natgillin/translations-raw huggingface dataset:
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Plasmasprutning är en ytbehandlingsprocess i vilken en kanon (”blåslampa”), som producerar och styr ett plasma tar emot pulver eller tråd av beläggningsmaterialet, smälter det och skjuter det mot ett substrat, varpå en integrerad sammanfogning sker.
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Plasmasprutning kan antingen ske som lågtryckssprutning eller höghastighetssprutning.
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
Med lågtryck avses lägre tryck än omgivande atmosfärtryck.
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Med höghastighet avses en gashastighet vid sprutmunstycket som överskrider 750 m/s beräknat vid 293 K (20 °C) och 0,1 MPa.
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for substrates specified in column 2, by processes shown in column 1 in the Table following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
Målningsbeläggning är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess i vilken ett metalliskt eller keramiskt pulver med ett organiskt bindemedel uppslammas i en vätska och appliceras på ett substrat genom antingen sprutning, doppning eller målning, med påföljande luft- eller ugnstorkning, samt värmebehandling för att uppnå önskad beläggning.
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Den kinetiska energin hos de laddade jonerna är tillräcklig för att atomer från ytan ska frigöras och beläggas på det lämpligt placerade substratet.
SEE ALSO 2B105.
Tabellen hänvisar endast till triod-, magnetron- eller reaktiv sputteringbeläggning som används för att öka vidhäftningen av beläggningen samt radiofrekvent (RF)-förstärkt sputteringbeläggning som används för att tillåta förångning i icke metalliska beläggningsmaterial.
A process modified for one of the following:
Lågenergijonstrålar (mindre än 5 keV) kan användas för att aktivera beläggningen.
a.
Jonimplantation är en ytförändringsbeläggningsprocess i vilken det ämne som ska legeras joniseras, accelereras genom en potentialgradient och förs in till ytregionen för substratet.
Pulsating CVD;
Detta inbegriper processer där jonimplantationen sker samtidigt med fysisk förångningsdeposition med elektronstråle eller sputteringbeläggning.
b.
KATEGORI 3 ELEKTRONIK
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Kontrollstatusen för den utrustning och de komponenter som beskrivs i avsnitt 3A001 eller 3A002, förutom för de som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.10, 3A001.a.12 eller 3A001.a.14 och som är speciellt konstruerade för eller som har samma funktionella egenskaper som annan utrustning, bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.
c.
Kontrollstatusen för de integrerade kretsar som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.9, 3A001.a.12 eller 3A001.a.14 och som är icke föränderligt programmerade till eller konstruerade för en speciell funktion för en annan utrustning bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.
a.
Elektroniska produkter enligt följande:
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
Integrerade kretsar för allmänna ändamål enligt följande:
Incorporating in situ coating thickness control;
Integrerade kretsar omfattar följande typer:
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
”Integrerade hybridkretsar”.
c.
”Integrerade multikretsar”.
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
”Optiska integrerade kretsar”.
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
”Tredimensionella integrerade kretsar”.
Plasma spraying production equipment having any of the following:
Integrerade kretsar som har konstruerats eller specificerats för att vara motståndskraftiga mot en total strålning enligt något av följande:
Incorporating in situ coating thickness control;
en dosratsändring genom störning om minst 5 × 106 Gy (kisel)/s, eller
e.
en fluens (integrerat flöde) av neutroner (1 MeV ekvivalent) på 5 × 1013 n/cm2 eller högre på kisel, eller dess ekvivalent för andra material.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
3A001 a.1.c omfattar inte halvledare av metallisolatortyp (MIS - Metal Insulator Semiconductors).
f.
”Mikroprocessor-mikrokretsar”, ”mikrodator-mikrokretsar”, mikrocontroller-mikrokretsar, integrerade minneskretsar tillverkade av blandade halvledare, analog-till-digital-omvandlare, integrerade kretsar som innehåller analog-till-digital-omvandlare och som lagrar eller bearbetar digitaliserade data, digital-till-analog-omvandlare, elektro-optiska eller ”optiska integrerade kretsar” konstruerade för ”signalbehandling”, fältprogrammerbara logiska komponenter, kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kontrollstatusen hos den utrustning i vilken kretsarna ska användas är okänd, processorer för Snabb Fourier-transform (FFT), elektriskt raderbara PROM (EEPROM), flash-minnen, statiska RAM (SRAM) eller magnetiska RAM (MRAM) som är något av följande:
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer över 398 K (125 °C).
g.
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer under 218 K (– 55 °C).
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer i området från 218 K (– 55 °C) till och med 398 K (125 °C).
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Avsnitt 3A001.a.2 omfattar inte integrerade kretsar som konstruerats för civila bil- eller tågapplikationer.
Optical characteristics.
”Mikroprocessor-mikrokretsar”, ”mikrodator-mikrokretsar” och mikrocontroller-mikrokretsar tillverkade av en halvledare med blandade material och som har en klockfrekvens som överstiger 40 MHz.
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
Avsnitt 3A001.a.3 omfattar digitala signalprocessorer, digitala matrisprocessorer (array processors) och digitala hjälpprocessorer (coprocessors).
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
Integrerade kretsar med analog-till-digitalomvandlare (ADC) och digital-till-analog-omvandlare (DAC) enligt följande:
a.
ADC som har något av följande:
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1 000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
SE ÄVEN AVSNITT 3A101.
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1 000 μm threshold.
En upplösning på 8 bitar eller mer, men mindre än 10 bitar, med en dataöverföringshastighet som är högre än 1,3 miljarder samplingar per sekund (Gsps).
SEE ALSO 2B206.
En upplösning på 10 bitar eller mer, men mindre än 12 bitar, med en dataöverföringshastighet som är högre än 600 miljoner samplingar per sekund (Msps).
b.
En upplösning på 12 bitar eller mer, men mindre än 14 bitar, med en dataöverföringshastighet som är högre än 400 miljoner samplingar per sekund (Msps).
Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
En upplösning på 14 bitar eller mer, men mindre än 16 bitar, med en dataöverföringshastighet som är högre än 250 miljoner samplingar per sekund (Msps).
'Linear displacement' measuring instruments having any of the following:
En upplösning på 16 bitar eller mer, med en dataöverföringshastighet som är högre än 65 miljoner samplingar per sekund (Msps).
Interferometer and optical-encoder displacement measuring systems containing a "laser" are only controlled in 2B006.b.1.c. and 2B206.c.
För integrerade kretsar som innehåller analog-till-digital-omvandlare och som lagrar eller bearbetar digitaliserade data, se avsnitt 3A001.a.14.
For the purpose of 2B006.b.1.
En upplösning på n bitar motsvarar en kvantisering av 2n nivåer.
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
Antalet bitar i utdataord är lika med upplösningen i ADC:n.
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
För ’flerkanals-ADC’ ska dataöverföringshastigheterna inte läggas ihop, och dataöverföringshastigheten är den maximala dataöverföringshastigheten för en enstaka kanal.
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
Säljare kan även med dataöverföringshastighet mena samplingshastigheten, omvandlingshastigheten eller kapaciteten.
a.
Den anges ofta i megahertz (MHz), miljoner ord per sekund eller miljoner samplingar per sekund (Msps).
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
I syfte att mäta dataöverföringshastigheten motsvarar en sampling per sekund en hertz eller ett utdataord per sekund.
b.
’Flerkanals-ADC’ definieras som anordningar som integrerar mer än en ADC och har konstruerats så att varje ADC har en separat analog ingång.
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5 mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
’Interfolierade ADC’ (Interleaved ADC’s) definieras som anordningar med flera ADC-enheter som samplar samma analoga ingång vid skilda tidpunkter så att den analoga insignalen, när utsignalerna läggs samman, faktiskt har samplats och konverterats med högre samplingshastighet.
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ±1 K;
Digital-till-analog-omvandlare (DAC) som har något av följande:
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
En upplösning på minst 10 bitar med en ’justerad uppdateringshastighet’ på över 3500 Msps.
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm.
En upplösning på minst 12 bitar med en ’justerad uppdateringshastighet’ på över 1250 Msps och som har något av följande:
c.
En ”inställningstid” på mindre än 9 ns till nivån 0,024 % av fullskala från ett fullskalesteg.
Measuring systems having all of the following:
Ett ’spuriosfritt dynamiskt område’ (SFDR) som är större än 68 dBc (bärare) vid syntetisering av en fullskalig analog signal på 100 MHz eller den högsta fullskaliga analoga signalen under 100 MHz.
Containing a "laser";
’Spuriosfritt dynamiskt område’ (SFDR) definieras som kvoten av RMS-värdet för bärfrekvensen (maximisignalkomponent) på digitalomvandlarens ingång och RMS-värdet av den näst största bruskomponenten eller komponenten av harmonisk distorsion på dess utgång.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
SFDR fastställs direkt i specifikationstabellen eller med utgångspunkt i karaktäriseringsdiagrammen med SFDR mot frekvens.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2 000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20 ± 0,01 °C; or
En signal definieras som fullskalig när amplituden är större än -3 dBfs (full skala).
d.
’Justerad uppdateringshastighet’ för DAC:
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
För konventionella (icke-interpolerande) DAC:ar avses med ’justerad uppdateringshastighet’ den hastighet med vilken den digitala signalen omvandlas till en analog signal och utgångens analoga värden ändras av DAC:en.
2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
För DAC där det går att koppla förbi interpoleringsmoden (interpolationsfaktorn är ett), bör DAC anses vara konventionella (icke-interpolerande) DAC.
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025o;
inordhastighet (input word rate)
2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
insamplingshastighet (input sample rate)
c.
högsta sammanlagda inbusshastighet (maximum total input bus rate)
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
högsta DAC-klockfrekvens för DAC-klockinsignalen (maximum DAC clock rate for DAC clock input).
2B006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
6.
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
Elektro-optiska eller ”optiska integrerade kretsar” konstruerade för ”signalbehandling” som har allt av följande:
SEE ALSO 2B207.
En eller flera interna ”laser”-dioder.
The 'scene analysis' limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
’Fältprogrammerbara logiska komponenter’ som har något av följande:
b.
Det maximala antalet enpoliga digitala inmatningar/utmatningar är mer än 700, eller
c.
Enkla programmerbara logiska komponenter (SPLD).
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
Komplexa programmerbara logiska komponenter (CPLD).
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
Fältprogrammerbara grindmatriser (FPGA).
d.
Fältprogrammerbara logiska matriser (FPLA).
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
Fältprogrammerbara kopplingar (FPIC).
Assemblies or units, specially designed for machine tools, or dimensional inspection or measuring systems and equipment, as follows:
För integrerade kretsar som har fältprogrammerbara logiska komponenter kombinerade med en analog-till-digital-omvandlare, se avsnitt 3A001.a.14.
a.
Det maximala antalet digitala inmatningar/utmatningar i avsnitt 3A001.a.7.a betecknas också det maximala antalet inmatningar/utmatningar för användaren eller det maximala antalet tillgängliga inmatningar/utmatningar, oavsett om den integrerade kretsen är inkapslad eller ej.
Linear position feedback units having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1 000)) nm (L equals the effective length in mm);
Med ’högsta totala datahastighet för överföring via enkelriktade serietranceivers’ avses produkten av den högsta dataöverföringshastigheten hos transceivern multiplicerat med antalet tranceivrar i den fältprogrammerbara grindmatrisen (FPGA).
For "laser" systems see also 2B006.b.1.c., 2B006.b.1.d. and 2B206.c.
Integrerade kretsar för neurala nätverk.
Rotary position feedback units having an "accuracy" less (better) than 0,00025o;
Fler än 1500 anslutningar.
For "laser" systems see also Note to 2B006.b.2.
Den ”typiska grindfördröjningstiden” är kortare än 0,02 ns.
2B008.a. and 2B008.b. control units, which are designed to determine the positioning information for feedback control, such as inductive type devices, graduated scales, infrared systems or "laser" systems.
Arbetsfrekvensen överstiger 3 GHz.
c.
Andra digitala kretsar än de som beskrivits i avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.10 och 3A001.a.12 och som baseras på en blandning av halvledarmaterial som har något av följande:
"Compound rotary tables" and "tilting spindles", capable of upgrading, according to the manufacturer's specifications, machine tools to or above the levels specified in 2B.
Ett antal grindekvivalenter som är större än 3000 (grindar med 2 ingångar).
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control and having all of the following:
En vippfrekvens som överstiger 1,2 GHz.
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
Processorer för Snabb Fourier-transform (FFT) och som har en specificerad verkställighetstid som är mindre än (N log2 N) /20 480 ms, för en N-punkters komplex FFT, där N är antalet punkter.
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Integrerade kretsar för Direct Digital Synthesizer (DDS) som har något av följande:
b.
Digital-till analog-omvandlaren (DAC) som har en klockfrekvens på minst 3,5 GHz och en upplösning på minst 10 bitar men mindre än 12 bitar.
A roller force more than 60 kN.
En DAC-klockfrekvens på minst 1,25 GHz och en DAC-upplösning på 12 bitar eller mer.
For the purpose of 2B009, machines combining the function of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
DAC-klockfrekvensen kan specificeras som masterklockfrekvens eller ingångsklockfrekvens.
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
Integrerade kretsar som utför allt av följande:
SEE ALSO 2B204.
Analog-till-digital-omvandling för något av följande:
a.
En upplösning på 8 bitar eller mer, men mindre än 10 bitar, med en insamplingshastighet som är högre än 1,3 miljarder samplingar per sekund (Gsps).
Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
En upplösning på 10 bitar eller mer, men mindre än 12 bitar, med en insamplingshastighet som är högre än 1,0 miljarder samplingar per sekund (Gsps).
b.
En upplösning på 12 bitar eller mer, men mindre än 14 bitar, med en insamplingshastighet som är högre än 1,0 miljarder samplingar per sekund (Gsps).
Designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
En upplösning på 14 bitar eller mer, men mindre än 16 bitar, med en insamplingshastighet som är högre än 400 miljoner samplingar per sekund (Msps).
c.
En upplösning på 16 bitar eller mer, med en insamplingshastighet som är högre än 180 miljoner samplingar per sekund (Msps).
Possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
Något av följande:
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.
Lagring av digitaliserade data.
Flow-forming machines, other than those specified in 2B009, and specially designed components as follows:
Bearbetning av digitaliserade data.
SEE ALSO 2B209.
För integrerade kretsar med analog-till-digital-omvandlare, se avsnitt 3A001.a.5.a.
a.
För fältprogrammerbara logiska komponenter, se avsnitt 3A001.a.7.
Flow-forming machines having all of the following:
Mikrovåg- eller millimetervågprodukter enligt följande:
According to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control, even when not equipped with such units; and
I samband med avsnitt 3A001.b kan parametern maximal toppeffekt (peak saturated power output) på ett produktdatablad också anges som uteffekt, mättad topputeffekt, maximal uteffekt, uttoppeffekt, eller maximal topputeffekt (PEP).
With more than two axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control".
’Elektroniska vakuumenheter’ och katoder enligt följande:
b.
Avsnitt 3A001.b.1 omfattar inte sådana ’elektroniska vakuumenheter’ som är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband och som har allt av följande:
Specially designed components for flow-forming machines specified in 2B009 or 2B109.a.
De överstiger inte 31,8 GHz, och
2B109 does not control machines that are not usable in the production of propulsion components and equipment (e.g. motor cases and interstages) for systems specified in 9A005, 9A007.a. or 9A105.a.
de är ”tilldelade av ITU” för radiokommunikationstjänster men inte för radiobestämning.
Machines combining the function of spin-forming and flow-forming are for the purpose of 2B109 regarded as flow-forming machines.
Avsnitt 3A001.b.1 omfattar inte icke-”rymdkvalificerade” ’elektroniska vakuumenheter’ som har allt av följande:
Vibration test systems, equipment and components therefor, as follows:
De har en genomsnittlig uteffekt på högst 50 W, och
a.
de är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband som har allt av följande:
Vibration test systems employing feedback or closed loop techniques and incorporating a digital controller, capable of vibrating a system at an acceleration equal to or greater than 10 g rms between 20 Hz and 2 kHz while imparting forces equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table';
De överstiger 31,8 GHz, men överstiger inte 43,5 GHz, och
b.
’Elektroniska vakuumenheter’ för vandringsvåg och pulsad eller kontinuerlig drift enligt följande:
Digital controllers, combined with specially designed vibration test software, with a 'real-time control bandwidth' greater than 5 kHz designed for use with vibration test systems specified in 2B116.a.;
Enheter som kan arbeta vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.
In 2B116.b., 'real-time control bandwidth' means the maximum rate at which a controller can execute complete cycles of sampling, processing data and transmitting control signals.
Enheter som har en katodupphettning som möjliggör full högfrekvensdrift på kortare tid än 3 s efter tillslag.
c.
Enheter som har kopplade kaviteter eller är utvecklingar av sådana enheter med en ”relativ bandbredd” som är större än 7 % eller en toppeffekt som överskrider 2,5 kW.
Vibration thrusters (shaker units), with or without associated amplifiers, capable of imparting a force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration test systems specified in 2B116.a.;
Enheter som bygger på helixbanor eller banor med vågledare i form av veck eller serpentiner (folded waveguide respektive serpentine waveguide), eller utvecklingar av dessa, och som har något av följande:
d.
De har en ”effektbandbredd” som är mer än en oktav och produkten av den specificerade genomsnittliga uteffekten (uttryckt i kW) och den högsta arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 0,5,
Test piece support structures and electronic units designed to combine multiple shaker units in a system capable of providing an effective combined force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration systems specified in 2B116.a.
de har en ”effektbandbredd” som är en oktav eller mindre, och produkten av den specificerade uteffekten (uttryckt i kW) och den maximala specificerade arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 1,
In 2B116, 'bare table' means a flat table, or surface, with no fixture or fittings.
de är ”rymdkvalificerade”, eller