natgillin/translations-raw huggingface dataset:
For the purpose of 2.B001.a. to 2B001.c.., the measurement of axes shall be made according to test procedures in 5.3.2. of ISO 230-2:2014.
Denna process resulterar i en kondensation eller en beläggning av det förångade materialet på lämpligt placerade substrat.
Tests for axes longer than 2 meters shall be made over 2 m segments.
Tillsatsen av gaser i vakuumkammaren under beläggningsprocessen för att skapa blandad beläggning är en vanlig modifiering av denna process.
Axes longer than 4 m require multiple tests (e.g., two tests for axes longer than 4 m and up to 8 m, three tests for axes longer than 8 m and up to 12 m), each over 2 m segments and distributed in equal intervals over the axis length.
Användningen av jon- eller elektronstrålar eller plasma för att aktivera eller assistera vid beläggningen är också en vanlig modifikation av denna teknik.
Test segments are equally spaced along the full axis length, with any excess length equally divided at the beginning, in between, and at the end of the test segments.
Användningen av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek kan utgöra en del av dessa processer.
The smallest "unidirectional positioning repeatability"-value of all test segments is to be reported.
Specifika TE-PVD processer är följande:
Machine tools and any combination thereof, for removing (or cutting) metals, ceramics or "composites", which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with electronic devices for "numerical control", as follows:
Elektronstråle-PVD använder en elektronstråle för att upphetta och förånga det material som ska bilda beläggningen.
SEE ALSO 2B201.
Jonassisterad resistivt upphettad PVD arbetar med elektroresistiva värmekällor i kombination med direkt inverkan från jonstrålar för att producera ett kontrollerat och likformigt flöde av de förångade beläggningsmaterialen.
001 does not control special purpose machine tools limited to the manufacture of gears.
”Laser”förångning använder antingen pulsade eller kontinuerliga ”laser”vågor för att förånga det material som ska bilda beläggning.
For such machines see 2B003.
Katodstrålebeläggning arbetar med en katod av det material som ska bilda beläggning, varvid katoden förbrukas, och vid katoden uppstår en gnisturladdning på ytan genom en kortvarig jordkontakt med hjälp av en trigger.
001 does not control special purpose machine tools limited to the manufacture of any of the following:
En styrd rörelse av gnistan urholkar katodytan och skapar ett kraftigt joniserat plasma.
Crankshafts or camshafts;
Anoden kan antingen vara en kon fastsatt till katodens periferi, med hjälp av isolatorer, eller till kammaren.
Tools or cutters;
Substratet förspänns så att icke-synlig beläggning kan ske.
Extruder worms;
Denna definition omfattar inte slumpmässig katodstrålebeläggning utan förspänt substrat.
Engraved or facetted jewellery parts; or
Jonplätering är en speciell modifikation av den vanliga TE-PVD-processen, varvid ett plasma eller en jonkälla används för att jonisera de ämnen som ska användas för beläggning, och en negativ förspänning läggs på substratet för att underlätta extraktionen av de ämnen som ska deponeras från plasman.
Dental prostheses.
Införandet av reaktiva ämnen, förångning av fasta material i kammaren samt användning av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek är vanliga modifieringar av denna process.
A machine tool having at least two of the three turning, milling or grinding capabilities (e.g., a turning machine with milling capability), must be evaluated against each applicable entry 2B001.a., b. or c.
”Pack Cementation” är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess varvid substratet packas in i en pulverblandning (”pack”) som består av
For optical finishing machines, see 2B002.
metallpulver som ska utgöra beläggningen (vanligtvis aluminium, krom, kisel eller kombinationer av dessa),
a.
en aktivator (vanligtvis ett halogent salt), och
Machine tools for turning having all of the following:
ett ballastpulver, oftast aluminium.
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; and
Substratet och pulverblandningen placeras i en retort som upphettas till en temperatur mellan 1030 K (757 °C) och 1375 K (1102 °C) i tillräckligt lång tid för att beläggningen ska ske.
Two or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Plasmasprutning är en ytbehandlingsprocess i vilken en kanon (”blåslampa”), som producerar och styr ett plasma tar emot pulver eller tråd av beläggningsmaterialet, smälter det och skjuter det mot ett substrat, varpå en integrerad sammanfogning sker.
a. does not control turning machines specially designed for producing contact lenses, having all of the following:
Plasmasprutning kan antingen ske som lågtryckssprutning eller höghastighetssprutning.
Machine controller limited to using ophthalmic based software for part programming data input; and
ANM.
No vacuum chucking.
1
Having all of the following:
Målningsbeläggning är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess i vilken ett metalliskt eller keramiskt pulver med ett organiskt bindemedel uppslammas i en vätska och appliceras på ett substrat genom antingen sprutning, doppning eller målning, med påföljande luft- eller ugnstorkning, samt värmebehandling för att uppnå önskad beläggning.
a.
Sputteringbeläggning är en överlagringsbeläggningsprocess som baseras på impulsöverföringsfenomen, varvid positiva joner accelereras av ett elektriskt fält mot ytan av ett mål (beläggningsmaterialet).
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; and
Den kinetiska energin hos de laddade jonerna är tillräcklig för att atomer från ytan ska frigöras och beläggas på det lämpligt placerade substratet.
b.
Tabellen hänvisar endast till triod-, magnetron- eller reaktiv sputteringbeläggning som används för att öka vidhäftningen av beläggningen samt radiofrekvent (RF)-förstärkt sputteringbeläggning som används för att tillåta förångning i icke metalliska beläggningsmaterial.
Three linear axes plus one rotary axis which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Lågenergijonstrålar (mindre än 5 keV) kan användas för att aktivera beläggningen.
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following;
Jonimplantation är en ytförändringsbeläggningsprocess i vilken det ämne som ska legeras joniseras, accelereras genom en potentialgradient och förs in till ytregionen för substratet.
'Parallel mechanism machine tools' are specified in 2B001.b.2.d.
Detta inbegriper processer där jonimplantationen sker samtidigt med fysisk förångningsdeposition med elektronstråle eller sputteringbeläggning.
a.
KATEGORI 3 –
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
ELEKTRONIK
b.
Kontrollstatusen för den utrustning och de komponenter som beskrivs i avsnitt 3A001 eller 3A002, förutom för de som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.10, 3A001.a.12 eller 3A001.a.13 och som är speciellt konstruerade för eller som har samma funktionella egenskaper som annan utrustning, bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,4 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1 m and less than 4 m;
Kontrollstatusen för de integrerade kretsar som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.9, 3A001.a.12 eller 3A001.a.13 och som är icke föränderligt programmerade till eller konstruerade för en speciell funktion för en annan utrustning bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus.
c.
Om en tillverkare eller sökande inte kan avgöra den andra utrustningens kontrollstatus, bestäms de integrerade kretsarnas kontrollstatus av avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.9, 3A001.a.12 och 3A001.a.13.
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm (along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m; or
Elektroniska komponenter och speciellt konstruerade komponenter till dessa enligt följande:
d.
Integrerade kretsar för allmänna ändamål enligt följande:
Being a 'parallel mechanism machine tool';
Kontrollstatusen för wafers (färdigbearbetade eller obearbetade), vars funktion har fastställts, ska bedömas efter parametrarna i avsnitt 3A001.a.
A 'parallel mechanism machine tool' is a machine tool having multiple rods which are linked with a platform and actuators; each of the actuators operates the respective rod simultaneously and independently.
Integrerade kretsar omfattar följande typer:
A "unidirectional positioning repeatability" for jig boring machines, equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; or
”Monolitiska integrerade kretsar”.
Fly cutting machines having all of the following:
”Integrerade hybridkretsar”.
a.
”Integrerade multikretsar”.
Spindle "run-out" and "camming" less (better) than 0,0004 mm TIR; and
”Integrerade kretsar av filmtyp” inklusive integrerade kretsar av typ kisel på safir.
b.
”Optiska integrerade kretsar”.
Angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel;
”Tredimensionella integrerade kretsar”.
c.
Integrerade kretsar som har konstruerats eller specificerats för att vara motståndskraftiga mot en total strålning enligt något av följande:
Machine tools for grinding having any of the following:
En total dos om minst 5 × 103 Gy (kisel),
b.
en dosratsändring genom störning om minst 5 × 106 Gy (kisel)/s, eller
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
en fluens (integrerat flöde) av neutroner (1 MeV ekvivalent) på 5 × 103 n/cm2 eller högre på kisel, eller dess ekvivalent för andra material.
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
001 a.1.c omfattar inte halvledare av metallisolatortyp (MIS - Metal Insulator Semiconductors).
a.
”Mikroprocessor-mikrokretsar”, ”mikrodator-mikrokretsar”, mikrocontroller-mikrokretsar, integrerade minneskretsar tillverkade av blandade halvledare, analog-till digital omvandlare, digital-till-analog-omvandlare, elektro-optiska eller ”optiska integrerade kretsar” konstruerade för ”signalbehandling”, fältprogrammerbara logiska komponenter, kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kontrollstatusen hos den utrustning i vilken kretsarna ska användas är okänd, processorer för Fast Fourier-transformation (FFT), elektriskt raderbara PROM-minnen (EEPROM), flash-minnen eller statiska RAM (SRAM) som är något av följande:
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1.1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer över 398 K (125 °C).
b.
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer under 218 K (– 55 °C).
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1.4 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1 m and less than 4 m; or
Specificerade för drift i omgivningstemperaturer i området från 218 K (– 55 °C) till och med 398 K (125 °C).
c.
Avsnitt 3A001.a.2 omfattar inte integrerade kretsar som konstruerats för civila bil- eller tågapplikationer.
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6.0 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m.
”Mikroprocessor-mikrokretsar”, ”mikrodator-mikrokretsar” och mikrocontroller-mikrokretsar tillverkade av en halvledare med blandade material och som har en klockfrekvens som överstiger 40 MHz.
c. does not control grinding machine as follows:
Anmärkning:
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
SE ÄVEN AVSNITT 3A101.
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a "unidirectional positioning repeatability" less (better) than 1,1 μm
En upplösning på 8 bitar eller mer, men mindre än 10 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 1000 miljoner ord per sekund,
Surface grinders.
en upplösning på 10 bitar eller mer, men mindre än 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 300 miljoner ord per sekund,
d.
en upplösning på 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 200 miljoner ord per sekund,
Electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
en upplösning på mer än 12 bitar, men högst 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 125 miljoner ord per sekund, eller
e.
en upplösning på mer än 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 20 miljoner ord per sekund.
Machine tools for removing metals, ceramics or "composites", having all of the following:
En upplösning på n bitar motsvarar en kvantisering av 2n nivåer.
Removing material by means of any of the following:
Antalet bitar i utdataord är lika med upplösningen i ADC:n.
a.
Dataöverföringshastigheten är omvandlarens maximala dataöverföringshastighet, oavsett arkitektur eller översampling.
Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
För ’flerkanals-ADC’ ska dataöverföringshastigheterna inte läggas ihop, och dataöverföringshastigheten är den maximala dataöverföringshastigheten för en enstaka kanal.
b.
För ’interfolierade ADC’ (interleaved ADC’s) eller för ’flerkanals-ADC’ som är specificerad till att drivas interfolierat, ska dataöverföringshastigheterna läggas ihop och dataöverföringshastigheten är den maximala sammanlagda totala dataöverföringshastigheten av all dataöverföring.
Electron beam; or
Säljare kan även med dataöverföringshastighet mena samplingshastigheten, omvandlingshastigheten eller kapaciteten.
c.
Den anges ofta i megahertz (MHz) eller miljoner sampel per sekund (Msps).
"Laser" beam; and
I syfte att mäta överföringshastigheten motsvarar ett utdataord per sekund en hertz eller ett sampel per sekund.
At least two rotary axes having all of the following:
’Flerkanals-ADC’ definieras som anordningar som integrerar mer än en ADC och har konstruerats så att varje ADC har en separat analog ingång.
a.
’Interfolierade ADC’ (Interleaved ADC’s) definieras som anordningar med flera ADC-enheter som samplar samma analoga ingång vid skilda tidpunkter så att den analoga insignalen, när utsignalerna läggs samman, faktiskt har samplats och konverterats med högre samplingshastighet.
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Digital-till-analog-omvandlare (DAC) som har något av följande:
b.
En upplösning på minst 10 bitar med en ’justerad uppdateringshastighet’ på över 3500 Msps.
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003 °;
En upplösning på minst 12 bitar med en ’justerad uppdateringshastighet’ på minst 1250 Msps och som har något av följande:
f.
En ”inställningstid” på mindre än 9 ns till nivån 0,024 % av fullskala från ett fullskalesteg, eller
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m.
ett ’spuriosfritt dynamiskt område’ (SFDR) som är större än 68 dBc (bärare) vid syntetisering av en fullskalig analog signal på 100MHz eller den högsta fullskaliga analoga signalen under 100MHz.
"Numerically controlled" optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
’Spuriosfritt dynamiskt område’ (SFDR) definieras som kvoten av RMS-värdet för bärfrekvensen (maximisignalkomponent) på digitalomvandlarens ingång och RMS-värdet av den näst största bruskomponenten eller komponenten av harmonisk distorsion på dess utgång.
a.
SFDR fastställs direkt i specifikationstabellen eller med utgångspunkt i karaktäriseringsdiagrammen med SFDR mot frekvens.
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
En signal definieras som fullskalig när amplituden är större än – 3 dBfs (full skala).
b.
’Justerad uppdateringshastighet’ för DAC:
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
indatahastighet (input data rate)
c.
inordhastighet (input word rate)
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
insamplingshastighet (input sample rate)
d.
högsta sammanlagda inbusshastighet (maximum total input bus rate)
Using any of the following processes:
högsta DAC-klockfrekvens för DAC-klockinsignalen (maximum DAC clock rate for DAC clock input).
Magnetorheological finishing ('MRF');
Elektro-optiska eller ”optiska integrerade kretsar” konstruerade för ”signalbehandling” som har allt av följande:
Electrorheological finishing ('ERF');
En eller flera interna ”laser”-dioder,
'Energetic particle beam finishing';
ett eller flera interna ljusdetekterande element, och
'Inflatable membrane tool finishing'; or
optiska vågledare.
For the purposes of 2B002:
Det maximala antalet enpoliga digitala inmatningar/utmatningar är mer än 700, eller
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
en ’högsta totala datahastighet för överföring via enkelriktade serietranceivers’ på 500 Gb/s eller mer.
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Enkla programmerbara logiska komponenter (SPLD).
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Komplexa programmerbara logiska komponenter (CPLD).
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
Fältprogrammerbara grindmatriser (FPGA).
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc = 40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1,250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
Fältprogrammerbara logiska matriser (FPLA).
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
Fältprogrammerbara kopplingar (FPIC).
a.
Med ’högsta totala datahastighet för överföring via enkelriktade serietranceivers’ avses produkten av den högsta dataöverföringshastigheten hos transceivern multiplicerat med antalet tranceivrar i den fältprogrammerbara grindmatrisen (FPGA).
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Integrerade kretsar för neurala nätverk.
b.
Kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kretstillverkaren saknar uppgift om kontrollstatusen hos den utrustning där kretsarna ska ingå som har något av följande:
Having any of the following:
Fler än 1500 anslutningar,
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
den ”typiska grindfördröjningstiden” är kortare än 0,02 ns, eller
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
arbetsfrekvensen överstiger 3 GHz.
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Andra digitala kretsar än de som beskrivits i avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.10 och 3A001.a.12 och som baseras på en blandning av halvledarmaterial som har något av följande:
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Ett antal grindekvivalenter som är större än 3000 (grindar med 2 ingångar), eller
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
en vippfrekvens som överstiger 1,2 GHz.
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Processorer för Fast Fourier Transform (FFT) och som har en specificerad verkställighetstid som är mindre än (N log2 N) /20480 ms, för en N-punkters komplex FFT, där N är antalet punkter.
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
När N är lika med 1 024 punkter ger formeln i 3A001.a.12 en verkställighetstid på 500 μs.
a.
Integrerade kretsar för Direct Digital Synthesizer (DDS) som har något av följande:
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Digital-till analog-omvandlaren (DAC) som har en klockfrekvens på minst 3,5 GHz och en upplösning på minst 10 bitar men mindre än 12 bitar, eller
SEE ALSO 2B105.
en DAC-klockfrekvens på minst 1,25 GHz och en DAC-upplösning på 12 bitar eller mer.
A process modified for one of the following:
DAC-klockfrekvensen kan specificeras som masterklockfrekvens eller ingångsklockfrekvens.
a.
Mikrovåg- eller millimetervågutrustning enligt följande:
Pulsating CVD;
I samband med avsnitt 3A001.b kan parametern maximal toppeffekt (peak saturated power output) på ett produktdatablad också anges som uteffekt, mättad topputeffekt, maximal uteffekt, uttoppeffekt, eller maximal topputeffekt (PEP).
b.
Elektroniska vakuumrör och katoder enligt följande:
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Avsnitt 3A001.b.1 omfattar inte sådana rör som är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband och som har allt av följande:
c.
De överstiger inte 31,8 GHz, och
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
de är ”tilldelade av ITU” för radiokommunikationstjänster men inte för radiobestämning.
a.
Avsnitt 3A001.b.1 omfattar inte icke-”rymdkvalificerade” rör som har allt av följande:
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
De har en genomsnittlig uteffekt på högst 50 W, och
b.
de är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband som har allt av följande:
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Rör som kan arbeta vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.
c.
Rör som har en katodupphettning som möjliggör full högfrekvensdrift på kortare tid än 3 s efter tillslag.
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
Rör som har kopplade kaviteter eller är utvecklingar av sådana rör med en ”relativ bandbredd” som är större än 7 % eller en toppeffekt som överskrider 2,5 kW.
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
Helix-rör eller utvecklingar av dessa som har något av följande:
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
De har en ”effektbandbredd” som är mer än en oktav och produkten av den specificerade genomsnittliga uteffekten (uttryckt i kW) och den högsta arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 0,5,
d.
de har en ”effektbandbredd” som är en oktav eller mindre, och produkten av den specificerade uteffekten (uttryckt i kW) och den maximala specificerade arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 1, eller
Plasma spraying production equipment having any of the following:
de är ”rymdkvalificerade”.
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Korsfältsförstärkarrör med en förstärkning på mer än 17 dB.