natgillin/translations-raw huggingface dataset:
At least two rotary axes having all of the following:
Polymerer (11) och organiska "matris" – "kompositer"
a.
C. Pack cementation (se A ovan out-of-pack cementation) (10)
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Svårsmälta metaller och legeringar (8)
b.
Oxider
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003°;
D. Plasmasprutning
f.
Slipbar nickel-grafit
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m.
Slipbara material som innehåller Ni-Cr-Al
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Slipbar Al-Si-polyester
a.
Aluminiumlegeringar (6)
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
E. Målningsbeläggning
b.
Brända silicider
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
Brända aluminider utom för resistiva värmeelement
c.
F. Sputteringbeläggning
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Ädelmetallmodifierade aluminider (3)
d.
Platina
Using any of the following processes:
Keramer och glas med låg expansion (14)
Magnetorheological finishing ('MRF');
Dielektriska lager (15)
Electrorheological finishing ('ERF');
G. Jonimplantation
'Energetic particle beam finishing';
Lagerstål för höga temperaturer
'Inflatable membrane tool finishing'; or
Tillsatser av krom tantal eller niob (columbium)
'Fluid jet finishing'.
Hårdmetall innehållande volframkarbid (16)
For the purposes of 2B002:
TABELL – YTBELÄGGNINGSTEKNIKER – ANMÄRKNINGAR
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
Termen 'beläggningsprocess' omfattar såväl reparation och förbättring av ytbehandlingen som den ursprungliga ytbehandlingen.
'ERF' is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
Termen 'legerade aluminidbeläggningar' omfattar enkel- eller flerstegsbeläggningar varvid ett eller flera ämnen överförs före eller samtidigt med aluminidbeläggningen även om dessa ämnen överförs med en annan ytbehandlingsmetod.
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Däremot omfattas inte upprepad användning av s.k. enkelstegs "pack cementation"-processer för att uppnå legerade aluminider.
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Termen 'ädelmetallmodifierade aluminider' omfattar flerstegsbeläggningar varvid ädelmetallen eller ädelmetallerna påläggs med någon annan beläggningsprocess före påläggningen av aluminidbeläggningen.
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
Termen 'blandningar därav' omfattar infiltrerade material, sorterade blandningar, hjälpbeläggningar och multilagerbeläggningar och erhålls genom en eller flera av de beläggningsprocesser som specificeras i tabellen.
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc = 40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
'MCrAlX' avser en legerad beläggning där M står för kobolt, järn, nickel eller blandningar därav och X står för hafnium, yttrium, kisel, tantal oberoende av mängd eller andra avsiktliga tillsatser som är större än 0,01 viktprocent, i olika proportioner och kombinationer, utom
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
CoCrAlY-beläggningar som innehåller mindre än 22 viktprocent krom, mindre än 7 viktprocent aluminium och mindre än 2 viktprocent yttrium,
SEE ALSO 2B104 and 2B204.
CoCrAlY-beläggningar som innehåller 22–24 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,5–0,7 viktprocent yttrium, eller
a.
NiCrAlY-beläggningar som innehåller 21–23 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,9–1,1 viktprocent yttrium.
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Med termen 'aluminiumlegeringar' avses legeringar som har en brottgräns på minst 190 MPa mätt vid 293 K (20 °C).
b.
Med termen 'korrosionsbeständigt stål' avses AISI (American Iron and Steel Institute)-serien 300 eller motsvarande nationella standard för stål.
Having any of the following:
'Svårsmälta metaller och legeringar' omfattar följande metaller och deras legeringar: niob (columbium), molybden, volfram och tantal.
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
'Detektorfönstermaterial' enligt följande: aluminiumoxid, kisel, germanium, zinksulfid, zinkselenid, galliumarsenid, diamant, galliumfosfid, safir och följande metallhalogenider: detektorfönstermaterial som har en diameter som är större än 40 mm för zirkoniumfluorid och hafniumfluorid.
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
"Tekniken" för s.k. enstegs pack-cementation av massiva luftfolier omfattas inte av kategori 2.
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
'Polymerer' enligt följande: polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonater och polyuretaner.
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Med 'modifierat zirkonium' avses tillsatser av andra metalloxider (t.ex. kalciumoxid, magnesiumoxid, yttriumoxid, hafniumoxid, oxider till sällsynta jordmetaller) till zirkonium för att stabilisera speciella kristallografiska faser och faskompositioner.
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
Termisk barriärbeläggning som görs av zirkonium modifierad med kalciumoxid eller magnesiumoxid genom blandning eller fusion omfattas inte.
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Med 'titanlegeringar' avses endast rymdlegeringar som har en brottgräns som är minst 900 MPa mätt vid 293 K (20 °C).
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
Med 'glas med låg expansion' avses glas med en termisk expansionskoefficient på högst 1 × 10– 7 K– 1 mätt vid 293 K (20 °C).
a.
'Dielektriska lager' är beläggningar som är uppbyggda av flera lager isolationsmaterial i vilka interferensegenskaperna hos en konstruktion som är sammansatt av material med olika brytningsindex används så att reflexion, genomsläpplighet eller absorption erhålls vid olika våglängder.
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Med dielektriskta lager avses minst fyra dielektriska lager eller dielektriska/metall-"komposit"-lager.
SEE ALSO 2B105.
'Hårdmetall innehållande volframkarbid' omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial som består av volframkarbid/(kobolt, nickel), titankarbid/(kobolt, nickel), kromkarbid/nickel-krom och kromkarbid/nickel.
A process modified for one of the following:
"Teknik" som är särskilt avsedd för beläggning av diamantlikt kol på något av följande omfattas inte:
a.
Diskettstationer samt läs- och skrivhuvuden, utrustning för tillverkning av engångsmaterial, ventiler för kranar, akustiska membran för högtalare, motordelar till bilar, skärverktyg, stans- och pressmatriser, kontorsmaskiner, mikrofoner och medicintekniska produkter eller formar för plastgjutning eller plastformning, tillverkade av legeringar som innehåller mindre än 5 % beryllium.
b.
Keramiska substrat i denna punkt omfattar inte keramiska material som innehåller minst 5 viktprocent lera eller cement, antingen som separata beståndsdelar eller i kombination.
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
TABELL – YTBELÄGGNINGSTEKNIKER – ANMÄRKNINGAR
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
Kemisk förångningsdeposition (CVD) är en ytbehandlings- eller ytförändringsprocess varvid metall, legering, "komposit", ett dielektrikum eller en keram deponeras på ett upphettat substrat.
a.
Reaktansgaserna sönderdelas eller kombineras i närheten av substratet, varvid en beläggning sker på substratet av det önskade grundämnet, den önskade legeringen eller kompositmaterialet.
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
Energi för denna sönderdelning eller kemiska reaktionsprocess kan erhållas från värmen i substratet, en glimurladdningsplasma eller från upphettning med "laser"-strålning.
b.
CVD omfattar följande processer: beläggning med ett gasflöde out-of-pack-beläggning, pulserande CVD, styrd termisk kärnbildande nedbrytningsprocess (CNTD), plasmaförstärkta eller plasmaassisterade CVD-processer.
Incorporating in situ coating thickness control;
Med pack menas ett substrat som är inbakat i en pulverblandning.
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Termisk förångning – fysisk förångningsdeposition (TE-PVD) är en ytbeläggningsprocess som sker i vakuum vid ett tryck som är lägre än 0,1 Pa varvid en termisk energikälla används för att förånga beläggningsmaterialet.
c.
Denna process resulterar i en kondensation eller en beläggning av det förångade materialet på lämpligt placerade substrat.
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
Tillsatsen av gaser i vakuumkammaren under beläggningsprocessen för att skapa blandad beläggning är en vanlig modifiering av denna process.
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
Användningen av jon- eller elektronstrålar eller plasma för att aktivera eller assistera vid beläggningen är också en vanlig modifikation av denna teknik.
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
Användningen av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek kan utgöra en del av dessa processer.
d.
Specifika TE-PVD processer är följande:
Plasma spraying production equipment having any of the following:
Elektronstråle-PVD använder en elektronstråle för att upphetta och förånga det material som ska bilda beläggningen.
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Jonassisterad resistivt upphettad PVD arbetar med elektroresistiva värmekällor i kombination med direkt inverkan från jonstrålar för att producera ett kontrollerat och likformigt flöde av de förångade beläggningsmaterialen.
Incorporating in situ coating thickness control;
"Laser"förångning använder antingen pulsade eller kontinuerliga "laser"vågor för att förånga det material som ska bilda beläggning.
e.
Katodstrålebeläggning arbetar med en katod av det material som ska bilda beläggning, varvid katoden förbrukas, och vid katoden uppstår en gnisturladdning på ytan genom en kortvarig jordkontakt med hjälp av en trigger.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
En styrd rörelse av gnistan urholkar katodytan och skapar ett kraftigt joniserat plasma.
f.
Anoden kan antingen vara en kon fastsatt till katodens periferi, med hjälp av isolatorer, eller till kammaren.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
Substratet förspänns så att icke-synlig beläggning kan ske.
g.
Denna definition omfattar inte slumpmässig katodstrålebeläggning utan förspänt substrat.
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
Jonplätering är en speciell modifikation av den vanliga TE-PVD-processen, varvid ett plasma eller en jonkälla används för att jonisera de ämnen som ska användas för beläggning, och en negativ förspänning läggs på substratet för att underlätta extraktionen av de ämnen som ska deponeras från plasman.
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Införandet av reaktiva ämnen, förångning av fasta material i kammaren samt användning av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek är vanliga modifieringar av denna process.
Optical characteristics.
"Pack Cementation" är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess varvid substratet packas in i en pulverblandning ("pack") som består av
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
metallpulver som ska utgöra beläggningen (vanligtvis aluminium, krom, kisel eller kombinationer av dessa),
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
en aktivator (vanligtvis ett halogent salt), och
a.
ett ballastpulver, oftast aluminium.
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
Substratet och pulverblandningen placeras i en retort som upphettas till en temperatur mellan 1030 K (757 °C) och 1375 K (1102 °C) i tillräckligt lång tid för att beläggningen ska ske.
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1000 μm threshold.
Plasmasprutning är en ytbehandlingsprocess i vilken en kanon ("blåslampa"), som producerar och styr ett plasma tar emot pulver eller tråd av beläggningsmaterialet, smälter det och skjuter det mot ett substrat, varpå en integrerad sammanfogning sker.
SEE ALSO 2B206.
Plasmasprutning kan antingen ske som lågtryckssprutning eller höghastighetssprutning.
b.
Med lågtryck avses lägre tryck än omgivande atmosfärtryck.
Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
Med höghastighet avses en gashastighet vid sprutmunstycket som överskrider 750 m/s beräknat vid 293 K (20 °C) och 0,1 MPa.
'Linear displacement' measuring instruments having any of the following:
Målningsbeläggning är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess i vilken ett metalliskt eller keramiskt pulver med ett organiskt bindemedel uppslammas i en vätska och appliceras på ett substrat genom antingen sprutning, doppning eller målning, med påföljande luft- eller ugnstorkning, samt värmebehandling för att uppnå önskad beläggning.
Interferometer and optical-encoder displacement measuring systems containing a "laser" are only controlled in 2B006.b.1.c. and 2B206.c.
Sputteringbeläggning är en överlagringsbeläggningsprocess som baseras på impulsöverföringsfenomen, varvid positiva joner accelereras av ett elektriskt fält mot ytan av ett mål (beläggningsmaterialet).
For the purpose of 2B006.b.1.
Den kinetiska energin hos de laddade jonerna är tillräcklig för att atomer från ytan ska frigöras och beläggas på det lämpligt placerade substratet.
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
Tabellen hänvisar endast till triod-, magnetron- eller reaktiv sputteringbeläggning som används för att öka vidhäftningen av beläggningen samt radiofrekvent (RF)-förstärkt sputteringbeläggning som används för att tillåta förångning i icke metalliska beläggningsmaterial.
a.
Lågenergijonstrålar (mindre än 5 keV) kan användas för att aktivera beläggningen.
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Jonimplantation är en ytförändringsbeläggningsprocess i vilken det ämne som ska legeras joniseras, accelereras genom en potentialgradient och förs in till ytregionen för substratet.
b.
Detta inbegriper processer där jonimplantationen sker samtidigt med fysisk förångningsdeposition med elektronstråle eller sputteringbeläggning.
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
KATEGORI 3 – ELEKTRONIK
a.
Kontrollstatusen för den utrustning och de komponenter som beskrivs i avsnitt 3A001 eller 3A002, förutom för de som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.10, 3A001.a.12 eller 3A001.a.13 och som är speciellt konstruerade för eller som har samma funktionella egenskaper som annan utrustning, bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
Kontrollstatusen för de integrerade kretsar som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.9, 3A001.a.12 eller 3A001.a.13 och som är icke föränderligt programmerade till eller konstruerade för en speciell funktion för en annan utrustning bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.
b.
Om en tillverkare eller sökande inte kan avgöra den andra utrustningens kontrollstatus, bestäms de integrerade kretsarnas kontrollstatus av avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.9, 3A001.a.12 och 3A001.a.13.
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5 mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
Elektroniska produkter enligt följande:
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ± 1 K;
Integrerade kretsar för allmänna ändamål enligt följande:
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
Kontrollstatusen för wafers (färdigbearbetade eller obearbetade), vars funktion har fastställts, ska bedömas efter parametrarna i avsnitt 3A001.a.
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm.
Integrerade kretsar omfattar följande typer:
c.
"Monolitiska integrerade kretsar".
Measuring systems having all of the following:
"Integrerade hybridkretsar".
Containing a "laser";
"Integrerade multikretsar".
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
"Integrerade kretsar av filmtyp" inklusive integrerade kretsar av typ kisel på safir.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20 ± 0,01 °C; or
"Optiska integrerade kretsar".
d.
"Tredimensionella integrerade kretsar".
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Integrerade kretsar som har konstruerats eller specificerats för att vara motståndskraftiga mot en total strålning enligt något av följande:
2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
En total dos om minst 5 × 103 Gy (kisel),
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025°;
en dosratsändring genom störning om minst 5 × 106 Gy (kisel)/s, eller
2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
en fluens (integrerat flöde) av neutroner (1 MeV ekvivalent) på 5 × 1013 n/cm2 eller högre på kisel, eller dess ekvivalent för andra material.
c.
3A001 a.1.c omfattar inte halvledare av metallisolatortyp (MIS – Metal Insulator Semiconductors).
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
"Mikroprocessor-mikrokretsar", "mikrodator-mikrokretsar", mikrocontroller-mikrokretsar, integrerade minneskretsar tillverkade av blandade halvledare, analog-till digital omvandlare, digital-till-analog-omvandlare, elektro-optiska eller "optiska integrerade kretsar" konstruerade för "signalbehandling", fältprogrammerbara logiska komponenter, kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kontrollstatusen hos den utrustning i vilken kretsarna ska användas är okänd, processorer för Fast Fourier-transformation (FFT), elektriskt raderbara PROM-minnen (EEPROM), flash-minnen eller statiska RAM (SRAM) som är något av följande:
2B006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer över 398 K (125 °C).
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer under 218 K (– 55 °C).
SEE ALSO 2B207.
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer i området från 218 K (– 55 °C) till och med 398 K (125 °C).
a.
Avsnitt 3A001.a.2 omfattar inte integrerade kretsar som konstruerats för civila bil- eller tågapplikationer.
Capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional 'scene analysis' to generate or modify "programmes" or to generate or modify numerical programme data;
"Mikroprocessor-mikrokretsar", "mikrodator-mikrokretsar" och mikrocontroller-mikrokretsar tillverkade av en halvledare med blandade material och som har en klockfrekvens som överstiger 40 MHz.
The 'scene analysis' limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
Avsnitt 3A001.a.3 omfattar digitala signalprocessorer, digitala matrisprocessorer (array processors) och digitala hjälpprocessorer (coprocessors).
b.
Integrerade kretsar med analog-till-digitalomvandlare (ADC) och digital-till-analog-omvandlare (DAC) enligt följande:
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
ADC som har något av följande:
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
SE ÄVEN AVSNITT 3A101.
c.
En upplösning på 8 bitar eller mer, men mindre än 10 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 1000 miljoner ord per sekund.
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
En upplösning på 10 bitar eller mer, men mindre än 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 500 miljoner ord per sekund.
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
En upplösning på 12 bitar eller mer, men mindre än 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 200 miljoner ord per sekund.
d.
En upplösning på 14 bitar eller mer, men mindre än 16 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 250 miljoner ord per sekund.