natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Fully enclosed workspace where the operator is separated from the work by a physical barrier;
Pri večkanalnih „elektronskih sestavih“, modulih ali opremi brez prepletanja se „stopnja prenosa vzorcev“ ne sešteva, ampak je enaka največji hitrosti katerega koli posameznega kanala.
b.
Pri večkanalnih „elektronskih sestavih“, modulih ali opremi s prepletanjem se „stopnje prenosa vzorcev“ seštevajo in „stopnja prenosa vzorcev“ je enaka največji kombinirani skupni hitrosti vseh prepletenih kanalov.
Able to operate at negative pressure;
točka 3A002(h) zajema kartice ADC, naprave za digitizacijo valovnih oblik, kartice za pridobivanje podatkov, tablice za pridobivanje podatkov in snemalnike prehodnih pojavov.
c.
Sistemi za upravljanje toplote s pršilnim hlajenjem, ki uporabljajo zaprti krog za ravnanje s tekočino in opremo za ponovno obdelavo v zatesnjenem ohišju, kjer se dielektrična tekočina razpršuje na elektronske komponente s posebnimi pršilnimi šobami, ki so narejene tako, da vzdržujejo elektronske komponente v okviru njihovega temperaturnega območja, in posebej izdelane komponente zanje.
Means to safely manipulate items in the workspace;
Elektronska oprema, naprave in komponente, razen tistih iz točke 3A001:
d.
a. analogno-digitalni pretvorniki, uporabni v „projektilih“, ki so izdelani v skladu z vojaškimi specifikacijami za bojno opremo;
Supply and exhaust air to and from the workspace is HEPA filtered;
b. pospeševalniki z zmožnostjo oddajanja elektromagnetnega sevanja, ki ga ustvarja zavirano sevanje pospešenih elektronov z 2 MeV ali več, in sistemi, ki vsebujejo te pospeševalnike.
2B352.f.2. includes Class III biosafety cabinets, as described in the latest edition of the WHO Laboratory Biosafety Manual or constructed in accordance with national standards, regulations or guidance.
točka 3A101(b) ne določa opreme, izdelane posebej za medicinsko uporabo.
2B352.f.2. does not include isolators specially designed for barrier nursing or transportation of infected patients.
‚Termične baterije‘, izdelane ali prilagojene za ‚projektile‘.
g.
‚Termične baterije‘ iz točke 3A102 so baterije za enkratno uporabo, ki kot elektrolit vsebujejo neprevodno neorgansko sol v trdnem stanju.
Aerosol inhalation equipment designed for aerosol challenge testing with "microorganisms", viruses or "toxins" as follows:
Te baterije vsebujejo pirolitsko snov, ki ob vžigu stopi elektrolit in aktivira baterijo.
Whole-body exposure chambers having a capacity of 1 m3 or more;
V točki 3A102 ‚projektil‘ pomeni celotni raketni sistem in zrakoplovni sistem brez posadke, ki ima doseg preko 300 km.
Nose-only exposure apparatus utilising directed aerosol flow and having capacity for exposure of any of the following:
Elektronske komponente, razen tistih iz točke 3A001:
a.
a. kondenzatorji, ki imajo eno od naslednjih skupin značilnosti:
12 or more rodents; or
a. naznačeno napetost, večjo od 1,4 kV;
b.
b. energijsko zmogljivost, večjo od 10 J;
2 or more animals other than rodents;
c. kapacitivnost, večjo od 0,5 μF, in
Closed animal restraint tubes designed for use with nose-only exposure apparatus utilising directed aerosol flow;
d. zaporedno induktivnost, manjšo od 50 nH, ali
h.
a. naznačeno napetost, večjo od 750 V;
Spray drying equipment capable of drying toxins or pathogenic "microorganisms" having all of the following:
b. kapacitivnost, večjo od 0,25 μF, in
A water evaporation capacity of ≥ 0,4 kg/h and ≤ 400 kg/h;
c. zaporedno induktivnost, manjšo od 10 nH;
The ability to generate a typical mean product particle size of ≤10 μm with existing fittings or by minimal modification of the spray-dryer with atomization nozzles enabling generation of the required particle size; and
b. superprevodni solenoidni elektromagneti, ki imajo vse naslednje značilnosti:
Capable of being sterilised or disinfected in situ;
zmožnost ustvarjanja magnetnih polj, večjih od 2 T;
i.
razmerje med njihovo dolžino in notranjim premerom je večje od 2;
Nucleic acid assemblers and synthesisers, which are partly or entirely automated, and designed to generate continuous nucleic acids greater than 1,5 kilobases in length with error rates less than 5 % in a single run.
notranji premer, večji od 300 mm, in
None.
enakomernost magnetnega polja je boljša od 1 % vzdolž osrednjih 50 % notranje prostornine;
"Software", other than that specified in 2D002, as follows:
predmet nadzora v točki 3A201(b) niso magneti, ki so posebej izdelani in izvoženi ‚kot deli‘ medicinskih sistemov za slikanje z uporabo jedrske magnetne resonance (NMR).
"Software" specially designed or modified for the "development" or "production" of equipment specified in 2A001 or 2B001
c. generatorji rentgenskih žarkov ali impulzni pospeševalniki elektronov, ki imajo eno od naslednjih skupin značilnosti:
b.
a. temensko energijo elektronov pospeševalnika enako ali večjo od 500 keV, toda manjšo kot 25 MeV, in
"Software" specially designed or modified for the "use" of equipment specified in 2A001.c, 2B001 or 2B003 to 2B009.
b. ‚izkoristek‘ (K), ki je enak ali večji od 0,25, ali
2D001 does not control part programming "software" that generates "numerical control" codes for machining various parts.
a. temensko energijo elektronov pospeševalnika enako ali večjo od 25 MeV in
"Software" for electronic devices, even when residing in an electronic device or system, enabling such devices or systems to function as a "numerical control" unit, capable of co-ordinating simultaneously more than four axes for "contouring control".
b. ‚temensko moč‘, večjo od 50 MW.
2D002 does not control "software" specially designed or modified for the operation of items not specified in Category 2.
predmet nadzora v točki 3A201(c) niso pospeševalniki, ki so sestavni deli naprav, ki niso izdelane za namene obsevanja z elektronskimi ali rentgenskimi žarki (npr. elektronska mikroskopija), niti tistih, ki so izdelani za uporabo v medicini.
2D002 does not control "software" for items specified in 2B002.
‚Izkoristek‘ K je določen kot:
See 2D001 and 2D003 for "software" for items specified in 2B002.
K = 1,7 × 103V2,65Q
2D002 does not control "software" that is exported with, and the minimum necessary for the operation of, items not specified in Category 2.
V je temenska energija elektronov v milijonih elektron voltov.
"Software", designed or modified for the operation of equipment specified in 2B002, that converts optical design, workpiece measurements and material removal functions into "numerical control" commands to achieve the desired workpiece form.
Če je trajanje impulza snopa pospeševalnika enako ali krajše od 1 μs, potem je Q celotni pospešeni naboj v Coulombih.
"Software" specially designed or modified for the "use" of equipment specified in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 or 2B119 to 2B122.
Če je trajanje impulza snopa pospeševalnika daljše od 1 μs, potem je Q maksimalni pospešeni naboj v 1 μs.
SEE ALSO 9D004.
Q je enak integralu i glede na t v času pod 1 μs ali v času trajanja impulza snopa (Q = ∫ idt), pri čemer je i žarkovni tok v amperih in t čas v sekundah.
"Software" specially designed for the "use" of equipment specified in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 or 2B227.
‚Temenska moč‘ = (temenski potencial v voltih) × (vrednost temenskega žarkovnega toka v amperih).
"Software" specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment specified in 2B201.
V napravah, ki temeljijo na vdolbinah za pospeševanje mikrovalov, je čas trajanja impulza snopa krajši od 1 μs oziroma od trajanja žarkovnih snopov, ki izhajajo iz enega impulza mikrovalovnega modulatorja.
2D202 does not control part programming "software" that generates "numerical control" command codes but does not allow direct use of equipment for machining various parts.
V napravah, ki temeljijo na vdolbinah za pospeševanje mikrovalov, je vrednost temenskega žarkovnega toka povprečni tok, dosežen v času trajanja žarkovnih snopov.
"Software", other than that specified in 1D003, specially designed for "use" of equipment specified in 2B351.
Frekvenčni pretvorniki ali generatorji, razen tistih iz točke 0B001(b)(13), ki se uporabljajo kot motorni pogon s spremenljivo ali fiksno frekvenco in imajo vse naslednje značilnosti:
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of equipment or "software" specified in 2A, 2B or 2D.
„programska oprema“, posebej izdelana za povečanje ali sprostitev zmogljivosti frekvenčnega pretvornika ali generatorja, da bi imel značilnosti iz točke 3A225, je opredeljena v točki 3D225.
2E001 includes "technology" for the integration of probe systems into coordinate measurement machines specified in 2B006.a.
„tehnologija“ v obliki kod ali ključev za povečanje ali sprostitev zmogljivosti frekvenčnega pretvornika ali generatorja, da bi imel značilnosti iz točke 3A225, je opredeljena v točki 3E225.
"Technology" according to the General Technology Note for the "production" of equipment specified in 2A or 2B.
a. večfazni izhod, ki zagotavlja moč 40 VA ali več;
Other "technology", as follows:
b. delovanje pri frekvenci 600 Hz ali več in
b.
c. regulacijo frekvence, ki je boljša (manjša) od 0,2 %.
"Technology" for metal-working manufacturing processes, as follows:
predmet nadzora v točki 3A225 niso frekvenčni pretvorniki ali generatorji, če imajo zaradi omejene strojne opreme, „programske opreme“ ali „tehnologije“ manjšo zmogljivost od navedene in izpolnjujejo katerega koli od naslednjih pogojev:
"Technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
vrniti jih je treba prvotnemu proizvajalcu za izboljšanje ali odpravo omejitev;
a.
potrebujejo „programsko opremo“ iz točke 3D225 za izboljšanje ali sprostitev zmogljivosti, da bi imeli značilnosti iz točke 3A225, ali
"Superplastic forming";
potrebujejo „tehnologijo“ v obliki ključev ali kod, kot je določeno v točki 3E225, za izboljšanje ali sprostitev zmogljivosti, da bi imeli značilnosti iz točke 3A225.
b.
Frekvenčni pretvorniki iz točke 3A225 so znani tudi pod imenom konverterji ali inverterji
"Diffusion bonding"; or
Frekvenčni pretvorniki iz točke 3A225 se lahko tržijo kot generatorji, elektronska oprema za testiranje, napajalne enote AC, motorni pogoni s spremenljivo hitrostjo, pogoni s spremenljivo hitrostjo (VSD), pogoni s spremenljivo frekvenco (VFD), pogoni s prilagodljivo frekvenco (AFD) ali pogoni s prilagodljivo hitrostjo (ASD).
c.
Močnostni enosmerni napajalniki, razen tistih, ki so določeni v točki 0B001(j)(6), in ki imajo obe naslednji značilnosti:
'Direct-acting hydraulic pressing';
a. sposobnost neprekinjenega proizvajanja toka jakosti 500 A ali več, v časovnem obdobju osmih ur, z napetostjo 100 V ali več in
Technical data consisting of process methods or parameters as listed below used to control:
b. v časovnem obdobju osmih ur tokovno ali napetostno stabilnost boljšo od 0,1 %.
a.
Visokonapetostni enosmerni napajalniki, razen tistih iz točke 0B001(j)(5), ki imajo obe naslednji značilnosti:
"Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
a. sposobnost neprekinjenega proizvajanja toka jakosti 1 A ali več, v časovnem obdobju osmih ur, z napetostjo 20 kV ali več in
Surface preparation;
Stikalne naprave:
Strain rate;
a. elektronke s hladno katodo, polnjene s plinom ali brez, ki delujejo podobno kot iskrilo in imajo vse naslednje značilnosti:
Temperature;
vsebujejo tri elektrode ali več;
Pressure;
naznačeno anodno temensko napetost, ki je enaka ali večja od 2,5 kV;
b.
naznačeni anodni temenski tok, ki je enak ali večji od 100 A, in
"Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
zakasnitveni čas na anodi, ki je enak ali krajši od 10 μs.
c.
točka 3A228 vključuje plinske kritronske in vakuumske spritronske elektronke.
'Direct-acting hydraulic pressing'of aluminium alloys or titanium alloys:
b. prožilno vezana iskrila, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Cycle time;
zakasnitveni čas na anodi, ki je enak ali krajši od 15 μs, in
d.
maksimalno vrednost anodnega toka, ki je enaka ali večja od 500 A.
'Hot isostatic densification' of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
c. moduli ali sestavi s funkcijo hitrega preklapljanja, razen tiste iz točke 3A001(g) ali 3A001(h), ki imajo vse naslednje značilnosti:
'Direct-acting hydraulic pressing' is a deformation process which uses a fluid-filled flexible bladder in direct contact with the workpiece.
naznačeno anodno temensko napetost, ki je večja od 2 kV;
'Hot isostatic densification' is a process of pressurising a casting at temperatures exceeding 375 K (102 °C) in a closed cavity through various media (gas, liquid, solid particles, etc.) to create equal force in all directions to reduce or eliminate internal voids in the casting
naznačeni anodni temenski tok, ki je enak ali večji od 500 A, in
c.
vklopni čas, ki je enak ali krajši od 1 μs.
"Technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
Visokotokovni impulzni generatorji:
e.
a. vžigalniki za detonatorje (inicialni sistemi, vžigalne naprave), vključno z vžigalnimi napravami za elektronsko polnjenje ter na eksplozivni in optični pogon, razen tistih iz točke 1A007(a), izdelani za proženje večkratno krmiljenih detonatorjev iz točke 1A007(b);
"Technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
b. modularni električni impulzni generatorji (pulzerji), ki imajo vse naslednje značilnosti:
f.
izdelani za prenosno, mobilno ali robustno uporabo;
"Technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
sposobnost sproščanja lastne energije v manj kot 15 μs na bremenu, manjšem od 40 omov;
The table and Technical Note appear after entry 2E301.
izhodna jakost, ki je večja od 100 A;
This table should be read to specify the "technology" for a particular Coating Process only when the Resultant Coating in column 3 is in a paragraph directly across from the relevant Substrate under column 2.
nobena njihova mera ne presega 30 cm;
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal "matrix" "composites" substrates, but are not included for the application of silicides to 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18) substrates.
tehtajo manj kot 30 kg in
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18).
namenjeni za uporabo v razširjenem temperaturnem območju od 223 K (– 50 °C) do 373 K (100 °C) ali primerni za uporabo v letalstvu.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
točka 3A229(b) vključuje tudi krmilnike za ksenonove bliskovke.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B233, 2D201 or 2D202.
c. mikrovžigalne enote, ki imajo vse naslednje značilnosti:
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
nobena njihova mera ne presega 35 mm;
Table
naznačeno napetost, ki je enaka ali večja od 1 kV, in
Deposition techniques
kapacitivnost, ki je enaka ali večja od 100 nF.
Coating Process (1)
Hitri impulzni generatorji in ‚impulzne glave‘ zanje, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Substrate
a. izhodno napetost nad 6 V na uporovnem bremenu, manjšem od 55 omov, in
Resultant Coating
b. ‚prehodni čas impulza‘, krajši od 500 ps.
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
v točki 3A230 je ‚prehodni čas impulza‘ opredeljen kot časovni interval med 10 % in 90 % amplitude napetosti.
"Superalloys"
‚impulzne glave‘ so omrežja, ki ustvarjajo impulze in so zasnovana tako, da sprejmejo funkcijo napetosti koraka in jo oblikujejo v impulze več oblik, vključno s pravokotno, trikotno, koračno, impulzno, eksponentno ali monociklično. ‚Impulzne glave‘ so lahko sestavni del impulznega generatorja, bodisi kot priključni modul za napravo ali kot naprava za zunanji priklop.
Aluminides for internal passages
Nevtronski generatorski sistemi, vključno z elektronkami, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
a. izdelani so za delovanje brez zunanjega vakuumskega sistema in
Silicides
b. uporabljajo kar koli od naslednjega:
Carbides
elektrostatični pospešek za sprožanje jedrske reakcije med tritijem in devterijem, ali
Dielectric layers (15)
elektrostatični pospešek za sprožanje jedrske reakcije med devterijem in devterijem ter sposoben ustvarjanja 3 × 109 nevtronov/s ali več.
Diamond
Večtočkovni vžigalni sistemi, razen tistih iz točke 1A007:
Diamond-like carbon (17)
za detonatorje glej točko 1A007(b).
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix" "composites"
b. naprave, ki uporabljajo en detonator ali več detonatorjev, ki so zasnovane za skoraj hkratni vžig eksplozivne površine, večje kot 5000 mm2, z enim samim vžigalnim signalom, pri čemer je časovno odstopanje vžiga na celotni površini krajše od 2,5 μs.
Refractory metals
predmet nadzora v točki 3A232 niso detonatorji, ki uporabljajo samo primarne eksplozive, na primer svinčev azid.
Mixtures thereof (4)
Masni spektrometri, razen tistih iz točke 0B002(g), ki so zmožni merjenja ionov z 230 u ali več, z resolucijo, ki je boljša od dveh delov v 230, in ionski viri zanje:
Aluminides
a. masni spektrometri z induktivno sklopljeno plazmo (ICP/MS);
Alloyed aluminides (2)
b. masni spektrometri s tlilno razelektritvijo (GDMS);
Boron nitride
c. masni spektrometri s termično ionizacijo (TIMS);
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
d. masni spektometri z elektronskim obstreljevanjem, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Tungsten
sistem za dovod molekularnega snopa, ki dovaja kolimiran snop molekul analita v območje ionskega vira, kjer molekule ionizira z elektronskim žarkom, in
Molybdenum and Molybdenum alloys
eno ali več ‚hladnih pasti‘, ki jih je mogoče ohladiti na temperaturo 193 K (– 80 °C);
Beryllium and Beryllium alloys
e. se ne uporablja;
Sensor window materials (9)
f. masni spektrometri, opremljeni z ionskim virom, ki omogoča mikrofluoriranje, in zasnovani za aktinoide ali fluoride aktinoidov.
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
Masni spektometri z elektronskim obstreljevanjem iz točke 3A233(d) so znani tudi pod imenom masni spektometri z vplivanjem na elektrone ali masni spektometri z elektronsko ionizacijo.
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
V točki 3A233(d)(2) je ‚hladna past‘ naprava, ki ujame molekule plina z njihovo kondenzacijo ali zamrzovanjem na hladnih površinah.
Alloyed silicides
Za namene točke 3A233(d)2 kriogenska vakuumska črpalka za helij v plinskem stanju z zaprto zanko ni ‚hladna past‘.
Modified zirconia (12)
Trakasti valovodi, ki detonatorjem zagotavljajo nizko induktivnost in imajo naslednji značilnosti:
Corrosion resistant steel (7)
a. naznačeno napetost, večjo od 2 kV, in
Borides
b. induktivnost, manjšo od 20 nH.
Beryllium
Oprema za proizvodnjo polprevodniških elementov ali materialov in posebej izdelane komponente in pribor zanjo:
Titanium alloys (13)
GLEJ TUDI 2B226.
Nitrides
a. oprema za epitaksialno rast:
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
oprema, izdelana ali prirejena za proizvajanja plasti katerega koli materiala razen silicija enakomerne debeline do manj kot ± 2,5 % na razdalji 75 mm ali več;
Ceramics (19) and Low-expansion glasses
točka 3B001(a)(1) zajema tudi opremo za epitaksijo atomske plasti (ALE).
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
reaktorji za nanašanje kovin s kemičnim naparjevanjem (MOCVD), ki so izdelani za epitaksialno rast materiala sestavljenih polprevodnikov in imajo dva ali več naslednjih elementov: aluminij, galij, indij, arzen, fosfor, antimon ali dušik;
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
oprema za epitaksijsko rast z molekularnim snopom, ki uporablja plinske ali trdne vire.
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
b. oprema, izdelana za ionsko implantacijo, in ima katero koli od naslednjih značilnosti:
Polymers (11) and Organic "matrix" "composites"
izdelana in optimizirana je za delovanje pri energiji žarka 20 keV ali več in žarkovnem toku 10 mA ali več za implantacijo z dušikom, devterijem ali helijem;
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
zmožnost neposrednega zapisa;
Refractory metals and alloys (8)
energijo žarka 65 keV ali več in žarkovni tok 45 mA ali več za visokoenergijsko implantacijo s kisikom v ogreto „podlago“ iz polprevodniškega materiala ali
Oxides
izdelana in optimizirana je za delovanje pri energiji žarka 20 keV ali več in žarkovnem toku 10 mA ali več za implantacijo s silicijem v „podlago“ iz polprevodniškega materiala, ogreto na 600 °C ali več;
D. Plasma spraying
e. večkomorni centralni sistemi z avtomatskim polnjenjem za ravnanje z rezinami, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Abradable Nickel-Graphite
imajo vmesnike za vnos in iznos rezin, na katere je treba priključiti več kot dve za to izdelani in funkcionalno različni ‚polprevodni procesni orodji‘ iz točke 3B001(a)(1), 3B001(a)(2), 3B001(a)(3) ali 3B001(b), in
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
izdelani so za oblikovanje integriranega sistema v vakuumskem okolju za ‚sekvenčno večkratno obdelavo rezin‘;
Abradable Al-Si-Polyester
predmet nadzora v točki 3B001(e) niso avtomatski robotski sistemi za ravnanje z rezinami, posebej izdelani za vzporedno obdelavo rezin.
Aluminium alloys (6)
Za namene točke 3B001(e) ‚polprevodno procesno orodje‘ pomeni modularna orodja, ki omogočajo fizične postopke za proizvodnjo polprevodnikov, ki so funkcionalno različni, kot so nanašanje, implantacija ali termična obdelava.
E. Slurry Deposition
Za namene točke 3B001(e) ‚sekvenčna večkratna obdelava rezin‘ pomeni zmogljivost obdelave vsake rezine v drugem ‚polprevodnem procesnem orodju‘, na primer prenos vsake rezine od enega orodja do drugega in tretjega z večkomornimi centralnimi sistemi z avtomatskim polnjenjem za ravnanje z rezinami.
Fused silicides
f. litografska oprema:
Fused aluminides except for resistance heating elements
oprema za pozicioniranje in izpostavljanje rezin po sistemu korak in ponovi (neposredni korak na rezini) ali korak in skeniraj (skener) pri obdelavi rezin z uporabo fotooptične metode ali metode z rentgenskimi žarki in ki ima katero koli od naslednjih značilnosti:
F. Sputter Deposition
b. zmožnost proizvajanja oblike z ‚minimalno razločljivo potezo‘ (MRF) 45 nm ali manj; Tehnična opomba: ‚minimalna razločljiva poteza‘ (MRF) se izračuna po naslednji enačbi: pri čemer je faktor K = 0,35.
Noble metal modified aluminides (3)
točka 3B001(f)(2) vključuje:
Platinum
mikrokontaktno tiskarsko orodje,
Ceramics and Low- expansion glasses (14)
vroča reliefna orodja,
Dielectic layers (15)
nanotiskarska litografska orodja,
G. Ion Implantation
tiskarska litografska orodja „step and flash“ (S-FIL).
High temperature bearing steels
oprema, izdelana posebej za obdelavo naprav za izdelavo mask, ki ima obe naslednji značilnosti:
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
a. elektronski žarek z odklonjenim fokusom, ionski ali „laserski“ žarek in
Cemented tungsten carbide (16)
polovična vrednost širine (FWHM) točke, manjša od 65 nm in postavitev slike, manjša od 17 nm (srednja vrednost + 3 sigme), ali
TABLE - DEPOSITION TECHNIQUES - NOTES
napaka pri prekrivanju druge plasti, manjša od 23 nm (srednja vrednost + 3 sigme) na maski;
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
oprema, ki je zasnovana za obdelavo s pomočjo neposrednih metod zapisa in ima obe naslednji značilnosti: