natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Magnesium having both of the following characteristics:
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ rovnú alebo menšiu (lepšiu) než 0,9 μm pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých pri celkovej dĺžke pohybu menej než 1,0 m, alebo
Containing less than 200 ppm by weight of metallic impurities other than calcium; and
2B001.a) sa nevzťahuje na sústruhy osobitne navrhnuté na výrobu kontaktných šošoviek, ktoré sa vyznačujú všetkými týmito vlastnosťami:
Bismuth having both of the following characteristics:
ovládanie stroja obmedzené na zadávanie programovacích údajov o súčiastke pomocou softvéru na oftalmickej báze a
a.
bez vákuového upínania.
A purity of 99,99 % or greater by weight; and
2B001.a) sa nevzťahuje na tyčové automatizované sústruhy (Swissturn) určené iba na sústruženie tyčového materiálu, ak priemer sústruženej tyče je najviac 42 mm a nie je možné upnutie do skľučovadla.
b.
Stroje môžu byť schopné vŕtať alebo frézovať obrábané súčiastky s priemerom menej ako 42 mm.
Containing less than 10 ppm by weight of silver.
obrábacie stroje na frézovanie, ktoré majú niektorú z týchto vlastností:
Beryllium metal, alloys containing more than 50 % beryllium by weight, beryllium compounds, manufactures thereof, and waste or scrap of any of the foregoing, other than that specified in the Military Goods Controls.
tri lineárne osi plus jednu rotačnú os, ktoré možno koordinovať súčasne na účely „riadenia profilu“, ktoré majú niektorú z týchto vlastností:
1C230 does not control the following:
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ rovnú alebo menšiu (lepšiu) než 0,9 μm pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých pri celkovej dĺžke pohybu menej než 1,0 m, alebo
Metal windows for X-ray machines, or for bore-hole logging devices;
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ rovnú alebo menšiu (lepšiu) než 1,1 μm pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých pri celkovej dĺžke pohybu rovnej alebo väčšej než 1,0 m.
Oxide shapes in fabricated or semi-fabricated forms specially designed for electronic component parts or as substrates for electronic circuits;
päť alebo viac osí, ktoré možno koordinovať súčasne na účely „riadenia profilu“ a ktoré majú niektorú z týchto vlastností:
Beryl (silicate of beryllium and aluminium) in the form of emeralds or aquamarines.
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ rovnú alebo menšiu (lepšiu) než 0,9 μm pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých pri celkovej dĺžke pohybu menej než 1,0 m,
Hafnium metal, alloys containing more than 60 % hafnium by weight, hafnium compounds containing more than 60 % hafnium by weight, manufactures thereof, and waste or scrap of any of the foregoing.
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ 1,4 μm alebo menej (lepšiu) pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých pri celkovej dĺžke pohybu najmenej 1 m a menej než 4 m, alebo
Helium-3 (3He), mixtures containing helium-3, and products or devices containing any of the foregoing.
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ rovnú alebo menšiu (lepšiu) než 6,0 μm pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých pri celkovej dĺžke pohybu rovnej alebo väčšej než 4 m.
1C232 does not control a product or device containing less than 1 g of helium-3.
majú „jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ 1,1 μm alebo menej (lepšiu) pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých, alebo
Lithium enriched in the lithium-6 (6Li) isotope to greater than its natural isotopic abundance, and products or devices containing enriched lithium, as follows: elemental lithium, alloys, compounds, mixtures containing lithium, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing.
jednonožové obrábacie stroje, ktoré majú niektorú z týchto vlastností:
1C233 does not control thermoluminescent dosimeters.
„radiálne hádzanie“ a „plánová odchýlka pohybu“ menší (lepší) než 0,0004 mm TIR a
The natural isotopic abundance of lithium-6 is approximately 6,5 weight per cent (7,5 atom per cent).
uhlovú odchýlku kĺzavého pohybu (vychyľovanie, stúpanie a nakláňanie) menšiu (lepšiu) než 2 oblúkové sekundy, TIR (total indicator reading) viac ako 300 mm pohybu;
Zirconium with a hafnium content of less than 1 part hafnium to 500 parts zirconium by weight, as follows: metal, alloys containing more than 50 % zirconium by weight, compounds, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing, other than those specified in 0A001.f.
Obrábacie stroje na brúsenie, ktoré majú niektorú z týchto vlastností:
1C234 does not control zirconium in the form of foil having a thickness of 0,10 mm or less.
majú všetky ďalej uvedené vlastnosti:
Tritium, tritium compounds, mixtures containing tritium in which the ratio of tritium to hydrogen atoms exceeds 1 part in 1000, and products or devices containing any of the foregoing.
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ 1,1 μm alebo menej (lepšiu) pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých a
1C235 does not control a product or device containing less than 1,48 × 103 GBq (40 Ci) of tritium.
tri alebo štyri osi, ktoré možno koordinovať súčasne na účely „riadenia profilu“, alebo
'Radionuclides' appropriate for making neutron sources based on alpha-n reaction, other than those specified in 0C001 and 1C012.a., in the following forms:
päť alebo viac osí, ktoré možno koordinovať súčasne na účely „riadenia profilu“ a ktoré majú niektorú z týchto vlastností:
a.
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ rovnú alebo menšiu (lepšiu) než 1,1 μm pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých pri celkovej dĺžke pohybu menej než 1 m,
Elemental;
„jednosmernú opakovateľnosť polohovania“ rovnú alebo menšiu (lepšiu) než 6,0 μm pozdĺž jednej lineárnej osi alebo viacerých pri celkovej dĺžke pohybu rovnej alebo väčšej než 4 m.
b.
2B001.c) sa nevzťahuje na tieto brúsky:
Compounds having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
cylindrické externé, interné a externo-interné brúsky so všetkými týmito vlastnosťami:
c.
obmedzené na brúsenie valcových plôch a
Mixtures having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
obmedzené na maximálny rozmer obrobku 150 mm vonkajšieho priemeru alebo dĺžky;
d.
stroje navrhnuté špecificky ako súradnicové brúsky, ktoré nemajú os z alebo os w s „jednosmernou opakovateľnosťou polohovania“ menšou (lepšou) ako 1,1 μm;
Products or devices containing any of the foregoing.
rovinné brúsky.
1C236 does not control a product or device containing less than 3,7 GBq (100 millicuries) of activity.
stroje na elektroerozívne obrábanie (EDM) bezdrôtového typu s dvoma alebo viacerými rotačnými osami, ktoré možno koordinovať súčasne na účel „riadenia profilu“;
In 1C236 'radionuclides' are any of the following:
obrábacie stroje na odstraňovanie kovov, keramických materiálov alebo „kompozitov“, ktoré majú všetky tieto vlastnosti:
Actinium-225 (225Ac)
odstraňujú materiál ľubovoľným z týchto spôsobov:
Actinium-227 (227Ac)
vodným lúčom alebo lúčom inej kvapaliny vrátane tých, ktoré používajú brúsne aditíva;
Californium-253 (253Cf)
elektrónovým lúčom, alebo
Curium-240 (240Cm)
„laserovým“ lúčom a
Curium-241 (241Cm)
majú aspoň dve rotačné osy a všetky tieto vlastnosti:
Curium-242 (242Cm)
môžu byť koordinované súčasne na účely „riadenia profilu“ a
Curium-243 (243Cm)
„presnosť“ polohovania menej (lepšia) ako 0,003o;
Curium-244 (244Cm)
vŕtačky na hlboké diery a sústružiace stroje upravené na hlbinné vŕtanie, ktoré dosahujú maximálnu hĺbku diery viac ako 5 m.
Einsteinium-253 (253Es)
Číslicovo riadené obrábacie stroje na optickú konečnú úpravu vybavené na selektívne odstraňovanie materiálu na výrobu nesférických optických povrchov, ktoré sa vyznačujú všetkými týmito vlastnosťami:
Einsteinium-254 (254Es)
konečná úprava tvaru s odchýlkou menšou (lepšou) než 1,0 μm;
Gadolinium-148 (148Gd)
konečná drsnosť nižšia (lepšia) než 100 nm rm;
Plutonium-236 (236Pu)
štyri alebo viac osí, ktoré možno koordinovať súčasne na účely „riadenia profilu“ a
Plutonium-238 (238Pu)
využívajú niektorý z týchto procesov:
Polonium-208 (208Po)
magnetoreologická konečná úprava (,MRF‘);
Polonium-209 (209Po)
elektroreologická konečná úprava (,ERF‘);
Polonium-210 (210Po)
,konečná úprava lúčom častíc s vysokou energiou‘;
Radium-223 (223Ra)
‚konečná úprava nástrojom s nafukovacou membránou‘, alebo
Thorium-227 (227Th)
,konečná úprava kvapalným lúčom‘.
Thorium-228 (228Th)
Na účely 2B002:
Uranium-230 (230U)
,MRF‘ je proces odstraňovania materiálu používajúci brúsny magnetický roztok, ktorého viskozita je riadená magnetickým poľom.
Uranium-232 (232U)
,ERF‘ je proces odstraňovania materiálu použitím abrazívnej kvapaliny, ktorej viskozita je riadená elektrickým poľom.
Radium-226 (226Ra), radium-226 alloys, radium-226 compounds, mixtures containing radium-226, manufactures thereof, and products or devices containing any of the foregoing.
,Konečná úprava lúčom častíc s vysokou energiou‘ využíva na selektívne odstraňovanie materiálu reaktívnu atómovú plazmu (RAP) alebo iónové lúče.
1C237 does not control the following:
,Konečná úprava nástrojom s nafukovacou membránou‘ je proces, pri ktorom sa používa natlakovaná membrána, ktorá sa deformuje, aby sa styk s obrobkom uskutočnil na malej ploche.
Medical applicators;
,Konečná úprava kvapalným lúčom‘ používa na odstránenie materiálu prúd kvapaliny.
A product or device containing less than 0,37 GBq (10 millicuries) of radium-226.
„Numericky riadené“ alebo manuálne obrábacie stroje a ich zvlášť navrhnuté súčasti, ovládacie prvky a príslušenstvo, zvlášť navrhnuté na zaškrabávanie, obrábanie načisto, brúsenie alebo honovanie kalených (Rc = 40 alebo viac) čelných ozubených kolies, čelných kolies so šikmými zubami a šípovitých ozubených kolies s priemerom rozstupovej kružnice viac ako 1250 mm a so šírkou ozubenia rovnou najmenej 15 % priemeru rozstupovej kružnice, opracované na kvalitu AGMA 14 alebo vyššiu (ekvivalentnú triede 3 podľa ISO 1328).
Chlorine trifluoride (ClF3).
„Izostatické lisy“ na lisovanie za tepla, ktoré majú všetky nasledujúce vlastnosti, a osobitne pre ne navrhnuté súčasti a príslušenstvo:
High explosives, other than those specified in the Military Goods Controls, or substances or mixtures containing more than 2 % by weight thereof, with a crystal density greater than 1,8 g/cm3 and having a detonation velocity greater than 8000 m/s.
POZRI TIEŽ 2B104 A 2B204.
Nickel powder and porous nickel metal, other than those specified in 0C005, as follows:
riadené tepelné prostredie v uzatvorenej kavite a komorovej kavite vnútorného priemeru najmenej 406 mm a
a.
majúce niektorú z týchto vlastností:
Nickel powder having both of the following characteristics:
maximálny pracovný tlak najmenej 207 MPa;
A nickel purity content of 99,0 % or greater by weight; and
riadené tepelné prostredie s teplotou viac ako 1773 K (1500 °C), alebo
A mean particle size of less than 10 μm measured by American Society for Testing and Materials (ASTM) B330 standard;
zariadenie na impregnáciu uhľovodíkmi a odstraňovanie výsledných plynných splodín rozkladu.
b.
Pod vnútornými rozmermi komory sa rozumejú rozmery komory, v ktorej sa dosiahne tak pracovná teplota, ako aj pracovný tlak, pričom tieto rozmery nezahŕňajú upínacie prvky.
Porous nickel metal produced from materials specified in 1C240.a.
Tento rozmer je menší ako vnútorný priemer tlakovej komory alebo ako vnútorný priemer izolovaného kúreniska podľa toho, ktorá z týchto dvoch komôr je umiestnená vo vnútri tej druhej.
1C240 does not control the following:
Pre osobitne navrhnuté lisovnice, lejacie formy a lisovacie formy pozri bod 1B003, 9B009 a kontroly vojenského tovaru.
Filamentary nickel powders;
Zariadenia osobitne navrhnuté na nanášanie, spracovávanie a riadenie počas procesu anorganických povlakových vrstiev, náterov a povrchových úprav pre substráty uvedené v stĺpci 2 pomocou procesov uvedených v stĺpci 1 v tabuľke za položkou 2E003.f), a ich osobitne navrhnuté súčasti pre automatické narábanie, polohovanie, manipuláciu a reguláciu:
Single porous nickel sheets with an area of 1000 cm2 per sheet or less.
výrobné zariadenie na chemické vylučovanie z plynnej fázy (CVD), ktoré má všetky tieto vlastnosti:
1C240.b. refers to porous metal formed by compacting and sintering the materials in 1C240.a. to form a metal material with fine pores interconnected throughout the structure.
POZRI TIEŽ 2B105.
Rhenium, and alloys containing 90 % by weight or more rhenium; and alloys of rhenium and tungsten containing 90 % by weight or more of any combination of rhenium and tungsten, other than those specified in 1C226, having both of the following characteristics:
proces je upravený pre jednu z týchto verzií:
a.
pulzujúce CVD;
In forms with a hollow cylindrical symmetry (including cylinder segments) with an inside diameter between 100 and 300 mm; and
tepelné vylučovanie s riadenou tvorbou kryštalizačných jadier (CNTD), alebo
Chemicals, which may be used as precursors for toxic chemical agents, as follows, and "chemical mixtures" containing one or more thereof:
chemické vylučovanie z plynnej fázy (CVD) zosilnené plazmou alebo za pomoci plazmy a
SEE ALSO MILITARY GOODS CONTROLS AND 1C450.
s použitím vysokovákuových (najviac 0,01 Pa) rotačných upchávok, alebo
Thiodiglycol (111-48-8);
zahŕňa riadenie hrúbky povlaku in situ;
Phosphorus oxychloride (10025-87-3);
výrobné zariadenie na implantáciu iónov, ktorého prúdy lúča majú najmenej 5 mA;
Dimethyl methylphosphonate (756-79-6);
výrobné príslušenstvo na fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár elektrónovým lúčom (EB-PVD), ktoré disponuje energetickými systémami s výkonom nad 80 kW a vyznačuje sa niektorým z týchto prvkov:
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Methyl phosphonyl difluoride (676-99-3);
systém riadenia hladiny kvapaliny v nádrži „laserom“, ktorý presne reguluje rýchlosť posuvu ingotov, alebo
Methyl phosphonyl dichloride (676-97-1);
počítačom riadený monitor rýchlosti, ktorý funguje na princípe fotoluminiscencie ionizovaných atómov v prúde odparujúcej sa látky (evaporant) na účel riadenia rýchlosti vylučovania sa povlaku s obsahom dvoch alebo viacerých prvkov;
Dimethyl phosphite (DMP) (868-85-9);
výrobné zariadenie na plazmové rozprašovanie, ktoré má niektorú z týchto vlastností:
Phosphorus trichloride (7719-12-2);
pracuje v riadenej atmosfére so zníženým tlakom (najviac 10 kPa meraným nad a vo vzdialenosti 300 mm od výstupu z dýzy rozprašovacieho zariadenia) vo vákuovej komore, ktorej tlak možno znížiť až na 0,01 Pa pred začatím procesu rozprašovania, alebo
Trimethyl phosphite (TMP) (121-45-9);
zahŕňa riadenie hrúbky povlaku in situ.
Thionyl chloride (7719-09-7);
výrobné príslušenstvo na naprašovanie, schopné dosiahnuť prúdovú hustotu najmenej 0,1 mA/mm2 pri rýchlosti vylučovania najmenej 15 μm/h;
3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);
výrobné príslušenstvo na vylučovanie pomocou katódového oblúka vrátane mriežky pozostávajúcej z elektromagnetov na reguláciu ovládania oblúkovej škvrny (spotu) na katóde;
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethyl chloride (96-79-7);
výrobné zariadenie na pokovovanie iónmi umožňujúce meranie in situ:
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethane thiol (5842-07-9);
hrúbky povlaku na substráte a riadenie rýchlosti, alebo
3-Quinuclidinol (1619-34-7);
optické vlastnosti.
Potassium fluoride (7789-23-3);
2B005 sa nevzťahuje na zariadenia na chemické vylučovanie z plynnej fázy, s katódovým oblúkom, na naprašovanie, iónové pokovovanie alebo implantáciu iónov, osobitne navrhnuté pre rezné alebo obrábacie stroje.
2-Chloroethanol (107-07-3);
Systémy a zariadenia na kontrolu alebo meranie rozmerov, spätnoväzbové jednotky a „elektronické montážne celky“:
Dimethylamine (124-40-3);
počítačom riadené alebo „číslicovo riadené“ súradnicové meracie stroje (CCM) s trojrozmernou maximálnou dovolenou chybou merania dĺžky (E0, MPE) v ľubovoľnom bode prevádzkového rozsahu stroja (t. j. v rozsahu osí) najviac (lepšou ako) (1,7 + L/1 000) μm (L je nameraná dĺžka v mm), podľa ISO 10360-2:2009;
Diethyl ethylphosphonate (78-38-6);
Dovolená chyba indikácie E0,MPE pri najpresnejšom nastavení CMM, stanovená výrobcom (napr. najlepší z týchto parametrov: sonda, dĺžka hrotu, parametre pohybu, prostredie) a so „všetkými dostupnými kompenzáciami“, sa porovná k prahu 1,7+L/1 000 μm.
Diethyl N,N-dimethylphosphoramidate (2404-03-7);
POZRI TIEŽ 2B206.
Diethyl phosphite (762-04-9);
prístroje alebo systémy na meranie lineárneho posuvu, spätnoväzbové jednotky a „elektronické montážne celky“:
Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);
Na interferometre a optické kódovacie systémy s „laserom“ sa vzťahuje iba 2B006.b)3 a 2B206.c).
Ethyl phosphinyl dichloride (1498-40-4);
,bezdotykové meracie systémy‘ s „citlivosťou“ najmenej (lepšou ako) 0,2 μm v rámci rozsahu merania do 0,2 mm;
Ethyl phosphonyl dichloride (1066-50-8);
Na účely 2B006.b.1) sú ,bezdotykové meracie systémy‘ konštruované na meranie vzdialenosti medzi sondou a meraným objektom pozdĺž jediného vektora, keď je sonda alebo meraný objekt v pohybe.
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Ethyl phosphonyl difluoride (753-98-0);
spätnoväzbové jednotky s lineárnou polohou, osobitne navrhnuté pre obrábacie stroje, s celkovou „presnosťou“ menej (lepšou) než [800 + (600 × L/1000)] nm (L je účinná dĺžka v mm);
Hydrogen fluoride (7664-39-3);
meracie systémy so všetkými týmito vlastnosťami:
Methyl benzilate (76-89-1);
obsahujúce „laser“
Methyl phosphinyl dichloride (676-83-5);
s „citlivosťou“ 0,200 nm alebo menej (lepšou) v celom rozsahu stupnice a
N,N-Diisopropyl-(beta)-amino ethanol (96-80-0);
so schopnosťou dosiahnuť „neistotu merania“ rovnú alebo menšiu (lepšiu) ako (1,6 + L/2 000) nm (L je nameraná dĺžka v mm) v ktoromkoľvek bode v rámci rozsahu merania po kompenzácii za refrakčný index vzduchu a pri meraní počas 30 sekúnd pri teplote 20 ± 0,01 °C; alebo
Pinacolyl alcohol (464-07-3);
„elektronické montážne celky“ osobitne navrhnuté na poskytovanie spätnej väzby v systémoch uvedených v 2B006.b)3;
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for O-Ethyl O-2-diisopropylaminoethyl methylphosphonite (QL) (57856-11-8);
spätnoväzbové jednotky s rotačnou polohou osobitne navrhnuté pre obrábacie stroje alebo pre prístroje na meranie uhlového posuvu s „presnosťou“ rovnajúcou sa alebo menšou (lepšou) než 0,9 uhlovej sekundy;
Triethyl phosphite (122-52-1);
2B006.c) sa nevzťahuje na optické prístroje, ako sú autokolimátory využívajúce kolimované svetlo (napr. „laserové“ svetlo) na zisťovanie uhlového posuvu zrkadla.
Arsenic trichloride (7784-34-1);
zariadenia na meranie drsnosti povrchu (vrátane povrchových defektov), meraním optického rozptylu s citlivosťou 0,5 nm alebo menej (lepšou).
Benzilic acid (76-93-7);
2B006 zahŕňa obrábacie stroje iné ako uvedené v bode 2B001, ktoré možno použiť ako meracie stroje, ak vyhovujú kritériám stanoveným pre funkciu meracieho stroja alebo ich prekračujú.
Diethyl methylphosphonite (15715-41-0);
„Roboty“, ktoré sa vyznačujú niektorou z nasledujúcich vlastností a ich osobitne navrhnuté regulátory a „koncové efektory“:
Dimethyl ethylphosphonate (6163-75-3);
POZRI TIEŽ 2B207.
Ethyl phosphinyl difluoride (430-78-4);
osobitne navrhnuté tak, aby vyhovovali národným bezpečnostným normám platným pre prostredie s potenciálne výbušnou muníciou;
Methyl phosphinyl difluoride (753-59-3);
2B007.b) sa nevzťahuje na „roboty“ osobitne navrhnuté pre kabíny na farbenie sprejom.
3-Quinuclidone (3731-38-2);
osobitne navrhnuté alebo zaradené ako odolné proti žiareniu tak, aby odolávali celkovej dávke žiarenia viac ako 5 × 103 Gy (kremík) bez prevádzkovej degradácie, alebo
Phosphorus pentachloride (10026-13-8);
Termín Gy (kremík) sa vzťahuje na energiu v jouloch na kilogram, absorbovanú netienenou vzorkou kremíka pri vystavení účinkom ionizačného žiarenia.
Pinacolone (75-97-8);
osobitne navrhnuté na prevádzku vo výškach nad 30000 m.
Potassium cyanide (151-50-8);
,zložené otočné stoly‘ a „preklápacie vretená“ osobitne navrhnuté pre obrábacie stroje:
Potassium bifluoride (7789-29-9);
„zložené otočné stoly“ vyznačujúce sa všetkými týmito vlastnosťami:
Ammonium hydrogen fluoride or ammonium bifluoride (1341-49-7);
navrhnuté pre obrábacie stroje na sústruženie, frézovanie alebo brúsenie a
Sodium fluoride (7681-49-4);
s dvoma rotačnými osami navrhnutými tak, že ich je možné súčasne koordinovať na účely „riadenia profilu“;
Sodium bifluoride (1333-83-1);
,Zložený otočný stôl‘ je stôl, ktorý umožňuje otáčanie a sklápanie obrobku okolo dvoch nerovnobežných osí.
Sodium cyanide (143-33-9);
„Preklápacie vretená“ vyznačujúce sa všetkými týmito vlastnosťami:
Triethanolamine (102-71-6);
navrhnuté tak, že ich je možné súčasne koordinovať na účely „riadenia profilu“.
Phosphorus pentasulphide (1314-80-3);
Stroje na tlačenie plechu na kovotlačiteľskom sústruhu a stroje na prietokové tvárnenie, ktoré podľa technickej špecifikácie výrobcu môžu byť vybavené jednotkami „číslicového riadenia“ alebo počítačovým riadením a ktoré majú všetky tieto vlastnosti:
Di-isopropylamine (108-18-9);
POZRI TIEŽ 2B109 A 2B209.
Diethylaminoethanol (100-37-8);
tri alebo viac osí, ktoré možno koordinovať súčasne na účely „riadenia profilu“ a
Sodium sulphide (1313-82-2);
silu valca väčšiu ako 60 kN.
Sulphur monochloride (10025-67-9);
Na účely 2B009 sa stroje s kombinovanou funkciou tlačenia plechu na kovotlačiteľskom sústruhu a prietokového tvárnenia považujú za stroje na prietokové tvárnenie.
Sulphur dichloride (10545-99-0);
„Izostatické lisy“, iné ako uvedené v 2B004, vyznačujúce sa všetkými týmito vlastnosťami:
Triethanolamine hydrochloride (637-39-8);
POZRI TIEŽ 2B204.
N,N-Diisopropyl-(Beta)-aminoethyl chloride hydrochloride (4261-68-1);
maximálny pracovný tlak najmenej 69 MPa;
Methylphosphonic acid (993-13-5);
navrhnuté na dosiahnutie a udržiavanie riadeného tepelného prostredia s teplotou najmenej 873 K (600 °C) a
Diethyl methylphosphonate (683-08-9);
vybavené komorovou kavitou s vnútorným priemerom najmenej 254 mm.
N,N-Dimethylaminophosphoryl dichloride (677-43-0);
Pece chemického vylučovania z plynnej fázy (CVD), iné ako uvedené v 2B005.a), navrhnuté alebo upravené na zahusťovanie kompozitných materiálov uhlík-uhlík.
Triisopropyl phosphite (116-17-6);
Stroje na prietokové tvárnenie, iné ako uvedené v 2B009, použiteľné na „výrobu“ hnacích súčastí a zariadení (napr. skrine motorov a medzistupne) „riadených striel“, a osobitne navrhnuté súčasti:
Ethyldiethanolamine (139-87-7);
POZRI TIEŽ 2B209.
O,O-Diethyl phosphorothioate (2465-65-8);
stroje na prietokové tvárnenie vyznačujúce sa všetkými týmito vlastnosťami:
O,O-Diethyl phosphorodithioate (298-06-6);
sú vybavené, alebo podľa technickej špecifikácie výrobcu môžu byť vybavené, jednotkami „číslicového riadenia“ alebo počítačovým riadením a
Sodium hexafluorosilicate (16893-85-9);
s viac než dvoma osami, ktoré môžu byť koordinované súčasne na účely „riadenia profilu“,
Methylphosphonothioic dichloride (676-98-2);
osobitne navrhnuté súčasti pre stroje na prietokové tvárnenie uvedené v 2B009 alebo 2B109.a).
Diethylamine (109-89-7);
Stroje s kombinovanou funkciou tlačenia plechu na kovotlačiteľskom sústruhu a prietokového tvárnenia sa na účely bodu 2B109 považujú za stroje na prietokové tvárnenie.
N,N-Diisopropylaminoethanethiol hydrochloride (41480-75-5).
Systémy na vibračné skúšky, ich zariadenia a súčasti:
For exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57, 63 and .65 in which no individually specified chemical constitutes more than 10 % by the weight of the mixture.
systémy na vibračné skúšky používajúce techniku spätnej väzby alebo uzavretého obvodu, ktorých súčasťou je digitálna riadiaca jednotka schopná rozvibrovať systém pri zrýchlení najmenej 10 g rms v rozsahu 20 Hz až 2 kHz, pričom prenášajú sily s veľkosťou najmenej 50 kN, merané na ,holom stole’;
For exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57, .63 and .65 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
digitálne riadiace jednotky kombinované so špeciálne navrhnutým softvérom pre vibračné skúšky, so ‚šírkou riadiaceho pásma v reálnom čase‘ viac ako 5 kHz, navrhnuté na používanie v systémoch pre vibračné skúšky, ktoré sú uvedené v 2B116.a);