natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Software", designed or modified for the operation of equipment specified in 2B002, that converts optical design, workpiece measurements and material removal functions into "numerical control" commands to achieve the desired workpiece form.
Cementált volfrámkarbid (16), Szilíciumkarbid
"Software" specially designed or modified for the "use" of equipment specified in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 or 2B119 to 2B122.
Fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD): "Lézer" elpárologtatás
SEE ALSO 9D004.
Fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD): katódív kisülés
"Software" specially designed for the "use" of equipment specified in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 or 2B227.
Polimerek (11) és szerves "mátrix" "kompozitok"
"Software" specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment specified in 2B201.
C. Pack-cementálás (a "nem-pack" cementálás tekintetében lásd a fenti "A." szakaszt) (10)
2D202 does not control part programming "software" that generates "numerical control" command codes but does not allow direct use of equipment for machining various parts.
Tűzálló fémek és ötvözetek (8)
"Software", other than that specified in 1D003, specially designed for "use" of equipment specified in 2B351.
Oxidok
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of equipment or "software" specified in 2A, 2B or 2D.
D. Plazmaszórás
2E001 includes "technology" for the integration of probe systems into coordinate measurement machines specified in 2B006.a.
Csiszolható nikkel-grafit
"Technology" according to the General Technology Note for the "production" of equipment specified in 2A or 2B.
Csiszolható Ni-Cr-Al tartalmú anyagok
Other "technology", as follows:
Csiszolható Al-Si-Poliészter
"Technology" for metal-working manufacturing processes, as follows:
E. Iszapleválasztás
"Technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
Ömlesztett szilicidek
a.
Ömlesztett aluminidek, kivéve az ellenállásos fűtőelemeket
"Superplastic forming";
F. Katódporlasztás
b.
Nemesfémmel módosított aluminidek (3)
"Diffusion bonding"; or
Platina
c.
Kerámia és alacsony tágulású üvegek (14)
'Direct-acting hydraulic pressing';
Dielektromos rétegek (15)
Technical data consisting of process methods or parameters as listed below used to control:
G. Ionbeültetés
"Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
Króm, Tantál, vagy Nióbium (kolumbium)-adalékok
Surface preparation;
Cementált volfrám-karbid (16)
Strain rate;
TÁBLÁZAT – ANYAGLEVÁLASZTÓ ELJÁRÁSOK – MEGJEGYZÉSEK
Temperature;
'Bevonási eljáráson' egyaránt értendő a felületen végzett javítás, a felület korábbi állapotának visszaállítása, illetve az eredeti bevonási folyamat is.
Pressure;
Az 'ötvözött aluminid-bevonat' kifejezés vonatkozik az egy vagy több lépcsőben előállított bevonatokra, amelyekben egy vagy több elemet az aluminid-bevonat felvitele előtt helyeztek el, még akkor is, ha ez egy más bevonatolási folyamattal történt.
"Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
A 'nemesfémmel módosított aluminid' kifejezés arra a többlépcsős bevonási folyamatra vonatkozik, amelynek során az aluminid-bevonatolás alkalmazása előtt valamilyen más bevonási folyamattal nemesfémet vagy nemesfémeket visznek fel.
c.
Az 'ezek keverékei' kifejezés diffúz anyagokra, szemcsés kompozitokra, ko-depozitokra és többrétegű depozitokra vonatkozik, és azok a táblázatban szereplő bevonási folyamatok egyszeri vagy többszöri alkalmazásával állíthatók elő.
'Direct-acting hydraulic pressing'of aluminium alloys or titanium alloys:
Az 'MCrAlX' olyan bevonó ötvözeteket jelent, amelyekben az "M" kobaltnak, vasnak, nikkelnek vagy ezek valamilyen kombinációjának felel meg, az "X" hafniumot, ittriumot, szilíciumot, tantált jelent, bármely mennyiségben vagy egyéb különböző arányokban és kombinációkban szándékosan bevitt adalékanyagot 0,01 tömegszázalék fölött, kivéve:
Cycle time;
a.
d.
A CoCrAlY-bevonat, amely 22 tömegszázaléknál kevesebb krómot, kevesebb, mint 7 tömegszázalék alumíniumot és 2 tömegszázaléknál kevesebb ittriumot tartalmaz;
'Hot isostatic densification' of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
b.
'Direct-acting hydraulic pressing' is a deformation process which uses a fluid-filled flexible bladder in direct contact with the workpiece.
A CoCrAlY-bevonat, amely 22–24 tömegszázalék krómot, 10-12 tömegszázalék alumíniumot és 0,5-0,7 tömegszázalék ittriumot tartalmaz; vagy
'Hot isostatic densification' is a process of pressurising a casting at temperatures exceeding 375 K (102 °C) in a closed cavity through various media (gas, liquid, solid particles, etc.) to create equal force in all directions to reduce or eliminate internal voids in the casting
c.
c.
A NiCrAlY-bevonat, amely 21-23 tömegszázalék krómot, 10-12 tömegszázalék alumíniumot és 0,9-1,1 tömegszázalék ittriumot tartalmaz.
"Technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
Az 'alumíniumötvözetek' olyan ötvözeteket jelentenek, amelyek 293 K (20 °C) hőmérsékleten mért maximális szakítószilárdsága legalább 190 Mpa.
e.
A 'korrózióálló acél' kifejezés olyan acélokra vonatkozik, mint például az AISI (American Iron and Steel Institute – Amerikai Vas- és Acélintézet) 300-as sorozata vagy az ezzel egyenértékű nemzeti szabvány szerinti acélok.
"Technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
A 'tűzálló fémek és ötvözetek' az alábbi fémekből és ötvözeteikből állnak: nióbium (kolumbium), molibdén, volfrám és tantál.
f.
A "szenzorablakanyagok" a következők: alumínium-oxid, szilícium, germánium, cink-szulfid, cink-szelenid, gallium-arzenid, gyémánt, gallium-foszfid, zafír és a következő fémhalogenidek: a 40 mm-nél nagyobb átmérőjű érzékelő üveganyagok esetén cirkónium-fluorid és hafnium-fluorid.
"Technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
A 2. kategória nem vonja ellenőrzés alá a repülőgépek szilárd szárnyszelvényeinek egylépcsős pack-cementálására szolgáló "technológiát".
The table and Technical Note appear after entry 2E301.
'Polimerek', a következők szerint: polimidek, poliészterek, poliszulfidok, polikarbonátok és poliuretánok.
This table should be read to specify the "technology" for a particular Coating Process only when the Resultant Coating in column 3 is in a paragraph directly across from the relevant Substrate under column 2.
A 'módosított cirkónium-oxid' más fémoxidok adalékaira vonatkozik (pl. kalcium, magnézium, ittrium, hafnium, ritkaföldfémek oxidjai stb.), amelyeket azért adagolnak a cirkóniumhoz, hogy stabilizálják a krisztallográfiai fázisokat és a fázisösszetételeket.
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal "matrix" "composites" substrates, but are not included for the application of silicides to 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18) substrates.
Az ellenőrzés nem terjed ki a kalciummal vagy a magnéziummal történő keverés vagy fúzió útján módosított cirkóniumból készült hőgát bevonatokra.
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18).
A 'titánötvözetek' azokra az űrhajózási ötvözetekre utalnak, amelyek 293 K (20 °C) hőmérsékleten mért maximális szakítószilárdsága 900 MPa vagy annál több.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
Az 'alacsony tágulású üvegek' olyan üvegekre vonatkoznak, amelyek 293 K (20 °C) hőmérsékleten mért hőtágulási együtthatója 1 × 10–7 K-1 vagy annál kevesebb.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B233, 2D201 or 2D202.
A 'dielektromos rétegek' többrétegű szigetelőanyagból készült bevonatok, amelyekben a különböző törésmutatójú anyagokból álló modell interferencia-jellemzőit használják fel a különböző hullámhosszúságú sávok visszaverésére, átvitelére vagy elnyelésére.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
A dielektromos rétegek négynél több dielektromos rétegre vagy szigetelő/fém "kompozit" rétegre vonatkoznak.
Table
A 'cementált volfrám-karbid' nem foglalja magában a volfrám-karbid/(kobalt, nikkel), titán-karbid/(kobalt, nikkel), króm-karbid/nikkel- króm és króm-karbid/nikkel vágó és forgácsoló-szerszám anyagokat.
Deposition techniques
Az ellenőrzés nem terjed ki a kifejezetten a következő anyagokon gyémántszerű szén bevonatok létrehozására tervezett "technológiára":
Coating Process (1)
mágneses lemezmeghajtók és fejek, eldobható termékek gyártására szolgáló berendezések, vízcsap szelepek, hangszórómembrán, gépjárművek motor része, vágószerszámok, lyukasztó süllyesztékei, iroda-automatizálási berendezések, mikrofonok és gyógyászati eszközök vagy a műanyagok öntésére vagy formázására használt, kevesebb mint 5 % berilliumot tartalmazó ötvözetekből gyártott formák.
Substrate
A 'szilícium-karbid' nem foglalja magába a vágó- és forgácsoló-szerszám anyagokat.
Resultant Coating
A kerámia hordozóanyagok kifejezés e tétel alkalmazásában nem foglalja magába az 5 % vagy nagyobb tömegben agyagot vagy cementet – akár különálló komponensek, akár kombinációban szerepelnek – tartalmazó kerámiákat.
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
TÁBLÁZAT – ANYAGLEVÁLASZTÓ ELJÁRÁSOK – MŰSZAKI MEGJEGYZÉSEK
"Superalloys"
A táblázat 1. oszlopában szereplő eljárások meghatározásai:
Aluminides for internal passages
a.
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
Gőzfázisú kémiai leválasztás (Chemical Vapour Deposition – CVD) olyan rétegfelviteli vagy felületmódosítási bevonási folyamat, amelynek során fémet, ötvözetet, "kompozitot" vagy kerámiát visznek fel hevített hordozó felületére.
Silicides
A hordozó közelében kiválasztott vagy elegyített gázok reakciója eredményezi a kívánt elemek, ötvözetek vagy vegyületek leválasztását.
Carbides
A bomláshoz vagy a vegyi reakcióhoz szükséges energiát a hordozó hője, plazmakisülés vagy "lézer" sugárzás szolgáltatja.
Dielectric layers (15)
A CVD-eljárások közé tartoznak a következők is: nem-pack (out-of-pack) irányított gázáram, pulzáló CVD, szabályozott nukleidos termikus leválasztás (controlled nucleation thermal decomposition – CNTD), plazmagerjesztésű vagy plazmát alkalmazó CVD-eljárások.
Diamond
A pack porkeverékbe merített hordozót jelent.
Diamond-like carbon (17)
A nem-pack eljárásokban használt gázhalmazállapotú anyagok ugyanannak az alapreakciónak során ugyanolyan paraméterekkel jönnek létre, mint a pack-cementálás eljárás paraméterei, kivéve, hogy a bevonandó hordozó nem kerül kapcsolatba a porkeverékkel.
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix" "composites"
b.
Refractory metals
Termikus gőzölögtetésű-fizikai gőzfázisú leválasztás (TE-PVD) olyan bevonatkezelési eljárás, amelyet 0,1 Pa-nál kisebb nyomású vákuumban végeznek el, úgy, hogy a bevonóanyag elgőzölögtetésére hőenergiát használnak fel.
Mixtures thereof (4)
Az eljárás eredményeként az elgőzölögtetett anyag kicsapódik, illetve lerakódik a megfelelően elhelyezett hordozóra.
Aluminides
Az eljárás szokásos módosítási eszköze az, hogy kompaund bevonatok szintetizálása céljából a bevonási eljárás során gázt adagolnak be a vákuumkamrába.
Alloyed aluminides (2)
Ion- vagy elektronsugarak, illetve plazma alkalmazása a bevonási eljárás aktiválására vagy előmozdítására szintén e technikai eljárás szokásos módosítását képezi.
Boron nitride
E folyamatokat jellemezheti továbbá az, hogy az optikai jellemzőknek és a bevonatok vastagságának mérésére az eljárás során monitorokat használnak.
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
A speciális TE-PVD eljárások az alábbiak:
Tungsten
Az elektronsugaras PVD a bevonatot képező anyag hevítésére és elgőzölögtetésére elektronsugarat alkalmaz;
Molybdenum and Molybdenum alloys
Az ion-támogatású ellenállás-fűtésű PVD villamosan ellenálló hőforrások és visszaverődő ionsugarak kombinációját alkalmazza, amelyek képesek biztosítani az elgőzölögtetett bevonóanyagok ellenőrzött és egységes áramát;
Beryllium and Beryllium alloys
A "lézer" elgőzölögtetés vagy pulzáló vagy folytonos hullámú "lézer"sugarakat alkalmaz a bevonóanyag elpárologtatására;
Sensor window materials (9)
A katódíves bevonás a bevonóanyagnak olyan fogyó katódját használja, amelynek felszínén egy földelt érintkezővel történő rövid idejű érintkezés során ívkisülés keletkezik.
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
Az ív ellenőrzött mozgása erodálja a katód felületét, s ezzel intenzív ionizált plazmaáramot hoz létre.
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
Az anód lehet egy kúp, amely a katód felszínéhez egy szigetelőn keresztül csatlakozik, vagy a kamrát lehet anódként használni.
Alloyed silicides
A "non line-of-sight" bevonásnál alaplemez-eltolást alkalmaznak.
Modified zirconia (12)
Ez a meghatározás nem tartalmazza a nem-előfeszített alaplemezek esetén alkalmazott random katódsugaras bevonást.
Corrosion resistant steel (7)
Az ionbeültetés az általános TE-PVD eljárás speciális módosítása, amelyben a plazmát vagy az ionforrást használnak a létrehozandó bevonat anyagának ionizálására, és a plazmából leválasztandó anyagok kinyerésének megkönnyítésére a hordozóhoz negatív előfeszítést alkalmaznak.
Borides
Ezen eljárások szokásos módosításait képezik: a reaktív anyagok bevezetése, a szilárd anyagoknak a kamrában történő elgőzölögtetése, és monitorok alkalmazása az optikai jellemzők eljárás közbeni mérésére és a bevonatok vastagságának ellenőrzésére.
Beryllium
c.
Titanium alloys (13)
A pack-cementálás olyan felületmódosító bevonási vagy rétegfelviteli eljárás, amelynek során az alaplemezt porkeverékbe (az ún. pack) merítik, amely a következőkből áll:
Nitrides
A felvitelre szánt fémek pora (általában alumínium, króm, szilícium vagy ezek kombinációi);
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
Aktivátor (általában egy halogénsó); és
Ceramics (19) and Low-expansion glasses
Egy semleges por, általában timföld.
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
A hordozót és a porkeveréket egy retortában helyezik el, amelyet a bevonóanyag leválásához szükséges időtartamra 1030 K (757 °C) –1375 K (1102 °C) közötti hőmérsékletre fűtenek fel.
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
d.
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
A plazmaszórás olyan rétegfelviteli eljárás, amely során a plazmát egy szórófej állítja elő és szabályozza; a porított vagy huzalos bevonóanyag a szórófejbe kerül be, amely azt megolvasztja, és ezt szórja ki a hordozó felé, ahol az teljes mértékben tapadó bevonatot képez.
Polymers (11) and Organic "matrix" "composites"
A plazmaszórás vagy kisnyomású plazmaszórásból vagy víz alatti, nagy sebességű plazmaszórásból áll.
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
A kis nyomás a környezeti, légköri nyomásnál kisebb nyomást jelent.
Refractory metals and alloys (8)
A nagy sebesség azt jelenti, hogy a fúvókából eltávozó gáz sebessége 0,1 MPa nyomásnál 293 K-en (20 °C) meghaladja a 750 m/s-ot.
Oxides
e.
D. Plasma spraying
Az iszapleválasztás az a felületmódosító bevonási vagy rétegfelviteli eljárás, amelynek során a kívánt bevonat elérése érdekében a hordozóra folyadékban feloldott szerves kötőanyaggal kevert fém- vagy kerámiaport visznek fel szórással, bemerítéssel vagy festéssel, az azt követő levegőn vagy kemencében történő szárítással, illetve hőkezeléssel.
Abradable Nickel-Graphite
f.
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
A katódporlasztás olyan rétegfelviteli folyamat, amelyben pozitív töltésű részecskéket gyorsítanak és mozgatnak elektromos térben a céltárgy (bevonóanyag) felszíne felé.
Abradable Al-Si-Polyester
A becsapódó ionok kinetikus energiája elegendő ahhoz, hogy a céltárgy felületéből atomok váljanak ki, és a megfelelően elhelyezett hordozón kiváljanak.
Aluminium alloys (6)
A táblázat csak a triódás, magnetronos vagy reaktív katódporlasztásra vonatkozik, amelyekkel a bevonóanyag tapadásának növelését és a leválasztás sebességét kívánják növelni, valamint a megnövelt nagyfrekvenciás (NF) porlasztásra vonatkozik, amelyet a nemfémes bevonóanyagok elgőzölögtetésére használnak.
E. Slurry Deposition
Az alacsony energiájú (5 keV-nál kisebb) ionsugarakat a leválasztás aktiválására lehet használni.
Fused silicides
g.
Fused aluminides except for resistance heating elements
Az ionbeültetés az a felületmódosító bevonási eljárás, amelynek során az ötvözőelemet ionizálják, erőtérben felgyorsítják és a hordozó felületének meghatározott részébe ültetik.
F. Sputter Deposition
Ez magában foglalja azokat az eljárásokat, amelyek során az ionbeültetés az elektronsugaras fizikai gőzfázisú leválasztással vagy katódporlasztással egyidejűleg történik.
Noble metal modified aluminides (3)
3.
Platinum
KATEGÓRIA – ELEKTRONIKA
Ceramics and Low- expansion glasses (14)
A 3A001.a.3–3A001.a.10. vagy a 3A001.a.12–3A001.a.14. pont alatt meghatározottaktól eltérő, a 3A001, vagy 3A002. pont alatt ismertetett berendezések és alkatrészek – amelyeket más berendezésekhez speciálisan terveztek, illetve amelyek ugyanolyan funkcionális jellemzőkkel rendelkeznek, mint a többi berendezés – ellenőrzési státusát a többi berendezés ellenőrzési státusa határozza meg.
Dielectic layers (15)
A 3A001.a.3–3A001.a.9. vagy a 3A001.a.12– 3A001.a.14. pont alatt ismertetett integrált áramkörök ellenőrzési státusát – amelyeket megváltoztathatatlan módon programoztak vagy más berendezéshez egyedi funkcióra terveztek – a többi berendezés ellenőrzési státusa határozza meg.
G. Ion Implantation
Amikor a gyártó vagy a felhasználó nem tudja meghatározni a többi berendezés ellenőrzési státuszát, akkor az integrált áramkörök ellenőrzési státuszát a 3A001.a.3–3A001.a.9. és a 3A001.a.12.–3A001.a.14. pont határozza meg.
High temperature bearing steels
Elektronikai termékek az alábbiak szerint:
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
a. általános célú integrált áramkörök, az alábbiak szerint:
Cemented tungsten carbide (16)
Azoknak a (befejezett vagy be nem fejezett) lapkáknak, amelyeken a funkciót meghatározták, az ellenőrzési státusát a 3A001.a. pont alatti paraméterek szerint kell értékelni.
TABLE - DEPOSITION TECHNIQUES - NOTES
Integrált áramkörök alatt a következő típusokat értjük:
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
„monolit integrált áramkörök”;
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
„hibrid integrált áramkörök”;
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
„multichip integrált áramkörök”;
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
„film típusú integrált áramkörök”, beleértve a szilícium/zafír integrált áramköröket is;
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
„optikai integrált áramkörök”;
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
„háromdimenziós integrált áramkörök”;
a.
„mikrohullámú monolit integrált áramkörök” („MMIC”).
CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
a sugárzásállónak tervezett vagy minősített integrált áramkörök, melyek ellenállnak a következők bármelyikének:
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight of yttrium; or
5 × 10 3 Gy (Si) vagy ennél nagyobb teljes dózis;
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
5 × 10 6 Gy (Si)/s vagy magasabb dózisintenzitás-változás; vagy
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
c.
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
5 × 10 13 n/cm2 vagy magasabb neutronfolyam (integrált fluxus) (1 MeV ekvivalens) szilíciumon, vagy ennek megfelelője más anyagon;
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
A 3A001.a.1.c. alpont nem vonja ellenőrzés alá a Fém Szigetelő Félvezetőket (MIS).
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
„Mikroprocesszor mikroáramkörök”, „mikroszámítógép mikroáramkörök”, mikrovezérlő mikroáramkörök, vegyes félvezetőből gyártott tároló integrált áramkörök, analóg-digitális átalakítók, analóg-digitális átalakítókat tartalmazó és ditiális adatokat tároló vagy feldolgozó integrált áramkörök, digitális-analóg átalakítók, elektro-optikai, vagy „jelfeldolgozásra” tervezett „optikai integrált áramkörök”, felhasználó által programozható logikai eszközök, egyedi integrált áramkörök, amelyek funkciója vagy annak a berendezésnek, amelyben az integrált áramkört fel fogják használni az ellenőrzési státusa ismeretlen, gyors Fourier transzformáló (FFT) processzorok, statikus véletlen elérésű memóriák (SRAM-ok) vagy „nem felejtő memóriák”, amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők bármelyikével:
Category 2 does not include "technology" for single-step pack cementation of solid airfoils.
a.
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
398 K (+125 °C) feletti környezeti hőmérsékleten történő működésre méretezték;
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
b.
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
218 K (– 55 °C) alatti környezeti hőmérsékleten történő működésre méretezték; vagy
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
c.
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10–7 K–1 or less measured at 293 K (20 °C).
A 218 K (– 55 °C) és a 398 K (+125 °C) közötti hőmérséklet-tartományban történő működésre méretezték;
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
A 3A001.a.2. alpont nem vonja ellenőrzés alá a polgári gépjárművekben vagy a vasúti mozdonyokban alkalmazott integrált áramköröket.