natgillin/translations-raw huggingface dataset:
For such machines see 2B003.
tlak;
001 does not control special purpose machine tools limited to the manufacture of any of the following:
„difúzneho zvárania“ „superzliatin“ alebo zliatin titánu:
Crankshafts or camshafts;
„priamočinného hydraulického lisovania“ zliatin hliníka alebo titánu:
Tools or cutters;
trvanie cyklu;
Extruder worms;
„horúceho izostatického zahusťovania“ zliatin titánu, zliatin hliníka alebo „superzliatin“:
Engraved or facetted jewellery parts; or
„technológia“ na „vývoj“ alebo „výrobu“ hydraulických preťahovacích strojov a lisovníc určených na výrobu konštrukcií drakov lietadiel;
Dental prostheses.
„technológia“ na „vývoj“ generátorov inštrukcií pre obrábacie stroje (napr. časti programov) z konštrukčných údajov nachádzajúcich sa vo vnútri jednotiek „číslicového riadenia“;
A machine tool having at least two of the three turning, milling or grinding capabilities (e.g., a turning machine with milling capability), must be evaluated against each applicable entry 2B001.a., b. or c.
„technológia“ na „vývoj“ integrovaného „softvéru“ na zabudovanie expertných systémov na zdokonalenú podporu pri rozhodovaní o činnostiach súvisiacich s riadením výroby do jednotiek „číslicového riadenia“;
For optical finishing machines, see 2B002.
Tabuľka a technická poznámka sa nachádzajú za bodom 2E301.
a.
Pozn.: Táto tabuľka by sa mala považovať za špecifikáciu techniky konkrétneho procesu nanášania len vtedy, ak je výsledný nános v treťom stĺpci uvedený v odseku, ktorý je priamo oproti príslušnému substrátu v druhom stĺpci.
Machine tools for turning having all of the following:
Napríklad technické údaje týkajúce sa procesu chemického nanášania pár (CVD) sa uvádzajú v prípade nanášania silicidov na „kompozitné materiály“ s „matricou“ uhlík-uhlík, keramickou a kovovou, neuvádzajú sa však v prípade nanášania silicidov na substrát ‚spekaný karbid volfrámu‘ (16) ani na ‚karbid kremíka‘ (18).
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; and
V druhom prípade sa výsledný nános neuvádza v odseku v treťom stĺpci priamo oproti odseku v druhom stĺpci, v ktorom sa uvádza ‚spekaný karbid volfrámu‘ (16) a ‚karbid kremíka‘ (18).
Two or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
„Technológia“ podľa všeobecnej poznámky k technológii pre „používanie“ zariadenia alebo „softvéru“ uvedeného v bodoch 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 až 2B122 alebo 2D101.
a. does not control turning machines specially designed for producing contact lenses, having all of the following:
„Technológia“ podľa všeobecnej poznámky k technológii na „používanie“ zariadenia alebo „softvéru“ uvedeného v bodoch 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b), 2B007.c), 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 až 2B233, 2D201 alebo 2D202.
Machine controller limited to using ophthalmic based software for part programming data input; and
„Technológia“ podľa všeobecnej poznámky k technológii pre „používanie“ tovarov uvedených v 2B350 až 2B352.
No vacuum chucking.
Tabuľka
b.
Techniky pokovovania
Machine tools for milling having any of the following:
Proces nanášania (1) [3]
Having all of the following:
Substrát
a.
Výsledný nános
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; and
A. Chemické nanášanie pár (CVD)
b.
„Superzliatiny“
Three linear axes plus one rotary axis which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Aluminidy pre vnútorné kanály
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following;
Keramika (19) a sklá s nízkou rozťažnosťou (14)
'Parallel mechanism machine tools' are specified in 2B001.b.2.d.
Silicidy
a.
Karbidy
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
Dielektrické vrstvy (15)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,4 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1 m and less than 4 m;
Diamantovitý uhlík (17)
c.
„Kompozitné materiály“ s „matricou“ uhlík – uhlík, keramiky a kovov
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm (along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m; or
Ťažko taviteľné kovy
d.
Ich zmesi (4)
Being a 'parallel mechanism machine tool';
Aluminidy
A 'parallel mechanism machine tool' is a machine tool having multiple rods which are linked with a platform and actuators; each of the actuators operates the respective rod simultaneously and independently.
Zliatinové aluminidy (2)
A "unidirectional positioning repeatability" for jig boring machines, equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; or
Nitrid bóru
Fly cutting machines having all of the following:
Spekaný karbid volfrámu (16), Karbid kremíka (18)
Spindle "run-out" and "camming" less (better) than 0,0004 mm TIR; and
Molybdén a zliatiny molybdénu
b.
Berýlium a zliatiny berýlia
Angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel;
Materiály na okienka snímačov (9)
c.
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár tepelným odparovaním: TE-PVD)
Machine tools for grinding having any of the following:
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár (PVD): pomocou elektrónového lúča (EB-PVD)
b.
Zliatinové silicidy
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
Modifikovaný oxid zirkoničitý (12)
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
Oceľ odolná proti korózii (7)
a.
Boridy
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1.1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
Berýlium
b.
Zliatiny titánu (13)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1.4 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1 m and less than 4 m; or
Nitridy
c. does not control grinding machine as follows:
Spekaný karbid volfrámu (16), Karbid kremíka
Cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines, having all of the following:
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár (PVD): „laserové“ odparovanie
Limited to cylindrical grinding; and
Diamantovitý uhlík
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár (PVD): Katódový oblúkový výboj
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a "unidirectional positioning repeatability" less (better) than 1,1 μm
Polyméry (11) a „kompozitné materiály“ s organickou „matricou“
Surface grinders.
C. Cementovanie v prášku v uzavretých nádobách (pozri vyššie bod A pre cementovanie v prášku v otvorených nádobách) (10)
d.
Ťažko taviteľné kovy a zliatiny (8)
Electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Oxidy
e.
D. Plazmové striekanie
Machine tools for removing metals, ceramics or "composites", having all of the following:
Obrusovateľný nikel-grafit
Removing material by means of any of the following:
Obrusovateľné materiály s obsahom Ni-Cr-Al
a.
Obrusovateľný Al-Si-Polyester
Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
Zliatiny hliníka (6)
b.
E. Nanášanie suspenzie
Electron beam; or
Tavené silicidy
c.
Tavené aluminidy okrem článkov na odporové vyhrievanie
"Laser" beam; and
F. Naprašovanie
At least two rotary axes having all of the following:
Modifikované aluminidy ušľachtilých kovov (3)
a.
Platina
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Keramika a sklá s nízkou rozťažnosťou (14)
b.
Dielektrické vrstvy (15)
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003 °;
G. Iónová implantácia
f.
Žiaruvzdorné ložiskové ocele
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m.
Prísady chrómu, tantalu alebo nióbu (kolumbia)
"Numerically controlled" optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Spekaný karbid volfrámu (16)
a.
TABUĽKA – TECHNIKY POKOVOVANIA – POZNÁMKY
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
Pojem ‚proces povliekania‘ zahŕňa opravu a obnovu povlaku, ako aj pôvodný povlak.
b.
Pojem ‚povlak zo zliatinového aluminidu‘ zahŕňa jednostupňové alebo viacstupňové povliekanie, pri ktorom sa určitý prvok alebo prvky nanášajú ešte pred nanesením povlaku aluminidu, a to aj vtedy, ak sa tieto prvky nanášajú prostredníctvom iného procesu povliekania.
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
Nezahŕňa však viacnásobné použitie jednostupňových procesov cementovania v prášku v uzavretých nádobách za účelom získania zliatinových aluminidov.
c.
Pojem povlak ‚aluminidu modifikovaného ušľachtilým kovom‘ zahŕňa viacstupňové povliekanie, v rámci ktorého sa ušľachtilý kov alebo ušľachtilé kovy nanášajú inými procesmi povliekania ešte pred nanesením povlaku aluminidu.
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Pojem ‚ich zmesi‘ zahŕňa infiltrovaný materiál, klasifikované kompozície, spolu vylučované povlaky a viacvrstvové povlaky, ktoré sa získajú pomocou jedného alebo viacerých procesov povliekania uvedených v tabuľke.
d.
‚MCrRAlX‘ sa vzťahuje na povliekaciu zliatinu, kde M znamená kobalt, železo, nikel alebo ich kombinácie a X znamená hafnium, ytrium, kremík, tantal v ľubovoľnom množstve alebo iné zámerné prísady v množstve nad 0,01 hmotnostných % v rôznych pomeroch a kombináciách, okrem:
Using any of the following processes:
povlakov CoCrAlY, ktoré obsahujú menej ako 22 hmotnostných % chrómu, menej ako 7 hmotnostných % hliníka a menej ako 2 hmotnostných % ytria;
Magnetorheological finishing ('MRF');
povlakov CoCrAlY, ktoré obsahujú 22 až 24 hmotnostných % chrómu, 10 až 12 hmotnostných % hliníka a 0,5 až 0,7 hmotnostných % ytria alebo
Electrorheological finishing ('ERF');
povlakov NiCrAlY, ktoré obsahujú 21 až 23 hmotnostných % chrómu, 10 až 12 hmotnostných % hliníka a 0,9 až 1,1 hmotnostných % ytria.
'Energetic particle beam finishing';
Pojem, „zliatiny hliníka“ sa vzťahuje na zliatiny s medzou pevnosti v ťahu najmenej 190 MPa meranou pri 293 K (20 °C).
'Inflatable membrane tool finishing'; or
Pojem ‚nehrdzavejúca oceľ‘ sa vzťahuje na ocele radu 300 podľa AISI (Americký inštitút pre železo a oceľ) alebo na ocele podľa ekvivalentných vnútroštátnych noriem.
'Fluid jet finishing'.
„Ťažko taviteľné kovy a zlúčeniny“ zahŕňajú tieto kovy a ich zliatiny: niób (kolumbium), molybdén, volfrám a tantal.
For the purposes of 2B002:
„Materiály na okienka snímačov“: oxid hlinitý, kremík, germánium, sírnik zinočnatý, selenid zinočnatý, arzenid gália, diamant, fosfid gália, zafír a tieto halogenidy kovov: materiály na okienka snímačov s priemerom väčším ako 40 mm pre fluorid zirkónia a fluorid hafnia.
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
Na „technológiu“ pre jednostupňovú cementáciu v prášku v uzavretých nádobách pevných nosných plôch sa nevzťahuje kategória 2.
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
‚Modifikovaný oxid zirkoničitý‘ sa vzťahuje na prímesi iných oxidov kovov (napr. vápnika, horčíka, ytria, hafnia a kovov vzácnych zemín) do oxidu zirkoničitého na stabilizáciu určitých kryštalografických fáz a fázových kompozícií.
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Povlaky predstavujúce tepelnú bariéru vyrobené z oxidu zirkoničitého modifikovaného vápnikom alebo horčíkom cestou zmiešania alebo tavenia nepodliehajú kontrole.
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
‚Zliatiny titánu‘ sa vzťahujú iba na kozmické zliatiny s medzou pevnosti v ťahu najmenej 900 MPa meranou pri 293 K (20 °C).
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc = 40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1,250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
‚Sklá s nízkou rozťažnosťou‘ sú sklá s koeficientom tepelnej rozťažnosti najviac 1 x 10–7 K–1 meraným pri 293 K (20 °C).
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
‚Dielektrické vrstvy‘ sú povlaky zostavené z viacerých vrstiev izolačných materiálov, v ktorých sa interferenčné vlastnosti navrhnutého materiálu zloženého z materiálov s rôznymi indexmi lomu využívajú na odrážanie, prenášanie alebo absorbovanie pásiem s rôznou vlnovou dĺžkou.
a.
‚Spekaný karbid volfrámu‘ nezahŕňa materiály rezacích nožov a tvárniacich nástrojov pozostávajúcich z karbidu volfrámu/(kobaltu, niklu), karbidu titánu/(kobaltu, niklu), karbidu chrómu/niklu-chrómu a karbidu chrómu/niklu.
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Kontrole nepodlieha „technológia“ osobitne navrhnutá na nanášanie diamantového uhlíka na ľubovoľný z nasledujúcich predmetov:
b.
mechaniky a hlavy magnetických diskov, zariadenia na výrobu predmetov určených na jedno použitie, ventily kohútikov, akustické membrány reproduktorov, súčasti motorov automobilov, rezné nástroje, prestrihovacie formy a lisovacie formy, zariadenia na automatizáciu administratívy, mikrofóny alebo zdravotnícke stroje a prístroje alebo lisy na tavenie alebo lisovanie plastov, vyrábané z legovaných kovov obsahujúcich menej ako 5 % berýlia.
Having any of the following:
‚Karbid kremíka‘ nezahŕňa materiály pre rezné a tvárniace nástroje.
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
Keramické substráty podľa tejto položky nezahŕňajú keramické materiály s obsahom najmenej 5 hmotnostných % hliny alebo cementu, nezávisle od toho, či ide o samostatné zložky alebo ich kombináciu.
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
TABUĽKA – TECHNIKY POKOVOVANIA – TECHNICKÁ POZNÁMKA
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Procesy uvedené v stĺpci 1 tabuľky sú vymedzené takto:
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Chemické vylučovanie z plynnej fázy (CVD) je proces prekrývacieho povliekania alebo proces povliekania s modifikáciou povrchu, pri ktorom sa na zahriaty substrát nanáša kov, zliatina, „kompozitný materiál“, dielektrikum alebo keramika.
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
V blízkosti substrátu sa plynné reaktanty rozkladajú alebo kombinujú, následkom čoho sa požadovaný prvok, zliatina alebo zlúčenina ukladá na substráte.
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Energiu potrebnú pre tento proces rozkladu alebo chemickej reakcie môže dodať teplo substrátu, plazmovo-tlejivý výboj alebo ožarovanie „laserom“.
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
CVD zahŕňa tieto procesy: vylučovanie mimo uzavretých nádob s riadeným tokom plynu, pulzačné CVD, tepelné vylučovanie s riadenou tvorbou kryštalizačných centier (CNTD) a procesy CVD zosilnené plazmou alebo za pomoci plazmy.
a.
Uzavretá nádoba znamená substrát ponorený do práškovej zmesi.
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Plynové reaktanty používané v procesoch mimo uzatvorených nádob vznikajú použitím rovnakých základných reakcií a parametrov ako v prípade procesu cementovania v prášku v uzavretých nádobách, okrem toho, že substrát, ktorý sa má povliekať nie je v styku s práškovou zmesou.
SEE ALSO 2B105.
Fyzikálne pokovovanie zrážaním kovových pár pomocou tepelného odparovania (TE-PVD) je proces prekrývacieho povliekania prebiehajúci vo vákuu pri tlaku menej ako 0,1 Pa, pričom sa používa zdroj tepelnej energie na odparenie povliekacieho materiálu.
A process modified for one of the following:
Výsledkom tohto procesu je kondenzácia alebo vylučovanie odparových vzoriek na vhodne umiestnené substráty.
a.
Pridávanie plynov do vákuovej komory počas procesu povliekania na účely syntetizácie zložených povlakov predstavuje bežnú modifikáciu daného procesu.
Pulsating CVD;
Používanie iónových alebo elektrónových lúčov alebo plazmy na aktivovanie alebo podporu vylučovania povlaku predstavuje takisto bežnú modifikáciu tejto techniky.
b.
Používanie monitorov na zabezpečenie merania optických charakteristík a hrúbky povlakov počas procesu môže byť charakteristickým znakom týchto procesov.
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Špecifické procesy charakteru TE-PVD:
c.
Proces PVD pomocou elektrónového lúča využíva elektrónový lúč na zohriatie a odparenie materiálu, ktorý tvorí povlak.
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
Proces PVD s odporovým zahrievaním pomocou iónov využíva elektrické zdroje odporového zohrievania v kombinácii s dopadajúcim iónovým lúčom na vytvorenie riadeného a homogénneho toku odparovaných druhov povlakov.
a.
„Laserové“ odparovanie využíva „laserové“ lúče s pulzujúcou alebo stálou vlnou na odparovanie materiálu, ktorý tvorí povlak;
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
Nanášanie pomocou katódového oblúka využíva taviacu elektródu z materiálu, ktorý tvorí povlak a na povrchu sa vytvára oblúkový výboj v dôsledku styku so zemniacou spúšťou v danom okamihu.
b.
Riadený pohyb iskrenia eroduje povrch katódy, čím vzniká vysoko ionizovaná plazma.
Incorporating in situ coating thickness control;
Anódou môže byť buď kužeľ pripevnený k obvodu katódy cez izolátor, alebo komora.
b.
Predmagnetizácia substrátu sa používa na nepriamočiare vylučovanie.
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Táto definícia nezahŕňa náhodné vylučovanie pomocou katódového oblúka na nepredmagnetizované substráty.
c.
Pokovovanie iónmi je zvláštna modifikácia všeobecného procesu TE-PVD, pri ktorej sa na ionizovanie zložky, ktorá sa má naniesť, používa plazma alebo zdroj iónov, a na substrát sa privedie záporné predpätie (predmagnetizácia) tak, aby sa umožnila extrakcia zložky z plazmy.
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
Zavedenie reaktívnych zložiek, odparovanie tuhých látok v procesnej komore a používanie monitorov na zabezpečenie merania optických charakteristík a hrúbky povlakov počas procesu sú obvyklými modifikáciami tohto procesu.
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
Cementovanie v prášku v uzavretých nádobách je proces povliekania modifikáciou povrchu alebo proces prekrývacieho povlaku, pri ktorom sa substrát ponorí do práškovej zmesi (uzatvorená nádoba), ktorá pozostáva z:
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
kovových práškov, ktoré sa majú naniesť (obvykle hliník, chróm, kremík alebo ich kombinácie);
d.
aktivátora (väčšinou halogenidová soľ) a
Plasma spraying production equipment having any of the following:
inertného prášku, najčastejšie oxidu hlinitého.
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Substrát a prášková zmes sa nachádza v retorte, ktorá sa zahreje na teplotu 1030 K (757 °C) a 1375 K (1102 °C) na dobu postačujúcu na to, aby sa vytvoril povlak.
Incorporating in situ coating thickness control;
Plazmové striekanie je proces prekrývacieho povliekania, v ktorom pištoľ (rozprašovací horák), ktorá vytvára a riadi plazmu, prijíma práškové alebo drôtové povlakové materiály, taví ich a ženie smerom k substrátu, na ktorom sa vytvorí jednotne viazaný povlak.
e.
Plazmové striekanie predstavuje buď plazmové striekanie pri nízkom tlaku alebo plazmové striekanie pri vysokej rýchlosti.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Poznámka 1:
f.
Nízky tlak znamená tlak nižší, než je atmosférický tlak prostredia.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
Vysoká rýchlosť sa vzťahuje na rýchlosť plynu na výstupe z dýzy vyššiu ako 750 m/s, počítanú pri 293 K (20 °C) a 0,1 MPa.
g.
Vylučovanie zo suspenzie je proces povliekania s modifikáciou povrchu alebo proces prekrývacieho povliekania, pri ktorom sa kovový alebo keramický prášok s organickým spojivom suspenduje do kvapaliny a na substrát sa nanáša buď striekaním, namáčaním alebo natieraním, s následným sušením na vzduchu alebo v peci a tepelným spracovaním tak, aby sa dosiahol požadovaný povlak.
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
Naprašovanie je proces prekrývacieho povliekania založený na prenose hybnosti, pri ktorom sú kladné ióny urýchľované elektrickým poľom smerom k povrchu terča (povliekací materiál).
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Kinetická energia dopadajúcich iónov je dostatočná na to, aby uvoľnila atómy z bombardovaného povrchu a naniesla ich na vhodne umiestnený substrát.
Optical characteristics.
Tabuľka sa týka iba vylučovania pomocou triódy, magnetrónu alebo reaktívneho naprašovania, ktoré sa používa na zvýšenie priľnavosti povlaku a rýchlosti tvorby nánosov a na naprašovanie zosilnené rádiovou frekvenciou (RF), používané na odparovanie nekovových povliekacích materiálov.
005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
Na aktiváciu vylučovania sa môžu použiť lúče iónov s nízkou energiou (menej ako 5 keV).
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
Implantovanie iónov je proces povliekania s modifikáciou povrchu, pri ktorom sa prvok, ktorý sa má zlievať, ionizuje, urýchli prostredníctvom gradientu potenciálu a implantuje sa do oblasti povrchu substrátu.
a.
Sem patria aj procesy, pri ktorých sa implantovanie iónov vykonáva zároveň fyzikálnym zrážaním pár pomocou elektrónového lúča alebo naprašovaním.
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0, MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
KATEGÓRIA 3 –
The E0, MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1000 μm threshold.
ELEKTRONIKA