natgillin/translations-raw huggingface dataset:
They require "technology" in the form of keys or codes as specified in 3E225 to enhance or release the performance to meet the characteristics of 3A225.
so namenjeni za delovanje na valovnih dolžinah, večjih od 400 nm, vendar ne pri več kot 30000 nm, in imajo vse naslednje značilnosti:
Frequency changers in 3A225 are also known as converters or inverters.
a. dajejo slikovne podatke v digitalnem formatu in
Frequency changers in 3A225 may be marketed as Generators, Electronic Test Equipment, AC Power Supplies, Variable Speed Motors Drives, Variable Speed Drives (VSDs), Variable Frequency Drives (VFDs), Adjustable Frequency Drives (AFDs), or Adjustable Speed Drives (ASDs).
so „primerni za vesolje“; ali
High-power direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.6., having both of the following characteristics:
so izdelani za delovanje iz zraka in uporabljajo detektorje razen silicijevih in imajo trenutno polje opazovanja (IFOV), manjše od 2,5 mrad (miliradiana).
a.
predmet nadzora v točki 6A002(b)(1) niso „monospektralni slikovni senzorji“ z maksimalno odzivnostjo pri valovnih dolžinah nad 300 nm, vendar ne več kot 900 nm,v katere je zgolj vključen kateri koli od naslednjih detektorjev, ki niso „primerni za vesolje“ ali „žariščnoravninskih detektorskih nizov“, ki niso primerni za vesolje“:
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 100 V or greater with current output of 500 A or greater; and
senzorji CDD, ki niso izdelani ali prilagojeni za ‚ojačanje naboja‘, ali
b.
senzorji CDD, ki niso izdelani ali prilagojeni za ‚ojačanje naboja‘, ali senzorji CMOS, ki niso izdelani ali prilagojeni za ‚ojačanje naboja‘.
Current or voltage stability better than 0,1 % over a time period of 8 hours.
c. oprema za snemanje z ‚neposrednim prikazom‘, ki ima karkoli od naslednjega:
High-voltage direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.5., having both of the following characteristics:
elektronke za ojačanje slike iz točke 6A002(a)(2)(a) ali 6A002(a)(2)(b);
a.
„žariščnoravninske detektorske nize“ iz točke 6A002(a)(3) ali
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 20 kV or greater with current output of 1 A or greater; and
polprevodniške detektorje iz točke 6A002(a)(1);
Switching devices, as follows:
‚Neposredni prikaz‘ se nanaša na opremo za snemanje, ki človeku ustvari vidno sliko brez pretvorbe slike v elektronski signal za prikaz na televizijskem ekranu, te slike pa ni mogoče shraniti ali posneti ne fotografsko, ne elektronsko in ne na kateri koli drug način.
a.
predmet nadzora v točki 6A002(c) ni naslednja oprema s fotokatodami, razen GaAs ali GaInAs:
Cold-cathode tubes, whether gas filled or not, operating similarly to a spark gap, having all of the following characteristics:
industrijski ali zasebni protivlomni alarmi ter nadzorni sistemi in sistemi za štetje v prometu ali industriji;
Containing three or more electrodes;
medicinska oprema;
Anode peak voltage rating of 2,5 kV or more;
industrijska oprema za pregled, razvrščanje ali analizo lastnosti materialov;
Anode peak current rating of 100 A or more; and
detektorji plamena v industrijskih pečeh;
Anode delay time of 10 μs or less;
oprema, izdelana posebej za laboratorijsko rabo;
3A228 includes gas krytron tubes and vacuum sprytron tubes.
d. posebne podporne komponente za optične senzorje:
b.
kriogenske hladilne naprave, ki so „primerne za vesolje“;
Triggered spark-gaps having both of the following characteristics:
kriogenske hladilne naprave, ki niso „primerne za vesolje“ in katerih ohlajevalna temperatura je pod 218 K (– 55 °C):
An anode delay time of 15 μs or less; and
a. z zaprtim ciklom in z nazivnim časom do prve napake (MTTF) ali med dvema napakama (MTBF) več kot 2500 ur;
Rated for a peak current of 500 A or more;
b.
c.
Joule-Thomsonove (JT) samonastavljive mini hladilne naprave s premerom (zunanjim) odprtin manj kot 8 mm;
Modules or assemblies with a fast switching function, other than those specified in 3A001.g. or 3A001.h., having all of the following characteristics:
optično občutljiva vlakna s posebno sestavo ali strukturo ali spremenjena s prevleko v zvočno, toplotno, inercialno, elektromagnetno občutljiva ali občutljiva za jedrsko sevanje.
Anode peak voltage rating greater than 2 kV;
predmet nadzora v točki 6A002(d)(3) niso vdelana optično občutljiva vlakna, posebej zasnovana za odkrivanje v napravah za vrtanje.
Anode peak current rating of 500 A or more; and
e. se ne uporablja.
Turn-on time of 1 μs or less.
f. ‚integrirana čitalna vezja‘ (‚ROIC‘), ki so posebej izdelana za „žariščnoravninske detektorske nize“, določene v točki 6A002(a)(3).
High-current pulse generators as follows:
Predmet nadzora v točki 6A002(f) niso ‚integrirana čitalna vezja‘, ki so posebej izdelana za uporabo v civilnih avtomobilih.
a.
‚Integrirano čitalno vezje‘ (‚ROIC‘) je integrirano vezje, ki je zasnovano kot osnova za „žariščnoravninski detektorski niz“ („FPA“) ali je z njim povezano, uporablja pa se za odčitavanje (tj. ekstrakcijo in beleženje) signalov, ki jih proizvajajo detektorski elementi.
Detonator firing sets (initiator systems, firesets), including electronically-charged, explosively-driven and optically-driven firing sets, other than those specified in 1A007.a., designed to drive multiple controlled detonators specified in 1A007.b.;
‚ROIC‘ odčita vsaj naboj detektorskih elementov z ekstrakcijo obremenitve in uporabo multipleksne funkcije na tak način, da se ohranijo informacije o relativnem prostorskem položaju in orientaciji detektorskih elementov za obdelavo znotraj in zunaj ‚ROIC‘.
b.
Kamere, sistemi ali oprema in komponente zanje:
Modular electrical pulse generators (pulsers) having all of the following characteristics:
GLEJ TUDI TOČKO 6A203.
Capable of delivering their energy in less than 15 μs into loads of less than 40 ohms;
Instrumentacijske kamere in posebej zanje izdelani sestavni deli:
Having an output greater than 100 A;
instrumentacijske kamere iz točk od 6A003(a)(3) do 6A003(a)(5) z modularno zgradbo morajo biti pregledane glede na maksimalne sposobnosti z uporabo priključkov, ki so na voljo v skladu z navodili proizvajalca.
No dimension greater than 30 cm;
elektronske črtne kamere s časovno ločljivostjo več kot 50 ns;
Weight less than 30 kg; and
elektronske filmske kamere s hitrostjo snemanja nad 1000000 slik/s;
Specified for use over an extended temperature range 223 K (– 50 °C) to 373 K (100 °C) or specified as suitable for aerospace applications.
elektronske kamere, ki imajo obe naslednji značilnosti:
3A229.b. includes xenon flash-lamp drivers.
a. hitrost elektronskega zaklopa (hitrost aktiviranja) manj kakor 1 μs za celotno sliko in
c.
b. snemalni čas, ki omogoča hitrost snemanja več kot 125 celotnih slik na sekundo;
Micro-firing units having all of the following characteristics:
priključki, ki imajo vse naslednje značilnosti:
No dimension greater than 35 mm;
a. so posebej izdelani za instrumentacijske kamere z modularnimi strukturami, ki so navedene v točki 6A003(a), in
Voltage rating of equal to or greater than 1 kV; and
b. zaradi njih te kamere ustrezajo značilnostim, navedenim v točki 6A003(a)(3), 6A003(a)(4) ali 6A003(a)(5), v skladu s specifikacijami proizvajalca;
Capacitance of equal to or greater than 100 nF.
b. slikovne kamere:
High-speed pulse generators, and 'pulse heads' therefor, having both of the following characteristics:
predmet nadzora v točki 6A003(b) niso televizijske kamere ali videokamere, ki so posebej izdelane za televizijsko predvajanje.
a.
video kamere s polprevodniškimi senzorji, ki imajo maksimalno odzivnost pri valovnih dolžinah nad 10 nm, vendar ne več kot 30000 nm in imajo vse naslednje značilnosti:
Output voltage greater than 6 V into a resistive load of less than 55 ohms, and
a. ima katero koli od naslednjih značilnosti:
b.
več kot 4 × 106„aktivnih pik“ na polprevodniško zaporedje v primeru monokromatskih (črno-belih) kamer;
'Pulse transition time' less than 500 ps.
4 × 106„aktivnih pik“ na polprevodniško zaporedje pri barvnih kamerah, ki vsebujejo tri polprevodniška zaporedja, ali
In 3A230, 'pulse transition time' is defined as the time interval between 10 % and 90 % voltage amplitude.
več kot 12 × 106„aktivnih pik“ na polprevodniško zaporedje pri barvnih kamerah, ki vsebujejo eno polprevodniško zaporedje, in
'Pulse heads' are impulse forming networks designed to accept a voltage step function and shape it into a variety of pulse forms that can include rectangular, triangular, step, impulse, exponential, or monocycle types.
optična ogledala iz točke 6A004(a);
'Pulse heads' can be an integral part of the pulse generator, they can be a plug-in module to the device or they can be an externally connected device.
opremo za optični nadzor iz točke 6A004(d) ali
Neutron generator systems, including tubes, having both of the following characteristics:
zmožnost za zapisovanje notranje ustvarjenih ‚podatkov o premikanju kamere‘;
a.
Za namen te točke se digitalne video kamere obravnavajo glede na maksimalno število „aktivnih pik“, uporabljenih za snemanje gibljive slike.
Designed for operation without an external vacuum system; and
Za namen te točke ‚podatki o premikanju kamere‘ pomenijo informacije, potrebne za določanje orientacije vidnega polja kamere glede na zemeljsko površje.
b.
To vključuje: 1) horizontalni kot, ki ga vidno polje kamere naredi glede na smer zemeljskega magnetnega polja, in 2) vertikalni kot med vidnim poljem kamere in zemeljskim obzorjem.
Utilizing any of the following:
kamere in sistemi kamer za skeniranje, ki imajo vse naslednje značilnosti:
Electrostatic acceleration to induce a tritium-deuterium nuclear reaction; or
a. maksimalno odzivnost pri valovnih dolžinah več kot 10 nm, vendar največ 30000 nm;
Electrostatic acceleration to induce a deuterium-deuterium nuclear reaction and capable of an output of 3 × 109 neutrons/s or greater.
b. linearni detektorski niz z več kot 8192 elementi na niz in
Multipoint initiation systems, other than those specified in 1A007, as follows:
c. mehansko skeniranje v eno smer;
See 1A007.b. for detonators.
predmet nadzora v točki 6A003(b)(2) niso kamere in sistemi kamer za skeniranje, posebej izdelani za kar koli od naslednjega:
b.
industrijske ali civilne fotokopirne stroje;
Arrangements using single or multiple detonators designed to nearly simultaneously initiate an explosive surface over an area greater than 5000 mm2 from a single firing signal with an initiation timing spread over the surface of less than 2,5 μs.
skenerje slik, posebej zasnovane za civilno stacionarno uporabo skeniranja z majhne razdalje (npr. reprodukcija slik ali tiska v dokumentih, umetnostnih del ali fotografij), ali
3A232 does not control detonators using only primary explosives, such as lead azide.
za medicinsko opremo.
Mass spectrometers, other than those specified in 0B002.g., capable of measuring ions of 230 u or greater and having a resolution of better than 2 parts in 230, as follows, and ion sources therefor:
slikovne kamere, ki vsebujejo elektronke za ojačanje slike, določene v točki 6A002(a)(2)(a) ali 6A002(a)(2)(b);
a.
‚slikovne kamere‘, ki vsebujejo „žariščnoravninske detektorske nize“, ki imajo karkoli od naslednjega:
Inductively coupled plasma mass spectrometers (ICP/MS);
a. „žariščnoravninske detektorske nize“, opredeljene v točkah od 6A002(a)(3)(a) do 6A002(a)(3)(e);
b.
b. „žariščnoravninske detektorske nize“, opredeljene v točki 6A002(a)(3)(f), ali
Glow discharge mass spectrometers (GDMS);
c. „žariščnoravninske detektorske nize“, opredeljene v točki 6A002(a)(3)(g);
c.
slikovne kamere iz točke 6A003(b)(4) vsebujejo „žariščnoravninske detektorske nize“, ki so za bralno elektroniko povezani z zadostno „signalno-procesno“ elektroniko, ki omogoča najmanj analogni ali digitalni signal na izhodu, ko dovedemo napajanje.
Thermal ionization mass spectrometers (TIMS);
predmet nadzora v točki 6A003(b)(4)(a) niso slikovne kamere, ki vsebujejo linearne „žariščnoravninske detektorske nize“ z 12 elementi ali manj, ki ne uporabljajo zakasnitve in integracije znotraj elementov in so izdelani za katerega koli izmed naslednjih namenov:
d.
za industrijsko opremo, ki se uporablja za spremljanje ali nadzor toplotnih tokov v zgradbah, opremi ali industrijskih procesih;
Electron bombardment mass spectrometers having both of the following features:
oprema, izdelana posebej za laboratorijsko rabo, ali
A molecular beam inlet system that injects a collimated beam of analyte molecules into a region of the ion source where the molecules are ionized by an electron beam; and
predmet nadzora v točki 6A003(b)(4)(b) niso slikovne kamere, ki imajo katero koli izmed naslednjih značilnosti:
One or more 'cold traps' that can be cooled to a temperature of 193 K (– 80 °C);
največji vzorčevalni čas slike enak ali manjši od 9 Hz;
e.
imajo minimalno horizontalno ali vertikalno ‚trenutno polje opazovanja (IFOV)‘ najmanj 10 miliradianov;
Not used;
imajo lečje za nespreminjajočo se fokusno dolžino, ki je zasnovano, da se ne more odstraniti;
f.
ne vključuje ‚neposrednega prikaza‘ in
Mass spectrometers equipped with a microfluorination ion source designed for actinides or actinide fluorides.
ne omogočajo možnosti za pridobitev slike detektiranega vidnega polja ali
Electron bombardment mass spectrometers in 3A233.d. are also known as electron impact mass spectrometers or electron ionization mass spectrometers.
kamera je zasnovana za posamične aplikacije in ni zasnovana za spremembe s strani uporabnika ali
In 3A233.d.2., a 'cold trap' is a device that traps gas molecules by condensing or freezing them on cold surfaces.
je kamera je namensko zasnovana za namestitev v civilno potniško vozilo in ima vse naslednje značilnosti:
For the purposes of 3A233.d.2., a closed-loop gaseous helium cryogenic vacuum pump is not a 'cold trap'.
namestitev in konfiguracija kamere v vozilo sta namenjeni samo pomoči vozniku pri varnem upravljanju vozila;
Striplines to provide low inductance path to detonators with the following characteristics:
deluje samo v primerih, ko je nameščena v karkoli od naslednjega:
a.
civilno potniško vozilo, za katero je bila namenjena in ki tehta manj kot 4500 kg (bruto masa vozila), ali
Voltage rating greater than 2 kV; and
v posebno zasnovano in avtorizirano testno okolje za vzdrževanje in
b Inductance of less than 20 nH.
vključuje aktivni mehanizem, ki preprečuje delovanje kamere v primerih odstranitve iz vozila, za katero je bila kamera namenjena.
Equipment for the manufacturing of semiconductor devices or materials, as follows and specially designed components and accessories therefor:
‚Horizontalni IFOV‘ = horizontalno vidno polje (FOV)/število detektorskih elementov v horizontalni smeri.
SEE ALSO 2B226
‚Vertikalni IFOV‘ = vertikalno vidno polje (FOV)/število detektorskih elementov v vertikalni smeri.
a.
predmet nadzora v točki 6A003(b)(4)(c) niso slikovne kamere, ki imajo katero koli od naslednjih značilnosti:
Equipment designed for epitaxial growth as follows:
kamera je posebej izdelana za vgradnjo kot sestavni del v omrežne sisteme ali opremo, predvideno za uporabo v stavbah, ki pa je zaradi svoje konstrukcije omejena na:
Equipment designed or modified to produce a layer of any material other than silicon with a thickness uniform to less than ± 2,5 % across a distance of 75 mm or more;
spremljanje industrijskih procesov, kontrolo kakovosti ali analizo lastnosti materialov;
3B001.a.1. includes Atomic Layer Epitaxy (ALE) equipment.
laboratorijsko opremo, izdelano posebej za znanstvene raziskave;
Metal Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) reactors designed for compound semiconductor epitaxial growth of material having two or more of the following elements: aluminium, gallium, indium, arsenic, phosphorus, antimony, or nitrogen;
opremo za odkrivanje finančnih goljufij in
Molecular beam epitaxial growth equipment using gas or solid sources;
v sisteme ali opremo, za katere je bila namenjena, ali
b.
napravo za vzdrževanje, posebej zasnovano in odobreno v ta namen, in
Equipment designed for ion implantation and having any of the following:
vključuje aktivni mehanizem, ki preprečuje delovanje kamere v primerih odstranitve iz sistema(-ov) ali opreme, za katere je bila kamera namenjena;
Being designed and optimized to operate at a beam energy of 20 keV or more and a beam current of 10 mA or more for hydrogen, deuterium or helium implant;
če je kamera namensko zasnovana za namestitev v civilno potniško vozilo ali trajekte za potnike ali vozila in ima vse naslednje značilnosti:
Direct write capability;
namestitev in konfiguracija kamere v vozilo ali trajekt sta namenjeni samo pomoči vozniku ali upravljavcu pri varnem upravljanju vozila ali trajekta;
A beam energy of 65 keV or more and a beam current of 45 mA or more for high energy oxygen implant into a heated semiconductor material "substrate"; or
civilno potniško vozilo, za katero je bila namenjena in ki tehta manj kot 4500 kg (bruto masa vozila);
Being designed and optimized to operate at a beam energy of 20 keV or more and a beam current of 10 mA or more for silicon implant into a semiconductor material "substrate" heated to 600 °C or greater;
trajekt za potnike ali vozila, za katerega je bila namenjena in s skupno dolžino 65 m ali več, ali
e.
v posebno zasnovano in avtorizirano testno okolje za vzdrževanje in
Automatic loading multi-chamber central wafer handling systems having all of the following:
vključuje aktivni mehanizem, ki preprečuje delovanje kamere v primerih odstranitve iz vozila, za katero je bila kamera namenjena;
Interfaces for wafer input and output, to which more than two functionally different 'semiconductor process tools' specified in 3B001.a.1., 3B001.a.2., 3B001.a.3 or 3B001.b. are designed to be connected; and
zaradi svoje konstrukcije so omejene na največjo „sevalno občutljivost“ 10 mA/W ali manj pri valovnih dolžinah več kot 760 nm, ki imajo vse naslednje značilnosti:
Designed to form an integrated system in a vacuum environment for 'sequential multiple wafer processing';
imajo napravo za omejevanje odzivnosti, zasnovano tako, da se ne more odstraniti ali prirediti;
3B001.e. does not control automatic robotic wafer handling systems specially designed for parallel wafer processing.
vključujejo aktivni mehanizem, ki preprečuje delovanje kamere v primerih odstranitve naprave za omejevanje odzivnosti, in
For the purpose of 3B001.e., 'semiconductor process tools' refers to modular tools that provide physical processes for semiconductor production that are functionally different, such as deposition, implant or thermal processing.
niso posebej zasnovane ali spremenjene za uporabo pod vodo ali
For the purpose of 3B001.e., 'sequential multiple wafer processing' means the capability to process each wafer in different 'semiconductor process tools', such as by transferring each wafer from one tool to a second tool and on to a third tool with the automatic loading multi-chamber central wafer handling systems.
d. ima vse naslednje značilnosti:
f.
ne vključuje ‚neposrednega prikaza‘ ali elektronskega prikaza slike;
Lithography equipment as follows:
nima naprave za pridobitev vidne slike odkritega polja opazovanja;
Align and expose step and repeat (direct step on wafer) or step and scan (scanner) equipment for wafer processing using photo-optical or X-ray methods and having any of the following:
„žariščnoravninski detektorski nizi“ so operabilni le, ko so vgrajeni v kamero, za katero so bili namenjeni, in
a.
„žariščnoravninski detektorski nizi“ vključujejo aktivni mehanizem, zaradi katerega so trajno neoperabilni, če se odstranijo iz kamere, za katero so bili namenjeni;
A light source wavelength shorter than 193 nm; or
slikovne kamere s polprevodniškimi detektorji iz točke 6A002(a)(1).
b.
Optična oprema in komponente:
Capable of producing a pattern with a 'Minimum Resolvable Feature size' (MRF) of 45 nm or less;
a. optična ogledala (reflektorji):
The 'Minimum Resolvable Feature size' (MRF) is calculated by the following formula:
Za namen točke 6A004(a) se prag lasersko povzročene škode meri v skladu s standardom ISO 21254-1:2011.
where the K factor = 0,35
glede optičnih ogledal, posebej izdelanih za litografsko opremo, glej točko 3B001.
Imprint lithography equipment capable of producing features of 45 nm or less;
‚deformabilna zrcala‘ z aktivno optično odprtino, večjo od 10 mm, in katero koli od naslednjih značilnosti, skupaj s posebej oblikovanimi sestavnimi deli:
Micro contact printing tools
mehanična resonančna frekvenca 750 Hz ali več in
Hot embossing tools
več kot 200 aktuatorjev ali
Step and flash imprint lithography (S-FIL) tools
več kot 1 kW/cm2 pri uporabi „CW laserja“ ali
Equipment specially designed for mask making having all of the following:
več kot 2 J/cm2 z uporabo 20 ns „laserskih“ impulzov pri koraku ponovitve 20 Hz;
a.
‚Deformabilna zrcala‘ so zrcala, ki imajo katero koli od naslednjih značilnosti:
A deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam; and
eno enovito optično odbojno ploskev, ki je dinamično deformirana z uporabo posamičnih vrtilnih momentov ali sil, za kompenzacijo popačenja optičnega vala, ki vpada na zrcalo, ali
A full-width half-maximum (FWHM) spot size smaller than 65 nm and an image placement less than 17 nm (mean + 3 sigma); or
več optičnih odbojnih elementov, ki jih lahko vrtilni momenti ali sile posamično in dinamično premeščajo po površini, in tako kompenzirajo popačenja optičnega vala, ki vpada na zrcalo.
A second-layer overlay error of less than 23 nm (mean + 3 sigma) on the mask;
„Deformabilna zrcala“ so znana tudi kot prilagodljiva optična zrcala.
Equipment designed for device processing using direct writing methods, having all of the following:
lahka monolitna zrcala s povprečno „ekvivalentno gostoto“ manj kot 30 kg/m2 in s skupno maso nad 10 kg;
a.
predmet nadzora v točki 6A004(a)(2) niso ogledala, posebej zasnovana za usmerjanje sončnega sevanja za prizemne heliostatske instalacije.
A deflected focused electron beam; and
lahke „kompozitne“ ali penaste zrcalne strukture s povprečno „ekvivalentno gostoto“ manj kot 30 kg/m2 in s skupno maso nad 2 kg;
A minimum beam size equal to or smaller than 15 nm; or
predmet nadzora v točki 6A004(a)(3) niso ogledala, posebej zasnovana za usmerjanje sončnega sevanja za prizemne heliostatske instalacije.
An overlay error less than 27 nm (mean + 3 sigma);
zrcala, posebej oblikovana za odre zrcal za usmerjanje žarkov, določena v točki 6A004(d)(2)(a), katerih ploskost je λ/10 ali boljša (λ je enako 633 nm), in s katero koli od naslednjih značilnosti:
g.
a. premer ali dolžina glavne osi je večja ali enaka 100 mm ali
Masks and reticles, designed for integrated circuits specified in 3A001;
b. ima vse naslednje značilnosti:
h.
premer ali dolžina glavne osi je večja kot 50 mm, vendar manjša kot 100 mm, in
Multi-layer masks with a phase shift layer not specified in 3B001.g. and having any of the following:
prag lasersko povzročene škode je kar koli od naslednjega:
Made on a mask "substrate blank" from glass specified as having less than 7 nm/cm birefringence; or
a. več kot 10 kW/cm2 pri uporabi „CW laserja“ ali
Designed to be used by lithography equipment having a light source wavelength less than 245 nm;
b. več kot 20 J/cm2 z uporabo 20 ns „laserskih“ impulzov pri koraku ponovitve 20 Hz;
3B001.h. does not control multi-layer masks with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not specified in 3A001.
b. optične komponente iz cinkovega selenida (ZnSe) ali cinkovega sulfida (ZnS) s prepustnostjo pri valovnih dolžinah več kot 3000 nm, vendar ne pri več kot 25000 nm, ki imajo katero koli od naslednjih značilnosti:
i.
njihova prostornina presega 100 cm3 ali
Imprint lithography templates designed for integrated circuits specified in 3A001.
njihov premer ali dolžina glavne osi presega 80 mm, debelina (globina) pa 20 mm;
j.
c. komponente za optične sisteme, „primerne za vesolje“:
Mask "substrate blanks" with multilayer reflector structure consisting of molybdenum and silicon, and having all of the following:
katerih teža je zmanjšana na manj kot 20 % „ekvivalentne gostote“ v primerjavi z masivnim izdelkom z enako odprtino in debelino;