D. Plasmasprutning
a.
Slipbar nickel-grafit
Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
Slipbara material som innehåller Ni-Cr-Al
b.
Slipbar Al-Si-polyester
Electron beam; or
Aluminiumlegeringar (6)
c.
E. Målningsbeläggning
"Laser" beam; and
Brända silicider
At least two rotary axes having all of the following:
Brända aluminider utom för resistiva värmeelement
a.
F. Sputteringbeläggning
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Ädelmetallmodifierade aluminider (3)
b.
Platina
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003°;
Keramer och glas med låg expansion (14)
f.
Dielektriska lager (15)
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5m.
G. Jonimplantation
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Lagerstål för höga temperaturer
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
Hårdmetall innehållande volframkarbid (16)
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
Termen ’beläggningsprocess’ omfattar såväl reparation och förbättring av ytbehandlingen som den ursprungliga ytbehandlingen.
c.
Termen ’legerade aluminidbeläggningar’ omfattar enkel- eller flerstegsbeläggningar varvid ett eller flera ämnen överförs före eller samtidigt med aluminidbeläggningen även om dessa ämnen överförs med en annan ytbehandlingsmetod.
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Däremot omfattas inte upprepad användning av s.k. enkelstegs ”pack cementation”-processer för att uppnå legerade aluminider.
d.
Termen ’ädelmetallmodifierade aluminider’ omfattar flerstegsbeläggningar varvid ädelmetallen eller ädelmetallerna påläggs med någon annan beläggningsprocess före påläggningen av aluminidbeläggningen.
Using any of the following processes:
Termen ’blandningar därav’ omfattar infiltrerade material, sorterade blandningar, hjälpbeläggningar och multilagerbeläggningar och erhålls genom en eller flera av de beläggningsprocesser som specificeras i tabellen.
Magnetorheological finishing ('MRF');
’MCrAlX’ avser en legerad beläggning där M står för kobolt, järn, nickel eller blandningar därav och X står för hafnium, yttrium, kisel, tantal oberoende av mängd eller andra avsiktliga tillsatser som är större än 0,01 viktprocent, i olika proportioner och kombinationer, utom
Electrorheological finishing ('ERF');
CoCrAlY-beläggningar som innehåller mindre än 22 viktprocent krom, mindre än 7 viktprocent aluminium och mindre än 2 viktprocent yttrium,
'Energetic particle beam finishing';
CoCrAlY-beläggningar som innehåller 22–24 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,5–0,7 viktprocent yttrium, eller
'Inflatable membrane tool finishing'; or
NiCrAlY-beläggningar som innehåller 21–23 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,9–1,1 viktprocent yttrium.
'Fluid jet finishing'.
Med termen ’aluminiumlegeringar’ avses legeringar som har en brottgräns på minst 190 MPa mätt vid 293 K (20 °C).
For the purposes of 2B002:
Med termen ’korrosionsbeständigt stål’ avses AISI (American Iron and Steel Institute)-serien 300 eller motsvarande nationella standard för stål.
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
’Svårsmälta metaller och legeringar’ omfattar följande metaller och deras legeringar: niob (columbium), molybden, volfram och tantal.
'ERF' is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
’Detektorfönstermaterial’ enligt följande: aluminiumoxid, kisel, germanium, zinksulfid, zinkselenid, galliumarsenid, diamant, galliumfosfid, safir och följande metallhalogenider: detektorfönstermaterial som har en diameter som är större än 40 mm för zirkoniumfluorid och hafniumfluorid.
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Kategori 2 omfattar inte ”teknik” för s.k. enstegs pack-cementation av massiva luftfolier.
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
’Polymerer’ enligt följande: polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonater och polyuretaner.
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
Med ’modifierat zirkonium’ avses tillsatser av andra metalloxider (t.ex. kalciumoxid, magnesiumoxid, yttriumoxid, hafniumoxid, oxider till sällsynta jordmetaller) till zirkonium för att stabilisera speciella kristallografiska faser och faskompositioner.
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc=40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
Termisk barriärbeläggning som görs av zirkonium modifierad med kalciumoxid eller magnesiumoxid genom blandning eller fusion omfattas inte.
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
Med ’titanlegeringar’ avses endast rymdlegeringar som har en brottgräns som är minst 900 MPa mätt vid 293 K (20 °C).
SEE ALSO 2B104 and 2B204.
Med ’glas med låg expansion’ avses glas med en termisk expansionskoefficient på högst 1 × –7 K–1 mätt vid 293 K (20 °C).
a.
’Dielektriska lager’ är beläggningar som är uppbyggda av flera lager isolationsmaterial i vilka interferensegenskaperna hos en konstruktion som är sammansatt av material med olika brytningsindex används så att reflexion, genomsläpplighet eller absorption erhålls vid olika våglängder.
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Med dielektriskta lager avses minst fyra dielektriska lager eller dielektriska/metall-”komposit”-lager.
b.
’Hårdmetall innehållande volframkarbid’ omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial som består av volframkarbid/(kobolt, nickel), titankarbid/(kobolt, nickel), kromkarbid/nickel-krom och kromkarbid/nickel.
Having any of the following:
”Teknik” för beläggning av diamantlikt kol på något av följande omfattas inte:
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
Diskettstationer samt läs- och skrivhuvuden, utrustning för tillverkning av engångsmaterial, ventiler för kranar, akustiska membran för högtalare, motordelar till bilar, skärverktyg, stans- och pressmatriser, kontorsmaskiner, mikrofoner och medicintekniska produkter eller formar för plastgjutning eller plastformning, tillverkade av legeringar som innehåller mindre än 5 % beryllium.
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
’Kiselkarbid’ omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial.
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Keramiska substrat i denna punkt omfattar inte keramiska material som innehåller minst 5 viktprocent lera eller cement, antingen som separata beståndsdelar eller i kombination.
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
TABELL – YTBELÄGGNINGSTEKNIKER – ANMÄRKNINGAR
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
De processer som specificeras i kolumn 1 i tabellen definieras enligt följande:
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Kemisk förångningsdeposition (CVD) är en ytbehandlings- eller ytförändringsprocess varvid metall, legering, ”komposit”, ett dielektrikum eller en keram deponeras på ett upphettat substrat.
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for substrates specified in column 2, by processes shown in column 1 in the Table following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
Reaktansgaserna sönderdelas eller kombineras i närheten av substratet, varvid en beläggning sker på substratet av det önskade grundämnet, den önskade legeringen eller kompositmaterialet.
a.
Energi för denna sönderdelning eller kemiska reaktionsprocess kan erhållas från värmen i substratet, en glimurladdningsplasma eller från upphettning med ”laser”-strålning.
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
CVD omfattar följande processer: beläggning med ett gasflöde out-of-pack-beläggning, pulserande CVD, styrd termisk kärnbildande nedbrytningsprocess (CNTD), plasmaförstärkta eller plasmaassisterade CVD-processer.
SEE ALSO 2B105.
Med pack menas ett substrat som är inbakat i en pulverblandning.
A process modified for one of the following:
De reaktansgaser som används i en out-of-pack-process produceras med hjälp av samma basreaktioner och parametrar som pack cementation-processen, med undantag av att substratet som ska beläggas inte är i kontakt med pulverblandningen.
a.
Termisk förångning – fysisk förångningsdeposition (TE-PVD) är en ytbeläggningsprocess som sker i vakuum vid ett tryck som är lägre än 0,1 Pa varvid en termisk energikälla används för att förånga beläggningsmaterialet.
b.
Tillsatsen av gaser i vakuumkammaren under beläggningsprocessen för att skapa blandad beläggning är en vanlig modifiering av denna process.
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Användningen av jon- eller elektronstrålar eller plasma för att aktivera eller assistera vid beläggningen är också en vanlig modifikation av denna teknik.
c.
Användningen av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek kan utgöra en del av dessa processer.
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
Specifika TE-PVD processer är följande:
a.
Elektronstråle-PVD använder en elektronstråle för att upphetta och förånga det material som ska bilda beläggningen.
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
Jonassisterad resistivt upphettad PVD arbetar med elektroresistiva värmekällor i kombination med direkt inverkan från jonstrålar för att producera ett kontrollerat och likformigt flöde av de förångade beläggningsmaterialen.
b.
”Laser”förångning använder antingen pulsade eller kontinuerliga ”laser”vågor för att förånga det material som ska bilda beläggning.
Incorporating in situ coating thickness control;
Katodstrålebeläggning arbetar med en katod av det material som ska bilda beläggning, varvid katoden förbrukas, och vid katoden uppstår en gnisturladdning på ytan genom en kortvarig jordkontakt med hjälp av en trigger.
b.
En styrd rörelse av gnistan urholkar katodytan och skapar ett kraftigt joniserat plasma.
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Anoden kan antingen vara en kon fastsatt till katodens periferi, med hjälp av isolatorer, eller till kammaren.
c.
Substratet förspänns så att icke-synlig beläggning kan ske.
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
Denna definition omfattar inte slumpmässig katodstrålebeläggning utan förspänt substrat.
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
Jonplätering är en speciell modifikation av den vanliga TE-PVD-processen, varvid ett plasma eller en jonkälla används för att jonisera de ämnen som ska användas för beläggning, och en negativ förspänning läggs på substratet för att underlätta extraktionen av de ämnen som ska deponeras från plasman.
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
Införandet av reaktiva ämnen, förångning av fasta material i kammaren samt användning av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek är vanliga modifieringar av denna process.
d.
Pack Cementation är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess varvid substratet packas in i en pulverblandning (pack) som består av
Plasma spraying production equipment having any of the following:
metallpulver som ska utgöra beläggningen (vanligtvis aluminium, krom, kisel eller kombinationer av dessa),
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
en aktivator (vanligtvis ett halogent salt), och
Incorporating in situ coating thickness control;
ett ballastpulver, oftast aluminium.
e.
Substratet och pulverblandningen placeras i en retort som upphettas till en temperatur mellan 1030 K (757 °C) och 1375 K (1102 °C) i tillräckligt lång tid för att beläggningen ska ske.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Plasmasprutning är en ytbehandlingsprocess i vilken en kanon (”blåslampa”), som producerar och styr ett plasma tar emot pulver eller tråd av beläggningsmaterialet, smälter det och skjuter det mot ett substrat, varpå en integrerad sammanfogning sker.
f.
Plasmasprutning kan antingen ske som lågtryckssprutning eller höghastighetssprutning.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
Med lågtryck avses lägre tryck än omgivande atmosfärtryck.
g.
Med höghastighet avses en gashastighet vid sprutmunstycket som överskrider 750 m/s beräknat vid 293 K (20 °C) och 0,1 MPa.
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
Målningsbeläggning är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess i vilken ett metalliskt eller keramiskt pulver med ett organiskt bindemedel uppslammas i en vätska och appliceras på ett substrat genom antingen sprutning, doppning eller målning, med påföljande luft- eller ugnstorkning, samt värmebehandling för att uppnå önskad beläggning.
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Sputteringbeläggning är en överlagringsbeläggningsprocess som baseras på impulsöverföringsfenomen, varvid positiva joner accelereras av ett elektriskt fält mot ytan av ett mål (beläggningsmaterialet).
Optical characteristics.
Den kinetiska energin hos de laddade jonerna är tillräcklig för att atomer från ytan ska frigöras och beläggas på det lämpligt placerade substratet.
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
Tabellen hänvisar endast till triod-, magnetron- eller reaktiv sputteringbeläggning som används för att öka vidhäftningen av beläggningen samt radiofrekvent (RF)-förstärkt sputteringbeläggning som används för att tillåta förångning i icke metalliska beläggningsmaterial.
Dimensional inspection or measuring systems, equipment, position feedback units and "electronic assemblies", as follows:
Lågenergijonstrålar (mindre än 5 keV) kan användas för att aktivera beläggningen.
Computer controlled or "numerical controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1 000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2:2009;
Detta inbegriper processer där jonimplantationen sker samtidigt med fysisk förångningsdeposition med elektronstråle eller sputteringbeläggning.
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7+L/1 000 μm threshold.
KATEGORI 3 ELEKTRONIK
SEE ALSO 2B206.
Kontrollstatusen för den utrustning och de komponenter som beskrivs i avsnitt 3A001 eller 3A002, förutom för de som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.10 eller 3A001.a.12–3A001.a.14 och som är speciellt konstruerade för eller som har samma funktionella egenskaper som annan utrustning, bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.
b.
Kontrollstatusen för de integrerade kretsar som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.9 eller 3A001.a.12–3A001.a.14 och som är icke föränderligt programmerade till eller konstruerade för en speciell funktion för en annan utrustning bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.
Linear displacement measuring instruments or systems, linear position feedback units, and "electronic assemblies", as follows:
Om en tillverkare eller sökande inte kan avgöra den andra utrustningens kontrollstatus, bestäms de integrerade kretsarnas kontrollstatus av avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.9 och 3A001.a.12–3A001.a.14.
Interferometer and optical-encoder measuring systems containing a "laser" are only specified in 2B006.b.3 and 2B206.c.
Elektroniska produkter enligt följande:
'Non-contact type measuring systems' with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Integrerade kretsar för allmänna ändamål enligt följande:
For the purposes of 2B006.b.1. 'non-contact type measuring systems' are designed to measure the distance between the probe and measured object along a single vector, where the probe or measured object is in motion.
Kontrollstatusen för wafers (färdigbearbetade eller obearbetade), vars funktion har fastställts, ska bedömas efter parametrarna i avsnitt 3A001.a.
Linear position feedback units specially designed for machine tools and having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1000)) nm (L equals effective length in mm);
Integrerade kretsar omfattar följande typer:
Measuring systems having all of the following:
”Monolitiska integrerade kretsar”.
a.
”Integrerade hybridkretsar”.
Containing a "laser";
”Integrerade multikretsar”.
b.
”Integrerade kretsar av filmtyp” inklusive integrerade kretsar av typ kisel på safir.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
”Optiska integrerade kretsar”.
c.
”Tredimensionella integrerade kretsar”.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2 000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20± 0,01 °C; or
”Monolitiska integrerade mikrovågskretsar” (”MMIC”).
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.3.;
Integrerade kretsar som har konstruerats eller specificerats för att vara motståndskraftiga mot en total strålning enligt något av följande:
c.
En total dos om minst 5 × 103 Gy (kisel),
Rotary position feedback units specially designed for machine tools or angular displacement measuring instruments, having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,9 second of arc;
en dosratsändring genom störning om minst 5 × 106 Gy (kisel)/s, eller
2B006.c. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g. "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
en fluens (integrerat flöde) av neutroner (1 MeV ekvivalent) på 5 × 1013 n/cm2 eller högre på kisel, eller dess ekvivalent för andra material.
d.
3A001 a.1.c omfattar inte halvledare av metallisolatortyp (MIS - Metal Insulator Semiconductors).
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
”Mikroprocessor-mikrokretsar”, ”mikrodator-mikrokretsar”, mikrocontroller-mikrokretsar, integrerade minneskretsar tillverkade av blandade halvledare, analog-till-digital-omvandlare, integrerade kretsar som innehåller analog-till-digital-omvandlare och som lagrar eller bearbetar digitaliserade data, digital-till-analog-omvandlare, elektro-optiska eller ”optiska integrerade kretsar” konstruerade för ”signalbehandling”, fältprogrammerbara logiska komponenter, kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kontrollstatusen hos den utrustning i vilken kretsarna ska användas är okänd, processorer för Snabb Fourier-transform (FFT), statiska RAM (SRAM) eller ’icke-flyktiga minnen’ som är något av följande:
2B006 includes machine tools, other than those specified in 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer över 398 K (125 °C).
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer under 218 K (– 55 °C).
SEE ALSO 2B207.
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer i området från 218 K (– 55 °C) till och med 398 K (125 °C).
b.
Avsnitt 3A001.a.2 omfattar inte integrerade kretsar som konstruerats för civila bil- eller tågapplikationer.
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
’Icke-flyktiga minnen’ är minnen som bevarar data under en viss tid efter att strömmen stängs av.
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
”Mikroprocessor-mikrokretsar”, ”mikrodator-mikrokretsar” och mikrocontroller-mikrokretsar tillverkade av en halvledare med blandade material och som har en klockfrekvens som överstiger 40 MHz.
c.
Avsnitt 3A001.a.3 omfattar digitala signalprocessorer, digitala matrisprocessorer (array processors) och digitala hjälpprocessorer (coprocessors).