natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Frequency changers or generators, other than those specified in 0B001.b.13., usable as a variable or fixed frequency motor drive, having all of the following characteristics:
„sústavy s ohniskovou rovinou“ uvedené v 6A002.a)3, alebo
"Software" specially designed to enhance or release the performance of a frequency changer or generator to meet the characteristics of 3A225 is specified in 3D225.
detektory v pevnej fáze uvedené v 6A002.a)1.;
"Technology" in the form of codes or keys to enhance or release the performance of a frequency changer or generator to meet the characteristics of 3A225 is specified in 3E225.
,Priamy náhľad‘ sa vzťahuje na zobrazovacie zariadenia, ktoré poskytujú vizuálny obraz ľudskému pozorovateľovi bez konverzie obrazu na elektronický signál zobrazovaný televíznou obrazovkou a ktoré nemôžu zaznamenávať ani uchovávať obraz fotograficky, elektronicky a ani žiadnym iným spôsobom.
a.
6A002.c) sa nevzťahuje na nasledujúce zariadenia, ktorých súčasťou sú iné fotokatódy ako GaAs alebo GaInAs:
Multiphase output providing a power of 40 VA or greater;
poplašné zariadenia signalizujúce vniknutie do priemyselných alebo civilných objektov, systémy riadenia v doprave alebo priemysle alebo počítacie systémy;
b.
zdravotnícke prístroje;
Operating at a frequency of 600 Hz or more; and
priemyselné zariadenia používané na kontrolu, triedenie alebo analýzu vlastností materiálov;
c.
plameňové detektory pre priemyselné pece;
Frequency control better (less) than 0,2 %.
zariadenia osobitne navrhnuté na laboratórne použitie.
3A225 does not control frequency changers or generators if they have hardware, "software" or "technology" constraints that limit the performance to less than that specified above, provided they meet any of the following:
osobitné podporné súčasti pre optické snímače:
They need to be returned to the original manufacturer to make the enhancements or release the constraints;
kryochladiče „vhodné na vesmírne použitie“,
They require "software" as specified in 3D225 to enhance or release the performance to meet the characteristics of 3A225; or
kryochladiče, ktoré nie sú „vhodné na vesmírne použitie“, s teplotou chladiaceho zdroja menej ako 218 K (– 55 °C):
They require "technology" in the form of keys or codes as specified in 3E225 to enhance or release the performance to meet the characteristics of 3A225.
typ s uzatvoreným okruhom so špecifikovanou strednou dobou do prvej poruchy (MTTF) alebo strednou dobou bezporuchovej prevádzky (MTBF) viac ako 2500 hodín;
Frequency changers in 3A225 are also known as converters or inverters.
Joule-Thomsonove (JT) samoregulačné minichladiče s vyvŕtanými otvormi (vonkajšieho) priemeru menej ako 8 mm;
Frequency changers in 3A225 may be marketed as Generators, Electronic Test Equipment, AC Power Supplies, Variable Speed Motors Drives, Variable Speed Drives (VSDs), Variable Frequency Drives (VFDs), Adjustable Frequency Drives (AFDs), or Adjustable Speed Drives (ASDs).
vlákna na optické snímanie osobitne vyrobené buď zložením alebo štruktúrou, alebo upravené potiahnutím tak, aby boli citlivé akusticky, tepelne, inerciálne, elektromagneticky alebo voči jadrovému žiareniu;
High-power direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.6., having both of the following characteristics:
6A002.d)3 sa nevzťahuje na zapuzdrené vlákna na optické snímanie osobitne navrhnuté na snímanie vrtných otvorov.
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 100 V or greater with current output of 500 A or greater; and
‚integrované čítacie obvody‘ (‚ROIC‘) osobitne navrhnuté pre „sústavy s ohniskovou rovinou“ uvedené v 6A002.a)3.
b.
6A002.f) sa nevzťahuje na ‚integrované čítacie obvody‘ osobitne navrhnuté na použitie v civilných automobiloch.
Current or voltage stability better than 0,1 % over a time period of 8 hours.
‚Integrovaný čítací obvod‘ (‚ROIC‘) je integrovaný čítací obvod navrhnutý tak, aby sa vytvoril základ pre „sústavu s ohniskovou rovinou“ („FPA“ ) alebo aby s ňou bol spojený, a používa sa na čítanie (t.j. extrakciu a registráciu) signálov produkovaných detekčnými prvkami.
High-voltage direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.5., having both of the following characteristics:
‚ROIC‘ číta minimálne výstupy z detektorových prvkov extrahovaním výstupov a využívaním multiplexnej funkcie spôsobom, ktorý zachováva informácie o relatívnej priestorovej polohe a orientácii detektorových prvkov na spracovanie v rámci ‚ROIC‘, alebo mimo neho.
a.
Kamery, systémy alebo zariadenia a ich súčasti:
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 20 kV or greater with current output of 1 A or greater; and
POZRI TIEŽ 6A203.
Switching devices, as follows:
Prístrojové kamery a ich osobitne navrhnuté súčasti:
a.
Prístrojové kamery uvedené v 6A003.a)3 až 6A003.a)5 s modulárnymi štruktúrami sa majú hodnotiť podľa svojho maximálneho výkonu pri použití výmenných častí, ktoré sú k dispozícii podľa špecifikácií výrobcu kamery.
Cold-cathode tubes, whether gas filled or not, operating similarly to a spark gap, having all of the following characteristics:
elektronické kamery s kontinuálnym záznamom s časovým rozlíšením lepším ako 50 ns;
Containing three or more electrodes;
kamery s elektronickým nastavovaním obrazu s rýchlosťou viac ako 1000000 okienok/s;
Anode peak voltage rating of 2,5 kV or more;
elektronické kamery vyznačujúce sa všetkými týmito vlastnosťami:
Anode peak current rating of 100 A or more; and
rýchlosť elektronickej uzávierky (hradlový výkon) menej ako 1 μs na celé okienko a
Anode delay time of 10 μs or less;
doba čítania z pamäte umožňujúca rýchlosť nastavovania obrazu viac ako 125 celých okienok za sekundu;
3A228 includes gas krytron tubes and vacuum sprytron tubes.
výmenné časti vyznačujúce sa všetkými týmito vlastnosťami:
b.
osobitne navrhnuté pre prístrojové kamery, ktoré majú modulárne štruktúry a sú uvedené v 6A003.a) a
Triggered spark-gaps having both of the following characteristics:
umožňujú týmto kamerám dosahovať vlastnosti uvedené v 6A003.a)3, 6A003.a)4 alebo 6A003.a)5 podľa špecifikácií výrobcu;
An anode delay time of 15 μs or less; and
zobrazovacie kamery:
Rated for a peak current of 500 A or more;
6A003.b) sa nevzťahuje na televízne kamery ani videokamery osobitne navrhnuté pre televízne vysielanie.
c.
Videokamery vybavené polovodičovými snímačmi, s maximálnou odozvou v rozsahu vlnovej dĺžky viac ako 10 nm ale najviac 30000 nm, vyznačujúce sa niektorým z týchto parametrov:
Modules or assemblies with a fast switching function, other than those specified in 3A001.g. or 3A001.h., having all of the following characteristics:
majúce niektorú z týchto vlastností:
Anode peak voltage rating greater than 2 kV;
viac ako 4 × 106 „aktívnych pixelov“ na polovodičové pole pre monochromatické (čiernobiele) kamery;
Anode peak current rating of 500 A or more; and
viac ako 4 × 106 „aktívnych pixlov“ na polovodičové pole pre farebné kamery obsahujúce tri polovodičové polia, alebo
Turn-on time of 1 μs or less.
viac ako 12 × 106 „aktívnych pixlov“ pre farebné kamery s polovodičovým poľom, ktoré majú jedno polovodičové pole a
High-current pulse generators as follows:
optické zrkadlá uvedené v 6A004.a);
a.
optické kontrolné zariadenia uvedené v 6A004.d), alebo
Detonator firing sets (initiator systems, firesets), including electronically-charged, explosively-driven and optically-driven firing sets, other than those specified in 1A007.a., designed to drive multiple controlled detonators specified in 1A007.b.;
schopnosť vyložiť interne generované ,sledovacie údaje kamery‘;
b.
Na účely tejto položky sa digitálne videokamery majú hodnotiť podľa maximálneho počtu ‚aktívnych pixlov’ používaných na zachytenie pohyblivých obrazov.
Modular electrical pulse generators (pulsers) having all of the following characteristics:
Na účely tejto položky sú ,sledovacie údaje kamery‘ informácie nevyhnutné na určenie čiary orientácie hľadáčika s ohľadom na zem.
Designed for portable, mobile, or ruggedized-use;
To zahŕňa: 1. horizontálny uhol, ktorý čiara hľadáčika vytvára vo vzťahu k smeru zemského magnetického poľa, a 2. vertikálny uhol medzi čiarou hľadáčika kamery a zemským horizontom.
Capable of delivering their energy in less than 15 μs into loads of less than 40 ohms;
Snímacie kamery a snímacie kamerové systémy vyznačujúce sa všetkými týmito vlastnosťami:
Having an output greater than 100 A;
maximálna odozva v rozsahu vlnovej dĺžky viac ako 10 nm, ale najviac 30000 nm;
No dimension greater than 30 cm;
polia s lineárnym detektorom s viac ako 8192 prvkami na pole a
Weight less than 30 kg; and
mechanické snímanie v jednom smere;
Specified for use over an extended temperature range 223 K (– 50 °C) to 373 K (100 °C) or specified as suitable for aerospace applications.
6A003.b)2 sa nevzťahuje na snímacie kamery a snímacie kamerové systémy osobitne navrhnuté pre ktorýkoľvek z týchto výrobkov:
3A229.b. includes xenon flash-lamp drivers.
priemyselné alebo civilné kopírovacie zariadenia;
c.
obrazové skenery osobitne navrhnuté na civilné, stacionárne skenovacie aplikácie skenujúce zblízka (napr. reprodukcia obrázkov alebo tlače uvedených v dokumentoch, umeleckých dielach alebo fotografiách), alebo
Micro-firing units having all of the following characteristics:
zdravotnícke prístroje.
No dimension greater than 35 mm;
zobrazovacie kamery vybavené elektrónkami na zosilnenie jasu obrazu, uvedené v 6A002.a)2.a) alebo 6A002.a)2.b);
Voltage rating of equal to or greater than 1 kV; and
zobrazovacie kamery vybavené „sústavami s ohniskovou rovinou“ vyznačujúce sa niektorou z týchto vlastností:
Capacitance of equal to or greater than 100 nF.
sú vybavené „sústavami s ohniskovou rovinou“ uvedenými v 6A002.a)3.a) až 6A002.a)3.e);
High-speed pulse generators, and 'pulse heads' therefor, having both of the following characteristics:
sú vybavené „sústavami s ohniskovou rovinou“ uvedenými v 6A002.a)3.f), alebo
Output voltage greater than 6 V into a resistive load of less than 55 ohms, and
Zobrazovacie kamery uvedené v 6A003.b)4 zahŕňajú okrem integrovaného čítacieho obvodu „sústavy s ohniskovou rovinou“ v kombinácii s elektronikou na dostatočné „spracovanie signálu“, aby bol pri napájaní umožnený aspoň výstup analógového alebo digitálneho signálu.
b.
6A003.b)4.a) sa nevzťahuje na zobrazovacie kamery vybavené lineárnymi „sústavami s ohniskovou rovinou“ s najviac 12 prvkami, ktoré v rámci daného prvku nepoužívajú časové oneskorenie a integráciu a sú navrhnuté na niektorý z týchto účelov:
'Pulse transition time' less than 500 ps.
priemyselné zariadenia používané na kontrolu alebo monitorovanie tepelných tokov v budovách, zariadeniach alebo priemyselných procesoch;
In 3A230, 'pulse transition time' is defined as the time interval between 10 % and 90 % voltage amplitude.
zariadenia osobitne navrhnuté na laboratórne použitie, alebo
'Pulse heads' are impulse forming networks designed to accept a voltage step function and shape it into a variety of pulse forms that can include rectangular, triangular, step, impulse, exponential, or monocycle types.
6A003.b)4.b) sa nevzťahuje na zobrazovacie kamery s niektorou z týchto vlastností:
'Pulse heads' can be an integral part of the pulse generator, they can be a plug-in module to the device or they can be an externally connected device.
maximálna obnovovacia frekvencia rovná alebo nižšia ako 9 Hz;
Neutron generator systems, including tubes, having both of the following characteristics:
minimálne horizontálne alebo vertikálne ,okamžité zorné pole (IFOV)‘ najmenej 10 mrad (miliradiánov);
a.
obsahujú šošovku s pevnou ohniskovou vzdialenosťou, ktorá nie je navrhnutá ako odnímateľná;
Designed for operation without an external vacuum system; and
nie sú vybavené obrazovkou na ,priame pozorovanie‘ a
Utilizing any of the following:
kamera je určená na jednotlivé aplikácie a navrhnutá tak, aby nemohla byť modifikovaná užívateľom, alebo
Electrostatic acceleration to induce a tritium-deuterium nuclear reaction; or
kamera je osobitne určená na montáž do civilného osobného pozemného vozidla a vyznačuje sa všetkými týmito vlastnosťami:
Electrostatic acceleration to induce a deuterium-deuterium nuclear reaction and capable of an output of 3 × 109 neutrons/s or greater.
umiestnenie a konfigurácia kamery vo vozidle majú iba pomáhať vodičovi pri bezpečnej prevádzke vozidla;
Multipoint initiation systems, other than those specified in 1A007, as follows:
kamera funguje, iba keď je namontovaná:
See 1A007.b. for detonators.
v pozemnom vozidle civilného cestujúceho, pre ktoré bola určená a vozidlo váži menej ako 4,500 kg (brutto hmotnosť vozidla), alebo
Arrangements using single or multiple detonators designed to nearly simultaneously initiate an explosive surface over an area greater than 5000 mm2 from a single firing signal with an initiation timing spread over the surface of less than 2,5 μs.
je vybavená aktívnym mechanizmom, ktorý znemožní fungovanie kamery, ak je odstránená z vozidla, pre ktoré bola určená.
3A232 does not control detonators using only primary explosives, such as lead azide.
,Horizontálne IFOV‘ = horizontálne zorné pole (FOV)/počet horizontálnych snímacích prvkov
Mass spectrometers, other than those specified in 0B002.g., capable of measuring ions of 230 u or greater and having a resolution of better than 2 parts in 230, as follows, and ion sources therefor:
,Vertikálne IFOV‘ = vertikálne zorné pole (FOV)/počet vertikálnych snímacích prvkov.
a.
6A003.b)4.c) sa nevzťahuje na zobrazovacie kamery, ktoré majú niektorú z týchto vlastností:
Inductively coupled plasma mass spectrometers (ICP/MS);
kamera je špeciálne navrhnutá na montáž ako zabudovaná súčasť interiérového systému alebo vybavenia na elektrickú zásuvku a svojou konštrukciou je obmedzená na jeden druh nasledujúcich aplikácií:
b.
monitorovanie priemyselného procesu, kontrola kvality alebo analýza vlastností materiálu;
Glow discharge mass spectrometers (GDMS);
laboratórne vybavenie osobitne určené na vedecký výskum;
c.
zariadenia na zisťovanie finančných podvodov a
Thermal ionization mass spectrometers (TIMS);
v systémoch a zariadeniach, pre ktoré bola určená, alebo
d.
v špeciálne navrhnutých a autorizovaných údržbárskych zariadeniach a
Electron bombardment mass spectrometers having both of the following features:
je vybavená aktívnym mechanizmom, ktorý znemožní fungovanie kamery po jej odstránení zo systémov a zariadení, pre ktoré bola určená;
A molecular beam inlet system that injects a collimated beam of analyte molecules into a region of the ion source where the molecules are ionized by an electron beam; and
ak je kamera je osobitne určená na montáž do civilného osobného pozemného vozidla alebo do prevozných lodí na prepravu cestujúcich a vozidiel a vyznačuje sa všetkými týmito vlastnosťami:
One or more 'cold traps' that can be cooled to a temperature of 193 K (– 80 °C);
umiestnenie a konfigurácia kamery vo vozidle alebo prevoznej lodi majú iba pomáhať vodičovi alebo obsluhe pri bezpečnej prevádzke vozidla alebo prevoznej lode;
e.
v pozemnom vozidle civilného cestujúceho, pre ktoré bola určená a vozidlo váži menej ako 4500 kg (brutto hmotnosť vozidla),
Not used;
v prevoznej lodi pre cestujúcich a automobily, pre ktoré bola určená a ktorá má celkovú dĺžku (LOA) najmenej 65 m, alebo
f.
v osobitne určenom autorizovanom skúšobnom testovacom zariadení a
Mass spectrometers equipped with a microfluorination ion source designed for actinides or actinide fluorides.
je vybavená aktívnym mechanizmom, ktorý znemožní fungovanie kamery, ak je odstránená z vozidla, pre ktoré bola určená;
Electron bombardment mass spectrometers in 3A233.d. are also known as electron impact mass spectrometers or electron ionization mass spectrometers.
je konštrukčne obmedzená tak, aby mala maximálnu „citlivosť na žiarenie“ 10 mA/W alebo menej pre vlnové dĺžky nad 760 nm, a má všetky tieto vlastnosti:
In 3A233.d.2., a 'cold trap' is a device that traps gas molecules by condensing or freezing them on cold surfaces.
sú vybavené mechanizmom obmedzenia odozvy, ktorý je navrhnutý tak aby sa nedal odstrániť alebo pozmeniť
For the purposes of 3A233.d.2., a closed-loop gaseous helium cryogenic vacuum pump is not a 'cold trap'.
je vybavená aktívnym mechanizmom, ktorý znemožní fungovanie kamery po odstránení mechanizmu obmedzenia odozvy, a
Striplines to provide low inductance path to detonators with the following characteristics:
nie je osobitne navrhnutá alebo upravená na použitie pod vodou alebo
a.
má všetky tieto vlastnosti:
Voltage rating greater than 2 kV; and
nie je vybavená obrazovkou na ,priame pozorovanie‘ alebo elektronické zobrazovanie;
b Inductance of less than 20 nH.
nemá žiadne zariadenie na výstup viditeľného obrazu z pozorovaného zorného poľa;
Equipment for the manufacturing of semiconductor devices or materials, as follows and specially designed components and accessories therefor:
„sústava s ohniskovou rovinou“ je funkčná, iba ak je namontovaná v kamere, pre ktorú bola určená, a
SEE ALSO 2B226
„sústava s ohniskovou rovinou“ je vybavená aktívnym mechanizmom, ktorý ju natrvalo znefunkční, ak sa odstráni z kamery, pre ktorú bola určená;
a.
zobrazovacie kamery, ktoré sú vybavené detektormi v pevnej fáze uvedenými v 6A002.a)1.
Equipment designed for epitaxial growth as follows:
Optické zariadenia a ich súčasti:
Equipment designed or modified to produce a layer of any material other than silicon with a thickness uniform to less than ± 2,5 % across a distance of 75 mm or more;
optické zrkadlá (reflektory):
3B001.a.1. includes Atomic Layer Epitaxy (ALE) equipment.
Na účely 6A004.a) sa prahová hodnota laserom vyvolaného poškodenia (LIDT) meria podľa normy ISO 21254-1:2011.
Metal Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) reactors designed for compound semiconductor epitaxial growth of material having two or more of the following elements: aluminium, gallium, indium, arsenic, phosphorus, antimony, or nitrogen;
Pre optické zrkadlá osobitne navrhnuté pre litografické zariadenia pozri 3B001.
Molecular beam epitaxial growth equipment using gas or solid sources;
,deformovateľné zrkadlá‘ majúce aktívnu optickú apertúru viac ako 10 mm, vyznačujúce sa niektorou z nasledujúcich charakteristík, a ich osobitne navrhnuté súčasti;
b.
majúce všetko ďalej uvedené:
Equipment designed for ion implantation and having any of the following:
mechanická rezonančná frekvencia najmenej 750 Hz a
Being designed and optimized to operate at a beam energy of 20 keV or more and a beam current of 10 mA or more for hydrogen, deuterium or helium implant;
viac ako 200 aktuátorov alebo
Direct write capability;
prahová hodnota laserom vyvolaného poškodenia (LIDT) je niektorá z týchto:
A beam energy of 65 keV or more and a beam current of 45 mA or more for high energy oxygen implant into a heated semiconductor material "substrate"; or
vyššia ako 1 kW/cm2 pri použití „CW lasera“, alebo
Being designed and optimized to operate at a beam energy of 20 keV or more and a beam current of 10 mA or more for silicon implant into a semiconductor material "substrate" heated to 600 °C or greater;
vyššia ako 2 J/cm2 pri použití 20 ns „laserových“ impulzov s frekvenciou 20 Hz;
e.
,Deformovateľné zrkadlá‘ sú zrkadlá vyznačujúce sa niektorou z týchto vlastností:
Automatic loading multi-chamber central wafer handling systems having all of the following:
jedinú spojitú optickú odraznú plochu, ktorá sa dynamicky deformuje pôsobením jednotlivých krútiacich momentov alebo síl s cieľom kompenzovať skreslenia optického tvaru vĺn dopadajúcich na zrkadlo, alebo
Interfaces for wafer input and output, to which more than two functionally different 'semiconductor process tools' specified in 3B001.a.1., 3B001.a.2., 3B001.a.3 or 3B001.b. are designed to be connected; and
viacnásobné optické odrazné prvky, ktoré možno jednotlivo a dynamicky premiestňovať pôsobením krútiacich momentov alebo síl s cieľom kompenzovať skreslenia optického tvaru vĺn dopadajúcich na zrkadlo.
Designed to form an integrated system in a vacuum environment for 'sequential multiple wafer processing';
,Deformovateľné zrkadlá‘ sú takisto známke ako adaptívne optické zrkadlá.
3B001.e. does not control automatic robotic wafer handling systems specially designed for parallel wafer processing.
ľahké monolitické zrkadlá s priemernou „ekvivalentnou hustotou“ menej ako 30 kg/m2 a celkovou hmotnosťou viac ako 10 kg;
For the purpose of 3B001.e., 'semiconductor process tools' refers to modular tools that provide physical processes for semiconductor production that are functionally different, such as deposition, implant or thermal processing.
6A004.a)2. sa nevzťahuje na zrkadlá osobitne navrhnuté na smerovanie slnečného žiarenia pre pozemné heliostatické zariadenia.
For the purpose of 3B001.e., 'sequential multiple wafer processing' means the capability to process each wafer in different 'semiconductor process tools', such as by transferring each wafer from one tool to a second tool and on to a third tool with the automatic loading multi-chamber central wafer handling systems.
konštrukcie z ľahkých „kompozitných“ alebo penových zrkadlových štruktúr, ktoré majú priemernú „ekvivalentnú hustotu“ menej ako 30 kg/m2 a celkovú hmotnosť viac ako 2 kg;
f.
6A004.a)3. sa nevzťahuje na zrkadlá osobitne navrhnuté na smerovanie slnečného žiarenia pre pozemské heliostatické inštalácie zariadení.
Lithography equipment as follows:
zrkadlá osobitne navrhnuté pre stupne zrkadiel na usmerňovanie lúčov uvedených v 6A004.d)2.a), s rovinnosťou λ/10 alebo lepšou (λ sa rovná 633 nm), ktoré sa vyznačujú niektorou z týchto vlastností:
Align and expose step and repeat (direct step on wafer) or step and scan (scanner) equipment for wafer processing using photo-optical or X-ray methods and having any of the following:
priemer alebo dĺžka hlavnej osi je najmenej 100 mm, alebo
a.
majú všetko ďalej uvedené:
A light source wavelength shorter than 193 nm; or
priemer alebo dĺžka hlavnej osi je väčší ako 50 mm ale menší ako 100 mm a
b.
prahová hodnota laserom vyvolaného poškodenia (LIDT) je niektorá z týchto:
Capable of producing a pattern with a 'Minimum Resolvable Feature size' (MRF) of 45 nm or less;
vyššia ako 10 kW/cm2 pri použití „CW lasera“, alebo
The 'Minimum Resolvable Feature size' (MRF) is calculated by the following formula:
vyššia ako 20 J/cm2 pri použití 20 ns „laserových“ impulzov s frekvenciou 20 Hz;
where the K factor = 0,35
optické súčasti vyrobené zo selenidu zinku (ZnSe) alebo zo sulfidu zinku (ZnS) s prenosom v rozsahu vlnovej dĺžky viac ako 3000 nm, ale najviac 25000 nm, ktoré sa vyznačujú niektorou z týchto vlastností:
Imprint lithography equipment capable of producing features of 45 nm or less;
majú objem viac ako 100 cm3, alebo
Micro contact printing tools
súčasti pre optické systémy „vhodné na vesmírne použitie“:
Hot embossing tools
súčasti odľahčené na viac ako 20 % „ekvivalentnej hustoty“ v porovnaní s jednoliatym predliatkom rovnakej apertúry a hrúbky;
Step and flash imprint lithography (S-FIL) tools
segmenty alebo sústavy zrkadiel navrhnuté na montáž v priestore do optického systému so zbernou apertúrou rovnou alebo väčšou, ako má jedno optické zariadenie s priemerom 1 m;
Equipment specially designed for mask making having all of the following:
súčasti vyrobené z „kompozitných“ materiálov s koeficientom lineárnej tepelnej rozťažnosti rovným alebo menším ako 5 × 10–6 v každom smere súradníc;
a.
optické ovládacie zariadenia:
A deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam; and
zariadenie osobitne navrhnuté tak, aby si zachovalo povrchový tvar alebo orientáciu súčastí „vhodných na vesmírne použitie“ uvedených v 6A004.c)1 alebo 6A004.c)3;
A full-width half-maximum (FWHM) spot size smaller than 65 nm and an image placement less than 17 nm (mean + 3 sigma); or
zariadenie na smerovanie, sledovanie, stabilizáciu alebo na nastavenie rezonátora:
A second-layer overlay error of less than 23 nm (mean + 3 sigma) on the mask;
stupne zrkadiel na smerovanie lúčov určené na upevnenie zrkadiel s priemerom alebo dĺžkou hlavnej osi viac ako 50 mm a vyznačujúce sa všetkými nasledujúcimi vlastnosťami, a ich osobitne navrhnuté elektronické ovládacie príslušenstvo:
Equipment designed for device processing using direct writing methods, having all of the following:
maximálny uhlový posuv ± 26 mrad alebo viac;
a.
mechanická rezonančná frekvencia najmenej 500 Hz a