natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Machine tools and any combination thereof, other than those specified in 2B001, as follows, for removing or cutting metals, ceramics or "composites", which, according to the manufacturer’s technical specification, can be equipped with electronic devices for simultaneous "contouring control" in two or more axes:
Strojna orodja in njihove kombinacije, razen tistih iz točke 2B001, za odstranjevanje ali odrezovanje kovin, keramike ali "kompozitov", ki so po proizvajalčevih tehničnih specifikacijah lahko opremljena z elektronskimi enotami za sočasno "vodenje po konturi" v dveh ali več oseh:
Note: 2B201.a. does not control milling machines having the following characteristics:
Opomba: 2B201.b ne vključuje naslednjih strojev za brušenje
Overall positioning accuracy on the x-axis more (worse) than 30 μm.
splošno natančnost prek cele osi X, je večja (slabša) od 30 μm.
Cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines having all of the following characteristics:
cilindrični zunanji, notranji in zunanje-notranji površinski brusilni stroji, ki imajo vse naslednje značilnosti:
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length; and
omejeni so na največji obdelovanec zunanjega premera ali dolžine 150 mm; in
Axes limited to x, z and c;
omejitev je na oseh x, z in c;
Gears;
menjalnikov
Extruder worms.
ekstruzijskih polžev;
Note 2: A machine tool having at least two of the three turning, milling or grinding capabilities (e.g., a turning machine with milling capability), must be evaluated against each applicable entry 2B001.a. or 2B201.a. or b.
Opomba 2: Strojno orodje, ki ima vsaj dve od naslednjih treh zmogljivosti: struženje, rezkanje ali brušenje (npr. stroj za struženje z brusnimi zmogljivostmi), je treba obravnavati po določilih točk 2B001.a. ali 2B201.a. ali b.
Dies, moulds and controls, specially designed for "isostatic presses" specified in 2B204.a.
orodja, kokile in oprema zanje, posebej izdelani za "izostatične stiskalnice", določene v točki 2B204.a.
"Angular position deviation" equal to or less than 0,02°.
"kotni pogrešek", ki je enak ali manjši od 0,02°.
"Robots", "end-effectors" and control units, other than those specified in 2B007, as follows:
"Roboti", "končne enote" in kontrolne enote, razen tistih iz točke 2B007:
"Robots" or "end-effectors" specially designed to comply with national safety standards applicable to handling high explosives (for example, meeting electrical code ratings for high explosives);
"roboti" ali "končne enote", posebej izdelani za izpolnjevanje nacionalnih varnostnih standardov, ki se uporabljajo za ravnanje z močnimi eksplozivi (npr. upoštevanje električnih karakteristik pri delu z visoko eksplozivnimi sredstvi);
Flow forming machines, spin forming machines capable of flow forming functions, other than those specified in 2B009 or 2B109, and mandrels, as follows:
Stroji za oblikovalno valjanje, stroji z vreteni z možnostjo potisnega oblikovanja, ki nudijo tudi funkcije oblikovalnega valjanja, razen tistih iz točke 2B009 ali 2B109, in vretena:
Rotor-forming mandrels designed to form cylindrical rotors of inside diameter between 75 mm and 400 mm.
rotacijski oblikovni trni, namenjeni izdelavi cilindričnih rotorjev z notranjim premerom od 75 mm do 400 mm.
Note: 2B209.a. includes machines which have only a single roller designed to deform metal plus two auxiliary rollers which support the mandrel, but do not participate directly in the deformation process.
Opomba: Točka 2B209.a vključuje stroje z enojnim valjem za preoblikovanje kovine ter dvema pomožnima valjema za podporo, ki ne sodelujeta neposredno pri procesu preoblikovanja.
Capable of balancing speed of revolution greater than 5000 r.p.m.;
zmožnost uravnoteženja pri vrtilni hitrosti več kot 5000 vrt/min;
Remote manipulators that can be used to provide remote actions in radiochemical separation operations or hot cells, having either of the following characteristics:
Daljinske enote, ki omogočajo delovanje na daljavo pri radiokemičnem ločevanju ali v vročih celicah in imajo eno od naslednjih značilnosti:
A capability of penetrating 0,6 m or more of hot cell wall (through-the-wall operation); or
sposobnost penetriranja 0,6 m ali več globoko v steno vroče celice (delovanje skozi steno); ali
A capability of bridging over the top of a hot cell wall with a thickness of 0,6 m or more (over-the-wall operation).
sposobnost premostitve preko meje vroče celice debeline 0,6 m ali več (delovanje čez steno).
Remote manipulators provide translation of human operator actions to a remote operating arm and terminal fixture.
Daljinske manipulatorske enote omogočajo prenos človekovih dejanj z daljinsko upravljano roko in stalno povezavo.
They may be of 'master/slave' type or operated by joystick or keypad.
Lahko so tipa "strežnik-odjemalec" ali pa delujejo z uporabo krmilne palice ali računalniške miške.
'Carbon graphite' is a composition consisting of amorphous carbon and graphite, in which the graphite content is eight percent or more by weight.
"Ogljik-grafit" je kompozit amorfnega ogljika in grafita, ki vsebuje 8 ut. % ali več grafita.
Designed for the detection of cholinesterase-inhibiting activity.
izdelani za odkrivanje kolinesteraznih aktivnosti.
or P4 (BL3, BL4, L3, L4) containment levels are as specified in the WHO Laboratory Biosafety manual (2nd edition, Geneva 1993).
ali P4 (BL3, BL4, L3, L4) so nivoji biološke vsebnosti, opredeljeni v WHO Laboratory Biosafety Manual (2. izdaja, Ženeva, 1993).
"Software" for electronic devices, even when residing in an electronic device or system, enabling such devices or systems to function as a "numerical control" unit, capable of co-ordinating simultaneously more than four axes for "contouring control".
"Programska oprema" za elektronske naprave, tudi če je v elektronski napravi ali sistemu, da bi tem napravam ali sistemom omogočala funkcijo "numeričnega krmiljenja" enot, z zmožnostjo sočasne koordinacije več kot štirih osi zaradi "vodenja po konturi".
Strain rate;
nivoja deformacije;
The number of bits in the output word is equal to the resolution of the analogue-to-digital converter.
Število bitov izhodne besede je enako razločljivosti analogno-digitalnih pretvornikov.
It is often specified in megaghertz (MHz) or mega samples per second (MSPS).
Velikokrat je ta določena v megahertzih (MHz) ali mega vzorcih na sekundo (MSPS).
Operating frequencies above 3 GHz;
delovne frekvence večje od 3 GHz;
An average output power density exceeding 80 W/kg; and
povprečna gostota izhodne moči presega 80 W/kg; in
Note: 3A001.b.8. does not control equipment designed or rated for operation in any frequency band which is "allocated by the ITU" for radio-communications services, but not for radio-determination.
Opomba: Točka 3A001.b.8 ne ureja opreme, ki je izdelana ali naznačena za delovanje v kateremkoli frekvenčnem pasu, "dodeljeno po ITU" za radiokomunikacijske storitve radijske komunikacije, ne pa za radiolokacijo.
Surface acoustic wave and surface skimming (shallow bulk) acoustic wave devices (i.e., "signal processing" devices employing elastic waves in materials), having any of the following:
površinske zvočnovalovne naprave in zvočnovalnovne naprave za površinsko posnemanje (plitvo posnemanje) (tj. naprave za "obdelavo signalov", ki izkoriščajo elastične valove v materialih), ki imajo katerokoli od naslednjih značilnosti:
A carrier frequency exceeding 2,5 GHz;
nosilno frekvenco več kot 2,5 GHz;
A frequency side-lobe rejection exceeding 55 dB;
dušenje bočne frekvence večje kot 55 dB;
Bulk (volume) acoustic wave devices (i.e., "signal processing" devices employing elastic waves) which permit the direct processing of signals at frequencies exceeding 1 GHz;
prostorske zvočnovalovne naprave (tj. naprave za "obdelavo signalov", ki izkoriščajo elastične valove), ki omogočajo neposredno obdelavo signalov frekvenc več kot 1 GHz;
Acoustic-optic "signal processing" devices employing interaction between acoustic waves (bulk wave or surface wave) and light waves which permit the direct processing of signals or images, including spectral analysis, correlation or convolution;
zvočno-optične naprave za "obdelavo signalov", ki izkoriščajo interakcijo med zvočnimi (velikimi ali površinskimi) in svetlobnimi valovi, kar omogoča neposredno obdelavo signalov ali podob, vključno s spektralno analizo, korelacijo in konvolucijo;
Electronic devices and circuits containing components, manufactured from "superconductive" materials specially designed for operation at temperatures below the "critical temperature" of at least one of the "superconductive" constituents, with any of the following:
elektronske naprave ali vezja, ki vsebujejo komponente iz "superprevodnih" materialov, od katerih je najmanj en sestavni del posebej izdelan za delovanje pri temperaturah pod "kritično temperaturo", in ki imajo katerokoli od naslednjih značilnosti:
"Space qualified" and radiation hardened photovoltaic arrays with a specific power exceeding 160 W/m2 at an operating temperature of 301 K (28 °C) under a tungsten illumination of 1 kW/m2 at 2800 K (2527 °C);
fotonapetostni nizi, "primerni za vesolje" in odporni proti sevanju, katerih specifična moč je večja od 160 W/m2 pri delovni temperaturi 301 K (28 °C) in pri osvetlitvi z volframovo sijalko1 kW/m2 pri 2800 K (2527 °C);
Capacitors with a repetition rate of less than 10 Hz (single shot capacitors) having all of the following:
kondenzatorji s ponavljalno frekvenco, anjšo od 10 Hz (kondenzatorji za enkratno izpraznitev), in imajo vse naslednje značilnosti:
Capacitors with a repetition rate of 10 Hz or more (repetition rated capacitors) having all of the following:
kondenzatorji s ponavljalmo frekvenco, enako ali večjo od 10 Hz (kondenzatorji za večkratno izpraznitev), in imajo vse naslednje značilnosti:
Rotary input type shaft absolute position encoders having any of the following:
naprave za kodiranje absolutnega položaja osi z vrtljivim vhodom, ki imajo katerokoli od naslednjih značilnosti:
A resolution of better than 1 part in 265000 (18 bit resolution) of full scale; or
razločljivost boljšo od 1 v 265000 (18 bitna razločljivost) v celotniem lestvici območju; ali
An accuracy better than ± 2,5 seconds of arc.
točnost boljšo od ± 2,5 ločne sekunde.
Recording equipment, as follows, and specially designed test tape therefor:
oprema za snemanje in posebej zanjo izdelani preskušalni trakovi:
Digitising rate equal to or more than 100 million samples per second and a resolution of 8 bit or more; and
hitrost digitizacije enako ali večjo od 100 milijonov vzorcev na sekundo in razločljivost 8 bitov ali več; in
A continuous throughput of 1 Gbit/s or more;
zvezni pretok 1 Gbit na sekundo ali več;
Atomic frequency standards having any of the following:
standardi atomskih frekvenc, ki imajo katerokoli od naslednjih značilnosti:
Long-term stability (aging) less (better) than 1 × 10– 11/month; or
dolgotrajno stabilnost (staranje) manj kot (boljšo od) 1 × 10– 11/mesec; ali
Note: 3A002.g.1. does not control non-"space qualified" rubidium standards.
Opomba: Točka 3A002.g.1 ne ureja rubidijevih frekvenčnih standardov, ki niso"primerni za vesolje".
Spray cooling thermal management systems employing closed loop fluid handling and reconditioning equipment in a sealed enclosure where a dielectric fluid is sprayed onto electronic components using specially designed spray nozzles that are designed to maintain electronic components within their operating temperature range, and specially designed components therefor.
Sistemi za upravljanje toplote s pršilnim hlajenjem, ki uporabljajo zaprti krog za ravnanje s tekočino in opremo za ponovno obdelavo v zatesnjenem ohišju, kjer se dielektrična tekočina razpršuje na elektronske komponente s posebnimi pršilnimi šobami, ki so narejene tako, da vzdržujejo elektronske komponente v okviru njihovega temperaturnega območja, in posebej izdelane komponente zanje.
Accelerators capable of delivering electromagnetic radiation produced by bremsstrahlung from accelerated electrons of 2 MeV or greater, and systems containing those accelerators.
pospeševalniki z zmožnostjo oddajanja elektromagnetnega sevanja, ki ga ustvarja zavirano sevanje pospešenih elektronov z 2 MeV ali več, in sistemi, ki vsebujejo te pospeševalnike.
Voltage rating greater than 1,4 kV;
naznačeno napetost večjo od 1,4 kV;
Superconducting solenoidal electromagnets having all of the following characteristics:
superprevodni solenoidni elektromagneti, ki imajo vse naslednje značilnosti:
A ratio of length to inner diameter greater than 2;
razmerje med njihovo dolžino in notranjim premerom večje od 2;
Magnetic field uniform to better than 1 % over the central 50 % of the inner volume;
enakomernost magnetnega polja boljša od 1 % vzdolž osrednjih 50 % notranje prostornine.
Note: 3A201.b. does not control magnets specially designed for and exported 'as parts of' medical nuclear magnetic resonance (NMR) imaging systems.
Opomba: Točka 3A201.b ne ureja magnetov, ki so posebej izdelani in izvoženi 'kot deli' medicinskih sistemov za slikanje z uporabo jedrske magnetne resonance (NMR).
The phrase 'as part of' does not necessarily mean physical part in the same shipment; separate shipments from different sources are allowed, provided the related export documents clearly specify that the shipments are dispatched 'as part of' the imaging systems.
Pojem 'kot del' ne pomeni nujno tudi fizičnega dela iste pošiljke; ločene pošiljke iz različnih virov so dovoljene pod pogojem, da pripadajoči izvozni dokumenti nedvoumno izkazujejo, da so pošiljke dobavljene "kot del" sistema za slikanje.
An accelerator peak electron energy of 25 MeV or greater; and
temensko energijo elektronov, pospeševalnika enako ali večjo od 25 MeV; in
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 20 kV or greater with current output of 1 A or greater; and
v časovnem obdobju osmih (8) ur sposobnost neprekinjenega proizvajanja toka jakosti 1 A ali več z napetostjo 20 kV ali več; in
Switching devices, as follows:
Stikalne naprave:
Anode peak voltage rating of 2,5 kV or more;
naznačeno anodno temensko napetost, ki je enaka ali večja od 2,5 kV;
Anode peak current rating of 100 A or more 100 A; and
naznačeni anodni temenski tok, ki je enak ali večji od 100 A; in
Rated for a peak current of 500 A or more;
so naznačena za temenski tok, ki je enak ali večji od 500 A;
Modules or assemblies with a fast switching function having all of the following characteristics:
moduli ali sestavi za funkcijo hitrega preklapljanja, ki imajo vse naslednje značilnosti:
Anode peak voltage rating greater than 2 kV;
naznačeno anodno temensko napetost, ki je večja od 2 kV;
Anode peak current rating of 500 A or more; and
naznačeni temenski anodni tok, ki je enak ali večji od 500 A; in
Explosive detonator firing sets designed to drive multiple controlled detonators specified in 3A232;
vžigalniki za detonatorje, ki so izdelani za proženje večkratno krmiljenih detonatorjev, določenih v točki 3A232;
In 3A230, 'pulse transition time' is defined as the time interval between 10 % and 90 % voltage amplitude.
V točki 3A230 je 'prehodni čas impulza' opredeljen kot časovni interval med 10 % in 90 % amplitude napetosti.
Utilising electrostatic acceleration to induce a tritium-deuterium nuclear reaction.
izkoriščajo elektrostatični pospešek za sprožanje jedrske reakcije med tritijem in devterijem.
Electrically driven explosive detonators, as follows:
električno proženi eksplozivni detonatorji:
Exploding bridge (EB);
eksplozivni mostič (EB);
Exploding bridge wire (EBW);
eksplozivna mostična žica (EBW);
Slapper;
bliskoviti (slapper);
Exploding foil initiators (EFI);
eksplozivni folijski vžigalnik (EFI);
Arrangements using single or multiple detonators designed to nearly simultaneously initiate an explosive surface over greater than 5000 mm2 from a single firing signal with an initiation timing spread over the surface of less than 2,5 μs.
naprave, ki uporabljajo en detonator ali več detonatorjev, ki so izdelane za skoraj hkratni vžig eksplozivne površine, večje kot 5000 mm2, z enim samim vžigalnim signalom, pri čemer je časovno odstopanje vžiga na celotni površini manjše od 2,5 μs.
Note: 3A232 does not control detonators using only primary explosives, such as lead azide.
Opomba: Točka 3A232 ne ureja detonatorjev, ki uporabljajo samo primarne eksplozive, na primer svinčev azid.
In 3A232 the detonators of concern all utilise a small electrical conductor (bridge, bridge wire or foil) that explosively vapourises when a fast, high-current electrical pulse is passed through it.
Detonatorji, ki so navedeni v točki 3A232, izkoriščajo majhen električni vodnik (mostič, žico za premoščanje ali folijo), ki se eksplozivno upari, ko skoznje steče hitri visokotokovni električni impulz.
In nonslapper types, the exploding conductor starts a chemical detonation in a contacting high-explosive material such as PETN (Pentaerythritoltetranitrate).
V vseh vrstah detonatorjev, razen bliskovitih vžigalnikov, sproži kemično detonacijo eksplozivni vodnik, ko pride v stik z močno eksplozivnim materialom, kot je na primer PETN (pentaeritritol-tetranitrat).
In slapper detonators, the explosive vapourisation of the electrical conductor drives a flyer or slapper across a gap and the impact of the slapper on an explosive starts a chemical detonation.
Posebno udarjalo povzroči pri bliskovitih detonatorjih eksplozivno uparjanje električnega vodnika, ko udari na eksploziv in s tem povzroči kemično detonacijo.
The term exploding foil detonator may refer to either an EB or a slapper-type detonator.
Izraz vžigalnik z eksplozivno folijo se lahko nanaša na mostiščni vžigalnik, pa tudi na bliskoviti vžigalnik.
Also, the word initiator is sometimes used in place of the word detonator.
Prav tako se lahko pojem vžigalnik včasih uporablja namesto besede detonator.
Mass spectrometers, other than those specified in 0B002.g., capable of measuring ions of 230 atomic mass units or greater and having a resolution of better than 2 parts in 230, as follows, and ion sources therefor:
Masni spektrometri, razen tistih iz točke 0B002.g, ki so zmožni merjenja ionov z atomsko maso 230 ali več, z razločljivostjo, ki je boljša od dveh delov v 230, in ionski viri zanje:
Equipment for the manufacturing of semiconductor devices or materials, as follows, and specially designed components and accessories therefor:
Oprema za proizvodnjo polprevodniških elementov ali materialov in posebej izdelane komponente in pribor zanjo:
Equipment capable of producing a layer of any material other than silicon with a thickness uniform to less than ± 2,5 % across a distance of 75 mm or more;
oprema z možnostjo proizvajanja plasti kateregakoli materiala razen silicija enakomerne debeline do manj kot ± 2,5 % na razdalji 75 mm ali več;
Metal organic chemical vapour deposition (MOCVD) reactors specially designed for compound semiconductor crystal growth by the chemical reaction between materials specified in 3C003 or 3C004;
reaktorji za nanašanje kovin s kemičnim naparjevanjem (MOCVD), izdelani posebej za rast kristalov sestavljenih polprevodnikov z uporabo kemične reakcije med materiali iz točke 3C003 ali 3C004;
Anisotropic plasma dry etching equipment, as follows:
oprema za suho jedkanje z uporabo anizotropne plazme:
Equipment with cassette-to-cassette operation and load-locks, and having any of the following:
oprema, delujoča na način od kasete do kasete in z uravnavanjem obremenitve, ki ima katerokoli od naslednjih značilnosti:
Designed or optimised to produce critical dimensions of 180 nm or less with ± 5 % 3 sigma precision; or
je izdelana ali optimizirana za proizvodnjo kritičnih dimenzij 0,3 μm ali manj z natančnostjo ± 5 % za razpršenost 3 sigma; ali
Designed for generating less than 0,04 particles/cm2 with a measurable particle size greater than 0,1 μm in diameter;
je izdelana za generiranje manj kot 0,04 delcev/cm2 z izmerljivo velikostjo delcev, večjih od 0,1 μm v premeru;
Equipment specially designed for equipment specified in 3B001.e. and having any of the following:
oprema, izdelana posebej za opremo iz točke 3B001.e, ki ima katerokoli od naslednjih značilnosti:
Designed or optimised to produce critical dimensions of 180 nm or less with ± 5 % 3 sigma precision; or
je izdelana ali prirejena za proizvodnjo kritičnih dimenzij 0,3 μm ali manj z natančnostjo ± 5 % za razpršenost 3 sigma; ali
Equipment specially designed for equipment controlled by 3B001.e. and designed according to the manufacturer's specifications or optimised for use in the production of semiconductor devices with critical dimensions of 180 nm or less;
oprema, posebej narejena za opremo, ki jo ureja točka 3B001.e., je izdelana v skladu s specifikacijami proizvajalca ali prirejena za uporabo v proizvodnji polprevodniških elementov s kritično dimenzijo 180 nm ali manj;
Automatic loading multi-chamber central wafer handling systems, having all of the following:
večkomorni centralni sistemi z avtomatskim polnjenjem za ravnanje z rezinami, ki imajo vse naslednje značilnosti:
Interfaces for wafer input and output, to which more than two pieces of semiconductor processing equipment are to be connected; and
vmesniki za vnos in iznos rezin, na katere je treba priključiti več kot dve napravi za obdelavo polprevodnikov; in
Designed to form an integrated system in a vacuum environment for sequential multiple wafer processing;
izdelani so za oblikovanje integriranega sistema v vakuumskem okolju za sekvenčno večkratno obdelavo rezin.
Note: 3B001.e. does not control automatic robotic wafer handling systems not designed to operate in a vacuum environment.
Opomba: Točka 3B001.e ne ureja avtomatskih robotskih sistemov za ravnanje z rezinami, ki niso namenjeni za delovanje v vakuumu.
Align and expose step and repeat (direct step on wafer) or step and scan (scanner) equipment for wafer processing using photo-optical or X-ray methods, having any of the following:
oprema za pozicioniranje in izpostavljanje rezin po sistemu "korak in ponovi" (neposredni korak na rezini) ali "korak in skeniraj" (skener) pri obdelavi rezin z uporabo fotooptične metode ali metode z rentgenskimi žarki in ki ima katerokoli od naslednjih značilnosti:
Capable of producing a pattern with a'minimum resolvable feature' size of 180 nm or less;
zmožnost proizvajanja oblike z 'minimalno razločljivo potezo' 180 nm ali manj;
numerical aperture
numerična odprtina
where the K factor = 0,45
pri čemer je faktor K = 0,45
Test equipment, specially designed for testing finished or unfinished semiconductor devices, as follows, and specially designed components and accessories therefor:
preizkuševalna oprema, izdelana posebej preizkušanje izdelanih in neizdelanih polprevodniških naprav in posebej zanjo izdelane komponente in pribor:
For testing S-parameters of transistor devices at frequencies exceeding 31,8 GHz;
za preizkušanje parametrov S tranzistorskih naprav pri frekvencah nad 31,8 GHz;
For testing microwave integrated circuits specified in 3A001.b.2.
za preizkušanje mikrovalovnih integriranih vezij iz točke 3A001.b.2.
Note: The control status of "software" for the "development", "production", or "use" of equipment described in other Categories is dealt with in the appropriate Category.
"digitalnih računalnikov" s "korigirano največjo zmogljivostjo" ("APP") z več kot 0,04 utežnega teraflopsa (WT); ali 2. "elektronskih sklopov", izdelanih ali prirejenih posebej za izboljšanje zmogljivosti s kopičenjem procesorjev, tako da "APP" sklopa presega mejo iz točke 4D001.b.1.; 4D002 "Programska oprema", posebej izdelana ali prirejena za podporo "tehnologiji" iz točke 4E. 4D003
The control status of "software" for equipment described in this Category is dealt with herein.
Posebna "programska oprema": a. "programska oprema" za operacijske sisteme, razvojna orodja in prevajalniki za "programsko opremo", izdelani posebej za opremo za "obdelavo večpodatkovnega toka", v "izvorni kodi";
"Software" specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment or "software" specified in 4A001 to 4A004, or 4D.
"programska oprema" z značilnostmi ali zmožnostmi izvajanja funkcij, ki presegajo meje iz Skupine 5, del 2 ("Informacijska varnost") Opomba: Točka 4D003.c ne ureja "programske opreme", ki spremlja uporabnika za njegovo osebno uporabo. 4E Tehnologija 4E001 a.