natgillin/translations-raw huggingface dataset:
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
visoko temperaturna ležajna jekla
d.
dodatki kroma, tantala ali niobija (kolumbij)
Plasma spraying production equipment having any of the following:
utrjeni volframov karbid (16)
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
TABELA – TEHNIKE NANAŠANJA – OPOMBE
Incorporating in situ coating thickness control;
Izraz ‚postopek nanašanja‘ vključuje popravilo ali obnovo prevleke in prvotno nanašanje.
e.
Izraz ‚nanosi z aluminijevimi zlitinami‘ vključuje stopenjske nanose, pri katerih je element oziroma pri katerem so elementi naneseni pred ali med nanosom aluminija, tudi če so ti elementi naneseni z drugim postopkom nanašanja prevleke.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Vendar ne vključuje večkratnega stopenjskega postopka utrjevanja, posledica česar je aluminijeva zlitina.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
Izraz ‚njihove mešanice‘ vključuje nefiltrirane materiale, stopenjske zlitine, dodatne nanose in večstopenjske nanose in dobijo se z enim ali več postopki nanašanja prevleke, naštetih v tabeli.
g.
‚MCrAlX‘ se nanaša na nanose zlitin, pri kateri označuje črka M kobalt, železo, nikelj ali njihovo kombinacijo, črka X pa hafnij, itrij, silicij, tantal v kakršni koli količini ali druge namerne dodatke v količini več kot 0,01 mas. %, v različnih razmerjih in kombinacijah, razen:
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
a.
Coating thickness on the substrate and rate control; or
CoCrAlY – nanosi, ki vsebujejo manj kot 22 ut. % kroma, manj kot 7 ut. % aluminija in manj kot 2 ut. % itrija;
Optical characteristics.
b.
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
CoCrAlY – nanosi, ki vsebujejo manj od 22 do 24 ut. % kroma, 10 do 12 ut. % aluminija in 0,5 do 0,7 ut. % itrija, ali
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
c.
a.
NiCrAlY – nanosi, ki vsebujejo manj od 21 do 23 ut. % kroma, 10 do 12 ut. % aluminija in 0,9 do 1,1 ut.
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1 000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
% itrija.
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1 000 μm threshold.
6.
SEE ALSO 2B206.
Izraz ‚aluminijeve zlitine‘ se nanaša na zlitine s mejno natezno trdnostjo 190 MPa ali več, merjeno pri 293 K (20 °C).
b.
Izraz ‚nerjavna jekla‘ se nanaša na serijo 300 AISI (Ameriški inštitut za železo in jeklo) ali njene ekvivalente po nacionalnih standardih.
Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
‚Utrjene kovine in zlitine‘ vključujejo naslednje kovine in njihove zlitine: niobij (kolumbij), molbiden, volfram in tantal.
'Linear displacement' measuring instruments having any of the following:
‚Senzorski materiali‘: aluminijev oksid, silicij, germanij, cinkov sulfid, cinkov selenid, galijev arzenid, diamant, galijev fosfid, safir in naslednji kovinski halidi: senzorski materiali premera več kot 40 mm za cirkonijev fluorid in hafnijev fluorid.
Interferometer and optical-encoder displacement measuring systems containing a "laser" are only controlled in 2B006.b.1.c. and 2B206.c.
Kategorija 2 ne vključuje „tehnologije“ za stopenjsko utrjevanje trdnih objektov.
For the purpose of 2B006.b.1.
‚Polimeri‘: poliamidi, poliestri, polisulfidi, polikarbonati in poliuretani.
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
‚Modificirani cirkonij‘ se nanaša na dodatke drugih kovinskih oksidov cirkoniju (npr. kalcijevih, magnezijevih, itrijevih, hafnijevih, redki zemeljski oksidi), katerih namen je stabilizacija določenih kristalografskih faz in faznih zgradb.
a.
Prevleke s toplotno pregrado iz cirkonija, modificiranega s kalcijem ali magnezijem z mešanjem ali taljenjem, niso predmet nadzora.
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Izraz ‚titanove zlitine‘ se nanaša na zrakoplovne zlitine s mejno napetostno trdnostjo 900 MPa ali več, merjeno pri 293 K (20 °C).
b.
‚Steklo z majhno razteznostjo‘ se nanaša na stekla s koeficientom toplotnega raztezanja 1 × 10-7 K-1ali manj, merjeno pri 293 K (20 °C).
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
‚Dielektrični nanosi‘ so nanosi iz večslojnih izolacijskih materialov, v katerih služijo interferenčne lastnosti slojevitega nanosa, ki ga tvorijo materiali z različnimi lastnostmi refrakcije, odboju, oddaji ali absorpciji pasov različnih valovnih dolžin.
a.
Dielektrični nanosi se nanašajo na tiste z več kot štirimi dielektričnimi plastmi ali dielektričnimi/kovinskimi „kompozitnimi“ plastmi.
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
‚Utrjen volframov karbid‘ ne vključuje strojnega orodja za odrezavanje in obdelovanje na osnovi volframovega karbida/(kobalta, niklja), titanovega karbida/(kobalta, niklja), kromovega karbida/nikelj-kroma in kromovega karbida/niklja.
b.
Predmet nadzora ni „tehnologija“ za nanašanje diamantnega ogljika na katero koli od naslednjih podlag:
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5 mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
trdi diski in glave trdih diskov, oprema za izdelavo izdelkov za enkratno uporabo, ventili za pipe, membrane za zvočnike, deli avtomobilskih motorjev, obdelovalni stroji, orodje za kovanje in stiskanje, oprema za pisarniške avtomate, mikrofoni ali medicinska oprema ali kalupi za vlivanje ali taljenje plastike, ki so izdelani iz zlitin, ki vsebujejo manj kot 5 % berilija.
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ±1 K;
‚Silicijev karbid‘ ne vključuje materialov za orodje za rezanje in oblikovanje.
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
Keramični nanosi v smislu navedbe v tabeli ne zajemajo keramičnih materialov, v katerih je posamična ali skupna vsebnost gline ali veziv 5 mas. % ali več.
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm.
TABELA – TEHNIKE NANAŠANJA – TEHNIČNE OPOMBE
c.
Postopki, našteti v stolpcu 1 tabele, so opredeljeni na naslednji način:
Measuring systems having all of the following:
a. kemijski postopek nanašanja (CVD) je postopek nanašanja dodatnih nanosov ali modifikacije osnovnega materiala, kjer so osnova nanosov kovine, zlitine, „kompozita“, dielektričnega ali keramičnega materiala na razgreto podlago.
Containing a "laser";
Plinski reaktanti se razgradijo ali se med seboj kombinirajo v neposredni bližini podlage, kar ima za posledico odlaganje želenega elementarnega, zlitinskega ali sestavljenega materiala na podlago.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
Energijo za ta postopek razgradnje ali kemične reakcije lahko zagotavljajo toplota podlage, sevanje plazme ali „laserska“ sevanja;
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2 000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20 ± 0,01 °C; or
Opomba1.
d.
CVD vključuje naslednje postopke: nanašanje z direktnim plinskim curkom, nanašanje (elementarno nadzirane) s termično energijo, s plazmo vzbujene ali s plazmo gnane postopke nanašanja.
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Opomba2.
2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
zasipanje pomeni potopitev podlage v mešanico prahov.
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025o;
Opomba3:
2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
reaktanti v plinskem stanju, ki se uporabljajo v postopku brez zasipanja, nastajajo ob uporabi istih osnovnih reakcij in parametrov kot postopek cementacije z zasipanjem, le da podlaga, ki se prekriva, ni v stiku z mešanico prahov.
c.
b. fizično plinsko nanašanje s termičnim izgorevanjem (TE-PVD) je postopek nanašanja prevleke na površino, ki poteka v vakuumu pod tlakom manj kot 0,1 pa in pri katerem vir toplotne energije služi za izhlapevanje nanosnega materiala.
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
Posledica postopka je izhlapevanje ali nanašanje hlapljivih snovi na pravilno nameščene podlage.
2B006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
Dodajanje plinov v vakuumsko komoro med postopkom nanašanja za sintetiziranje sestavljenega nanosa je običajna modifikacija tega postopka.
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
Tudi uporaba ionskega ali elektronskega žarka ali plazme za aktiviranje ali prispevek k postopku nanašanja je običajna modifikacija tega postopka.
SEE ALSO 2B207.
Postopek lahko vključuje tudi monitorje za izvajanje meritev med potekom postopka.
a.
Posamezni postopki TE-PVD so:
Capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional 'scene analysis' to generate or modify "programs" or to generate or modify numerical program data;
Posamezni postopki TE-PVD so:
The 'scene analysis' limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
fizično plinsko nanašanje z uporabo elektronskega žarka, ki za segrevanje in izhlapevanje materiala, oblikujočega nanos, izkorišča elektronski žarek;
b.
fizično plinsko nanašanje z uporabo elektrouporniškega gretja, ki izkorišča vire elektrouporniškega gretja z zmožnostjo proizvajanja nadzorovanega in enakomernega toka nanosnega materiala;
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
„lasersko“ oslojevanje izkorišča bodisi impulzne „laserske“ žarke bodisi neprekinjene „laserske“ žarke za uparjevanje materiala, ki oblikuje nanos;
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
nanašanje s katodnim lokom izkorišča sprejemno katodo materiala, ki oblikuje nanos, in ob trenutnem stiku z ozemljeno vžigalno elektrodo pride na površini katode do praznjenja loka.
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
Anoda je lahko stožec ali konus, pritrjen na obrobju katode, z izolatorjem, ali pa komora.
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
Polarizacija podlage se uporablja za nanašanje zunaj vidne linije;
d.
ta opredelitev ne zajema nanašanja z naključnim katodnim lokom z nepolariziranimi podlagami.
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
ionsko nanašanje je posebna oblika splošnega postopka TE-PVD, v kateri se za ioniziranje nanosnega materiala izkorišča vir plazme ali vir ionov, in negativni polarizirani material se uporablja za podlage zaradi lažje ekstrakcije nanosnih materialov iz plazme.
Assemblies or units, specially designed for machine tools, or dimensional inspection or measuring systems and equipment, as follows:
Uporaba reaktivnih elementov, evaporizacije trdnih delcev v komori, v kateri poteka postopek, in uporaba monitorjev za meritve optičnih značilnosti in debeline prevlek med potekom postopka so običajne modifikacije postopka;
a.
c. utrjevanje je površinska modifikacija ali površinska plast, pri čemer je substrat potopljen v mešanico prahov, ki je sestavljena iz:
Linear position feedback units having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1 000)) nm (L equals the effective length in mm);
nanosnih kovinskih prahov (navadno aluminij, krom, silicij ali njihova kombinacija);
For "laser" systems see also 2B006.b.1.c., 2B006.b.1.d. and 2B206.c.
aktivatorja (navadno soli halidov) in
b.
inertnega prahu, najpogosteje aluminijev boksit
Rotary position feedback units having an "accuracy" less (better) than 0,00025o;
Substrat in mešanica prahov sta v retorti, ogreti na temperaturo med 1030 K (757 °C) in 1375 K (1102 °C), za čas, ki zadošča za nanos prevleke;
For "laser" systems see also Note to 2B006.b.2.
d. pršenje s plazmo je postopek nanašanja prevleke na površino, pri katerem razpršilka oblikuje in krmili plazmo, praškaste ali nitkaste nanosne materiale, jih tali in vrtinči proti podlagi, na kateri se oblikuje integralno povezan nanos.
2B008.a. and 2B008.b. control units, which are designed to determine the positioning information for feedback control, such as inductive type devices, graduated scales, infrared systems or "laser" systems.
Pršenje s plazmo je možno prek plazme z nizkim ali visokim tlakom pršenja;
c.
nizkotlačna plazma pomeni plazmo tlaka, nižjega od atmosferskega.
"Compound rotary tables" and "tilting spindles", capable of upgrading, according to the manufacturer's specifications, machine tools to or above the levels specified in 2B.
plazma velike hitrosti se nanaša na hitrosti plina iz dulca prek 750 m/s, računano pri 293 K (20 °C) in pri 0,1 MPa.
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control and having all of the following:
e. redko nanašanje je postopek nanašanja prevleke zaradi spreminjanja površine ali postopek nanašanja prevleke na površino, pri katerem se kovinski ali keramični prah z organskim vezivom suspendira v tekočino in se nato nanese na podlago bodisi z razprševanjem, kopeljo ali barvanjem, čemur sledi sušenje v pečici in toplotna obdelava, potrebna za to, da se želeni nanos obdrži;
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
f. nanašanje z brizganjem je nanašanje prevleke na površino, ki temelji na principu visokega podtlaka in prehoda delcev, kjer so pozitivni ioni pospešeni z elektronskim poljem v smeri substrata.
a.
Kinetična energija ionov, ki se zaletijo v substrat, je tako velika, da se atomi na površini nanosnega materiala sprostijo in nanesejo na primerno nameščeno podlago;
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
tabela se nanaša samo na triodno, magnetronsko ali reakcijsko nanašanje z brizganjem, ki se uporablja za zvišanje sprejemljivosti nanosa in nivoja, in na povečano nanašanje z brizganjem z uporabo radijskih frekvenc (RF), ki se uporablja za omogočanje uparjevanja nekovinskih nanosnih materialov.
b.
za sprožitev nanašanja se lahko uporabljajo nizkoenergijski ionski žarki (manj kot 5 keV).
A roller force more than 60 kN.
g. ionska implantacija je postopek nanašanja prevleke zaradi spreminjanja površine, pri katerem se element, predviden za zlitino, ionizira, pospešuje skozi potencialni padec in vsadi v površino podlage.
For the purpose of 2B009, machines combining the function of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
Ta postopek vključuje postopek, pri katerem potekata istočasno ionska implantacija in fizično plinska metoda nanašanja s pomočjo elektronskega žarka ali visokega podtlaka.
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
SKUPINA 3 – ELEKTRONIKA
SEE ALSO 2B204.
nadzorni status opreme in komponent, opisanih v točkah 3A001 ali 3A002, razen tistih iz točk od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(10) ali iz točke 3A001(a)(12) ali 3A001(a)(14), ki so posebej izdelane za drugo opremo in imajo iste funkcionalne značilnosti kot druga oprema, je določen z nadzornim statusom druge opreme.
a.
nadzorni status integriranih vezij iz točk od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(9) ali iz točke 3A001(a)(12) ali 3A001(a)(14), ki so nespremenljivo programirana ali izdelana za specifično funkcijo za drugo opremo, je določen z nadzornim statusom druge opreme.
Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
če proizvajalec ali uporabnik ne more določiti nadzornega statusa druge opreme, je nadzorni status integriranih vezij določen v točkah od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(9) in v točkah 3A001(a)(12) in 3A001(a)(14).
b.
Elektronske naprave, kot sledijo:
Designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
a. integrirana vezja za splošno rabo:
c.
nadzorni status rezin (obdelanih ali neobdelanih) z določeno funkcijo se določa v skladu s parametri iz točke 3A001(a).
Possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
integrirana vezja vključujejo naslednje tipe:
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.
„monolitna integrirana vezja“;
Flow-forming machines, other than those specified in 2B009, and specially designed components as follows:
„hibridna integrirana vezja“;
SEE ALSO 2B209.
„veččipna integrirana vezja“;
a.
„integrirana vezja na filmu“, vključno z integriranimi vezji tipa silicij na safirju;
Flow-forming machines having all of the following:
„optična integrirana vezja“;
According to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control, even when not equipped with such units; and
„tridimenzionalna tiskana vezja“;
With more than two axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control".
„monolitna mikrovalovna integrirana vezja“ („MMIC“).
Specially designed components for flow-forming machines specified in 2B009 or 2B109.a.
a. skupno dozo 5 x 103 Gy (silicij) ali več;
2B109 does not control machines that are not usable in the production of propulsion components and equipment (e.g. motor cases and interstages) for systems specified in 9A005, 9A007.a. or 9A105.a.
b. določeno stalno dozo 5 x 106 Gy (silicij)/s ali več ali
Machines combining the function of spin-forming and flow-forming are for the purpose of 2B109 regarded as flow-forming machines.
c. fluenco (integrirani tok) nevtronov (ekvivalent 1 MeV) 5 x 1013 n/cm2 ali več za siliciju ali njegove ekvivalentne vrednosti za druge materiale;
Vibration test systems, equipment and components therefor, as follows:
predmet nadzora v točki 3A001(a)(1)(c) niso strukture kovina-izolator-polprevodnik (MIS).
a.
„mikroprocesorska mikrovezja“, „mikroračunalniška mikrovezja“, mikrokrmilniška mikrovezja, pomnilniška integrirana vezja, izdelana iz sestavljenih polprevodnikov, analogno-digitalni pretvorniki, integrirana vezja, ki vsebujejo analogno-digitalne pretvornike in shranjujejo ali obdelujejo digitalizirane podatke, digitalno-analogni pretvorniki, elektro-optična ali „optična integrirana vezja“, izdelana za „obdelavo signalov“, logična vezja s programirljivim poljem, naročniška integrirana vezja, katerih funkcija je neznana ali je neznan nadzorni status opreme, v kateri bodo ta vezja uporabljena, procesorji s hitro Fourierevo transformacijo (FFT), električni izbrisljivi in programirljivi bralni pomnilniki (EPROM), bliskovni spomini, statični vpisovalno/bralni pomnilniki (SRAM) ali magnetni vpisovalno/bralni pomnilniki (MRAM), ki imajo katero koli od naslednjih značilnosti:
Vibration test systems employing feedback or closed loop techniques and incorporating a digital controller, capable of vibrating a system at an acceleration equal to or greater than 10 g rms between 20 Hz and 2 kHz while imparting forces equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table';
a. so naznačeni za delovanje pri temperaturi okolja nad 398 K (125 °C);
b.
b. so naznačeni za delovanje pri temperaturi okolja pod 218 K (–55 °C) ali
Digital controllers, combined with specially designed vibration test software, with a 'real-time control bandwidth' greater than 5 kHz designed for use with vibration test systems specified in 2B116.a.;
c. so naznačeni za delovanje na celotnem temperaturnem območju okolja od 218 K (–55 °C) do 398 K (125 °C);
In 2B116.b., 'real-time control bandwidth' means the maximum rate at which a controller can execute complete cycles of sampling, processing data and transmitting control signals.
predmet nadzora v točki 3A001(a)(2) niso integrirana vezja za civilne avtomobile ali železniške aplikacije.
c.
„mikroprocesorska mikrovezja“, „mikroračunalniška mikrovezja“ in mikrokrmilniška mikrovezja, izdelana iz sestavljenega polprevodnika in delujejo na urni frekvenci, večji od 40 MHz;
Vibration thrusters (shaker units), with or without associated amplifiers, capable of imparting a force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration test systems specified in 2B116.a.;
točka 3A001(a)(3) vključuje procesorje digitalnih signalov, procesorje digitalnih nizov in digitalne koprocesorje;
d.
integrirana vezja analogno-digitalnih pretvornikov (AD-pretvorniki) in digitalno-analognih pretvornikov (DA-pretvorniki):
In 2B116, 'bare table' means a flat table, or surface, with no fixture or fittings.
AD-pretvorniki, ki imajo katero koli od naslednjih značilnosti:
Equipment and process controls, other than those specified in 2B004, 2B005.a., 2B104 or 2B105, designed or modified for densification and pyrolysis of structural composite rocket nozzles and reentry vehicle nose tips.
GLEJ TUDI TOČKO 3A101.
Balancing machines and related equipment, as follows:
razločljivost 8 bitov ali več, vendar manj kot 10 bitov, z izhodno hitrostjo več kot 1,3 giga vzorcev na sekundo (GSPS);
SEE ALSO 2B219.
razločljivost 10 bitov ali več, vendar manj kot 12 bitov, z izhodno hitrostjo več kot 600 mega vzorcev na sekundo (MSPS);
a.
razločljivost 12 bitov ali več, vendar manj kot 14 bitov, z izhodno hitrostjo več kot 400 mega vzorcev na sekundo (MSPS);
Balancing machines having all the following characteristics:
razločljivost 14 bitov ali več, vendar manj kot 16 bitov, z izhodno hitrostjo več kot 250 mega vzorcev na sekundo (MSPS) ali
Not capable of balancing rotors/assemblies having a mass greater than 3 kg;
razločljivost 16 bitov ali več z izhodno hitrostjo več kot 65 mega vzorcev na sekundo (MSPS);
Capable of balancing rotors/assemblies at speeds greater than 12500 rpm;
za integrirana vezja, ki vsebujejo analogno-digitalne pretvornike in shranjujejo ali obdelujejo digitalizirane podatke, glej točko 3A001(a)(14).
Capable of correcting unbalance in two planes or more; and
Razločljivost n bitov ustreza kvantizaciji 2n stopenj.
Capable of balancing to a residual specific unbalance of 0,2 g mm per kg of rotor mass;
Število bitov izhodne besede je enako razločljivosti AD-pretvornikov.