natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
„programska oprema“, posebej izdelana za povečanje ali sprostitev zmogljivosti frekvenčnega pretvornika ali generatorja, da bi imel značilnosti iz točke 3A225, je opredeljena v točki 3D225.
a.
„tehnologija“ v obliki kod ali ključev za povečanje ali sprostitev zmogljivosti frekvenčnega pretvornika ali generatorja, da bi imel značilnosti iz točke 3A225, je opredeljena v točki 3E225.
"Superplastic forming";
a. večfazni izhod, ki zagotavlja moč 40 VA ali več;
b.
b. delovanje pri frekvenci 600 Hz ali več in
"Diffusion bonding"; or
c. regulacijo frekvence, ki je boljša (manjša) od 0,2 %.
c.
predmet nadzora v točki 3A225 niso frekvenčni pretvorniki ali generatorji, če imajo zaradi omejene strojne opreme, „programske opreme“ ali „tehnologije“ manjšo zmogljivost od navedene in izpolnjujejo katerega koli od naslednjih pogojev:
"Direct-acting hydraulic pressing";
vrniti jih je treba prvotnemu proizvajalcu za izboljšanje ali odpravo omejitev;
Technical data consisting of process methods or parameters as listed below used to control:
potrebujejo „programsko opremo“ iz točke 3D225 za izboljšanje ali sprostitev zmogljivosti, da bi imeli značilnosti iz točke 3A225, ali
a.
potrebujejo „tehnologijo“ v obliki ključev ali kod, kot je določeno v točki 3E225, za izboljšanje ali sprostitev zmogljivosti, da bi imeli značilnosti iz točke 3A225.
"Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
Frekvenčni pretvorniki iz točke 3A225 so znani tudi pod imenom konverterji ali inverterji
Surface preparation;
Frekvenčni pretvorniki iz točke 3A225 se lahko tržijo kot generatorji, elektronska oprema za testiranje, napajalne enote AC, motorni pogoni s spremenljivo hitrostjo, pogoni s spremenljivo hitrostjo (VSD), pogoni s spremenljivo frekvenco (VFD), pogoni s prilagodljivo frekvenco (AFD) ali pogoni s prilagodljivo hitrostjo (ASD).
Strain rate;
Močnostni enosmerni napajalniki, razen tistih, ki so določeni v točki 0B001(j)(6), in ki imajo obe naslednji značilnosti:
Temperature;
a. sposobnost neprekinjenega proizvajanja toka jakosti 500 A ali več, v časovnem obdobju osmih ur, z napetostjo 100 V ali več in
Pressure;
b. v časovnem obdobju osmih ur tokovno ali napetostno stabilnost boljšo od 0,1 %.
"Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
a. sposobnost neprekinjenega proizvajanja toka jakosti 1 A ali več, v časovnem obdobju osmih ur, z napetostjo 20 kV ali več in
c.
Stikalne naprave:
"Direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
a. elektronke s hladno katodo, polnjene s plinom ali brez, ki delujejo podobno kot iskrilo in imajo vse naslednje značilnosti:
Cycle time;
vsebujejo tri elektrode ali več;
d.
naznačeno anodno temensko napetost, ki je enaka ali večja od 2,5 kV;
"Hot isostatic densification" of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
naznačeni anodni temenski tok, ki je enak ali večji od 100 A, in
c.
zakasnitveni čas na anodi, ki je enak ali krajši od 10 μs.
"Technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
točka 3A228 vključuje plinske kritronske in vakuumske spritronske elektronke.
d.
b. prožilno vezana iskrila, ki imajo obe naslednji značilnosti:
"Technology" for the "development" of generators of machine tool instructions (e.g., part programs) from design data residing inside "numerical control" units;
zakasnitveni čas na anodi, ki je enak ali krajši od 15 μs, in
e.
maksimalno vrednost anodnega toka, ki je enaka ali večja od 500 A.
"Technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
c. moduli ali sestavi s funkcijo hitrega preklapljanja, razen tiste iz točke 3A001(g) ali 3A001(h), ki imajo vse naslednje značilnosti:
f.
naznačeno anodno temensko napetost, ki je večja od 2 kV;
"Technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
naznačeni anodni temenski tok, ki je enak ali večji od 500 A, in
The table and Technical Note appear after entry 2E301.
vklopni čas, ki je enak ali krajši od 1 μs.
This table should be read to specify the "technology" for a particular Coating Process only when the Resultant Coating in column 3 is in a paragraph directly across from the relevant Substrate under column 2.
Visokotokovni impulzni generatorji:
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal "matrix" "composites" substrates, but are not included for the application of silicides to 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18) substrates.
a. vžigalniki za detonatorje (inicialni sistemi, vžigalne naprave), vključno z vžigalnimi napravami za elektronsko polnjenje ter na eksplozivni in optični pogon, razen tistih iz točke 1A007(a), izdelani za proženje večkratno krmiljenih detonatorjev iz točke 1A007(b);
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18).
b. modularni električni impulzni generatorji (pulzerji), ki imajo vse naslednje značilnosti:
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
izdelani za prenosno, mobilno ali robustno uporabo;
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B233, 2D201 or 2D202.
sposobnost sproščanja lastne energije v manj kot 15 μs na bremenu, manjšem od 40 omov;
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
izhodna jakost, ki je večja od 100 A;
Table
nobena njihova mera ne presega 30 cm;
Deposition techniques
tehtajo manj kot 30 kg in
Coating Process (1) [2]
namenjeni za uporabo v razširjenem temperaturnem območju od 223 K (–50 °C) do 373 K (100 °C) ali primerni za uporabo v letalstvu.
Substrate
točka 3A229(b) vključuje tudi krmilnike za ksenonove bliskovke.
Resultant Coating
c. mikrovžigalne enote, ki imajo vse naslednje značilnosti:
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
nobena njihova mera ne presega 35 mm;
"Superalloys"
naznačeno napetost, ki je enaka ali večja od 1 kV, in
Aluminides for internal passages
kapacitivnost, ki je enaka ali večja od 100 nF.
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
Hitri impulzni generatorji in ‚impulzne glave‘ zanje, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Silicides
a. izhodno napetost nad 6 V na uporovnem bremenu, manjšem od 55 omov, in
Carbides
b. ‚prehodni čas impulza‘, krajši od 500 ps.
Dielectric layers (15)
v točki 3A230 je ‚prehodni čas impulza‘ opredeljen kot časovni interval med 10 % in 90 % amplitude napetosti.
Diamond
‚impulzne glave‘ so omrežja, ki ustvarjajo impulze in so zasnovana tako, da sprejmejo funkcijo napetosti koraka in jo oblikujejo v impulze več oblik, vključno s pravokotno, trikotno, koračno, impulzno, eksponentno ali monociklično.
Diamond-like carbon (17)
‚Impulzne glave‘ so lahko sestavni del impulznega generatorja, bodisi kot priključni modul za napravo ali kot naprava za zunanji priklop.
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix" "composites"
Nevtronski generatorski sistemi, vključno z elektronkami, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Refractory metals
a. izdelani so za delovanje brez zunanjega vakuumskega sistema in
Mixtures thereof (4)
b. uporabljajo kar koli od naslednjega:
Aluminides
elektrostatični pospešek za sprožanje jedrske reakcije med tritijem in devterijem, ali
Alloyed aluminides (2)
elektrostatični pospešek za sprožanje jedrske reakcije med devterijem in devterijem ter sposoben ustvarjanja 3 x 109 nevtronov/s ali več.
Boron nitride
Večtočkovni vžigalni sistemi, razen tistih iz točke 1A007:
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
za detonatorje glej točko 1A007(b).
Tungsten
b. naprave, ki uporabljajo en detonator ali več detonatorjev, ki so zasnovane za skoraj hkratni vžig eksplozivne površine, večje kot 5000 mm2, z enim samim vžigalnim signalom, pri čemer je časovno odstopanje vžiga na celotni površini krajše od 2,5 μs.
Molybdenum and Molybdenum alloys
predmet nadzora v točki 3A232 niso detonatorji, ki uporabljajo samo primarne eksplozive, na primer svinčev azid.
Beryllium and Beryllium alloys
Masni spektrometri, razen tistih iz točke 0B002(g), ki so zmožni merjenja ionov z atomsko maso 230 ali več, z razločljivostjo, ki je boljša od dveh delov v 230, in ionski viri zanje:
Sensor window materials (9)
a. masni spektrometri z induktivno sklopljeno plazmo (ICP/MS);
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
b. masni spektrometri s tlilno razelektritvijo (GDMS);
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
c. masni spektrometri s termično ionizacijo (TIMS);
Alloyed silicides
d. masni spektometri z elektronskim obstreljevanjem, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Modified zirconia (12)
sistem za dovod molekularnega snopa, ki dovaja kolimiran snop molekul analita v območje ionskega vira, kjer molekule ionizira z elektronskim žarkom, in
Corrosion resistant steel (7)
eno ali več ‚hladnih pasti‘, ki jih je mogoče ohladiti na temperaturo 193 K (–80 °C);
Borides
e. se ne uporablja;
Beryllium
f. masni spektrometri, opremljeni z ionskim virom, ki omogoča mikrofluoriranje, in zasnovani za aktinoide ali fluoride aktinoidov.
Titanium alloys (13)
Masni spektometri z elektronskim obstreljevanjem iz točke 3A233(d) so znani tudi pod imenom masni spektometri z vplivanjem na elektrone ali masni spektometri z elektronsko ionizacijo.
Nitrides
V točki 3A233(d)(2) je ‚hladna past‘ naprava, ki ujame molekule plina z njihovo kondenzacijo ali zamrzovanjem na hladnih površinah.
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
Za namene točke 3A233(d)2 kriogenska vakuumska črpalka za helij v plinskem stanju z zaprto zanko ni ‚hladna past‘.
Ceramics (19) and Low-expansion glasses
Trakasti valovodi, ki detonatorjem zagotavljajo nizko induktivnost in imajo naslednji značilnosti:
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
a. naznačeno napetost, večjo od 2 kV, in
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
b. induktivnost, manjšo od 20 nH.
Diamond-like carbon
Oprema za proizvodnjo polprevodniških elementov ali materialov in posebej izdelane komponente in pribor zanjo:
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
GLEJ TUDI 2B226.
Polymers (11) and Organic "matrix" "composites"
a. oprema za epitaksialno rast:
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
oprema, izdelana ali prirejena za proizvajanja plasti katerega koli materiala razen silicija enakomerne debeline do manj kot ± 2,5 % na razdalji 75 mm ali več;
Refractory metals and alloys (8)
točka 3B001(a)(1) zajema tudi opremo za epitaksijo atomske plasti (ALE).
Oxides
reaktorji za nanašanje kovin s kemičnim naparjevanjem (MOCVD), ki so izdelani za epitaksialno rast materiala sestavljenih polprevodnikov in imajo dva ali več naslednjih elementov: aluminij, galij, indij, arzen, fosfor, antimon ali dušik;
D. Plasma spraying
oprema za epitaksijsko rast z molekularnim snopom, ki uporablja plinske ali trdne vire.
Abradable Nickel-Graphite
b. oprema, izdelana za ionsko implantacijo, in ima katero koli od naslednjih značilnosti:
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
izdelana in optimizirana je za delovanje pri energiji žarka 20 keV ali več in žarkovnem toku 10 mA ali več za implantacijo z dušikom, devterijem ali helijem;
Abradable Al-Si-Polyester
zmožnost neposrednega zapisa;
Aluminium alloys (6)
energijo žarka 65 keV ali več in žarkovni tok 45 mA ali več za visokoenergijsko implantacijo s kisikom v ogreto „podlago“ iz polprevodniškega materiala ali
E. Slurry Deposition
izdelana in optimizirana je za delovanje pri energiji žarka 20 keV ali več in žarkovnem toku 10 mA ali več za implantacijo s silicijem v „podlago“ iz polprevodniškega materiala, ogreto na 600 °C ali več;
Fused silicides
e. večkomorni centralni sistemi z avtomatskim polnjenjem za ravnanje z rezinami, ki imajo obe naslednji značilnosti:
Fused aluminides except for resistance heating elements
imajo vmesnike za vnos in iznos rezin, na katere je treba priključiti več kot dve za to izdelani in funkcionalno različni ‚polprevodni procesni orodji‘ iz točke 3B001(a)(1), 3B001(a)(2), 3B001(a)(3) ali 3B001(b), in
F. Sputter Deposition
izdelani so za oblikovanje integriranega sistema v vakuumskem okolju za ‚sekvenčno večkratno obdelavo rezin‘;
Noble metal modified aluminides (3)
predmet nadzora v točki 3B001(e) niso avtomatski robotski sistemi za ravnanje z rezinami, posebej izdelani za vzporedno obdelavo rezin.
Platinum
Za namene točke 3B001(e) ‚polprevodno procesno orodje‘ pomeni modularna orodja, ki omogočajo fizične postopke za proizvodnjo polprevodnikov, ki so funkcionalno različni, kot so nanašanje, implantacija ali termična obdelava.
Ceramics and Low- expansion glasses (14)
Za namene točke 3B001(e) ‚sekvenčna večkratna obdelava rezin‘ pomeni zmogljivost obdelave vsake rezine v drugem ‚polprevodnem procesnem orodju‘, na primer prenos vsake rezine od enega orodja do drugega in tretjega z večkomornimi centralnimi sistemi z avtomatskim polnjenjem za ravnanje z rezinami. f. litografska oprema:
Dielectic layers (15)
a. vir svetlobe valovne dolžine manj kakor 193 nm ali
G. Ion Implantation
b. zmožnost proizvajanja oblike z ‚minimalno razločljivo potezo‘ (MRF) 45 nm ali manj;
High temperature bearing steels
‚minimalna razločljiva poteza‘ (MRF) se izračuna po naslednji enačbi:
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
valovna dolžina svetlobnega vira v nm
Cemented tungsten carbide (16)
faktor K
TABLE - DEPOSITION TECHNIQUES - NOTES
numerična odprtina
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
pri čemer je faktor K = 0,35.
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
tiskarska litografska oprema, s katero se lahko tiska podobe z največ 45 nm;
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
točka 3B001(f)(2) vključuje:
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
mikrokontaktno tiskarsko orodje,
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
vroča reliefna orodja,
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
nanotiskarska litografska orodja,
a.
tiskarska litografska orodja „step and flash“ (S-FIL).
CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
oprema, izdelana posebej za obdelavo naprav za izdelavo mask, ki ima obe naslednji značilnosti:
c.
napaka pri prekrivanju druge plasti, manjša od 23 nm (srednja vrednost + 3 sigme) na maski;
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
3B001(f) nadaljevanje 4. oprema, ki je zasnovana za obdelavo s pomočjo neposrednih metod zapisa in ima obe naslednji značilnosti:
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
a. elektronski žarek z odklonjenim fokusom in
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
najmanjša širina žarka je enaka ali manjša od 15 nm ali
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
napaka pri prekrivanju plasti, manjša od 27 nm (srednja vrednost + 3 sigme);
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
g. maske in mrežice, izdelane za integrirana vezja iz točke 3A001;
Category 2 does not include "technology" for single-step pack cementation of solid airfoils.
h. večplastne maske s faznimi premičnimi plastmi, ki niso določene v točki 3B001(g) in imajo katero koli od naslednjih značilnosti:
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
izdelane so iz „surovega substrata“ za maske iz stekla z dvolomnostjo, manjšo od 7 nm/cm, ali
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
izdelane so za uporabo z litografsko opremo z dolžino svetlobnega vira, manjšo od 245 nm;
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
predmet nadzora v točki 3B001(h) niso večplastne maske s faznimi premičnimi plastmi, narejenih za izdelavo spominskih enot, ki niso predmet nadzora v točki 3A001.
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
i. tiskarske litografske šablone, izdelane za integrirana vezja iz točke 3A001.
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10-7 K-1 or less measured at 293 K (20 °C).
Preizkuševalna oprema, izdelana posebej za preizkušanje izdelanih in neizdelanih polprevodniških naprav in posebej zanjo izdelane komponente in pribor:
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
a. za preizkušanje parametrov S tranzistorskih naprav pri frekvencah nad 31,8 GHz;
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
c. za preizkušanje mikrovalovnih integriranih vezij iz točke 3A001(b)(2).
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
Heteroepitaksialni materiali, sestavljeni iz „podlage“ z naloženimi plastmi, pridobljeni z epitaksialno rastjo, iz naslednjih materialov:
"Technology" for depositing diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
a. silicija (Si);
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
b. germanija (Ge);
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
c. silicijevega karbida (SiC) ali
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
d. „III/V spojin“ galija ali indija.
TABLE - DEPOSITION TECHNIQUES - TECHNICAL NOTE
predmet nadzora v točki 3C001(d) ni „podlaga“ z eno ali več epitaksialnimi plastmi tipa P iz GaN, InGaN, AlGaN, InAlN, InAlGaN, GaP, GaAs, AlGaAs, InP, InGaP, AlInP ali InGaAlP, ne glede na zaporedje elementov, razen če je epitaksialna plast tipa P med plastmi tipa N.
Processes specified in Column 1 of the Table are defined as follows:
Uporovni materiali in „podlage“, prevlečene z naslednjimi krmiljenimi uporovnimi pastami:
a.
a. uporovne paste za polprevodniško litografijo:
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
pozitivne uporovne paste (optimizirane) za uporabo pri valovnih dolžinah pod 245 nm, vendar enakih ali večjih od 15 nm;
Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate.
uporovne paste (optimizirane), prirejene za uporabo pri valovnih dolžinah pod 15 nm, večjih od 1 nm;
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
b. vse uporovne paste za uporabo z elektronskimi ali ionskimi žarki, z občutljivostjo 0,01 (mikrokulomba) μcoulomb/mm2 ali boljšo;
N.B.1.
d. vse uporovne past, optimizirane za tehnike površinske preslikave;
CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
e. vse uporovne paste za uporabo ali optimizirane za uporabo s tiskarsko litografsko opremo iz točke 3B001(f)(2), ki uporabljajo termični postopek ali postopek strjevanja s svetlobo.
N.B.2.
Organsko-anorganske spojine:
Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
a. organsko-kovinske spojine aluminija, galija ali indija, katerih čistota (kovinske osnove) je več kot 99,999 %;
N.B.3.
b. organsko-arzenove, organsko-antimonove in organsko-fosforjeve spojine, katerih čistota (anorganske osnove) je več kot 99,999 %.
The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
predmet nadzora v točki 3C003 so samo spojine, v katerih je kovinski, delno kovinski ali nekovinski element neposredno vezan na ogljik iz organskega dela molekule.
b.
Hidridi fosforja, arzena ali antimona, katerih čistota je boljša od 99,999 %, tudi če so razredčeni v inertnih plinih ali vodiku.
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material.
predmet nadzora v točki 3C004 niso hidridi, ki vsebujejo 20 molarnih odstotkov ali več inertnih plinov ali vodika.
This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates.
Polprevodniški „substrati“ silicijevega karbida (SiC), galijevega nitrida (GaN), aluminijevega nitrida (AlN) ali aluminijevega galijevega nitrida (AlGaN) ali ingoti, kosi ali drugi polizdelki teh materialov z odpornostjo več kot 10000om cm pri 20 °C.
The addition of gases to the vacuum chamber during the coating process to synthesize compound coatings is an ordinary modification of the process.
„Substrati“ iz točke 3C005 z vsaj eno epitaksialno plastjo iz silicijevega karbida, galijevega nitrida, aluminijevega nitrida ali aluminijevega galijevega nitrida.