natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Zirconium oxide (zirconia).
Elektromagneter med supraledande solenoider som har allt av följande:
The 'nominal size' is defined as the smaller of the inlet and outlet diameters.
Kan producera magnetfält kraftigare än 2 T.
h.
Längdens förhållande till innerdiametern är större än 2.
Multi-walled piping incorporating a leak detection port, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
En inre diameter större än 300 mm.
Nickel or 'alloys'with more than 40 % nickel by weight;
Ett magnetfält som är homogent, bättre än 1 % över de centrala 50 % av den inre volymen.
i.
Röntgenblixtaggregat eller pulsade elektronacceleratorer som har en av följande uppsättningar egenskaper:
Multiple-seal and seal-less pumps, with manufacturer's specified maximum flow-rate greater than 0,6 m3/hour, or vacuum pumps with manufacturer's specified maximum flow-rate greater than 5 m3/hour (under standard temperature (273 K (0 °C)) and pressure (101,3 kPa) conditions), other than those specified in 2B233; and casings (pump bodies), preformed casing liners, impellers, rotors or jet pump nozzles designed for such pumps, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
En toppenergi för de accelererade elektronerna om 500 keV eller mer men mindre än 25 MeV, och
Ceramics;
ett ’godhetstal’ (K) lika med 0,25 eller mer, eller
Ferrosilicon (high silicon iron alloys);
en toppenergi för de accelererade elektronerna om 25 MeV eller mer, och
In 2B350.i., the term seal refers to only those seals that come into direct contact with the chemical(s) being processed (or are designed to), and provide a sealing function where a rotary or reciprocating drive shaft passes through a pump body.
en ’toppeffekt’ större än 50 MW.
j.
Avsnitt 3A201.c omfattar inte acceleratorer som ingår som delar i apparatur konstruerad för annat än användning av elektronstråle eller röntgenstrålning (t.ex. elektronmikroskop) och sådana som konstruerats för medicinska ändamål.
Incinerators designed to destroy chemicals specified in entry 1C350, having specially designed waste supply systems, special handling facilities and an average combustion chamber temperature greater than 1273 K (1000 °C), in which all surfaces in the waste supply system that come into direct contact with the waste products are made from or lined with any of the following materials:
’Godhetstalet’ (K) definieras som
Ceramics; or
K = 1,7 × 103V2,65Q
Nickel or 'alloys' with more than 40 % nickel by weight.
V är elektronernas toppenergi i millioner elektronvolt.
For the purposes of 2B350, the materials used for gaskets, packing, seals, screws, washers or other materials performing a sealing function do not determine the status of control, provided that such components are designed to be interchangeable.
Om pulslängden i acceleratorstrålen är kortare än eller lika med 1 μs, så är Q den totala accelererade laddningen i coulomb.
'Carbon graphite' is a composition consisting of amorphous carbon and graphite, in which the graphite content is eight percent or more by weight.
Om strålens pulslängd är längre än 1 μs, så är Q den maximala accelererade laddningen på 1 μs.
For the listed materials in the above entries, the term 'alloy' when not accompanied by a specific elemental concentration is understood as identifying those alloys where the identified metal is present in a higher percentage by weight than any other element.
Q är lika med integralen av i med avseende på t, över den tidslängd som är kortast av 1 μs eller tidslängden av pulsen (Q = ∫ idt), där i är strålströmmen i ampere och t tiden i sekunder.
Toxic gas monitoring systems and their dedicated detecting components, other than those specified in 1A004, as follows; and detectors; sensor devices; and replaceable sensor cartridges therefor:
’Toppeffekt’= (toppspänning i volt) × (toppström i ampere).
a.
I maskiner baserade på accelerations-kaviteter för mikrovågor är pulsens tidsutsträckning det mindre av 1 μs och längden av det sammanpressade (bunchade) vågpaketets varaktighet genererad av en modulatorpuls.
Designed for continuous operation and usable for the detection of chemical warfare agents or chemicals specified in 1C350, at concentrations of less than 0,3 mg/m3; or
I maskiner baserade på accelerationskaviteter för mikrovågor är strålens toppström lika med medelströmmen under det sammanpressade (bunchade) vågpaketets varaktighet.
b.
Frekvensomvandlare eller generatorer, andra än de som specificeras i avsnitt 0B001.b.13, som kan användas som motordrivsystem med variabel eller fast switchfrekvens och som har allt av följande:
Designed for the detection of cholinesterase-inhibiting activity.
”Programvara” som är särskilt konstruerad för att öka eller frigöra prestandan hos en frekvensomvandlare eller generator för att uppfylla kriterierna enligt avsnitt 3A225 specificeras i avsnitt 3D225.
Equipment capable of use in handling biological materials, as follows:
”Teknik” i form av koder eller nycklar för att öka eller frigöra prestandan hos en frekvensomvandlare eller generator för att uppfylla kriterierna enligt avsnitt 3A225 specificeras i avsnitt 3E225.
a.
Flerfasig utgång som producerar en effekt av 40 VA eller mer.
Containment facilities and related equipment as follows:
Arbetar vid en frekvens på 600 Hz eller mer.
Complete containment facilities that meet the criteria for P3 or P4 (BL3, BL4, L3, L4) containment as specified in the WHO Laboratory Biosafety Manual (3rd edition Geneva, 2004);
Frekvensstyrning bättre (lägre) än 0,2 %.
Equipment designed for fixed installation in containment facilities controlled in 2B352.a., as follows:
Avsnitt 3A225 omfattar inte frekvensomvandlare eller generatorer som har begränsningar i sin maskinvara, ”programvara” eller ”teknik” som begränsar prestandan till att vara lägre än vad som anges ovan, under förutsättning att de uppfyller något av följande:
a.
De måste returneras till originaltillverkaren för att förbättras eller för att begränsningarna ska tas bort.
Double-door pass-through decontamination autoclaves;
de kräver ”programvara” enligt vad som specificeras i avsnitt 3D225 för att öka eller frigöra prestandan för att uppfylla de kriterier som anges i avsnitt 3A225, eller
b.
de kräver ”teknik” i form av nycklar eller koder enligt vad som specificeras i avsnitt 3E225 för att öka eller frigöra prestandan för att uppfylla de kriterier som anges i avsnitt 3A225.
Breathing air suit decontamination showers;
Frekvensomvandlare i avsnitt 3A225 benämns också med de engelska beteckningarna converters eller inverters.
c.
Frekvensomvandlare enligt 3A225 kan även saluföras som frekvensomformare, generatorer, elektronisk mätutrustning, AC-kraftaggregat, motorstyrsystem med variabel hastighet, Variable Speed Motors Drives, Variable Speed Drives (VSD), Variable Frequency Drives (VFD), Adjustable Frequency Drives (AFD) eller Adjustable Speed Drives (ASD).
Mechanical-seal or inflatable-seal walkthrough doors;
Likströmsaggregat med hög effekt, andra än de som specificeras i avsnitt 0B001.j.6, som har båda följande egenskaper:
b.
Kan kontinuerligt producera, över en tidsperiod om 8 timmar, 100 V eller mer med en utgångsström av 500 A eller mer, och
Fermenters and components as follows:
en ström- eller spänningsstabilitet som är bättre än 0,1 % över en tidsperiod om 8 timmar.
Fermenters capable of cultivation of "microorganisms" or of live cells for the production of viruses or toxins, without the propagation of aerosols, having a total capacity of 20 litres or more;
Likströmsaggregat med hög effekt, andra än de som specificeras i avsnitt 0B001.j.5, som har båda följande egenskaper:
Components designed for fermenters in 2B352.b.1. as follows:
Kan kontinuerligt producera, över en tidsperiod om 8 timmar, 20 kV eller mer med en utgångsström av 1 A eller mer, och
Cultivation chambers designed to be sterilised or disinfected in situ;
Kallkatodrör, oavsett om de är gasfyllda eller ej, vilka fungerar på liknande sätt som gnistgap, och uppfyller samtliga följande krav:
Cultivation chamber holding devices;
Anodens märkta toppspänning är minst 2,5kV.
c.
Anodens märkta toppström är minst 100 A.
Process control units capable of simultaneously monitoring and controlling two or more fermentation system parameters (e.g., temperature, pH, nutrients, agitation, dissolved oxygen, air flow, foam control);
Anodens fördröjning är högst 10 μs.
For the purposes of 2B352.b. fermenters include bioreactors, single-use (disposable) bioreactors, chemostats and continuous-flow systems.
Avsnitt 3A228 omfattar krytroner och sprytroner.
c.
Triggade gnistgap som uppfyller följande båda villkor:
Centrifugal separators, capable of continuous separation without the propagation of aerosols, having all the following characteristics:
Anodens fördröjning är högst 15 μs.
Flow rate exceeding 100 litres per hour;
En märkt toppström om minst 500 A.
Components of polished stainless steel or titanium;
Moduler eller delsystem med en snabb slutarfunktion som inte omfattas av avsnitt 3A001.g eller 3A001.h och som har allt av följande:
One or more sealing joints within the steam containment area; and
Anodens märkta toppspänning är större än 2 kV,
Capable of in-situ steam sterilisation in a closed state;
Anodens märkta toppström är minst 500 A.
Centrifugal separators include decanters.
Tillslagstiden är 1 μs eller mindre.
d.
Pulsgeneratorer för hög strömstyrka enligt följande:
Cross (tangential) flow filtration equipment and components as follows:
Tändaggregat (detonatorer), inbegripet med elektronisk laddning, explosiv laddning och optisk laddning, andra än de som specificeras i avsnitt 1A007.a, avsedda att initiera flerpunktständning av sprängkapslar som specificeras i avsnitt 1A007.b.
Cross (tangential) flow filtration equipment capable of separation of "microorganisms", viruses, toxins or cell cultures having all of the following characteristics:
Moduluppbyggda elektriska pulsgeneratorer som har allt av följande:
a.
Portabla, mobila eller konstruerade för svåra förhållanden.
A total filtration area equal to or greater than 1 m2; and
Kapabla att leverera sin energi inom loppet av 15 μs vid lägre belastning än 40 ohm.
b.
Kapabla att leverera en strömstyrka överstigande 100 A.
Having any of the following characteristics:
Ingen dimension är större än 30 cm.
Capable of being sterilised or disinfected in-situ; or
Väger mindre än 30 kg.
Using disposable or single-use filtration components;
Specificerad för användning i ett brett temperaturområde 223 K (– 50 °C) till 373 K (100 °C) eller specificerad som lämplig för rymdanvändning.
In 2B352.d.1.b. sterilised denotes the elimination of all viable microbes from the equipment through the use of either physical (e.g. steam) or chemical agents.
Avsnitt 3A229.b omfattar drivaggregat till xenonblixtar.
Disinfected denotes the destruction of potential microbial infectivity in the equipment through the use of chemical agents with a germicidal effect.
Mikroavfyrningsenheter som har allt av följande:
Disinfection and sterilisation are distinct from sanitisation, the latter referring to cleaning procedures designed to lower the microbial content of equipment without necessarily achieving elimination of all microbial infectivity or viability.
Ingen dimension är större än 35 mm.
2B352.d. does not control reverse osmosis and hemodialysis equipment, as specified by the manufacturer.
Märkspänning på minst 1 kV.
Cross (tangential) flow filtration components (e.g. modules, elements, cassettes, cartridges, units or plates) with filtration area equal to or greater than 0,2 m2 for each component and designed for use in cross (tangential) flow filtration equipment specified in 2B352.d.;
Kapacitans på minst 100 nF.
e.
Snabba pulsgeneratorer och ’pulshuvuden’ till dessa som har båda följande egenskaper:
Steam, gas or vapour sterilisable freeze-drying equipment with a condenser capacity of 10 kg of ice or more in 24 hours and less than 1000 kg of ice in 24 hours;
Utgående spänning högre än 6 V vid en resistiv belastning av mindre än 55 ohm.
f.
En ’stigtid för pulsen’ som är kortare än 500 ps.
Protective and containment equipment, as follows:
I avsnitt 3A230 definieras ’stigtid för pulsen’ som tidsintervallet mellan 10 % och 90 % av spänningsamplituden.
Protective full or half suits, or hoods dependent upon a tethered external air supply and operating under positive pressure;
Neutrongeneratorsystem, även rör, som har följande två egenskaper:
2B352.f.1. does not control suits designed to be worn with self-contained breathing apparatus.
Utformade för drift utan yttre vakuumsystem.
Biocontainment chambers, isolators, or biological safety cabinets having all of the following characteristics, for normal operation:
Använder något av följande:
a.
Elektrostatisk acceleration för att inducera en kärnreaktion mellan tritium och deuterium, eller
Fully enclosed workspace where the operator is separated from the work by a physical barrier;
elektrostatisk acceleration för att inducera en kärnreaktion mellan deuterium och deuterium och som är kapabel till en uteffekt på 3 × 9 neutroner/s eller mer.
b.
System för flerpunktständning som inte omfattas av avsnitt 1A007 enligt följande:
Able to operate at negative pressure;
Se avsnitt 1A007.b för sprängkapslar.
c.
Anordningar som, utlösta av en enda puls, använder en eller flera sprängkapslar i syfte att nästan samtidigt initiera detonation i en sprängämnesyta över en area större än 5000 mm2 med en spridning i tändtid över hela ytan som är mindre än 2,5 μs.
Means to safely manipulate items in the workspace;
Avsnitt 3A232 omfattar inte enkla detonatorer som endast använder primära explosiver såsom blyazid.
d.
Masspektrometrar som inte omfattas av avsnitt 0B002.g, som kan mäta joner med en massa av 230 amu (amu = atommassenhet) eller mer och som har en upplösning bättre än 2/230, samt jonkällor till sådana, enligt följande:
Supply and exhaust air to and from the workspace is HEPA filtered;
Masspektrometrar med induktivt kopplad plasmajonkälla (ICP/MS).
2B352.f.2. includes Class III biosafety cabinets, as described in the latest edition of the WHO Laboratory Biosafety Manual or constructed in accordance with national standards, regulations or guidance.
Masspektrometrar med glimurladdningsjonkälla (GDMS).
2B352.f.2. does not include isolators specially designed for barrier nursing or transportation of infected patients.
Masspektrometrar med jonkälla som bygger på termisk jonisation (TIMS).
g.
Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning (electron bombardment) som har båda följande egenskaper:
Aerosol inhalation equipment designed for aerosol challenge testing with "microorganisms", viruses or "toxins" as follows:
Ett molekylärt instrålningssystem som injekterar ett kollimerat strålknippe av de molekyler som analyseras till ett område i jonkällan där molekylerna joniseras av en elektronstråle, och
Whole-body exposure chambers having a capacity of 1 m3 or more;
en eller flera ’kylfällor’ som kan kylas ned till 193 K (– 80 °C).
Nose-only exposure apparatus utilising directed aerosol flow and having capacity for exposure of any of the following:
Används inte.
12 or more rodents; or
Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning (electron bombardment) enligt 3A233.d kallas också EI-masspektrometrar (electron impact mass spectrometers eller electron ionization mass spectrometers).
b.
Striplines för att skapa banor med låg induktans för detonatorer med följande egenskaper:
2 or more animals other than rodents;
Märkspänning större än 2 kV, och
Closed animal restraint tubes designed for use with nose-only exposure apparatus utilising directed aerosol flow;
induktans mindre än 20 nH.
h.
Utrustning konstruerad för tillverkning av halvledarenheter eller material, enligt följande, och för dessa utrustningar speciellt konstruerade komponenter och tillbehör:
Spray drying equipment capable of drying toxins or pathogenic "microorganisms" having all of the following:
SE ÄVEN AVSNITT 2B226.
A water evaporation capacity of ≥ 0,4 kg/h and ≤ 400 kg/h;
Utrustning för epitaxiell tillväxt enligt följande:
The ability to generate a typical mean product particle size of ≤ 10 μm with existing fittings or by minimal modification of the spray-dryer with atomization nozzles enabling generation of the required particle size; and
Utrustning som är konstruerad eller modifierad för att producera ett lager av ett annat material än kisel med en jämnhetsavvikelse mindre än ±2,5 % över en sträcka av minst 75 mm.
Capable of being sterilised or disinfected in situ.
Avsnitt 3B001.a.1 omfattar utrustning för atomlagerepitaxi (ALE).
None.
Metallorganiska kemiska förångningsreaktorer (MOCVD) konstruerade för att ge epitaxiell tillväxt av halvledarblandningar av material med två eller fler av följande beståndsdelar: aluminium, gallium, indium, arsenik, fosfor, antimon eller kväve.
"Software", other than that specified in 2D002, as follows:
Utrustning för epitaxiell tillväxt med hjälp av molekylärstrålar och gaskällor.
a.
Utrustning konstruerad för jonimplantation som har något av följande:
"Software" specially designed or modified for the "development" or "production" of equipment specified in 2A001 or 2B001
Konstruerade och optimerade för att arbeta vid en strålenergi på 20 keV eller mer och en strålström på 10 mA eller mer för väte-, deuterium- eller heliumimplantering.
b.
Direkt skrivmöjlighet.
"Software" specially designed or modified for the "use" of equipment specified in 2A001.c, 2B001 or 2B003 to 2B009.
En strålenergi som är 65 keV eller mer och en strålenergi som är 45 mA eller mer för att med hög energi införa syre i det upphettade halvledar-”substratet”.
2D001 does not control part programming "software" that generates "numerical control" codes for machining various parts.
Konstruerad och optimerad för att arbeta vid en strålenergi på 20 keV eller mer och en strålström på 10 mA eller mer för kiselimplantering i ett halvledar-”substrat” upphettat till 600 °C eller mer.
"Software" for electronic devices, even when residing in an electronic device or system, enabling such devices or systems to function as a "numerical control" unit, capable of co-ordinating simultaneously more than four axes for "contouring control".
Automatiskt laddningssystem för flera kammare för tillverkning av halvledare som har allt av följande:
2D002 does not control "software" specially designed or modified for the operation of items not specified in Category 2.
Gränssnitt för såväl in- som utgång för wafers till vilket minst två funktionellt olika ’halvledarprocessverktyg’ enligt avsnitt 3B001.a.1., 3B001.a.2., 3B001.a.3 eller 3B001.b är avsedda att anslutas, och
2D002 does not control "software" for items specified in 2B002.
vara konstruerade för att bilda ett integrerat system i vakuumomgivning för ’sekventiell bearbetning av wafers i flera steg’.
See 2D001 and 2D003 for "software" for items specified in 2B002.
Avsnitt 3B001.e omfattar inte automatisk robothantering av wafers särskilt konstruerade för parallell waferbehandling.
2D002 does not control "software" that is exported with, and the minimum necessary for the operation of, items not specified by Category 2.
I avsnitt 3B001.e avses med ’halvledarbearbetningsverktyg’ modulära verktyg som möjliggör fysiska processer för halvledarframställning vilka är funktionellt olika, såsom deponering, implantering eller värmebehandling.
"Software", designed or modified for the operation of equipment specified in 2B002, that converts optical design, workpiece measurements and material removal functions into "numerical control" commands to achieve the desired workpiece form.
I avsnitt 3B001.e avses med ’sekventiell bearbetning av wafers i flera steg’ möjligheten att bearbeta varje wafer i olika ’halvledarbearbetningsverktyg’, t.ex. genom att överföra varje wafer från ett verktyg till ett annat och vidare till ett tredje via de automatiska centrala klustersystemen för hantering av wafers.
"Software" specially designed or modified for the "use" of equipment specified in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 or 2B119 to 2B122.
Litografisk utrustning enligt följande:
SEE ALSO 9D004.
Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:
"Software" specially designed for the "use" of equipment specified in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 or 2B227.
Ljuskällans våglängd är kortare än 193 nm, eller
"Software" specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment specified in 2B201.
kan producera ett mönster med en ’minsta upplösning för systemdimensionen’ (MRF) på 45 nm eller mindre.
2D202 does not control part programming "software" that generates "numerical control" command codes but does not allow direct use of equipment for machining various parts.
Den ’minsta upplösningen för systemdimensionen’ (MRF) beräknas med följande formel:
"Software", other than that specified in 1D003, specially designed for "use" of equipment specified in 2B351.
ljuskällans våglängd i nm
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of equipment or "software" specified in 2A, 2B or 2D.
skalfaktorn K
2E001 includes "technology" for the integration of probe systems into coordinate measurement machines specified in 2B006.a.
numeriska aperturen
"Technology" according to the General Technology Note for the "production" of equipment specified in 2A or 2B.
där K är en skalfaktor = 0,35
Other "technology", as follows:
Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 45 nm eller mindre.
b.
Verktyg för värmeprägling.
"Technology" for metal-working manufacturing processes, as follows:
Verktyg för nanopräglingslitografi.
"Technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).
a.
Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker och som har allt av följande:
"Superplastic forming";
Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser”strålar, och
b.
En halvvärdesbredd på under 65 nm och bildplacering på mindre 17 nm (medelvärde + 3 sigma).
"Diffusion bonding"; or
Misspass på andra lagret på mindre än 23 nm (medelvärde + 3 sigma) på masken.
c.
3B001.f (forts)
"Direct-acting hydraulic pressing";
Utrustning som är konstruerad för bearbetning med hjälp av direkta skrivmetoder och som har allt av följande:
Technical data consisting of process methods or parameters as listed below used to control:
Den använder avlänkade fokuserade elektronstrålar, och
a.
En minsta strålstorlek på högst 15 nm.
"Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
Misspass på mindre än 27 nm (medelvärde + 3 sigma).
Surface preparation;
Masker eller mastermasker som är konstruerade för tillverkning av integrerade kretsar som specificeras i avsnitt 3A001.
Strain rate;
Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager som inte specificeras i avsnitt 3B001.g och som har något av följande:
Temperature;
Tillverkad på mask ”skiva” (substrate blank) av glas som angivits ha en dubbelbrytning på mindre än 7 nm/cm, eller
Pressure;
konstruerad för att användas med litografisk utrustning där ljuskällans våglängd är kortare än 245 nm.
b.
Avsnitt 3B001.h omfattar inte flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager konstruerat för tillverkning av minnen som inte omfattas av avsnitt 3A001.
"Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
Schabloner för litografisk prägling som är utformade för integrerade kretsar som omfattas av avsnitt 3A001.
c.
Provutrustning som är speciellt konstruerad för provning av färdiga halvledarenheter eller halvfabrikat enligt följande, samt tillhörande komponenter och tillbehör:
"Direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
Utrustning för provning av transistorers S-parametrar vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.
Cycle time;
Utrustning som kan prova integrerade mikrovågskretsar som specificeras i avsnitt 3A001.b.2.
d.
Hetero-epitaxiella material som består av ett ”substrat” med ovanpå varandra liggande epitaxiellt tillvuxna multipellager av något av följande: