natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Seals, if any, essential for sealing the pressure sensing element, and in direct contact with the process medium, made of or protected by aluminium, aluminium alloy, aluminum oxide (alumina or sapphire), nickel, nickel alloy with more than 60 % nickel by weight, or fully fluorinated hydrocarbon polymers; and
I maskiner baserade på accelerationskaviteter för mikrovågor är strålens toppström lika med medelströmmen under det sammanpressade (bunchade) vågpaketets varaktighet.
c.
”Teknik” i form av koder eller nycklar för att öka eller frigöra prestandan hos en frekvensomvandlare eller generator för att uppfylla kriterierna enligt avsnitt 3A225 specificeras i avsnitt 3E225.
Having either of the following characteristics:
Flerfasig utgång som producerar en effekt av 40 VA eller mer.
A full scale of less than 13 kPa and an 'accuracy' of better than ± 1 % of full-scale; or
Arbetar vid en frekvens på 600 Hz eller mer.
A full scale of 13 kPa or greater and an 'accuracy' of better than ± 130 Pa when measured at 13 kPa.
Frekvensstyrning bättre (lägre) än 0,2 %.
In 2B230 'pressure transducer' means a device that converts a pressure measurement into a signal.
Avsnitt 3A225 omfattar inte frekvensomvandlare eller generatorer som har begränsningar i sin maskinvara, ”programvara” eller ”teknik” som begränsar prestandan till att vara lägre än vad som anges ovan, under förutsättning att de uppfyller något av följande:
For the purposes of 2B230, 'accuracy' includes non-linearity, hysteresis and repeatability at ambient temperature.
De måste returneras till originaltillverkaren för att förbättras eller för att begränsningarna ska tas bort.
Vacuum pumps having all of the following characteristics:
de kräver ”programvara” enligt vad som specificeras i avsnitt 3D225 för att öka eller frigöra prestandan för att uppfylla de kriterier som anges i avsnitt 3A225, eller
a.
de kräver ”teknik” i form av nycklar eller koder enligt vad som specificeras i avsnitt 3E225 för att öka eller frigöra prestandan för att uppfylla de kriterier som anges i avsnitt 3A225.
Input throat size equal to or greater than 380 mm;
Frekvensomvandlare i avsnitt 3A225 benämns också med de engelska beteckningarna converters eller inverters.
The pumping speed is determined at the measurement point with nitrogen gas or air.
Har tre eller flera elektroder,
The ultimate vacuum is determined at the input of the pump with the input of the pump blocked off.
Anodens märkta toppspänning är minst 2,5 kV.
High-velocity gun systems (propellant, gas, coil, electromagnetic, and electrothermal types, and other advanced systems) capable of accelerating projectiles to 1,5 km/s or greater.
anodens märkta toppspänning är minst 100 A, och
SEE ALSO MILTARY GOODS CONTROLS.
Anodens fördröjning är högst 10 μs.
Bellows-sealed scroll-type compressors and bellows-sealed scroll-type vacuum pumps having all of the following:
Avsnitt 3A228 omfattar krytroner och sprytroner.
SEE ALSO 2B350.i.
Triggade gnistgap som uppfyller följande båda villkor:
a.
En anodfördröjning om 15 μs eller mindre, och
Capable of an inlet volume flow rate of 50 m3/h or greater;
en märkt toppström om minst 500 A.
b.
Moduler eller delsystem med en snabb slutarfunktion som inte omfattas av avsnitt 3A001.g eller 3A001.h och som har allt av följande:
Capable of a pressure ratio of 2:1 or greater; and
Anodens märkta toppspänning är större än 2 kV,
c.
anodens märkta toppström är minst 500 A, och
Having all surfaces that come in contact with the process gas made from any of the following materials:
tillslagstiden är 1 μs eller mindre.
Aluminium or aluminium alloy;
Pulsgeneratorer för hög strömstyrka enligt följande:
Aluminium oxide;
Tändaggregat (detonatorer), inbegripet med elektronisk laddning, explosiv laddning och optisk laddning, andra än de som specificeras i avsnitt 1A007.a, avsedda att initiera flerpunktständning av sprängkapslar som specificeras i avsnitt 1A007.b.
Stainless steel;
Moduluppbyggda elektriska pulsgeneratorer som har allt av följande:
Chemical manufacturing facilities, equipment and components, as follows:
Ingen dimension är större än 30 cm.
a.
Väger mindre än 30 kg.
Reaction vessels or reactors, with or without agitators, with total internal (geometric) volume greater than 0,1 m3 (100 litres) and less than 20 m3 (20000 litres), where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
Specificerad för användning i ett brett temperaturområde 223 K (– 50 °C) till 373 K (100 °C) eller specificerad som lämplig för rymdanvändning.
'Alloys' with more than 25 % nickel and 20 % chromium by weight;
Avsnitt 3A229.b omfattar drivaggregat till xenonblixtar.
Fluoropolymers (polymeric or elastomeric materials with more than 35 % fluorine by weight);
Mikroavfyrningsenheter som har allt av följande:
Glass (including vitrified or enamelled coating or glass lining);
Ingen dimension är större än 35 mm.
Nickel or 'alloys' with more than 40 % nickel by weight;
Märkspänning på minst 1 kV.
Tantalum or tantalum 'alloys';
Kapacitans på minst 100 nF.
Titanium or titanium 'alloys';
Snabba pulsgeneratorer och ’pulshuvuden’ till dessa som har båda följande egenskaper:
Zirconium or zirconium 'alloys'; or
Utgående spänning högre än 6 V vid en resistiv belastning av mindre än 55 ohm, och
Niobium (columbium) or niobium 'alloys';
en ’stigtid för pulsen’ som är kortare än 500 ps.
b.
I avsnitt 3A230 definieras ’stigtid för pulsen’ som tidsintervallet mellan 10 % och 90 % av spänningsamplituden.
Agitators designed for use in reaction vessels or reactors specified in 2B350.a.; and impellers, blades or shafts designed for such agitators, where all surfaces of the agitator that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
Neutrongeneratorsystem, även rör, som har följande två egenskaper:
Glass (including vitrified or enamelled coatings or glass lining);
Utformade för drift utan yttre vakuumsystem, och
c.
använder något av följande:
Storage tanks, containers or receivers with a total internal (geometric) volume greater than 0,1 m3 (100 litres) where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
Elektrostatisk acceleration för att inducera en kärnreaktion mellan tritium och deuterium, eller
d.
elektrostatisk acceleration för att inducera en kärnreaktion mellan deuterium och deuterium och som är kapabel till en uteffekt på 3 × 9 neutroner/s eller mer.
Heat exchangers or condensers with a heat transfer surface area greater than 0,15 m2, and less than 20 m2; and tubes, plates, coils or blocks (cores) designed for such heat exchangers or condensers, where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
System för flerpunktständning som inte omfattas av avsnitt 1A007 enligt följande:
Graphite or 'carbon graphite';
Se avsnitt 1A007.b för sprängkapslar.
Zirconium or zirconium 'alloys';
Anordningar som, utlösta av en enda puls, använder en eller flera sprängkapslar i syfte att nästan samtidigt initiera detonation i en sprängämnesyta över en area större än 5000 mm2 med en spridning i tändtid över hela ytan som är mindre än 2,5 μs.
Silicon carbide;
Avsnitt 3A232 omfattar inte enkla detonatorer som endast använder primära explosiver såsom blyazid.
Titanium carbide; or
Masspektrometrar som inte omfattas av avsnitt 0B002.g, som kan mäta joner med en massa av 230 amu (amu = atommassenhet) eller mer och som har en upplösning bättre än 2/230, samt jonkällor till sådana, enligt följande:
e.
Masspektrometrar med induktivt kopplad plasmajonkälla (ICP/MS).
Distillation or absorption columns of internal diameter greater than 0,1 m; and liquid distributors, vapour distributors or liquid collectors designed for such distillation or absorption columns, where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
Masspektrometrar med glimurladdningsjonkälla (GDMS).
f.
Masspektrometrar med jonkälla som bygger på termisk jonisation (TIMS).
Remotely operated filling equipment in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning (electron bombardment) som har båda följande egenskaper:
'Alloys' with more than 25 % nickel and 20 % chromium by weight; or
Ett molekylärt instrålningssystem som injekterar ett kollimerat strålknippe av de molekyler som analyseras till ett område i jonkällan där molekylerna joniseras av en elektronstråle, och
g.
en eller flera ’kylfällor’ som kan kylas ned till 193 K (– 80 °C).
Valves and components, as follows:
Används inte.
Valves, having both of the following:
Masspektrometrar utrustade med jonkälla med mikrofluorering konstruerad för att användas med aktinider eller aktinidfluorider.
a.
Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning (electron bombardment) enligt 3A233.d kallas också EI-masspektrometrar (electron impact mass spectrometers eller electron ionization mass spectrometers).
A 'nominal size' greater than 10 mm (3/8″); and
Striplines för att skapa banor med låg induktans för detonatorer med följande egenskaper:
b.
Märkspänning större än 2 kV, och
All surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being produced, processed, or contained are made from 'corrosion resistant materials';
induktans mindre än 20 nH.
Valves, other than those specified in 2B350.g.1., having all of the following;
Utrustning konstruerad för tillverkning av halvledarenheter eller material, enligt följande, och för dessa utrustningar speciellt konstruerade komponenter och tillbehör:
a.
Utrustning för epitaxiell tillväxt enligt följande:
A 'nominal size' equal to or greater than 25,4 mm (1″) and equal to or less than 101,6 mm (4″);
Utrustning som kan producera ett lager av ett annat material än kisel med en jämnhetsavvikelse mindre än ± 2,5 % över en sträcka av minst 75 mm.
b.
Avsnitt 3B001.a.1 omfattar utrustning för atomskiktsepitaxi (ALE).
Casings (valve bodies) or preformed casing liners;
Metallorganiska kemiska förångningsreaktorer (MOCVD) konstruerade för att ge epitaxiell tillväxt av halvledarblandningar av material med två eller fler av följande beståndsdelar: aluminium, gallium, indium, arsenik, fosfor, antimon eller kväve.
c.
Utrustning för epitaxiell tillväxt med hjälp av molekylärstrålar och gaskällor.
A closure element designed to be interchangeable; and
Utrustning konstruerad för jonimplantation som har något av följande:
d.
Konstruerade och optimerade för att arbeta vid en strålenergi på 20 keV eller mer och en strålström på 10 mA eller mer för väte-, deuterium- eller heliumimplantering.
All surfaces of the casing (valve body) or preformed case liner that come in direct contact with the chemical(s) being produced, processed, or contained are made from 'corrosion resistant materials';
Direkt skrivmöjlighet.
Components, designed for valves specified in 2B350.g.1 or 2B350.g.2., in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being produced, processed, or contained are made from 'corrosion resistant materials', as follows:
En strålenergi som är 65 keV eller mer och en strålenergi som är 45 mA eller mer för att med hög energi införa syre i det upphettade halvledar-”substratet”.
a.
Konstruerad och optimerad för att arbeta vid en strålenergi på 20 keV eller mer och en strålström på 10 mA eller mer för kiselimplantering i ett halvledar-”substrat” upphettat till 600 °C eller mer.
Casings (valve bodies);
Utrustning för torr anisotropisk plasmaetsning som har allt av följande:
b.
Den är speciellt konstruerad för att optimalt kunna producera kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre, och
Preformed casing liners;
det föreligger ojämn fördelning inom wafern lika med eller mindre än 10 % 3σ mätt med en kantuteslutning på 2 mm eller mindre.
For the purposes of 2B350.g., 'corrosion resistant materials' means any of the following materials:
d.
Nickel or alloys with more than 40 % nickel by weight;
Används inte.
Alloys with more than 25 % nickel and 20 % chromium by weight;
Automatiskt laddningssystem för flera kammare för tillverkning av halvledare som har allt av följande:
Glass or glass-lined (including vitrified or enamelled coating);
Gränssnitt för såväl in- som utgång för wafers till vilket minst två funktionellt olika ’halvledarprocessverktyg’ enligt avsnitt 3B001.a, 3B001.b eller 3B001c är avsedda att anslutas, och
Tantalum or tantalum alloys;
vara konstruerade för att bilda ett integrerat system i vakuumomgivning för ’sekventiell bearbetning av wafers i flera steg’.
Titanium or titanium alloys;
Anmärkning:
Zirconium or zirconium alloys;
kan producera ett mönster med en ’minsta upplösning för systemdimensionen’ (MRF) på 45 nm eller mindre.
Niobium (columbium) or niobium alloys; or
Den ’minsta upplösningen för systemdimensionen’ (MRF) beräknas med följande formel:
Ceramic materials as follows:
ljuskällans våglängd i nm
Silicon carbide with a purity of 80 % or more by weight;
× skalfaktorn K
Aluminium oxide (alumina) with a purity of 99.9 % or more by weight;
numeriska aperturen
Zirconium oxide (zirconia).
där K är en skalfaktor = 0,35
i.
Verktyg för värmeprägling.
Multiple-seal and seal-less pumps, with manufacturer's specified maximum flow-rate greater than 0,6 m3/hour, or vacuum pumps with manufacturer's specified maximum flow-rate greater than 5 m3/hour (under standard temperature (273 K (0 °C)) and pressure (101,3 kPa) conditions), other than those specified in 2B233; and casings (pump bodies), preformed casing liners, impellers, rotors or jet pump nozzles designed for such pumps, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
Verktyg för nanopräglingslitografi.
Ceramics;
S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).
Ferrosilicon (high silicon iron alloys);
Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker eller halvledarenheter med hjälp av direkta skrivmetoder och som har allt av följande:
In 2B350.i., the term seal refers to only those seals that come into direct contact with the chemical(s) being processed (or are designed to), and provide a sealing function where a rotary or reciprocating drive shaft passes through a pump body.
Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser”strålar, och
j.
En strålpunkt som är mindre än 0,2 μm.
Incinerators designed to destroy chemicals specified in entry 1C350, having specially designed waste supply systems, special handling facilities and an average combustion chamber temperature greater than 1273 K (1000 °C), in which all surfaces in the waste supply system that come into direct contact with the waste products are made from or lined with any of the following materials:
Förmåga att producera mönster med en karaktäristisk ledningsbredd som är mindre än1 μm.
Ceramics; or
En passningsnoggrannhet som är bättre än ± 0,20 μm (3 sigma).
Nickel or 'alloys' with more than 40 % nickel by weight.
Masker eller mastermasker som är konstruerade för tillverkning av integrerade kretsar som specificeras i avsnitt 3A001.
For the purposes of 2B350, the materials used for gaskets, packing, seals, screws, washers or other materials performing a sealing function do not determine the status of control, provided that such components are designed to be interchangeable.
Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager som inte specificeras i avsnitt 3B001.g och som har något av följande:
'Carbon graphite' is a composition consisting of amorphous carbon and graphite, in which the graphite content is eight percent or more by weight.
Tillverkad på mask ”skiva” (substrate blank) av glas som angivits ha en dubbelbrytning på mindre än 7 nm/cm, eller
For the listed materials in the above entries, the term 'alloy' when not accompanied by a specific elemental concentration is understood as identifying those alloys where the identified metal is present in a higher percentage by weight than any other element.
konstruerad för att användas med litografisk utrustning där ljuskällans våglängd är kortare än 245 nm.
Toxic gas monitoring systems and their dedicated detecting components, other than those specified in 1A004, as follows; and detectors; sensor devices; and replaceable sensor cartridges therefor:
Anmärkning:
a.
Provutrustning som är speciellt konstruerad för provning av färdiga halvledarenheter eller halvfabrikat enligt följande, samt tillhörande komponenter och tillbehör:
Designed for continuous operation and usable for the detection of chemical warfare agents or chemicals specified in 1C350, at concentrations of less than 0,3 mg/m3; or
Utrustning för provning av transistorers S-parametrar vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.
b.
Utrustning som kan prova integrerade mikrovågskretsar som specificeras i avsnitt 3A001.b.2.
Designed for the detection of cholinesterase-inhibiting activity.
Hetero-epitaxiella material som består av ett ”substrat” med ovanpå varandra liggande epitaxiellt tillvuxna multipelskikt av något av följande: a) Kisel (Si).
Equipment capable of use in handling biological materials, as follows:
Germanium (Ge).
a.
Kiselkarbid (SiC).
Complete biological containment facilities at P3, P4 containment level;
”III/V-föreningar” av gallium eller indium.
P3 or P4 (BL3, BL4, L3, L4) containment levels are as specified in the WHO Laboratory Biosafety manual (3rd edition Geneva 2004).
Anmärkning:
b.
Resistmaterial enligt följande, och ”substrat” belagda med följande resistmaterial:
Fermenters and components as follows:
Resistmaterial som är konstruerade för halvledarlitografi enligt följande:
Fermenters capable of cultivation of pathogenic "microorganisms" or of live cells for the production of pathogenic viruses or toxins, without the propagation of aerosols, having a total capacity of 20 litres or more;
Positiva resistmaterial som är justerade (optimerade) för användning vid våglängder under 245 nm men lika med eller över 15 nm.
Components designed for fermenters in 2B352.b.1. as follows:
Resistmaterial som är justerade (optimerade) för användning vid våglängder under 15 nm men över 1 nm.
a.
Alla resistmaterial som är konstruerade för att användas tillsammans med elektron- eller jonstrålar och vars känslighet är 0,01 μC/mm2 eller bättre.
Cultivation chambers designed to be sterilised or disinfected in situ;
Alla resistmaterial som optimerats för ytbildstekniker.
b.
Alla resistmaterial som är utformade eller optimerade för att användas tillsammans med litografisk präglingsutrustning som specificeras i avsnitt 3B001.f.2 och som använder antingen en värmeprocess eller en photo-curable-process.
Cultivation chamber holding devices;
Organiska-oorganiska blandningar enligt följande:
c.
Metallorganiska blandningar av aluminium, gallium eller indium, med en renhetsgrad (på metallbasen) som är bättre än 99,999 %.
Process control units capable of simultaneously monitoring and controlling two or more fermentation system parameters (e.g., temperature, pH, nutrients, agitation, dissolved oxygen, air flow, foam control);
Organiska blandningar med antimon, arsenik eller fosfor som har en renhet (baserat på det oorganiska elementet) som är bättre än 99,999 %.
For the purposes of 2B352.b. fermenters include bioreactors, single-use (disposable) bioreactors, chemostats and continuous-flow systems.
Avsnitt 3C003 omfattar endast blandningar vars metalliska, delvis metalliska eller icke metalliska element är direkt bundna till kolet i den organiska delen av molekylen.
c.
Hydrider av fosfor, arsenik eller antimon som har en renhet som är bättre än 99,999 %, även utspädd i ädelgaser eller väte.
Centrifugal separators, capable of continuous separation without the propagation of aerosols, having all the following characteristics:
Avsnitt 3C004 omfattar inte hydrider som innehåller 20 % molar eller mer av ädelgaser eller väte.
Flow rate exceeding 100 litres per hour;
”Substrat” av kiselkarbid (SiC), galliumnitrid (GaN), aluminumnitrid (AlN) eller aluminiumgalliumnitrid (AlGaN), eller halvledar-”substrat”, eller tackor, halvrunda stycken eller andra förformer av dessa material, med en resistivitet som överstiger 10000 ohm-cm vid 20 °C.
Components of polished stainless steel or titanium;
”Substrat” som specificeras i avsnitt 3C005 med minst ett epitaxiellt lager av kiselkarbid, galliumnitrid, aluminiumnitrid eller alluminiumgalliumnitrid.
One or more sealing joints within the steam containment area; and
”Programvara” som är speciellt utformad för ”utveckling” eller ”produktion” av utrustning som specificeras i avsnitt 3A001.b–3A002.g eller 3B.
Capable of in-situ steam sterilisation in a closed state;
”Programvara” som är speciellt utformad för ”användning” av utrustning som specificeras i avsnitt 3B001.a–f, 3B002 eller 3A225 3D003 ’Fysikbaserad’ simulerings-”programvara” speciellt konstruerad för ”utveckling” av litografiska, etsnings- eller uppbyggnads(depositions)-processen så att maskvärdena omvandlas till specifika typografiska mönster i de olika ledar-, dielektriska eller halvledarlagren.
Centrifugal separators include decanters.
Teknisk anmärkning:
d.
Anmärkning:
Cross (tangential) flow filtration equipment and components as follows:
Avsnitt 3E001 omfattar inte ”teknik” för ”utveckling” eller ”produktion” av integrerade kretsar som omfattas av avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.12 och som har allt av följande:
Cross (tangential) flow filtration equipment capable of separation of pathogenic micro-organisms, viruses, toxins or cell cultures having all of the following characteristics:
Använder en ”teknik” för lägst 0,130 μm.
a.
Innehåller strukturer i flera lager med tre eller färre metallager.
A total filtration area equal to or greater than 1 m2; and
”Teknik” enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik, som inte specificeras i avsnitt 3E001, för ”utveckling” eller ”produktion” av ”mikroprocessor-mikrokretsar”, ”mikrodator-mikrokretsar” och mikrokretsar för mikrostyrsystem med en aritmetisk logisk enhet som kan hantera minst 32 bitar och som har någon av följande egenskaper:
b.
En ’vektorprocessorenhet’ som är utformad för att utföra mer än två beräkningar på flyttalsvektorer (32-bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt.
Having any of the following characteristics:
En ’vektorprocessenhet’ är ett processorelement med inbyggda instruktioner som utför multipla beräkningar på flyttalsvektorer (32-bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt, och som har minst en aritmetisk logisk vektorenhet.
Capable of being sterilised or disinfected in-situ; or
Utformad för att utföra mer än fyra 64-bitars eller större flyttalsoperationsresultat per cykel.
Using disposable or single-use filtration components;
Utformad för att utföra mer än fyra 16-bitars ackumulerade fasttalsmultiplikationsresultat per cykel (t.ex. digital manipulering av analog information som tidigare omvandlats till digital form, även känd som digital ”signalbehandling”).
In 2B352.d.1.b. sterlised denotes the elimination of all viable microbes from the equipment through the use of either physical (e.g. steam) or chemical agents.
Avsnitt 3E002.c omfattar inte ”teknik” för multimediaanslutningar.
d. does not control reverse osmosis equipment, as specified by the manufacturer.
Avsnitt 3E002 omfattar ”teknik” för digitala signalprocessorer och digitala grupprocessorer.
Cross (tangential) flow filtration components (e.g. modules, elements, cassettes, cartridges, units or plates) with filtration area equal to or greater than 0,2 m2 for each component and designed for use in cross (tangential) flow filtration equipment specified in 2B352.d.;
Annan ”teknik” för ”utveckling” eller ”produktion” av följande:
e.
Vakuumenheter för mikroelektronik.
Steam sterilisable freeze drying equipment with a condenser capacity exceeding 10 kg of ice in 24 hours and less than 1000 kg of ice in 24 hours;
Elektroniska enheter med halvledare med heteroövergång (hetero-structure) såsom transistorer med hög elektronmobilitet (HEMT), hetero-bipolära transistorer (HBT), quantum well och super lattice element.