natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Incorporating in situ coating thickness control;
Izraz 'nanosi z aluminijevimi zlitinami' vključuje stopenjske nanose, pri katerih je element oziroma pri katerem so elementi naneseni pred ali med nanosom aluminija, tudi če so ti elementi naneseni z drugim postopkom nanašanja prevleke.
e.
Vendar ne vključuje večkratnega stopenjskega postopka utrjevanja, posledica česar je aluminijeva zlitina.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Izraz 'za nanos modificiranega aluminija z žlahtnimi kovinami' vključuje večstopenjske nanose, pri katerih se plemenita kovina ali plemenite kovine nanašajo z drugimi postopki nanosa kot predhodno.
f.
Izraz 'njihove mešanice' vključuje nefiltrirane materiale, stopenjske zlitine, dodatne nanose in večstopenjske nanose in dobijo se z enim ali več postopki nanašanja prevleke, naštetih v tabeli.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
'MCrAlX' se nanaša na nanose zlitin, pri kateri označuje črka M kobalt, železo, nikelj ali njihovo kombinacijo, črka X pa hafnij, itrij, silicij, tantal v kakršni koli količini ali druge namerne dodatke v količini več kot 0,01 mas. %, v različnih razmerjih in kombinacijah, razen:
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
CoCrAlY – nanosi, ki vsebujejo manj kot 22 ut. % kroma, manj kot 7 ut. % aluminija in manj kot 2 ut. % itrija;
Coating thickness on the substrate and rate control; or
b.
Optical characteristics.
CoCrAlY – nanosi, ki vsebujejo manj od 22 do 24 ut. % kroma, 10 do 12 ut. % aluminija in 0,5 do 0,7 ut. % itrija, ali
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
c.
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
NiCrAlY – nanosi, ki vsebujejo manj od 21 do 23 ut. % kroma, 10 do 12 ut. % aluminija in 0,9 do 1,1 ut. % itrija.
a.
Izraz 'aluminijeve zlitine' se nanaša na zlitine s mejno natezno trdnostjo 190 MPa ali več, merjeno pri 293 K (20 °C).
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
Izraz 'nerjavna jekla' se nanaša na serijo 300 AISI (Ameriški inštitut za železo in jeklo) ali njene ekvivalente po nacionalnih standardih.
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1000 μm threshold.
'Utrjene kovine in zlitine' vključujejo naslednje kovine in njihove zlitine: niobij (kolumbij), molbiden, volfram in tantal.
SEE ALSO 2B206.
'Senzorski materiali': aluminijev oksid, silicij, germanij, cinkov sulfid, cinkov selenid, galijev arzenid, diamant, galijev fosfid, safir in naslednji kovinski halidi: senzorski materiali premera več kot 40 mm za cirkonijev fluorid in hafnijev fluorid.
b.
"Tehnologija" za stopenjsko utrjevanje trdnih objektov ni navedena v skupini 2.
Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
'Polimeri': poliamidi, poliestri, polisulfidi, polikarbonati in poliuretani.
'Linear displacement' measuring instruments having any of the following:
'Modificirani cirkonij' se nanaša na dodatke drugih kovinskih oksidov cirkoniju (npr. kalcijevih, magnezijevih, itrijevih, hafnijevih, redki zemeljski oksidi), katerih namen je stabilizacija določenih kristalografskih faz in faznih zgradb.
Interferometer and optical-encoder displacement measuring systems containing a "laser" are only controlled in 2B006.b.1.c. and 2B206.c.
Prevleke s toplotno pregrado iz cirkonija, modificiranega s kalcijem ali magnezijem z mešanjem ali taljenjem, niso predmet nadzora.
For the purpose of 2B006.b.1.
Izraz 'titanove zlitine' se nanaša na zrakoplovne zlitine s mejno napetostno trdnostjo 900 MPa ali več, merjeno pri 293 K (20 °C).
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
'Steklo z majhno razteznostjo' se nanaša na stekla s koeficientom toplotnega raztezanja 1 × 10-7 K-1 ali manj, merjeno pri 293 K (20 °C).
a.
'Dielektrični nanosi' so nanosi iz večslojnih izolacijskih materialov, v katerih služijo interferenčne lastnosti slojevitega nanosa, ki ga tvorijo materiali z različnimi lastnostmi refrakcije, odboju, oddaji ali absorpciji pasov različnih valovnih dolžin.
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Dielektrični nanosi se nanašajo na tiste z več kot štirimi dielektričnimi plastmi ali dielektričnimi/kovinskimi "kompozitnimi" plastmi.
b.
'Utrjen volframov karbid' ne vključuje strojnega orodja za odrezavanje in obdelovanje na osnovi volframovega karbida/(kobalta, niklja), titanovega karbida/(kobalta, niklja), kromovega karbida/nikelj-kroma in kromovega karbida/niklja.
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
Predmet nadzora ni "tehnologija", posebej zasnovana za nanašanje diamantnega ogljika na katero koli od naslednjih podlag:
a.
trdi diski in glave trdih diskov, oprema za izdelavo izdelkov za enkratno uporabo, ventili za pipe, membrane za zvočnike, deli avtomobilskih motorjev, obdelovalni stroji, orodje za kovanje in stiskanje, oprema za pisarniške avtomate, mikrofoni ali medicinska oprema ali kalupi za vlivanje ali taljenje plastike, ki so izdelani iz zlitin, ki vsebujejo manj kot 5 % berilija.
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
'Silicijev karbid' ne vključuje materialov za orodje za rezanje in oblikovanje.
b.
Keramični nanosi v smislu navedbe v tabeli ne zajemajo keramičnih materialov, v katerih je posamična ali skupna vsebnost gline ali veziv 5 mas. % ali več.
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5 mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
TABELA – TEHNIKE NANAŠANJA – TEHNIČNE OPOMBE
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ± 1 K;
Postopki, našteti v stolpcu 1 tabele, so opredeljeni na naslednji način:
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
a. kemijski postopek nanašanja (CVD) je postopek nanašanja dodatnih nanosov ali modifikacije osnovnega materiala, kjer so osnova nanosov kovine, zlitine, "kompozita", dielektričnega ali keramičnega materiala na razgreto podlago.
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm.
Plinski reaktanti se razgradijo ali se med seboj kombinirajo v neposredni bližini podlage, kar ima za posledico odlaganje želenega elementarnega, zlitinskega ali sestavljenega materiala na podlago.
c.
Energijo za ta postopek razgradnje ali kemične reakcije lahko zagotavljajo toplota podlage, sevanje plazme ali "laserska" sevanja.
Measuring systems having all of the following:
CVD vključuje naslednje postopke: nanašanje z direktnim plinskim curkom, nanašanje (elementarno nadzirane) s termično energijo, s plazmo vzbujene ali s plazmo gnane postopke nanašanja.
Containing a "laser";
zasipanje pomeni potopitev podlage v mešanico prahov.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
reaktanti v plinskem stanju, ki se uporabljajo v postopku brez zasipanja, nastajajo ob uporabi istih osnovnih reakcij in parametrov kot postopek cementacije z zasipanjem, le da podlaga, ki se prekriva, ni v stiku z mešanico prahov.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20 ± 0,01 °C; or
b. fizično plinsko nanašanje s termičnim izgorevanjem (TE-PVD) je postopek nanašanja prevleke na površino, ki poteka v vakuumu pod tlakom manj kot 0,1 pa in pri katerem vir toplotne energije služi za izhlapevanje nanosnega materiala.
d.
Posledica postopka je izhlapevanje ali nanašanje hlapljivih snovi na pravilno nameščene podlage.
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Dodajanje plinov v vakuumsko komoro med postopkom nanašanja za sintetiziranje sestavljenega nanosa je običajna modifikacija tega postopka.
2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
Tudi uporaba ionskega ali elektronskega žarka ali plazme za aktiviranje ali prispevek k postopku nanašanja je običajna modifikacija tega postopka.
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025°;
Postopek lahko vključuje tudi monitorje za izvajanje meritev med potekom postopka.
2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
Posamezni postopki TE-PVD so:
c.
Posamezni postopki TE-PVD so:
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
fizično plinsko nanašanje z z uporabo elektronskega žarka, ki za segrevanje in izhlapevanje materiala, oblikujočega nanos, izkorišča elektronski žarek;
2B006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
fizično plinsko nanašanje z uporabo elektrouporniškega gretja, ki izkorišča vire elektrouporniškega gretja z zmožnostjo proizvajanja nadzorovanega in enakomernega toka nanosnega materiala;
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
"lasersko" oslojevanje izkorišča bodisi impulzne "laserske" žarke bodisi neprekinjene "laserske" žarke za uparjevanje materiala, ki oblikuje nanos;
SEE ALSO 2B207.
nanašanje s katodnim lokom izkorišča sprejemno katodo materiala, ki oblikuje nanos, in ob trenutnem stiku z ozemljeno vžigalno elektrodo pride na površini katode do praznjenja loka.
a.
Nadzorovano gibanje loka razjeda površino katode in ustvarja visokoionizirano plazmo.
Capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional 'scene analysis' to generate or modify "programmes" or to generate or modify numerical programme data;
Anoda je lahko stožec ali konus, pritrjen na obrobju katode, z izolatorjem, ali pa komora.
The 'scene analysis' limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
Polarizacija podlage se uporablja za nanašanje zunaj vidne linije.
b.
Ta opredelitev ne zajema nanašanja z naključnim katodnim lokom z nepolariziranimi podlagami.
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
ionsko nanašanje je posebna oblika splošnega postopka TE-PVD, v kateri se za ioniziranje nanosnega materiala izkorišča vir plazme ali vir ionov, in negativni polarizirani material se uporablja za podlage zaradi lažje ekstrakcije nanosnih materialov iz plazme.
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
Uporaba reaktivnih elementov, evaporizacije trdnih delcev v komori, v kateri poteka postopek, in uporaba monitorjev za meritve optičnih značilnosti in debeline prevlek med potekom postopka so običajne modifikacije postopka;
c.
c. utrjevanje je površinska modifikacija ali površinska plast, pri čemer je substrat potopljen v mešanico prahov, ki je sestavljena iz:
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
nanosnih kovinskih prahov (navadno aluminij, krom, silicij ali njihova kombinacija);
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
aktivatorja (navadno soli halidov) in
d.
inertnega prahu, najpogosteje aluminijev boksit.
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
Substrat in mešanica prahov sta v retorti, ogreti na temperaturo med 1030 K (757 °C) in 1375 K (1102 °C), za čas, ki zadošča za nanos prevleke;
Assemblies or units, specially designed for machine tools, or dimensional inspection or measuring systems and equipment, as follows:
d. pršenje s plazmo je postopek nanašanja prevleke na površino, pri katerem razpršilka oblikuje in krmili plazmo, praškaste ali nitkaste nanosne materiale, jih tali in vrtinči proti podlagi, na kateri se oblikuje integralno povezan nanos.
a.
Pršenje s plazmo je možno prek plazme z nizkim ali visokim tlakom pršenja.
Linear position feedback units having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1000)) nm (L equals the effective length in mm);
nizkotlačna plazma pomeni plazmo tlaka, nižjega od atmosferskega.
For "laser" systems see also 2B006.b.1.c., 2B006.b.1.d. and 2B206.c.
plazma velike hitrosti se nanaša na hitrosti plina iz dulca prek 750 m/s, računano pri 293 K (20 °C) in pri 0,1 MPa.
b.
e. redko nanašanje je postopek nanašanja prevleke zaradi spreminjanja površine ali postopek nanašanja prevleke na površino, pri katerem se kovinski ali keramični prah z organskim vezivom suspendira v tekočino in se nato nanese na podlago bodisi z razprševanjem, kopeljo ali barvanjem, čemur sledi sušenje v pečici in toplotna obdelava, potrebna za to, da se želeni nanos obdrži;
Rotary position feedback units having an "accuracy" less (better) than 0,00025°;
f. nanašanje z brizganjem je nanašanje prevleke na površino, ki temelji na principu visokega podtlaka in prehoda delcev, kjer so pozitivni ioni pospešeni z elektronskim poljem v smeri substrata.
For "laser" systems see also Note to 2B006.b.2.
Kinetična energija ionov, ki se zaletijo v substrat, je tako velika, da se atomi na površini nanosnega materiala sprostijo in nanesejo na primerno nameščeno podlago.
2B008.a. and 2B008.b. control units, which are designed to determine the positioning information for feedback control, such as inductive type devices, graduated scales, infrared systems or "laser" systems.
tabela se nanaša samo na triodno, magnetronsko ali reakcijsko nanašanje z brizganjem, ki se uporablja za zvišanje sprejemljivosti nanosa in nivoja, in na povečano nanašanje z brizganjem z uporabo radijskih frekvenc (RF), ki se uporablja za omogočanje uparjevanja nekovinskih nanosnih materialov.
c.
za sprožitev nanašanja se lahko uporabljajo nizkoenergijski ionski žarki (manj kot 5 keV).
"Compound rotary tables" and "tilting spindles", capable of upgrading, according to the manufacturer's specifications, machine tools to or above the levels specified in 2B.
g. ionska implantacija je postopek nanašanja prevleke zaradi spreminjanja površine, pri katerem se element, predviden za zlitino, ionizira, pospešuje skozi potencialni padec in vsadi v površino podlage.
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control and having all of the following:
Ta postopek vključuje postopek, pri katerem potekata istočasno ionska implantacija in fizično plinska metoda nanašanja s pomočjo elektronskega žarka ali visokega podtlaka.
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
SKUPINA 3 – ELEKTRONIKA
a.
nadzorni status opreme in komponent, opisanih v točkah 3A001 ali 3A002, razen tistih iz točk od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(10) ali iz točke 3A001(a)(12) ali 3A001(a)(13), ki so posebej izdelane za drugo opremo in imajo iste funkcionalne značilnosti kot druga oprema, je določen z nadzornim statusom druge opreme.
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
nadzorni status integriranih vezij iz točk od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(9) ali iz točke 3A001(a)(12) ali 3A001(a)(13), ki so nespremenljivo programirana ali izdelana za specifično funkcijo za drugo opremo, je določen z nadzornim statusom druge opreme.
b.
če proizvajalec ali uporabnik ne more določiti nadzornega statusa druge opreme, je nadzorni status integriranih vezij določen v točkah od 3A001(a)(3) do 3A001(a)(9) in v točkah 3A001(a)(12) in 3A001(a)(13).
A roller force more than 60 kN.
Elektronske naprave, kot sledijo:
For the purpose of 2B009, machines combining the function of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
a. integrirana vezja za splošno rabo:
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
nadzorni status rezin (obdelanih ali neobdelanih) z določeno funkcijo se določa v skladu s parametri iz točke 3A001(a).
SEE ALSO 2B204.
integrirana vezja vključujejo naslednje tipe:
a.
"monolitna integrirana vezja";
Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
"hibridna integrirana vezja";
b.
"veččipna integrirana vezja";
Designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
"integrirana vezja na filmu", vključno z integriranimi vezji tipa silicij na safirju;
c.
"optična integrirana vezja";
Possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
"tridimenzionalna tiskana vezja".
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.
integrirana vezja, izdelana ali označena kot odporna proti sevanju, ki lahko prenesejo:
Flow-forming machines, other than those specified in 2B009, and specially designed components as follows:
a. skupno dozo 5 × 103 Gy (silicij) ali več;
SEE ALSO 2B209.
b. določeno stalno dozo 5 × 106 Gy (silicij)/s ali več ali
a.
c. fluenco (integrirani tok) nevtronov (ekvivalent 1 MeV) 5 × 1013 n/cm2 ali več za siliciju ali njegove ekvivalentne vrednosti za druge materiale;
Flow-forming machines having all of the following:
predmet nadzora v točki 3A001(a)(1)(c) niso strukture kovina-izolator-polprevodnik (MIS).
According to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control, even when not equipped with such units; and
"mikroprocesorska mikrovezja", "mikroračunalniška mikrovezja", mikrokrmilniška mikrovezja, pomnilniška integrirana vezja, izdelana iz sestavljenih polprevodnikov, analogno-digitalni pretvorniki, digitalno-analogni pretvorniki, elektro-optična ali "optična integrirana vezja", izdelana za "obdelavo signalov", logična vezja s programirljivim poljem, naročniška integrirana vezja, katerih funkcija je neznana ali je neznan nadzorni status opreme, v kateri bodo ta vezja uporabljena, procesorji s hitro Fourierevo transformacijo (FFT), električni izbrisljivi in programirljivi bralni pomnilniki (EPROM), bliskovni spomini ali statični vpisovalno/bralni pomnilniki (SRAM), ki imajo katero koli od naslednjih značilnosti:
With more than two axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control".
a. so naznačeni za delovanje pri temperaturi okolja nad 398 K (125 °C);
b.
b. so naznačeni za delovanje pri temperaturi okolja pod 218 K (– 55 °C) ali
Specially designed components for flow-forming machines specified in 2B009 or 2B109.a.
c. so naznačeni za delovanje na celotnem temperaturnem območju okolja od 218 K (- 55 °C) do 398 K (125 °C);
2B109 does not control machines that are not usable in the production of propulsion components and equipment (e.g. motor cases) for systems specified in 9A005, 9A007.a. or 9A105.a.
predmet nadzora v točki 3A001(a)(2) niso integrirana vezja za civilne avtomobile ali železniške aplikacije.
Machines combining the function of spin-forming and flow-forming are for the purpose of 2B109 regarded as flow-forming machines.
"mikroprocesorska mikrovezja", "mikroračunalniška mikrovezja" in mikrokrmilniška mikrovezja, izdelana iz sestavljenega polprevodnika in delujejo na urni frekvenci, večji od 40 MHz;
Vibration test systems, equipment and components therefor, as follows:
točka 3A001(a)(3) vključuje procesorje digitalnih signalov, procesorje digitalnih nizov in digitalne koprocesorje;
a.
integrirana vezja analogno-digitalnih pretvornikov (AD-pretvorniki) in digitalno-analognih pretvornikov (DA-pretvorniki):
Vibration test systems employing feedback or closed loop techniques and incorporating a digital controller, capable of vibrating a system at an acceleration equal to or greater than 10 g rms between 20 Hz and 2 kHz while imparting forces equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table';
a.
b.
AD-pretvorniki, ki imajo katero koli od naslednjih značilnosti:
Digital controllers, combined with specially designed vibration test software, with a 'real-time control bandwidth' greater than 5 kHz designed for use with vibration test systems specified in 2B116.a.;
GLEJ TUDI TOČKO 3A101.
In 2B116.b., 'real-time control bandwidth' means the maximum rate at which a controller can execute complete cycles of sampling, processing data and transmitting control signals.
razločljivost 8 bitov ali več, vendar manj kot 10 bitov, z izhodno hitrostjo več kot 1000 milijonov besed na sekundo;
c.
razločljivost 10 bitov ali več, vendar manj kot 12 bitov, z izhodno hitrostjo več kot 500 milijonov besed na sekundo;
Vibration thrusters (shaker units), with or without associated amplifiers, capable of imparting a force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration test systems specified in 2B116.a.;
razločljivost 12 bitov ali več, vendar manj kot 14 bitov, z izhodno hitrostjo več kot 200 milijonov besed na sekundo;
d.
razločljivost 14 bitov ali več, vendar manj kot 16 bitov, z izhodno hitrostjo več kot 250 milijonov besed na sekundo ali
Test piece support structures and electronic units designed to combine multiple shaker units in a system capable of providing an effective combined force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration systems specified in 2B116.a.
razločljivost 16 bitov ali več z izhodno hitrostjo več kot 65 milijonov besed na sekundo;
In 2B116, 'bare table' means a flat table, or surface, with no fixture or fittings.
razločljivost n bitov ustreza kvantizaciji 2n stopenj;
Equipment and process controls, other than those specified in 2B004, 2B005.a., 2B104 or 2B105, designed or modified for densification and pyrolysis of structural composite rocket nozzles and reentry vehicle nose tips.
število bitov izhodne besede je enako razločljivosti AD-pretvornikov;
Balancing machines and related equipment, as follows:
izhodna hitrost pomeni najvišjo izhodno hitrost pretvornika ne glede na obliko ali nadvzorčenje;
SEE ALSO 2B219.
pri 'večkanalnih AD-pretvornikih' se izhodne hitrosti ne seštevajo, ampak je izhodna hitrost enaka najvišji izhodni hitrosti katerega koli posameznega kanala;
a.
pri 'AD-pretvornikih s porazdeljenim sistemom' ali pri 'večkanalnih AD-pretvornikih', pri katerih je mogoče porazdeljeno delovanje, se izhodne hitrosti seštevajo in izhodna hitrost je enaka najvišji kombinirani skupni izhodni hitrosti vseh izhodnih hitrosti.
Balancing machines having all the following characteristics:
Trgovci lahko kot izhodno hitrost uporabijo tudi frekvenco vzorčenja, hitrost pretvorbe ali hitrost propustnosti.
Not capable of balancing rotors/assemblies having a mass greater than 3 kg;
Velikokrat je ta določena v megahercih (MHz) ali mega vzorcih na sekundo (MSPS).