natgillin/translations-raw huggingface dataset:
c.
Napríklad technické údaje týkajúce sa procesu chemického nanášania pár (CVD) sa uvádzajú v prípade nanášania silicidov na "kompozitné materiály" s "matricou" uhlík-uhlík, keramickou a kovovou, neuvádzajú sa však v prípade nanášania silicidov na substrát 'spekaný karbid volfrámu' (16) ani na 'karbid kremíka' (18).
"Laser" beam; and
V druhom prípade sa výsledný nános neuvádza v odseku v treťom stĺpci priamo oproti odseku v druhom stĺpci, v ktorom sa uvádza 'spekaný karbid volfrámu' (16) a 'karbid kremíka' (18).
At least two rotary axes having all of the following:
"Technológia" podľa všeobecnej poznámky k technológii pre "používanie" zariadenia alebo "softvéru" uvedeného v bodoch 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 až 2B122 alebo 2D101.
a.
"Technológia" podľa všeobecnej poznámky k technológii na "používanie" zariadenia alebo "softvéru" uvedeného v bodoch 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b), 2B007.c), 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 až 2B233, 2D201 alebo 2D202.
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
"Technológia" podľa všeobecnej poznámky k technológii pre "používanie" tovarov uvedených v 2B350 až 2B352.
b.
Tabuľka
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003°;
Techniky pokovovania
f.
Proces nanášania (1) [3]
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m.
Substrát
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Výsledný nános
a.
A. Chemické nanášanie pár (CVD)
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
"Vysokolegované zliatiny"
b.
Aluminidy pre vnútorné kanály
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
Keramika (19) a sklá s nízkou rozťažnosťou (14)
c.
Silicidy
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Karbidy
d.
Dielektrické vrstvy (15)
Using any of the following processes:
Diamant
Magnetorheological finishing ('MRF');
Diamantovitý uhlík (17)
Electrorheological finishing ('ERF');
"Kompozitné materiály" s "matricou" uhlík – uhlík, keramiky a kovov
'Energetic particle beam finishing';
Ťažko taviteľné kovy
'Inflatable membrane tool finishing'; or
Ich zmesi (4)
'Fluid jet finishing'.
Aluminidy
For the purposes of 2B002:
Zliatinové aluminidy (2)
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
Nitrid bóru
'ERF' is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
Spekaný karbid volfrámu (16), Karbid kremíka (18)
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Volfrám
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Molybdén a zliatiny molybdénu
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
Berýlium a zliatiny berýlia
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc = 40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
Materiály na okienka snímačov (9)
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár tepelným odparovaním: TE-PVD)
SEE ALSO 2B104 and 2B204.
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár (PVD): pomocou elektrónového lúča (EB-PVD)
a.
Zliatinové silicidy
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Modifikovaný oxid zirkoničitý (12)
b.
Oceľ odolná proti korózii (7)
Having any of the following:
Boridy
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
Berýlium
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
Zliatiny titánu (13)
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Nitridy
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár (PVD) odporovým vyhrievaním pomocou iónov (pokovovanie iónmi)
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
Keramika (19) a sklá s nízkou rozťažnosťou
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Spekaný karbid volfrámu (16), Karbid kremíka
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár (PVD): "laserové" odparovanie
a.
Diamantovitý uhlík
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár (PVD): Katódový oblúkový výboj
SEE ALSO 2B105.
Polyméry (11) a "kompozitné materiály" s organickou "matricou"
A process modified for one of the following:
C. Cementovanie v prášku v uzavretých nádobách (pozri vyššie bod A pre cementovanie v prášku v otvorených nádobách) (10)
a.
Ťažko taviteľné kovy a zliatiny (8)
Pulsating CVD;
Oxidy
b.
D. Plazmové striekanie
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Obrusovateľný nikel-grafit
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
Obrusovateľný Al-Si-Polyester
a.
Zliatiny hliníka (6)
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
E. Nanášanie suspenzie
b.
Tavené silicidy
Incorporating in situ coating thickness control;
Tavené aluminidy okrem článkov na odporové vyhrievanie
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Modifikované aluminidy ušľachtilých kovov (3)
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
Keramika a sklá s nízkou rozťažnosťou (14)
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
Dielektrické vrstvy (15)
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
G. Iónová implantácia
d.
Žiaruvzdorné ložiskové ocele
Plasma spraying production equipment having any of the following:
Prísady chrómu, tantalu alebo nióbu (kolumbia)
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Spekaný karbid volfrámu (16)
Incorporating in situ coating thickness control;
TABUĽKA – TECHNIKY POKOVOVANIA – POZNÁMKY
e.
Pojem 'proces povliekania' zahŕňa opravu a obnovu povlaku, ako aj pôvodný povlak.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Pojem 'povlak zo zliatinového aluminidu' zahŕňa jednostupňové alebo viacstupňové povliekanie, pri ktorom sa určitý prvok alebo prvky nanášajú ešte pred nanesením povlaku aluminidu, a to aj vtedy, ak sa tieto prvky nanášajú prostredníctvom iného procesu povliekania.
f.
Nezahŕňa však viacnásobné použitie jednostupňových procesov cementovania v prášku v uzavretých nádobách na účel získania zliatinových aluminidov.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
Pojem povlak 'aluminidu modifikovaného ušľachtilým kovom' zahŕňa viacstupňové povliekanie, v rámci ktorého sa ušľachtilý kov alebo ušľachtilé kovy nanášajú inými procesmi povliekania ešte pred nanesením povlaku aluminidu.
g.
Pojem 'ich zmesi' zahŕňa infiltrovaný materiál, klasifikované kompozície, spolu vylučované povlaky a viacvrstvové povlaky, ktoré sa získajú pomocou jedného alebo viacerých procesov povliekania uvedených v tabuľke.
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
'MCrAlX' sa vzťahuje na povliekaciu zliatinu, kde M znamená kobalt, železo, nikel alebo ich kombinácie a X znamená hafnium, ytrium, kremík, tantal v ľubovoľnom množstve alebo iné zámerné prísady v množstve nad 0,01 hmotnostných % v rôznych pomeroch a kombináciách, okrem:
Coating thickness on the substrate and rate control; or
povlakov CoCrAlY, ktoré obsahujú menej ako 22 hmotnostných % chrómu, menej ako 7 hmotnostných % hliníka a menej ako 2 hmotnostných % ytria;
Optical characteristics.
povlakov CoCrAlY, ktoré obsahujú 22 až 24 hmotnostných % chrómu, 10 až 12 hmotnostných % hliníka a 0,5 až 0,7 hmotnostných % ytria alebo
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
povlakov NiCrAlY, ktoré obsahujú 21 až 23 hmotnostných % chrómu, 10 až 12 hmotnostných % hliníka a 0,9 až 1,1 hmotnostných % ytria.
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
Pojem, "zliatiny hliníka" sa vzťahuje na zliatiny s medzou pevnosti v ťahu najmenej 190 MPa meranou pri 293 K (20 °C).
a.
Pojem 'nehrdzavejúca oceľ' sa vzťahuje na ocele radu 300 podľa AISI (Americký inštitút pre železo a oceľ) alebo na ocele podľa ekvivalentných vnútroštátnych noriem.
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
"Ťažko taviteľné kovy a zlúčeniny" zahŕňajú tieto kovy a ich zliatiny: niób (kolumbium), molybdén, volfrám a tantal.
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1000 μm threshold.
"Materiály na okienka snímačov": oxid hlinitý, kremík, germánium, sírnik zinočnatý, selenid zinočnatý, arzenid gália, diamant, fosfid gália, zafír a tieto halogenidy kovov: materiály na okienka snímačov s priemerom väčším ako 40 mm pre fluorid zirkónia a fluorid hafnia.
SEE ALSO 2B206.
Na "technológiu" pre jednostupňovú cementáciu v prášku v uzavretých nádobách pevných nosných plôch sa nevzťahuje kategória 2.
b.
"Polyméry": polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonáty a polyuretány.
Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
'Modifikovaný oxid zirkoničitý' sa vzťahuje na prímesi iných oxidov kovov (napr. vápnika, horčíka, ytria, hafnia a kovov vzácnych zemín) do oxidu zirkoničitého na stabilizáciu určitých kryštalografických fáz a fázových kompozícií.
'Linear displacement' measuring instruments having any of the following:
Povlaky predstavujúce tepelnú bariéru vyrobené z oxidu zirkoničitého modifikovaného vápnikom alebo horčíkom cestou zmiešania alebo tavenia nepodliehajú kontrole.
Interferometer and optical-encoder displacement measuring systems containing a "laser" are only controlled in 2B006.b.1.c. and 2B206.c.
'Zliatiny titánu' sa vzťahujú iba na kozmické zliatiny s medzou pevnosti v ťahu najmenej 900 MPa meranou pri 293 K (20 °C).
For the purpose of 2B006.b.1.
'Sklá s nízkou rozťažnosťou' sú sklá s koeficientom tepelnej rozťažnosti najviac 1 × 10– 7 K– 1 meraným pri 293 K (20 °C).
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
'Dielektrické vrstvy' sú povlaky zostavené z viacerých vrstiev izolačných materiálov, v ktorých sa interferenčné vlastnosti navrhnutého materiálu zloženého z materiálov s rôznymi indexmi lomu využívajú na odrážanie, prenášanie alebo absorbovanie pásiem s rôznou vlnovou dĺžkou.
a.
Dielektrické vrstvy znamenajú viac ako štyri dielektrické vrstvy alebo vrstvy dielektrického/kovového "kompozitného materiálu".
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
'Spekaný karbid volfrámu' nezahŕňa materiály rezacích nožov a tvárniacich nástrojov pozostávajúcich z karbidu volfrámu/(kobaltu, niklu), karbidu titánu/(kobaltu, niklu), karbidu chrómu/niklu-chrómu a karbidu chrómu/niklu.
b.
Kontrole nepodlieha "technológia" osobitne navrhnutá na nanášanie diamantového uhlíka na ľubovoľný z nasledujúcich predmetov:
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
mechaniky a hlavy magnetických diskov, zariadenia na výrobu predmetov určených na jedno použitie, ventily kohútikov, akustické membrány reproduktorov, súčasti motorov automobilov, rezné nástroje, prestrihovacie formy a lisovacie formy, zariadenia na automatizáciu administratívy, mikrofóny alebo zdravotnícke stroje a prístroje alebo lisy na tavenie alebo lisovanie plastov, vyrábané z legovaných kovov obsahujúcich menej ako 5 % berýlia.
a.
'Karbid kremíka' nezahŕňa materiály pre rezné a tvárniace nástroje.
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
Keramické substráty podľa tejto položky nezahŕňajú keramické materiály s obsahom najmenej 5 hmotnostných % hliny alebo cementu, nezávisle od toho, či ide o samostatné zložky alebo ich kombináciu.
b.
TABUĽKA – TECHNIKY POKOVOVANIA – TECHNICKÁ POZNÁMKA
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5 mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
Procesy uvedené v stĺpci 1 tabuľky sú vymedzené takto:
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ± 1 K;
Chemické vylučovanie z plynnej fázy (CVD) je proces prekrývacieho povliekania alebo proces povliekania s modifikáciou povrchu, pri ktorom sa na zahriaty substrát nanáša kov, zliatina, "kompozitný materiál", dielektrikum alebo keramika.
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
V blízkosti substrátu sa plynné reaktanty rozkladajú alebo kombinujú, následkom čoho sa požadovaný prvok, zliatina alebo zlúčenina ukladá na substráte.
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm.
Energiu potrebnú pre tento proces rozkladu alebo chemickej reakcie môže dodať teplo substrátu, plazmovo-tlejivý výboj alebo ožarovanie "laserom".
c.
CVD zahŕňa tieto procesy: vylučovanie mimo uzavretých nádob s riadeným tokom plynu, pulzačné CVD, tepelné vylučovanie s riadenou tvorbou kryštalizačných centier (CNTD) a procesy CVD zosilnené plazmou alebo za pomoci plazmy.
Measuring systems having all of the following:
Uzavretá nádoba znamená substrát ponorený do práškovej zmesi.
Containing a "laser";
Plynové reaktanty používané v procesoch mimo uzatvorených nádob vznikajú použitím rovnakých základných reakcií a parametrov ako v prípade procesu cementovania v prášku v uzavretých nádobách, okrem toho, že substrát, ktorý sa má povliekať nie je v styku s práškovou zmesou.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár pomocou tepelného odparovania (TE-PVD) je proces prekrývacieho povliekania prebiehajúci vo vákuu pri tlaku menej ako 0,1 Pa, pričom sa používa zdroj tepelnej energie na odparenie povliekacieho materiálu.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20 ± 0,01 °C; or
Výsledkom tohto procesu je kondenzácia alebo vylučovanie odparových vzoriek na vhodne umiestnené substráty.
d.
Pridávanie plynov do vákuovej komory počas procesu povliekania na účely syntetizácie zložených povlakov predstavuje bežnú modifikáciu daného procesu.
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Používanie iónových alebo elektrónových lúčov alebo plazmy na aktivovanie alebo podporu vylučovania povlaku predstavuje takisto bežnú modifikáciu tejto techniky.
2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
Používanie monitorov na zabezpečenie merania optických charakteristík a hrúbky povlakov počas procesu môže byť charakteristickým znakom týchto procesov.
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025°;
Špecifické procesy charakteru TE-PVD:
2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
Proces PVD pomocou elektrónového lúča využíva elektrónový lúč na zohriatie a odparenie materiálu, ktorý tvorí povlak.
c.
Proces PVD s odporovým zahrievaním pomocou iónov využíva elektrické zdroje odporového zohrievania v kombinácii s dopadajúcim iónovým lúčom na vytvorenie riadeného a homogénneho toku odparovaných druhov povlakov.
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
"Laserové" odparovanie využíva "laserové" lúče s pulzujúcou alebo stálou vlnou na odparovanie materiálu, ktorý tvorí povlak;
2B006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
Nanášanie pomocou katódového oblúka využíva taviacu elektródu z materiálu, ktorý tvorí povlak a na povrchu sa vytvára oblúkový výboj v dôsledku styku so zemniacou spúšťou v danom okamihu.
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
Riadený pohyb iskrenia eroduje povrch katódy, čím vzniká vysoko ionizovaná plazma.
SEE ALSO 2B207.
Anódou môže byť buď kužeľ pripevnený k obvodu katódy cez izolátor, alebo komora.
a.
Predmagnetizácia substrátu sa používa na nepriamočiare vylučovanie.
Capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional 'scene analysis' to generate or modify "programmes" or to generate or modify numerical programme data;
Táto definícia nezahŕňa náhodné vylučovanie pomocou katódového oblúka na nepredmagnetizované substráty.
The 'scene analysis' limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
Pokovovanie iónmi je zvláštna modifikácia všeobecného procesu TE-PVD, pri ktorej sa na ionizovanie zložky, ktorá sa má naniesť, používa plazma alebo zdroj iónov, a na substrát sa privedie záporné predpätie (predmagnetizácia) tak, aby sa umožnila extrakcia zložky z plazmy.
b.
Zavedenie reaktívnych zložiek, odparovanie tuhých látok v procesnej komore a používanie monitorov na zabezpečenie merania optických charakteristík a hrúbky povlakov počas procesu sú obvyklými modifikáciami tohto procesu.
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
Cementovanie v prášku v uzavretých nádobách je proces povliekania modifikáciou povrchu alebo proces prekrývacieho povlaku, pri ktorom sa substrát ponorí do práškovej zmesi (uzatvorená nádoba), ktorá pozostáva z:
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
kovových práškov, ktoré sa majú naniesť (obvykle hliník, chróm, kremík alebo ich kombinácie);
c.
aktivátora (väčšinou halogenidová soľ) a
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
inertného prášku, najčastejšie oxidu hlinitého.
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
Substrát a prášková zmes sa nachádza v retorte, ktorá sa zahreje na teplotu 1030 K (757 °C) a 1375 K (1102 °C) na dobu postačujúcu na to, aby sa vytvoril povlak.
d.
Plazmové striekanie je proces prekrývacieho povliekania, v ktorom pištoľ (rozprašovací horák), ktorá vytvára a riadi plazmu, prijíma práškové alebo drôtové povlakové materiály, taví ich a ženie smerom k substrátu, na ktorom sa vytvorí jednotne viazaný povlak.
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
Plazmové striekanie predstavuje buď plazmové striekanie pri nízkom tlaku alebo plazmové striekanie pri vysokej rýchlosti.
Assemblies or units, specially designed for machine tools, or dimensional inspection or measuring systems and equipment, as follows:
Nízky tlak znamená tlak nižší, než je atmosférický tlak prostredia.
a.
Vysoká rýchlosť sa vzťahuje na rýchlosť plynu na výstupe z dýzy vyššiu ako 750 m/s, počítanú pri 293 K (20 °C) a 0,1 MPa.
Linear position feedback units having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1000)) nm (L equals the effective length in mm);
Vylučovanie zo suspenzie je proces povliekania s modifikáciou povrchu alebo proces prekrývacieho povliekania, pri ktorom sa kovový alebo keramický prášok s organickým spojivom suspenduje do kvapaliny a na substrát sa nanáša buď striekaním, namáčaním alebo natieraním, s následným sušením na vzduchu alebo v peci a tepelným spracovaním tak, aby sa dosiahol požadovaný povlak.
For "laser" systems see also 2B006.b.1.c., 2B006.b.1.d. and 2B206.c.
Naprašovanie je proces prekrývacieho povliekania založený na prenose hybnosti, pri ktorom sú kladné ióny urýchľované elektrickým poľom smerom k povrchu terča (povliekací materiál).
b.
Kinetická energia dopadajúcich iónov je dostatočná na to, aby uvoľnila atómy z bombardovaného povrchu a naniesla ich na vhodne umiestnený substrát.
Rotary position feedback units having an "accuracy" less (better) than 0,00025°;
Tabuľka sa týka iba vylučovania pomocou triódy, magnetrónu alebo reaktívneho naprašovania, ktoré sa používa na zvýšenie priľnavosti povlaku a rýchlosti tvorby nánosov a na naprašovanie zosilnené rádiovou frekvenciou (RF), používané na odparovanie nekovových povliekacích materiálov.
For "laser" systems see also Note to 2B006.b.2.
Na aktiváciu vylučovania sa môžu použiť lúče iónov s nízkou energiou (menej ako 5 keV).
2B008.a. and 2B008.b. control units, which are designed to determine the positioning information for feedback control, such as inductive type devices, graduated scales, infrared systems or "laser" systems.
Implantovanie iónov je proces povliekania s modifikáciou povrchu, pri ktorom sa prvok, ktorý sa má zlievať, ionizuje, urýchli prostredníctvom gradientu potenciálu a implantuje sa do oblasti povrchu substrátu.
c.
Sem patria aj procesy, pri ktorých sa implantovanie iónov vykonáva zároveň fyzikálnym zrážaním pár pomocou elektrónového lúča alebo naprašovaním.
"Compound rotary tables" and "tilting spindles", capable of upgrading, according to the manufacturer's specifications, machine tools to or above the levels specified in 2B.
KATEGÓRIA 3 – ELEKTRONIKA