natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m.
Postopek nanašanja prevleke (1)
2B001.c. does not control grinding machine as follows:
Substrat
Cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines, having all of the following:
Dobljena prevleka
Limited to cylindrical grinding; and
A. nanašanje s/z kemičnimi hlapi (CVD):
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
„superzlitine“
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a "unidirectional positioning repeatability" less (better) than 1,1 μm
aluminidi za notranjo uporabo
Surface grinders.
keramični materiali (19) in stekla z majhnim raztezkom (14)
d.
silicidi
Electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
karbidi
e.
dielektrični nanosi (15)
Machine tools for removing metals, ceramics or "composites", having all of the following:
diamant
Removing material by means of any of the following:
diamantni ogljik (17)
a.
ogljik-ogljikovi, keramični in kovinski „matrični“ „kompoziti“
Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
refrakcijske kovine
b.
njihove mešanice (4)
Electron beam; or
aluminidi
"Laser" beam; and
borov nitrid
At least two rotary axes having all of the following:
utrjeni volframov karbid (16), silicijev karbid (18)
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
molibden in njegove zlitine
b.
berilij in njegove zlitine
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003°;
materiali za senzorska okna (9)
f.
Termično izhlapevanje Fizično nanašanje s hlapi (TE-PVD)
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5m.
Fizično plinski postopki nanašanja (PVD): z elektronskim žarkom (EB-PVD)
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
zliti silicidi
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
nerjavno jeklo (7)
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
berilij
c.
titanove zlitine (13)
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
nitridi
d.
Fizično plinski, termično odporni postopki nanašanja (PVD) (ionsko nanašanje)
Using any of the following processes:
keramični materiali (19) in stekla z majhnim raztezkom
Magnetorheological finishing ('MRF');
utrjeni volframov karbid (16), silicijev karbid
Electrorheological finishing ('ERF');
Fizično plinski postopki nanašanja (PVD): lasersko oslojevanje
'Energetic particle beam finishing';
Fizično plinski postopki nanašanja (PVD): naboj prek katodnega loka
'Inflatable membrane tool finishing'; or
polimeri (11) in organski „matrični“ „kompoziti“
'Fluid jet finishing'.
C. Utrjevanje z zasipanjem (o cementaciji brez zasipanja glej gornjo točko A) (10)
For the purposes of 2B002:
refrakcijske kovine in njihove zlitine (8)
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
oksidi
'ERF' is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
D. Nanašanje s plazmo
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
brusni nikelj-grafit
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
brusni materiali, ki vsebujejo Ni-Cr-Al
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
brusni Al-Si-poliester
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc=40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
aluminijeve zlitine (6)
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
E. Redko nanašanje
a.
zliti aluminidi razen ostankov ogrevalnih elementov
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
F. Nanašanje z brizganjem
Having any of the following:
platina
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
keramični materiali in stekla z majhnim raztezkom (14)
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
dielektični sloji (15)
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
G. ionska implantacija
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
visoko temperaturna ležajna jekla
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
dodatki kroma, tantala ali niobija (kolumbij)
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
utrjeni volframov karbid (16)
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for substrates specified in column 2, by processes shown in column 1 in the Table following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
TABELA – TEHNIKE NANAŠANJA – OPOMBE
a.
Izraz ‚postopek nanašanja‘ vključuje popravilo ali obnovo prevleke in prvotno nanašanje.
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Izraz ‚nanosi z aluminijevimi zlitinami‘ vključuje stopenjske nanose, pri katerih je element oziroma pri katerem so elementi naneseni pred ali med nanosom aluminija, tudi če so ti elementi naneseni z drugim postopkom nanašanja prevleke.
SEE ALSO 2B105.
Vendar ne vključuje večkratnega stopenjskega postopka utrjevanja, posledica česar je aluminijeva zlitina.
A process modified for one of the following:
Izraz ‚za nanos modificiranega aluminija z žlahtnimi kovinami‘ vključuje večstopenjske nanose, pri katerih se plemenita kovina ali plemenite kovine nanašajo z drugimi postopki nanosa kot predhodno.
a.
Izraz ‚njihove mešanice‘ vključuje nefiltrirane materiale, stopenjske zlitine, dodatne nanose in večstopenjske nanose in dobijo se z enim ali več postopki nanašanja prevleke, naštetih v tabeli.
Pulsating CVD;
‚MCrAlX‘ se nanaša na nanose zlitin, pri kateri označuje črka M kobalt, železo, nikelj ali njihovo kombinacijo, črka X pa hafnij, itrij, silicij, tantal v kakršni koli količini ali druge namerne dodatke v količini več kot 0,01 mas. %, v različnih razmerjih in kombinacijah, razen:
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
CoCrAlY – nanosi, ki vsebujejo manj kot 22 mas. % kroma, manj kot 7 mas. % aluminija in manj kot 2 mas. % itrija;
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
CoCrAlY – nanosi, ki vsebujejo 22 do 24 mas. % kroma, 10 do 12 mas. % aluminija in 0,5 do 0,7 mas. % itrija, ali
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
NiCrAlY – nanosi, ki vsebujejo 21 do 23 mas. % kroma, 10 do 12 mas. % aluminija in 0,9 do 1,1 mas. % itrija.
b.
Izraz ‚aluminijeve zlitine‘ se nanaša na zlitine z mejno natezno trdnostjo 190 MPa ali več, merjeno pri 293 K (20 °C).
Incorporating in situ coating thickness control;
Izraz ‚nerjavna jekla‘ se nanaša na serijo 300 AISI (Ameriški inštitut za železo in jeklo) ali njene ekvivalente po nacionalnih standardih.
b.
‚Utrjene kovine in zlitine‘ vključujejo naslednje kovine in njihove zlitine: niobij (kolumbij), molbiden, volfram in tantal.
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
‚Senzorski materiali‘: aluminijev oksid, silicij, germanij, cinkov sulfid, cinkov selenid, galijev arzenid, diamant, galijev fosfid, safir in naslednji kovinski halidi: senzorski materiali premera več kot 40 mm za cirkonijev fluorid in hafnijev fluorid.
c.
Kategorija 2 ne vključuje „tehnologije“ za stopenjsko utrjevanje trdnih objektov.
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
‚Polimeri‘: poliamidi, poliestri, polisulfidi, polikarbonati in poliuretani.
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
‚Modificirani cirkonij‘ se nanaša na dodatke drugih kovinskih oksidov cirkoniju (npr. kalcijevih, magnezijevih, itrijevih, hafnijevih, redki zemeljski oksidi), katerih namen je stabilizacija določenih kristalografskih faz in faznih zgradb.
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
Prevleke s toplotno pregrado iz cirkonija, modificiranega s kalcijem ali magnezijem z mešanjem ali taljenjem, niso predmet nadzora.
d.
Izraz ‚titanove zlitine‘ se nanaša na zrakoplovne zlitine s mejno napetostno trdnostjo 900 MPa ali več, merjeno pri 293 K (20 °C).
Plasma spraying production equipment having any of the following:
‚Steklo z majhno razteznostjo‘ se nanaša na stekla s koeficientom toplotnega raztezanja 1 × 10–7 K–1 ali manj, merjeno pri 293 K (20 °C).
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
‚Dielektrični nanosi‘ so nanosi iz večslojnih izolacijskih materialov, v katerih služijo interferenčne lastnosti slojevitega nanosa, ki ga tvorijo materiali z različnimi lastnostmi refrakcije, odboju, oddaji ali absorpciji pasov različnih valovnih dolžin.
Incorporating in situ coating thickness control;
Dielektrični nanosi se nanašajo na tiste z več kot štirimi dielektričnimi plastmi ali dielektričnimi/kovinskimi „kompozitnimi“ plastmi.
e.
‚Utrjen volframov karbid‘ ne vključuje strojnega orodja za odrezavanje in obdelovanje na osnovi volframovega karbida/(kobalta, niklja), titanovega karbida/(kobalta, niklja), kromovega karbida/nikelj-kroma in kromovega karbida/niklja.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Predmet nadzora ni „tehnologija“ za nanašanje diamantnega ogljika na katero koli od naslednjih podlag:
f.
trdi diski in glave trdih diskov, oprema za izdelavo izdelkov za enkratno uporabo, ventili za pipe, membrane za zvočnike, deli avtomobilskih motorjev, obdelovalni stroji, orodje za kovanje in stiskanje, oprema za pisarniške avtomate, mikrofoni ali medicinska oprema ali kalupi za vlivanje ali taljenje plastike, ki so izdelani iz zlitin, ki vsebujejo manj kot 5 % berilija.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
‚Silicijev karbid‘ ne vključuje materialov za orodje za rezanje in oblikovanje.
g.
Keramični nanosi v smislu navedbe v tabeli ne zajemajo keramičnih materialov, v katerih je posamična ali skupna vsebnost gline ali veziv 5 mas. % ali več.
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
TABELA – TEHNIKE NANAŠANJA – TEHNIČNE OPOMBE
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Postopki, našteti v stolpcu 1 tabele, so opredeljeni na naslednji način:
Optical characteristics.
a. kemijski postopek nanašanja (CVD) je postopek nanašanja dodatnih nanosov ali modifikacije osnovnega materiala, kjer so osnova nanosov kovine, zlitine, „kompozita“, dielektričnega ali keramičnega materiala na razgreto podlago.
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
Plinski reaktanti se razgradijo ali se med seboj kombinirajo v neposredni bližini podlage, kar ima za posledico odlaganje želenega elementarnega, zlitinskega ali sestavljenega materiala na podlago.
Dimensional inspection or measuring systems, equipment, position feedback units and "electronic assemblies", as follows:
Energijo za ta postopek razgradnje ali kemične reakcije lahko zagotavljajo toplota podlage, sevanje plazme ali „laserska“ sevanja;
a.
CVD vključuje naslednje postopke: nanašanje z direktnim plinskim curkom, nanašanje (elementarno nadzirane) s termično energijo, s plazmo vzbujene ali s plazmo gnane postopke nanašanja.
Computer controlled or "numerical controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1 000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2:2009;
zasipanje pomeni potopitev podlage v mešanico prahov.
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7+L/1 000 μm threshold.
reaktanti v plinskem stanju, ki se uporabljajo v postopku brez zasipanja, nastajajo ob uporabi istih osnovnih reakcij in parametrov kot postopek cementacije z zasipanjem, le da podlaga, ki se prekriva, ni v stiku z mešanico prahov.
SEE ALSO 2B206.
b. fizično plinsko nanašanje s termičnim izgorevanjem (TE-PVD) je postopek nanašanja prevleke na površino, ki poteka v vakuumu pod tlakom manj kot 0,1 Pa in pri katerem vir toplotne energije služi za izhlapevanje nanosnega materiala.
b.
Posledica postopka je izhlapevanje ali nanašanje hlapljivih snovi na pravilno nameščene podlage.
Linear displacement measuring instruments or systems, linear position feedback units, and "electronic assemblies", as follows:
Dodajanje plinov v vakuumsko komoro med postopkom nanašanja za sintetiziranje sestavljenega nanosa je običajna modifikacija tega postopka.
Interferometer and optical-encoder measuring systems containing a "laser" are only specified in 2B006.b.3 and 2B206.c.
Tudi uporaba ionskega ali elektronskega žarka ali plazme za aktiviranje ali prispevek k postopku nanašanja je običajna modifikacija tega postopka.
'Non-contact type measuring systems' with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Postopek lahko vključuje tudi monitorje za izvajanje meritev med potekom postopka.
For the purposes of 2B006.b.1. 'non-contact type measuring systems' are designed to measure the distance between the probe and measured object along a single vector, where the probe or measured object is in motion.
Posamezni postopki TE-PVD so:
Linear position feedback units specially designed for machine tools and having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1000)) nm (L equals effective length in mm);
Posamezni postopki TE-PVD so:
Measuring systems having all of the following:
fizično plinsko nanašanje z uporabo elektronskega žarka, ki za segrevanje in izhlapevanje materiala, oblikujočega nanos, izkorišča elektronski žarek;
a.
fizično plinsko nanašanje z uporabo elektrouporniškega gretja, ki izkorišča vire elektrouporniškega gretja v kombinaciji s konvergentnimi ionskimi žarki za proizvajanje nadzorovanega in enakomernega toka nanosnega materiala;
Containing a "laser";
„lasersko“ oslojevanje izkorišča bodisi impulzne „laserske“ žarke bodisi neprekinjene „laserske“ žarke za uparjevanje materiala, ki oblikuje nanos;
b.
nanašanje s katodnim lokom izkorišča sprejemno katodo materiala, ki oblikuje nanos, in ob trenutnem stiku z ozemljeno vžigalno elektrodo pride na površini katode do praznjenja loka.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
Nadzorovano gibanje loka razjeda površino katode in ustvarja visokoionizirano plazmo.
c.
Anoda je lahko stožec ali konus, pritrjen na obrobju katode, z izolatorjem, ali pa komora.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2 000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20± 0,01 °C; or
Polarizacija podlage se uporablja za nanašanje zunaj vidne linije;
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.3.;
ta opredelitev ne zajema nanašanja z naključnim katodnim lokom z nepolariziranimi podlagami.
c.
ionsko nanašanje je posebna oblika splošnega postopka TE-PVD, v kateri se za ioniziranje nanosnega materiala izkorišča vir plazme ali vir ionov, in negativni polarizirani material se uporablja za podlage zaradi lažje ekstrakcije nanosnih materialov iz plazme.
Rotary position feedback units specially designed for machine tools or angular displacement measuring instruments, having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,9 second of arc;
Uporaba reaktivnih elementov, evaporizacije trdnih delcev v komori, v kateri poteka postopek, in uporaba monitorjev za meritve optičnih značilnosti in debeline prevlek med potekom postopka so običajne modifikacije postopka;
2B006.c. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g. "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
c. utrjevanje je površinska modifikacija ali površinska plast, pri čemer je substrat potopljen v mešanico prahov, ki je sestavljena iz:
d.
nanosnih kovinskih prahov (navadno aluminij, krom, silicij ali njihova kombinacija);
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
aktivatorja (navadno soli halidov) in
2B006 includes machine tools, other than those specified in 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
inertnega prahu, najpogosteje aluminijev boksit
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
Substrat in mešanica prahov sta v retorti, ogreti na temperaturo med 1030 K (757 °C) in 1375 K (1102 °C), za čas, ki zadošča za nanos prevleke;
SEE ALSO 2B207.
d. pršenje s plazmo je postopek nanašanja prevleke na površino, pri katerem razpršilka oblikuje in krmili plazmo, praškaste ali nitkaste nanosne materiale, jih tali in vrtinči proti podlagi, na kateri se oblikuje integralno povezan nanos.
b.
Pršenje s plazmo je možno prek plazme z nizkim ali visokim tlakom pršenja;
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
nizkotlačna plazma pomeni plazmo tlaka, nižjega od atmosferskega.
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
plazma velike hitrosti se nanaša na hitrosti plina iz dulca prek 750 m/s, računano pri 293 K (20 °C) in pri 0,1 MPa.
c.
e. redko nanašanje je postopek nanašanja prevleke zaradi spreminjanja površine ali postopek nanašanja prevleke na površino, pri katerem se kovinski ali keramični prah z organskim vezivom suspendira v tekočino in se nato nanese na podlago bodisi z razprševanjem, kopeljo ali barvanjem, čemur sledi sušenje v pečici in toplotna obdelava, potrebna za to, da se želeni nanos obdrži;
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
f. nanašanje z brizganjem je nanašanje prevleke na površino, ki temelji na principu visokega podtlaka in prehoda delcev, kjer so pozitivni ioni pospešeni z elektronskim poljem v smeri substrata.
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
Kinetična energija ionov, ki se zaletijo v substrat, je tako velika, da se atomi na površini nanosnega materiala sprostijo in nanesejo na primerno nameščeno podlago;
d.
tabela se nanaša samo na triodno, magnetronsko ali reakcijsko nanašanje z brizganjem, ki se uporablja za zvišanje sprejemljivosti nanosa in nivoja, in na povečano nanašanje z brizganjem z uporabo radijskih frekvenc (RF), ki se uporablja za omogočanje uparjevanja nekovinskih nanosnih materialov.
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
za sprožitev nanašanja se lahko uporabljajo nizkoenergijski ionski žarki (manj kot 5 keV).
'Compound rotary tables' and "tilting spindles", specially designed for machine tools, as follows:
g. ionska implantacija je postopek nanašanja prevleke zaradi spreminjanja površine, pri katerem se element, predviden za zlitino, ionizira, pospešuje skozi potencialni padec in vsadi v površino podlage.
c.
Ta postopek vključuje postopek, pri katerem potekata istočasno ionska implantacija in fizično plinska metoda nanašanja s pomočjo elektronskega žarka ali visokega podtlaka.
'Compound rotary tables' having all of the following:
SKUPINA 3 – ELEKTRONIKA
Designed for machine tools for turning, milling or grinding; and
nadzorni status opreme in komponent, opisanih v točkah 3A001 ali 3A002, razen tistih iz točk od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(10) ali iz točk 3A001(a)(12) do 3A001(a)(14), ki so posebej izdelane za drugo opremo in imajo iste funkcionalne značilnosti kot druga oprema, je določen z nadzornim statusom druge opreme.
Two rotary axes designed to be coordinated simultaneously for “contouring control”;
nadzorni status integriranih vezij iz točk od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(9) ali iz točk 3A001(a)(12) do 3A001(a)(14), ki so nespremenljivo programirana ali izdelana za specifično funkcijo za drugo opremo, je določen z nadzornim statusom druge opreme.
A 'compound rotary table' is a table allowing the workpiece to rotate and tilt about two non-parallel axes
če proizvajalec ali uporabnik ne more določiti nadzornega statusa druge opreme, je nadzorni status integriranih vezij določen v točkah od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(9) in v točkah 3A001(a)(12) do 3A001(a)(14).
d.
Elektronske naprave, kot sledijo:
"Tilting spindles" having all of the following:
a. integrirana vezja za splošno rabo:
Designed to be coordinated simultaneously for "contouring control".
nadzorni status rezin (obdelanih ali neobdelanih) z določeno funkcijo se določa v skladu s parametri iz točke 3A001(a).
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control and having all of the following:
integrirana vezja vključujejo naslednje tipe:
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
„monolitna integrirana vezja“;
a.
„hibridna integrirana vezja“;
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
„veččipna integrirana vezja“;
b.
„integrirana vezja na filmu“, vključno z integriranimi vezji tipa silicij na safirju;
A roller force more than 60 kN.
„optična integrirana vezja“;
For the purpose of 2B009, machines combining the function of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
„tridimenzionalna tiskana vezja“;
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
„monolitna mikrovalovna integrirana vezja“ („MMIC“).
SEE ALSO 2B204.
integrirana vezja, izdelana ali označena kot odporna proti sevanju, ki lahko prenesejo:
a.
a. skupno dozo 5 × 103 Gy (silicij) ali več;
Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
b. določeno stalno dozo 5 × 106 Gy (silicij)/s ali več ali
b.
c. fluenco (integrirani tok) nevtronov (ekvivalent 1 MeV) 5 × 1013 n/cm2 ali več za siliciju ali njegove ekvivalentne vrednosti za druge materiale;