natgillin/translations-raw huggingface dataset:
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
a. un timp de setare mai mic de 9 ns pentru a ajunge la valoarea maximă a scalei sau la 0,024 % de aceasta, pornind de la o treaptă a scalei complete; sau
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
b. ‘o gamă dinamică fără paraziți’ (SFDR) mai mare de 68 dBc (purtător) la sintetizarea unui semnal analogic de amplitudine maximă de 100 MHz sau cea mai înaltă frecvență a semnalului analogic de amplitudine maximă specificată sub 100 MHz.
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
‘Gama dinamică fără paraziți’ (SFDR) este definită ca raportul dintre valoarea RMS a frecvenței purtătoare (componenta maximă a semnalului) la intrarea DAC și valoarea RMS a celei mai mari componente următoare de zgomot sau de distorsiune armonică la ieșirea sa.
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
SFDR este determinată direct din tabelul specificațiilor sau din graficele de caracterizare a SFDR în raport cu frecvența.
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for substrates specified in column 2, by processes shown in column 1 in the Table following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
Un semnal este definit ca având amplitudinea maximă atunci când amplitudinea sa este mai mare de -3 dBfs (scala completă).
a.
‘Rata de actualizare ajustată' pentru DAC:
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
pentru DAC convenționale (fără interpolare), ‘rata de actualizare ajustată’ este rata la care un semnal digital este convertit într-un semnal analogic, iar valorile analogice de ieșire sunt modificate de DAC.
SEE ALSO 2B105.
Pentru DAC la care modul de interpolare poate fi ocolit (factor de interpolare unu), DAC ar trebui să fie considerat ca fiind convențional (fără interpolare);
A process modified for one of the following:
pentru DAC cu interpolare (DAC de supraeșantionare), ‘rata de actualizare ajustată’ este definită ca fiind rata de actualizare a DAC împărțită la factorul cel mai mic de interpolare.
a.
Pentru DAC cu interpolare, ‘rata de actualizare ajustată’ poate fi denumită cu ajutorul mai multor termeni, printre care:
Pulsating CVD;
viteza de intrare a datelor;
b.
viteza de intrare a cuvintelor;
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
viteza de intrare a eșantioanelor;
c.
viteza maximă totală de intrare a magistralelor de date;
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
frecvența maximă de tact a DAC pentru intrarea de tact a DAC.
a.
circuite integrate electrooptice și „circuite integrate optice”, concepute pentru „prelucrarea digitală a semnalelor” și având toate caracteristicile următoare:
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
a. una sau mai multe diode „laser” interne;
b.
b. unul sau mai multe elemente interne de detectare a luminii; și
Incorporating in situ coating thickness control;
c. ghiduri de undă optice;
b.
dispozitivele logice programabile de utilizator având oricare dintre următoarele caracteristici:
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
a. un număr maxim de intrări/ieșiri digitale cu un singur capăt mai mare de 700; sau
c.
b. o ‘viteză agregată de transmisie serială unidirecțională de vârf a datelor a unui transceiver’ mai mare sau egală cu 500 Gb/s;
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
3A001.a.7. include:
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
dispozitive logice programabile complexe (CPLD);
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
rețele de porți programabile de utilizator (FPGA);
d.
rețele logice programabile de utilizator (FPLA);
Plasma spraying production equipment having any of the following:
interconexiuni programabile de utilizator (FPIC).
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Pentru circuitele integrate care includ dispozitive logice programabile de utilizator care sunt combinate cu un convertor analog-digital, a se vedea 3A001.a.14.
Incorporating in situ coating thickness control;
Numărul maxim de intrări/ieșiri digitale de la 3A001.a.7.a. se numește și numărul maxim de intrări/ieșiri pentru utilizator sau numărul maxim de intrări/ieșiri disponibile, indiferent dacă circuitul integrat este încapsulat sau nu.
e.
‘Viteza agregată de transmisie serială unidirecțională de vârf a datelor a unui transceiver’ este produsul dintre viteza de transmisie serială unidirecțională de vârf a datelor a transceiverului și numărul de transceivere de pe FPGA.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
circuite integrate pentru rețele de tip neural;
f.
circuite integrate personalizate a căror funcție este necunoscută sau pentru care regimul de control al echipamentului în care vor fi folosite circuitele integrate respective este necunoscut fabricantului, având oricare dintre următoarele caracteristici:
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
a. mai mult de 1500 terminale;
g.
b. un „interval de întârziere a propagării pe poarta de bază” tipic mai mic de 0,02 ns; sau
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
c. o frecvență de funcționare mai mare de 3 GHz;
Coating thickness on the substrate and rate control; or
circuite integrate digitale, altele decât cele descrise la 3A001.a.3.-3A001.a.10. și la 3A001.a.12, bazate pe oricare semiconductor compus și având oricare dintre următoarele caracteristici:
Optical characteristics.
a. un număr de porți echivalente mai mare de 3000 (porți cu 2 intrări); sau
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
b. o frecvență de basculare mai mare de 1,2 GHz;
Dimensional inspection or measuring systems, equipment, position feedback units and "electronic assemblies", as follows:
procesoare pentru transformata Fourier rapidă (FFT) care au o durată de execuție nominală pentru o transformată Fourier rapidă cu N puncte complexe mai mică de (N log2 N)/20 480 ms, unde N este numărul de puncte;
a.
Atunci când N este egal cu 1024 puncte, formula de la 3A001.a.12. dă o durată de execuție de 500 μs.
Computer controlled or "numerical controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1 000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2:2009;
circuite integrate pentru sintetizatoare digitale directe care au oricare dintre caracteristicile următoare:
b.
Frecvența de tact a DAC poate fi specificată ca frecvența de tact de referință sau frecvența de tact de intrare.
Linear position feedback units specially designed for machine tools and having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1000)) nm (L equals effective length in mm);
o rezoluție mai mare sau egală cu 16 biți, cu o „frecvență a eșantioanelor” mai mare de 180 MSPS; și
Measuring systems having all of the following:
b. oricare dintre caracteristicile următoare:
a.
stocarea datelor digitalizate; sau
Containing a "laser";
procesarea datelor digitalizate;
b.
Pentru circuitele integrate cu convertoare analog-digitale, a se vedea 3A001.a.5.a.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
Pentru dispozitivele logice programabile de utilizator a se vedea 3A001.a.7.
c.
Note tehnice:
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2 000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20± 0,01 °C; or
O rezoluție de n biți corespunde unei cuantizări de 2n niveluri.
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.3.;
Rezoluția ADC este numărul de biți ai ieșirii digitale a ADC care reprezintă intrarea analogică măsurată.
c.
Pentru circuitele integrate cu „ADC cu canale multiple” neintercalate, „frecvența eșantioanelor” nu este agregată, aceasta fiind frecvența maximă a oricărui canal individual.
Rotary position feedback units specially designed for machine tools or angular displacement measuring instruments, having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,9 second of arc;
Pentru circuitele integrate cu ‘ADC intercalate’ sau ‘ADC cu canale multiple’ ale căror specificații precizează că au un mod de operare intercalat, „frecvențele eșantioanelor” sunt agregate, iar „frecvența eșantioanelor” este frecvența maximă totală combinată a canalelor intercalate.
2B006.c. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g. "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
b. articole pentru microunde sau pentru unde milimetrice, după cum urmează:
d.
În sensul 3A001.b., parametrul putere de ieșire de vârf saturată poate fi de asemenea menționat pe fișele tehnice ale produsului ca putere de ieșire, putere de ieșire saturată, putere de ieșire maximă, putere de ieșire de vârf sau putere de ieșire de vârf de modulație.
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
În sensul 3A001.b.1., ‘dispozitivele electronice cu vid’ sunt dispozitive electronice bazate pe interacțiunea dintre un fascicul de electroni și o undă electromagnetică care se propagă într-un circuit cu vid sau care interacționează cu cavități rezonante de radiofrecvență cu vid.
2B006 includes machine tools, other than those specified in 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
‘Dispozitivele electronice cu vid’ includ clistroanele, tuburile cu unde progresive și derivatele acestora.
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
‘Dispozitive electronice cu vid’ și catozi, după cum urmează:
SEE ALSO 2B207.
3A001.b.1. nu supune controlului ‘dispozitivele electronice cu vid’ concepute sau destinate să funcționeze în orice bandă de frecvență având toate caracteristicile următoare:
b.
nu depășește 31,8 GHz; și
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
este „alocată de UIT” pentru servicii de radiocomunicații, dar nu pentru radiodeterminare.
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
3A001.b.1. nu supune controlului ‘dispozitivele electronice cu vid' care nu sunt „calificate pentru utilizare spațială” și care au toate caracteristicile următoare:
c.
o putere medie de ieșire mai mică sau egală cu 50 W; și
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
sunt concepute sau destinate să funcționeze în orice bandă de frecvență având toate caracteristicile următoare:
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
depășește 31,8 GHz dar nu depășește 43,5 GHz; și
d.
a. ‘dispozitive electronice cu vid’ cu unde progresive, continue sau pulsatorii, după cum urmează:
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
dispozitive care funcționează la frecvențe mai mari de 31,8 GHz;
'Compound rotary tables' and "tilting spindles", specially designed for machine tools, as follows:
dispozitive care au un element de încălzire a catodului cu un timp de creștere până la puterea nominală RF mai mic de 3 secunde;
c.
dispozitive cu cavități cuplate sau derivate ale acestora, cu o „lărgime de bandă fracționată” mai mare de 7 % sau cu o putere de vârf care depășește 2,5 kW;
'Compound rotary tables' having all of the following:
dispozitive bazate pe circuite cu ghid de unde în elice, repliat sau în serpentine, sau derivate ale acestora, având oricare dintre caracteristicile următoare:
Designed for machine tools for turning, milling or grinding; and
a. o „lărgime de bandă instantanee” mai mare de o octavă, și o putere medie (exprimată în kW) multiplicată cu frecvența (exprimată în GHz) mai mare de 0,5;
Two rotary axes designed to be coordinated simultaneously for “contouring control”;
b. o „lărgime de bandă instantanee” de o octavă sau mai mică și o putere medie (exprimată în kW) multiplicată cu frecvența (exprimată în GHz) mai mare de 1;
A 'compound rotary table' is a table allowing the workpiece to rotate and tilt about two non-parallel axes
c. „calificate pentru utilizare spațială”; sau
d.
d. având un tun electronic cu grilă;
"Tilting spindles" having all of the following:
dispozitive cu o „lărgime de bandă fracționată” mai mare sau egală cu 10 %, având oricare dintre caracteristicile următoare:
Designed to be coordinated simultaneously for "contouring control".
a. un fascicul de electroni inelar;
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control and having all of the following:
b. un fascicul de electroni care nu este axisimetric; sau
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
c. fascicule de electroni multiple;
a.
b. ‘dispozitive electronice cu vid’ amplificatoare cu câmp transversal cu un câștig mai mare de 17 dB;
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
c. catozi termoionici concepuți pentru ‘dispozitive electronice cu vid’ care produc o densitate a curentului de emisie în condiții de funcționare nominale ce depășește 5 A/cm2 sau o densitate a curentului pulsatoriu (necontinuu) în condiții de funcționare nominale ce depășește 10 A/cm2;
b.
d. ‘dispozitive electronice cu vid’ având capacitatea de a funcționa în ‘mod dual’.
A roller force more than 60 kN.
‘Mod dual’ înseamnă că fasciculul de curent al ‘dispozitivului electronic cu vid’ poate fi modificat în mod intenționat pentru a trece de la funcționarea în undă continuă la funcționarea în undă pulsatorie cu ajutorul unei grile, puterea de ieșire de vârf în undă pulsatorie fiind mai mare decât puterea de ieșire în undă continuă.
For the purpose of 2B009, machines combining the function of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
amplificatoare cu „circuite integrate monolitice cu microunde” (MMIC), având oricare dintre următoarele caracteristici:
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
Pentru amplificatoarele „MMIC” cu defazor integrat, a se vedea 3A001.b.12.
SEE ALSO 2B204.
a. prevăzute să funcționeze la frecvențe mai mari de 2,7 GHz și mai mici sau egale cu 6,8 GHz, cu o „lărgime de bandă fracționată” mai mare de 15 %, și având oricare dintre caracteristicile următoare:
a.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 75 W (48,75 dBm) la orice frecvență mai mare de 2,7 GHz și mai mică sau egală cu 2,9 GHz;
Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 55 W (47,4 dBm) la orice frecvență mai mare de 2,9 GHz și mai mică sau egală cu 3,2 GHz;
b.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 40 W (46 dBm) la orice frecvență mai mare de 3,2 GHz și mai mică sau egală cu 3,7 GHz; sau
Designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 20 W (43 dBm) la orice frecvență mai mare de 3,7 GHz și mai mică sau egală cu 6,8 GHz;
c.
b. prevăzute să funcționeze la frecvențe mai mari de 6,8 GHz și mai mici sau egale cu 16 GHz, cu o „lărgime de bandă fracționată” mai mare de 10 %, și având oricare dintre caracteristicile următoare:
Possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 10 W (40 dBm) la orice frecvență mai mare de 6,8 GHz și mai mică sau egală cu 8,5 GHz; sau
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 5 W (37 dBm) la orice frecvență mai mare de 8,5 GHz și mai mică sau egală cu 16 GHz;
Flow-forming machines, other than those specified in 2B009, usable in the "production" of propulsion components and equipment (e.g. motor cases and interstages) for "missiles", and specially designed components as follows:
c. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 3 W (34,77 dBm) la orice frecvență mai mare de 16 GHz și mai mică sau egală cu 31,8 GHz, cu o „lărgime de bandă fracționată” mai mare de 10 %;
SEE ALSO 2B209.
d. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 0,1 nW (– 70 dBm) la orice frecvență mai mare de 31,8 GHz și mai mică sau egală cu 37 GHz;
a.
e. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 1 W (30 dBm) la orice frecvență mai mare de 37 GHz și mai mică sau egală cu 43,5 GHz, cu o „lărgime de bandă fracționată” mai mare de 10 %;
Flow-forming machines having all of the following:
f. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 31,62 mW (15 dBm) la orice frecvență mai mare de 43,5 GHz și mai mică sau egală cu 75 GHz, cu o „lărgime de bandă fracționată” mai mare de 10 %;
Equipped with, or according to the manufacturer's technical specification are capable of being equipped with "numerical control" units or computer control; and
g. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 10 mW (10 dBm) la orice frecvență mai mare de 75 GHz și mai mică sau egală cu 90 GHz, cu o „lărgime de bandă fracționată” mai mare de 5 %; sau
More than two axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control".
h. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 0,1 nW (– 70 dBm) la orice frecvență mai mare de 90 GHz;
b.
neutilizate.
Specially designed components for flow-forming machines specified in 2B009 or 2B109.a.
Regimul de control al circuitelor „MMIC” a căror frecvență de operare nominală include frecvențe enumerate în mai multe domenii de frecvență, astfel cum sunt definite la 3A001.b.2.a.-3A001.b.2.h., este determinat de cel mai jos prag al puterii de ieșire saturate de vârf.
Machines combining the function of spin-forming and flow-forming are for the purpose of 2B109 regarded as flow-forming machines.
Notele 1 și 2 de la 3A înseamnă că 3A.001.b.2 nu supune controlului circuitele MMIC în cazul în care acestea sunt special concepute pentru alte aplicații, de exemplu telecomunicații, radar, automobile.
Vibration test systems, equipment and components therefor, as follows:
tranzistoare pentru microunde având oricare dintre următoarele caracteristici:
a.
a. prevăzute să funcționeze la frecvențe mai mari de 2,7 GHz și mai mici sau egale cu 6,8 GHz și având oricare dintre următoarele caracteristici:
Vibration test systems employing feedback or closed loop techniques and incorporating a digital controller, capable of vibrating a system at an acceleration equal to or greater than 10 g rms between 20 Hz and 2 kHz while imparting forces equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table';
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 400 W (56 dBm) la orice frecvență mai mare de 2,7 GHz și mai mică sau egală cu 2,9 GHz;
b.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 205 W (53,12 dBm) la orice frecvență mai mare de 2,9 GHz și mai mică sau egală cu 3,2 GHz;
Digital controllers, combined with specially designed vibration test software, with a 'real-time control bandwidth' greater than 5 kHz designed for use with vibration test systems specified in 2B116.a.;
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 115 W (50,61 dBm) la orice frecvență mai mare de 3,2 GHz și mai mică sau egală cu 3,7 GHz; sau
In 2B116.b., 'real-time control bandwidth' means the maximum rate at which a controller can execute complete cycles of sampling, processing data and transmitting control signals.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 60 W (47,78 dBm) la orice frecvență mai mare de 3,7 GHz și mai mică sau egală cu 6,8 GHz;
c.
b. prevăzute să funcționeze la frecvențe mai mari de 6,8 GHz și mai mici sau egale cu 31,8 GHz și având oricare dintre următoarele caracteristici:
Vibration thrusters (shaker units), with or without associated amplifiers, capable of imparting a force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration test systems specified in 2B116.a.;
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 50 W (47 dBm) la orice frecvență mai mare de 6,8 GHz și mai mică sau egală cu 8,5 GHz;
d.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 15 W (41,76 dBm) la orice frecvență mai mare de 8,5 GHz și mai mică sau egală cu 12 GHz;
Test piece support structures and electronic units designed to combine multiple shaker units in a system capable of providing an effective combined force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration systems specified in 2B116.a.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 40 W (46 dBm) la orice frecvență mai mare de 12 GHz și mai mică sau egală cu 16 GHz; sau
In 2B116, 'bare table' means a flat table, or surface, with no fixture or fittings.
o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 7 W (38,45 dBm) la orice frecvență mai mare de 16 GHz și mai mică sau egală cu 31,8 GHz;
Equipment and process controls, other than those specified in 2B004, 2B005.a., 2B104 or 2B105, designed or modified for densification and pyrolysis of structural composite rocket nozzles and reentry vehicle nose tips.
c. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 0,5 W (27 dBm) la orice frecvență mai mare de 31,8 GHz și mai mică sau egală cu 37 GHz;
Balancing machines and related equipment, as follows:
d. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 1 W (30 dBm) la orice frecvență mai mare de 37 GHz și mai mică sau egală cu 43,5 GHz;
SEE ALSO 2B219.
e. prevăzute să funcționeze la o putere de ieșire saturată de vârf mai mare de 0,1 nW (– 70 dBm) la orice frecvență mai mare de 43,5 GHz;
a.
Regimul de control al unui tranzistor a cărui frecvență de operare nominală include frecvențe enumerate în mai multe domenii de frecvență, astfel cum sunt definite la 3A001.b.3.a.-3A001.b.3.e., este determinat de cel mai jos prag al puterii de ieșire saturate de vârf.
Balancing machines having all the following characteristics:
3A001.b.3. include circuite neîncapsulate, circuite montate pe suporți sau circuite montate în pachete.
Not capable of balancing rotors/assemblies having a mass greater than 3 kg;
Unele tranzistoare discrete pot fi de asemenea denumite amplificatoare de putere, dar regimul acestor tranzistoare este determinat de 3A001.b.3.