natgillin/translations-raw huggingface dataset:
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
Materiale abrazive care conțin Ni Cr Al
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Aliaje de aluminiu (6)
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
Siliciuri topite
a.
Aluminuri topite cu excepția celor pentru elementele de încălzire cu rezistență
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
F. Depunere din suspensie
b.
Aluminuri modificate cu un metal nobil (3)
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5 mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
Platină
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ±1 K;
Ceramici și sticle cu dilatare redusă (14)
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
Straturi dielectrice (15)
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm.
G. Implantare ionică
c.
Oțeluri pentru lagăre de înaltă temperatură
Measuring systems having all of the following:
Adaosuri de Crom Tantal sau Niobiu (Columbiu)
Containing a "laser";
Carbură dură de wolfram (16)
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
TABEL - METODE DE DEPUNERE - NOTE
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2 000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20 ± 0,01 °C; or
Termenul ‘procedeu de acoperire’ include atât acoperirea originală, cât și retușarea și recondiționarea straturilor.
d.
Termenul ‘acoperire cu aluminură aliată’ include acoperiri într-o etapă sau în mai multe etape, în care un element sau mai multe elemente sunt depuse înainte sau în timpul aplicării acoperirii cu aluminură, chiar în cazul în care aceste elemente sunt depuse prin alt procedeu de acoperire.
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Aceasta nu include utilizarea multiplă a cimentării în mediu închis în contact cu amestecul într-o singură etapă pentru realizarea aluminurilor aliate.
2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
Termenul acoperire cu ‘aluminură modificată cu un metal nobil’ include acoperirea în mai multe etape în care metalul sau metalele nobile sunt depuse prin alt procedeu de acoperire înainte de aplicarea acoperirii cu aluminură.
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025o;
Termenul ‘amestecuri ale acestora’ include materialul infiltrat, compozițiile pe clase de calitate, depunerile simultane și depunerile multistrat și sunt obținute printr-unul sau mai multe din procedeele de acoperire menționate în tabel.
2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
‘MCrAlX' se referă la un aliaj de acoperire în care M este cobalt, fier, nichel sau combinații ale acestora, iar X este hafniu, ytriu, siliciu, tantal în orice cantitate sau alte adaosuri intenționate în proporție de peste 0,01 % în greutate în diverse combinații, cu excepția:
c.
a. acoperirilor CoCrAlY care conțin mai puțin de 22 % în greutate crom, mai puțin de 7 % în greutate aluminiu și mai puțin de 2 % în greutate ytriu;
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
b. acoperirilor CoCrAlY care conțin de la 22 la 24 % în greutate crom, de la 10 la 12 % în greutate aluminiu și de la 0,5 la 0,7 % în greutate ytriu; sau
2B006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
c. acoperirilor NiCrAlY care conțin de la 21 la 23 % în greutate crom, de la 10 la 12 % în greutate aluminiu și de la 0,9 la 1,1 % în greutate ytriu.
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
Termenul ‘aliaje de aluminiu’ se referă la aliaje care au rezistența limită de rupere la întindere de 190 MPa sau mai mult, măsurată la temperatura de 293 K (20 °C).
SEE ALSO 2B207.
Termenul ‘oțel rezistent la coroziune’ se referă la oțeluri din seria 300 AISI (Institutul American al Fierului și Oțelului) sau la oțelurile ce corespund standardelor naționale echivalente.
a.
Termenul ‘aliaje și metale refractare’ cuprinde următoarele metale și aliajele lor: niobiu (columbiu), molibden, wolfram și tantal.
Capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional 'scene analysis' to generate or modify "programs" or to generate or modify numerical program data;
Termenul ‘materiale pentru ferestre de senzori’ include următoarele: alumină, siliciu, germaniu, sulfură de zinc, seleniură de zinc, arseniură de galiu, diamant, fosfură de galiu, safir și următoarele halogenuri metalice: materiale pentru ferestre de senzori, cu diametrul mai mare de 40 mm în cazul fluorurii de zirconiu și al fluorurii de hafniu.
The 'scene analysis' limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
Categoria 2 nu include „tehnologia” pentru cementare compactă într-o singură etapă a profilelor aerodinamice monobloc.
b.
‘Polimeri', după cum urmează: poliimidă, poliester, polisulfură, policarbonați și poliuretani.
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
‘Oxid de zirconiu modificat' se referă la adaosuri de alți oxizi metalici (de exemplu: oxid de calciu, oxid de magneziu, oxid de ytriu, oxid de hafniu, oxizi de pământuri rare), la oxidul de zirconiu în scopul stabilizării anumitor faze cristaline și compozițiilor fazelor.
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
Acoperirile pentru bariere termice realizate din oxid de zirconiu modificat cu oxid de calciu sau magneziu prin amestec sau topire nu sunt supuse controlului.
c.
‘Aliajele din titan' sunt aliaje pentru tehnica aerospațială care au rezistența limită de rupere la întindere de 900 MPa sau mai mare, măsurată la 293 K (20 °C).
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
‘Sticlele cu dilatare redusă' sunt sticle care au un coeficient de dilatare termică de 1 × 10–7 K-1 sau mai mic, măsurat la 293 K (20 °C).
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
‘Straturile dielectrice' sunt acoperiri constituite din multistraturi de materiale izolante, în care proprietățile de interferență ale unui ansamblu compus din materiale cu diverși indici de refracție sunt folosite pentru reflectarea, transmiterea sau absorbția diverselor benzi de lungime de undă.
d.
Straturile dielectrice sunt cele în care există mai mult de patru straturi de dielectric sau straturi „compozite” dielectric/metal.
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
‘Carbura dură de wolfram' nu include materialele pentru scule de așchiere și de deformare care constau din carbură de wolfram/(cobalt, nichel), carbură de titan/(cobalt, nichel), carbură de crom/nichel-crom și carbură crom/nichel.
Assemblies or units, specially designed for machine tools, or dimensional inspection or measuring systems and equipment, as follows:
Nu este supusă controlului „tehnologia” pentru depunerea carbonului cu caracteristici asemănătoare diamantului pe oricare dintre următoarele:
a.
capete și disk-drive-uri magnetice, echipamente pentru fabricarea consumabilelor, supape pentru robinete, diafragme acustice pentru difuzoare, piese pentru motoare de automobile, scule de tăiere, poansoane pentru perforare-presare, echipamente de automatizare pentru birouri, microfoane sau dispozitive medicale sau matrițe, pentru turnarea sau formarea materialelor plastice, produse din aliaje care conțin mai puțin de 5 % beriliu.
Linear position feedback units having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1 000)) nm (L equals the effective length in mm);
‘Carbura de siliciu' nu include materialele pentru scule de tăiere și deformare.
For "laser" systems see also 2B006.b.1.c., 2B006.b.1.d. and 2B206.c.
Substraturile ceramice, așa cum sunt precizate în liste, nu includ materialele ceramice care conțin 5 % din greutate sau mai mult, argilă sau ciment, luate drept constituenți separați sau în combinație.
b.
TABEL – METODE DE DEPUNERE - NOTĂ TEHNICĂ
Rotary position feedback units having an "accuracy" less (better) than 0,00025o;
Procedeele menționate în coloana 1 a tabelului sunt definite după cum urmează:
For "laser" systems see also Note to 2B006.b.2.
a.
2B008.a. and 2B008.b. control units, which are designed to determine the positioning information for feedback control, such as inductive type devices, graduated scales, infrared systems or "laser" systems.
Depunerea chimică din starea de vapori (CVD) este o acoperire stratificată sau un procedeu de acoperire cu modificarea suprafeței, în care un metal, aliaj, „compozit”, dielectric sau ceramic este depus pe un substrat încălzit.
c.
Agenții gazoși sunt reduși sau combinați în vecinătatea unui substrat care duc la depunerea materialului elementar, aliajului sau compusului dorit pe substrat.
"Compound rotary tables" and "tilting spindles", capable of upgrading, according to the manufacturer's specifications, machine tools to or above the levels specified in 2B.
Energia acestei descompuneri sau a procesului reacției chimice poate fi asigurată de căldura substratului, de plasma cu descărcare luminiscentă sau de iradierea „laser”.
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
CVD include următoarele procedee: depunere necompactă cu un curent de gaz dirijat, CVD pulsatorie, descompunere termică nucleară controlată (CNTD), procedeele CVD ameliorate sau asistate cu plasmă.
a.
N.B.2
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Compact semnifică un substrat care este imersat într-un amestec de pulberi.
b.
N.B.3
A roller force more than 60 kN.
Reactanții gazoși utilizați în procedeul necompact sunt produși pe baza acelorași reacții și parametri elementari ca și în procedeul cementare compactă, cu excepția faptului că substratul de acoperit nu este în contact cu amestecul de pulberi.
For the purpose of 2B009, machines combining the function of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
b.
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
Depunerea fizică din stare de vapori obținuți prin evaporare termică (TE-PVD) este un procedeu de acoperire în straturi care se realizează în vid, la o presiune mai mică de 0,1 Pa, în care pentru evaporarea materialului de acoperire se folosește o sursă de energie termică.
SEE ALSO 2B204.
Acest procedeu constă în condensarea sau depunerea materialului evaporat pe substraturile aflate într-o poziție adecvată.
a.
Introducerea adițională a gazelor în camera de vid în timpul procesului de acoperire pentru sinteza compușilor de acoperire este o modificare obișnuită a procedeului.
Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
Utilizarea fasciculelor de ioni sau electroni sau a plasmei pentru activarea sau facilitarea depunerii acoperirii este, de asemenea, o modificare obișnuită în cadrul acestui procedeu.
b.
Se pot utiliza în aceeași măsură instrumente de control pentru măsurarea în cursul procesului a caracteristicilor optice și a grosimii acoperirilor.
Designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
Procedeele TE-PVD specifice sunt următoarele:
c.
PVD cu fascicul de electroni folosește un fascicul de electroni pentru încălzirea și evaporarea materialului care formează depunerea;
Possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
PVD cu încălzire rezistivă asistată ionic folosește surse de încălzire cu rezistență electrică în combinație cu fascicole ionice pentru a produce un flux controlat și uniform din materialul de acoperire evaporat;
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.
evaporarea „laser” folosește un fascicul „laser” cu undă pulsatorie sau continuă pentru încălzirea materialului care formează depunerea;
Flow-forming machines, other than those specified in 2B009, and specially designed components as follows:
Depunerea cu arc catodic folosește un catod consumabil din materialul care formează depunerea și care realizează o descărcare în arc pe suprafață prin contactul momentan cu masa al unui declanșator.
SEE ALSO 2B209.
Mișcarea controlată a formării arcului erodează suprafața catodului și creează o plasmă puternic ionizată.
a.
Anodul poate fi fie un con atașat la periferia catodului printr-un izolator, fie camera însăși.
Flow-forming machines having all of the following:
Polarizarea substratului se utilizează pentru depunerile fără vizualizare.
According to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control, even when not equipped with such units; and
Această definiție nu se aplică la depunerea cu arc catodic aleatorie cu substraturi nepolarizate.
With more than two axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control".
Placarea ionică este o modificare specială a procedeului general TE-PVD, în care o sursă de plasmă sau de ioni este folosită pentru ionizarea materialului care se depune, iar o polarizare negativă se aplică pe substrat pentru a facilita extragerea materialului care se depune din plasmă.
b.
Introducerea materialelor reactive, evaporarea solidelor în interiorul camerei de procesare și folosirea instrumentelor pentru a asigura măsurarea pe parcursul procesului a caracteristicilor optice și a grosimii acoperirilor sunt modificări obișnuite ale procedeului.
2B109 does not control machines that are not usable in the production of propulsion components and equipment (e.g. motor cases and interstages) for systems specified in 9A005, 9A007.a. or 9A105.a.
Cementarea compactă este o acoperire de modificare a suprafeței sau un procedeu de acoperire cu straturi suprapuse, în care substratul este imersat într-un amestec de pulberi care constă din:
Machines combining the function of spin-forming and flow-forming are for the purpose of 2B109 regarded as flow-forming machines.
pulberi metalice care se depun (de obicei aluminiu, crom, siliciu sau combinații ale acestora);
Vibration test systems, equipment and components therefor, as follows:
un activator (în mod normal o sare halogenată); și
a.
o pulbere inertă, cel mai frecvent alumină.
Vibration test systems employing feedback or closed loop techniques and incorporating a digital controller, capable of vibrating a system at an acceleration equal to or greater than 10 g rms between 20 Hz and 2 kHz while imparting forces equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table';
Substratul și amestecul de pulberi este introdus într-o retortă care este încălzită între 1030 K (757 °C) și 1375 K (1102 °C) un timp suficient pentru depunerea acoperirii.
Digital controllers, combined with specially designed vibration test software, with a 'real-time control bandwidth' greater than 5 kHz designed for use with vibration test systems specified in 2B116.a.;
Pulverizarea cu plasmă este un procedeu de acoperire în straturi suprapuse, prin care un dispozitiv de pulverizare (ajutaj), care produce și controlează o plasmă, primește materiale de acoperire sub formă de pulbere sau fire, le topește și le proiectează pe substrat, pe care se formează în consecință o acoperire integral aderentă.
In 2B116.b., 'real-time control bandwidth' means the maximum rate at which a controller can execute complete cycles of sampling, processing data and transmitting control signals.
Pulverizarea cu plasmă poate fi o pulverizare la joasă presiune sau o pulverizare de mare viteză.
c.
Presiune joasă înseamnă presiunea sub presiunea atmosferică.
Vibration thrusters (shaker units), with or without associated amplifiers, capable of imparting a force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration test systems specified in 2B116.a.;
Prin „mare viteză” se înțelege o viteză a gazului la ieșirea ajutajului mai mare de 750 m/s calculată la 293 K (20 °C) și la o presiune de 0,1 MPa.
Test piece support structures and electronic units designed to combine multiple shaker units in a system capable of providing an effective combined force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration systems specified in 2B116.a.
Depunerea din suspensie este o depunere de modificare a suprafeței sau un procedeu de depunere în straturi suprapuse, în care o pulbere metalică sau ceramică cu un liant organic, aflată în suspensie într-un lichid este aplicată pe substrat prin pulverizare, imersie sau vopsire urmată de uscare în aer sau în cuptor și un tratament termic pentru obținerea acoperirii dorite.
In 2B116, 'bare table' means a flat table, or surface, with no fixture or fittings.
f.
Equipment and process controls, other than those specified in 2B004, 2B005.a., 2B104 or 2B105, designed or modified for densification and pyrolysis of structural composite rocket nozzles and reentry vehicle nose tips.
Depunerea prin pulverizare catodică este un procedeu de acoperire în straturi suprapuse care se bazează pe fenomenul transferului de energie cinetică, în care ionii pozitivi sunt accelerați de un câmp electric și sunt proiectați pe suprafața unei ținte (materialul de acoperit).
Balancing machines and related equipment, as follows:
Energia cinetică degajată prin șocul ionilor este suficientă pentru eliberarea atomilor din suprafața țintă și depunerea lor pe un substrat poziționat adecvat.
SEE ALSO 2B219.
Tabelul se referă numai la depunerile prin pulverizare cu triodă, magnetron sau reactiv care este folosit pentru mărirea aderenței acoperirii și a vitezei de depunere și la depunerea prin pulverizare catodică ameliorată prin radiofrecvență (RF), folosită pentru a permite vaporizarea materialelor de acoperire nemetalice.
a.
Pentru activarea depunerii pot fi folosite fascicule ionice de mică energie ( sub 5 keV).
Balancing machines having all the following characteristics:
g.
Not capable of balancing rotors/assemblies having a mass greater than 3 kg;
Implantarea ionică este un procedeu de acoperire prin modificarea suprafeței în care elementul de aliat este ionizat, accelerat printr-un gradient de potențial și implantat în zona superficială a substratului.
Capable of balancing rotors/assemblies at speeds greater than 12500 rpm;
Aceasta include procedeele în care implantarea ionică se realizează simultan cu depunerea fizică din stare de vapori cu fascicul de electroni sau cu depunere prin pulverizare catodică.
Capable of correcting unbalance in two planes or more; and
CATEGORIA 3 – PRODUSE ELECTRONICE
Capable of balancing to a residual specific unbalance of 0,2 g mm per kg of rotor mass;
Regimul de control al echipamentelor și al componentelor descrise în 3A001 sau 3A002, altele decât cele descrise de la 3A001.a.3. până la 3A001.a.10., 3A001.a.12. sau 3A001.a.14, care sunt special concepute pentru sau care au aceleași caracteristici funcționale cu alt echipament, este determinat de regimul de control al celuilalt echipament.
2B119.a. does not control balancing machines designed or modified for dental or other medical equipment.
Regimul de control al circuitelor integrate descrise de la 3A.001.a.3. până la 3A001.a.9., 3A001.a.12. sau 3A001.a.14, care sunt programate sau concepute pentru o funcție specifică pentru un alt echipament, este determinat de regimul de control al celuilalt echipament.
b.
Atunci când producătorul sau solicitantul licenței nu poate să stabilească regimul de control al acelui echipament, regimul de control al circuitelor integrate este determinat de la 3A001.a.3. până la 3A001.a.9., 3A001.a.12. și 3A001.a.14.
Indicator heads designed or modified for use with machines specified in 2B119.a.
Articole electronice, după cum urmează:
Indicator heads are sometimes known as balancing instrumentation.
a. circuite integrate pentru utilizări generale, după cum urmează:
Motion simulators or rate tables having all of the following characteristics:
Regimul de control al plachetelor (finisate sau nefinisate), a căror funcție a fost determinată, urmează a fi evaluat conform parametrilor de la 3A001.a.
a.
Circuitele integrate includ următoarele tipuri:
Two axes or more;
„circuite integrate monolitice”;
b.
„circuite integrate hibride”;
Designed or modified to incorporate slip rings or integrated non-contact devices capable of transferring electrical power, signal information, or both; and
„circuite integrate cu mai multe cipuri”;
c.
„circuite integrate de tip peliculă”, inclusiv circuite integrate cu siliciu pe safir;
Having any of the following characteristics:
„circuite integrate optice”;
For any single axis having all of the following:
„circuite integrate tridimensionale”;
a.
„circuite integrate monolitice cu microunde” („MMIC”).
Capable of rates of 400 degrees/s or more, or 30 degrees/s or less; and
circuite integrate concepute sau clasificate ca rezistente la radiații, care suportă oricare din următoarele:
b.
a. o doză totală de 5 × 103 Gy (siliciu) sau mai mare;
A rate resolution equal to or less than 6 degrees/s and an accuracy equal to or less than 0,6 degrees/s;
b. o doză debit de 5 × 106 Gy (siliciu)/s sau mai mare; sau
Having a worst-case rate stability equal to or better (less) than plus or minus 0,05 % averaged over 10 degrees or more; or
c. o fluență (flux integrat) de neutroni (echivalent 1 MeV) de 5 × 1013 n/cm2 sau mai ridicată pe siliciu sau echivalentul său pentru alte materiale;
A positioning "accuracy" equal to or less (better) than 5 arc second.
3A001.a.1.c. nu supune controlului metalul – izolator – semiconductor (MIS).
2B120 does not control rotary tables designed or modified for machine tools or for medical equipment.
„microcircuite microprocesor”, „microcircuite microcalculator”, microcircuite microcontroler, circuite integrate de memorare fabricate dintr-un semiconductor compus, convertoare analog-digitale, circuite integrate care includ convertoare analog-digitale și stochează sau procesează date digitizate, convertoare digital-analogice, circuite electrooptice sau „circuite optice integrate” concepute pentru „prelucrarea semnalelor”, dispozitive logice programabile de utilizator, circuite integrate personalizate pentru care fie funcția este necunoscută, fie regimul de control al echipamentului în care vor fi folosite circuitele integrate respective este necunoscut, procesoare pentru transformata Fourier rapidă (FFT), memorii programabile numai pentru citire (read-only) cu ștergere electrică (EEPROM), memorii flash, memorii statice cu acces aleatoriu (SRAM) sau memorii magnetice cu acces aleatoriu (MRAM), având una dintre următoarele caracteristici:
For controls on machine tool rotary tables see 2B008.
a. destinate pentru funcționare la temperaturi ambiante peste 398 K (125 °C);
Motion simulators or rate tables specified in 2B120 remain controlled whether or not slip rings or integrated non-contact devices are fitted at time of export.
b. destinate pentru funcționare la temperatura ambiantă sub 218 K (– 55 °C); sau