natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Direct-acting hydraulic pressing";
A ’szenzorablak-anyagok’ a következők: alumínium-oxid, szilícium, germánium, cink-szulfid, cink-szelenid, gallium-arzenid, gyémánt, gallium-foszfid, zafír és a következő fémhalogenidek: a 40 mm-nél nagyobb átmérőjű szenzorablak-anyagok esetén cirkónium-fluorid és hafnium-fluorid.
Technical data consisting of process methods or parameters as listed below used to control:
A 2. kategória nem vonja ellenőrzés alá a repülőgépek szilárd szárnyszelvényeinek egylépcsős pack-cementálására szolgáló "technológiát".
a.
’Polimerek’, ideértve a következőket: polimidek, poliészterek, poliszulfidok, polikarbonátok és poliuretánok.
"Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
A 'módosított cirkónium-oxid' más fémoxidok adalékaira vonatkozik (pl. kalcium, magnézium, ittrium, hafnium, ritkaföldfémek oxidjai stb.), amelyeket azért adagolnak a cirkóniumhoz, hogy stabilizálják a krisztallográfiai fázisokat és a fázisösszetételeket.
Surface preparation;
Az ellenőrzés nem terjed ki a kalciummal vagy a magnéziummal történő keverés vagy fúzió útján módosított cirkóniumból készült hőgát bevonatokra.
Strain rate;
A 'titánötvözetek' azokra az űrhajózási ötvözetekre utalnak, amelyek 293 K (20 °C) hőmérsékleten mért maximális szakítószilárdsága 900 MPa vagy annál több.
Temperature;
Az ’alacsony tágulású üvegek’ olyan üvegekre vonatkoznak, amelyek 293 K (20 °C) hőmérsékleten mért hőtágulási együtthatója 1 × 10–7 K–1 vagy annál kevesebb.
Pressure;
A 'dielektromos rétegek' többrétegű szigetelőanyagból készült bevonatok, amelyekben a különböző törésmutatójú anyagokból álló modell interferencia-jellemzőit használják fel a különböző hullámhosszúságú sávok visszaverésére, átvitelére vagy elnyelésére.
b.
A dielektromos rétegek négynél több dielektromos rétegre vagy szigetelő/fém "kompozit" rétegre vonatkoznak.
"Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
A 'cementált volfrám-karbid' nem foglalja magában a volfrám-karbid/(kobalt, nikkel), titán-karbid/(kobalt, nikkel), króm-karbid/nikkel- króm és króm-karbid/nikkel vágó és forgácsoló-szerszám anyagokat.
c.
Az ellenőrzés nem terjed ki a kifejezetten a következő anyagokon gyémántszerű szén bevonatok létrehozására tervezett "technológiára":
"Direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
mágneses lemezmeghajtók és fejek, eldobható termékek gyártására szolgáló berendezések, vízcsap szelepek, hangszórómembrán, gépjárművek motor része, vágószerszámok, lyukasztó süllyesztékei, iroda-automatizálási berendezések, mikrofonok és gyógyászati eszközök vagy a műanyagok öntésére vagy formázására használt, kevesebb mint 5 % berilliumot tartalmazó ötvözetekből gyártott formák.
Cycle time;
A 'szilícium-karbid' nem foglalja magába a vágó- és forgácsoló-szerszám anyagokat.
d.
A kerámia hordozóanyagok kifejezés e tétel alkalmazásában nem foglalja magába az 5 % vagy nagyobb tömegben agyagot vagy cementet – akár különálló komponensek, akár kombinációban szerepelnek – tartalmazó kerámiákat.
"Hot isostatic densification" of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
TÁBLÁZAT – ANYAGLEVÁLASZTÓ ELJÁRÁSOK – MŰSZAKI MEGJEGYZÉSEK
"Technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
a.
d.
Gőzfázisú kémiai leválasztás (Chemical Vapour Deposition – CVD) olyan rétegfelviteli vagy felületmódosítási bevonási folyamat, amelynek során fémet, ötvözetet, "kompozitot" vagy kerámiát visznek fel hevített hordozó felületére.
"Technology" for the "development" of generators of machine tool instructions (e.g., part programs) from design data residing inside "numerical control" units;
A hordozó közelében kiválasztott vagy elegyített gázok reakciója eredményezi a kívánt elemek, ötvözetek vagy vegyületek leválasztását.
e.
A bomláshoz vagy a vegyi reakcióhoz szükséges energiát a hordozó hője, plazmakisülés vagy "lézer" sugárzás szolgáltatja.
"Technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
N.B.1
f.
A CVD-eljárások közé tartoznak a következők is: nem-pack (out-of-pack) irányított gázáram, pulzáló CVD, szabályozott nukleidos termikus leválasztás (controlled nucleation thermal decomposition – CNTD), plazmagerjesztésű vagy plazmát alkalmazó CVD-eljárások.
"Technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
N.B.2
The table and Technical Note appear after entry 2E301.
A pack porkeverékbe merített hordozót jelent.
This table should be read to specify the "technology" for a particular Coating Process only when the Resultant Coating in column 3 is in a paragraph directly across from the relevant Substrate under column 2.
N.B.3
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal "matrix" "composites" substrates, but are not included for the application of silicides to 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18) substrates.
A nem-pack eljárásokban használt gázhalmazállapotú anyagok ugyanannak az alapreakciónak során ugyanolyan paraméterekkel jönnek létre, mint a pack-cementálás eljárás paraméterei, kivéve, hogy a bevonandó hordozó nem kerül kapcsolatba a porkeverékkel.
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18).
b.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
Termikus gőzölögtetésű-fizikai gőzfázisú leválasztás (TE-PVD) olyan bevonatkezelési eljárás, amelyet 0,1 Pa-nál kisebb nyomású vákuumban végeznek el, úgy, hogy a bevonóanyag elgőzölögtetésére hőenergiát használnak fel.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B233, 2D201 or 2D202.
Az eljárás eredményeként az elgőzölögtetett anyag kicsapódik, illetve lerakódik a megfelelően elhelyezett hordozóra.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
Az eljárás szokásos módosítási eszköze az, hogy kompaund bevonatok szintetizálása céljából a bevonási eljárás során gázt adagolnak be a vákuumkamrába.
Table
Ion- vagy elektronsugarak, illetve plazma alkalmazása a bevonási eljárás aktiválására vagy előmozdítására szintén e technikai eljárás szokásos módosítását képezi.
Deposition techniques
E folyamatokat jellemezheti továbbá az, hogy az optikai jellemzőknek és a bevonatok vastagságának mérésére az eljárás során monitorokat használnak.
Coating Process (1) [2]
A speciális TE-PVD eljárások az alábbiak:
Substrate
Az elektronsugaras PVD a bevonatot képező anyag hevítésére és elgőzölögtetésére elektronsugarat alkalmaz;
Resultant Coating
Az ion-támogatású ellenállás-fűtésű PVD villamosan ellenálló hőforrások és visszaverődő ionsugarak kombinációját alkalmazza, amelyek képesek biztosítani az elgőzölögtetett bevonóanyagok ellenőrzött és egységes áramát;
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
A "lézer" elgőzölögtetés vagy pulzáló vagy folytonos hullámú "lézer"sugarakat alkalmaz a bevonóanyag elpárologtatására;
"Superalloys"
A katódíves bevonás a bevonóanyagnak olyan fogyó katódját használja, amelynek felszínén egy földelt érintkezővel történő rövid idejű érintkezés során ívkisülés keletkezik.
Aluminides for internal passages
Az ív ellenőrzött mozgása erodálja a katód felületét, s ezzel intenzív ionizált plazmaáramot hoz létre.
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
Az anód lehet egy kúp, amely a katód felszínéhez egy szigetelőn keresztül csatlakozik, vagy a kamrát lehet anódként használni.
Silicides
A "non line-of-sight" bevonásnál hordozó-eltolást alkalmaznak.
Carbides
Ez a meghatározás nem tartalmazza a nem-előfeszített szubsztrátumok esetén alkalmazott random katódsugaras bevonást.
Dielectric layers (15)
Az ionbeültetés az általános TE-PVD eljárás speciális módosítása, amelyben a plazmát vagy az ionforrást használnak a létrehozandó bevonat anyagának ionizálására, és a plazmából leválasztandó anyagok kinyerésének megkönnyítésére a hordozóhoz negatív előfeszítést alkalmaznak.
Diamond
Ezen eljárások szokásos módosításait képezik: a reaktív anyagok bevezetése, a szilárd anyagoknak a kamrában történő elgőzölögtetése, és monitorok alkalmazása az optikai jellemzők eljárás közbeni mérésére és a bevonatok vastagságának ellenőrzésére.
Diamond-like carbon (17)
c.
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix" "composites"
A pack-cementálás olyan felületmódosító bevonási vagy rétegfelviteli eljárás, amelynek során a hordozót porkeverékbe (az ún. pack) merítik, amely a következőkből áll:
Refractory metals
A felvitelre szánt fémek pora (általában alumínium, króm, szilícium vagy ezek kombinációi);
Mixtures thereof (4)
Aktivátor (általában egy halogénsó); és
Aluminides
Egy semleges por, általában timföld.
Alloyed aluminides (2)
A hordozót és a porkeveréket egy retortában helyezik el, amelyet a bevonóanyag leválásához szükséges időtartamra 1030 K (757 °C) – 1375 K (1102 °C) közötti hőmérsékletre fűtenek fel.
Boron nitride
d.
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
A plazmaszórás olyan rétegfelviteli eljárás, amely során a plazmát egy szórófej állítja elő és szabályozza; a porított vagy huzalos bevonóanyag a szórófejbe kerül be, amely azt megolvasztja, és ezt szórja ki a hordozó felé, ahol az teljes mértékben tapadó bevonatot képez.
Tungsten
A plazmaszórás vagy kisnyomású plazmaszórásból vagy víz alatti, nagy sebességű plazmaszórásból áll.
Molybdenum and Molybdenum alloys
A kis nyomás a környezeti, légköri nyomásnál kisebb nyomást jelent.
Beryllium and Beryllium alloys
A nagy sebesség azt jelenti, hogy a fúvókából eltávozó gáz sebessége 0,1 MPa nyomásnál 293 K-en (20 °C) meghaladja a 750 m/s-ot.
Sensor window materials (9)
e.
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
Az iszapleválasztás az a felületmódosító bevonási vagy rétegfelviteli eljárás, amelynek során a kívánt bevonat elérése érdekében a hordozóra folyadékban feloldott szerves kötőanyaggal kevert fém- vagy kerámiaport visznek fel szórással, bemerítéssel vagy festéssel, az azt követő levegőn vagy kemencében történő szárítással, illetve hőkezeléssel.
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
f.
Alloyed silicides
A katódporlasztás olyan rétegfelviteli folyamat, amelyben pozitív töltésű részecskéket gyorsítanak és mozgatnak elektromos térben a céltárgy (bevonóanyag) felszíne felé.
Modified zirconia (12)
A becsapódó ionok kinetikus energiája elegendő ahhoz, hogy a céltárgy felületéből atomok váljanak ki, és a megfelelően elhelyezett hordozón kiváljanak.
Corrosion resistant steel (7)
A táblázat csak a triódás, magnetronos vagy reaktív katódporlasztásra vonatkozik, amelyekkel a bevonóanyag tapadásának növelését és a leválasztás sebességét kívánják növelni, valamint a megnövelt nagyfrekvenciás (NF) porlasztásra vonatkozik, amelyet a nemfémes bevonóanyagok elgőzölögtetésére használnak.
Borides
Az alacsony energiájú (5 keV-nál kisebb) ionsugarakat a leválasztás aktiválására lehet használni.
Beryllium
g.
Titanium alloys (13)
Az ionbeültetés az a felületmódosító bevonási eljárás, amelynek során az ötvözőelemet ionizálják, erőtérben felgyorsítják és a hordozó felületének meghatározott részébe ültetik.
Nitrides
Ez magában foglalja azokat az eljárásokat, amelyek során az ionbeültetés az elektronsugaras fizikai gőzfázisú leválasztással vagy katódporlasztással egyidejűleg történik.
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
3.
Ceramics (19) and Low-expansion glasses
KATEGÓRIA - ELEKTRONIKA
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
A 3A001.a.3–3A001.a.10. alatt, a 3A001.a.12 vagy a 3A001.a.14. alatt meghatározottaktól eltérő, a 3A001, vagy 3A002 alatt ismertetett berendezések és alkatrészek – amelyeket más berendezésekhez speciálisan terveztek, illetve amelyek ugyanolyan funkcionális jellemzőkkel rendelkeznek, mint a többi berendezés – ellenőrzési státusát a többi berendezés ellenőrzési státusa határozza meg.
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
A 3A001.a.3–3A001.a.9., a 3A001.a.12 vagy a 3A001.a.14. alatt ismertetett integrált áramkörök ellenőrzési státusát – amelyeket megváltoztathatatlan módon programoztak vagy más berendezéshez egyedi funkcióra terveztek – a többi berendezés ellenőrzési státusa határozza meg.
Diamond-like carbon
Amikor a gyártó vagy a felhasználó nem tudja meghatározni a többi berendezés ellenőrzési státusát, akkor az integrált áramkörök ellenőrzési státusát a 3A001.a.3–3A001.a.9. a 3A001.a.12 vagy a 3A001.a.14. határozza meg.
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
Elektronikai termékek az alábbiak szerint:
Polymers (11) and Organic "matrix" "composites"
a.
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
Általános célú integrált áramkörök, az alábbiak szerint:
Refractory metals and alloys (8)
Azoknak a (befejezett vagy be nem fejezett) lapkáknak, amelyeken a funkciót meghatározták, az ellenőrzési státusát a 3A001.a. alatti paraméterek szerint kell értékelni.
Oxides
Integrált áramkörök alatt a következő típusokat értjük:
D. Plasma spraying
"monolit integrált áramkörök";
Abradable Nickel-Graphite
"hibrid integrált áramkörök";
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
"multichip integrált áramkörök";
Abradable Al-Si-Polyester
"film típusú integrált áramkörök", beleértve a szilícium/zafír integrált áramköröket is;
Aluminium alloys (6)
"optikai integrált áramkörök";
E. Slurry Deposition
"háromdimenziós integrált áramkörök";
Fused silicides
"mikrohullámú monolit integrált áramkörök" ("MMIC").
Fused aluminides except for resistance heating elements
A sugárzásállónak tervezett vagy minősített integrált áramkörök, melyek ellenállnak a következők bármelyikének:
F. Sputter Deposition
a. a.
Noble metal modified aluminides (3)
5 × 103 (Si) vagy ennél nagyobb teljes dózis;
Ceramics and Low- expansion glasses (14)
5 × 106 Gy (Si)/s vagy magasabb dózisintenzitás-változás; vagy
Dielectic layers (15)
c. c.
G. Ion Implantation
5 × 1013 n/cm2 vagy magasabb neutronfolyam (integrált fluxus) (1 MeV ekvivalens) szilíciumon, vagy ennek megfelelője más anyagon;
High temperature bearing steels
A 3A001.a.1.c. nem vonja ellenőrzés alá a Fém Szigetelő Félvezetőket (MIS).
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
"mikroprocesszor mikroáramkörök", "mikroszámítógép mikroáramkörök", mikrovezérlő mikroáramkörök, vegyes félvezetőből gyártott tároló integrált áramkörök, analóg-digitális átalakítók, analóg-digitális átalakítókat tartalmazó és ditiális adatokat tároló vagy feldolgozó integrált áramkörök, digitális-analóg átalakítók, elektro-optikai, vagy "jelfeldolgozásra" tervezett "optikai integrált áramkörök", felhasználó által programozható logikai eszközök, egyedi integrált áramkörök, amelyek funkciója vagy annak a berendezésnek, amelyben az integrált áramkört fel fogják használni az ellenőrzési státusa ismeretlen, gyors Fourier transzformáló (FFT) processzorok, elektronikusan törölhető programozható csak olvasható memóriák (EEPROM-ok), flash memóriák, statikus véletlen elérésű memóriák (SRAM-ok) vagy mágneses véletlen elérésű memóriák (MRAM-ok), amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők bármelyikével:
Cemented tungsten carbide (16)
a. a.
TABLE - DEPOSITION TECHNIQUES - NOTES
398 K (125 °C) feletti környezeti hő mérsékleten történő működésre méretezték;
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
b.
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
218 K (– 55 °C) alatti környezeti hőmérsékleten történő működésre méretezték; vagy
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
c. a 218 K (– 55 °C) és a 398 K (125 °C) közötti hőmérséklet-tartományban történő működésre méretezték;
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
A 3A001.a.2. nem vonja ellenőrzés alá a polgári gépjárművekben vagy a vasúti mozdonyokban alkalmazott integrált áramköröket.
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
"mikroprocesszor mikroáramkörök", "mikroszámítógép mikroáramkörök" és mikrovezérlő mikroáramkörök, amelyek vegyes félvezetőből készültek, és 40 MHz-et meghaladó órajel frekvencián működnek;
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
A 3A001.a.3 magában foglalja a digitális jelfeldolgozókat, a digitális tömbprocesszorokat és a digitális társprocesszorokat.
a.
analóg-digitális (AD) és digitális-analóg (DA) átalakító integrált áramkörök, az alábbiak szerint:
CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
a.
b.
AD átalakítók, amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők bármelyikével:
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight of yttrium; or
LÁSD MÉG: 3A101.
c.
felbontásuk legalább 8 bit, de 10 bitnél kevesebb, 1,3 giga minta/másodpercnél (GSPS) nagyobb kimeneti teljesítménnyel;
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
felbontásuk legalább 10 bit, de 12 bitnél kevesebb, 600 mega minta/másodpercnél (MSPS) nagyobb kimeneti teljesítménnyel;
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
felbontásuk legalább 12 bit, de 14 bitnél kevesebb, 400 mega minta/másodpercnél (MSPS) nagyobb kimeneti teljesítménnyel;
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
felbontásuk legalább 14 bit, de 16 bitnél kevesebb, 250 mega minta/másodpercnél (MSPS) nagyobb kimeneti teljesítménnyel; vagy
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
Az analóg-digitális átalakítókat tartalmazó és ditiális adatokat tároló vagy feldolgozó integrált áramköröket illetően ld. a 3A001.a.14. pontot.
Category 2 does not include "technology" for single-step pack cementation of solid airfoils.
Az n bit felbontás a 2n szintű kvantálásra vonatkozik.
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
A kibocsátási szó bit-száma megegyzik az AD átalakító felbontásával.
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
A kimeneti teljesítmény az átalakító maximális kimeneti teljesítménye, tekintet nélkül az architektúrára vagy a túlmintavételezésre.
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
'Többcsatornás AD átalakítók' esetében a teljesítmények nem adódnak össze, a kimeneti teljesítmény az egyes csatornák bármelyikének maximális kimeneti teljesítménye.
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
'Közvetett AD átalakítók' vagy olyan'többcsatornás AD átalakítók' esetében, amelyek leírásuk szerint szektor-fésüléses (interleaved) móddal is rendelkeznek, a kimenetek összeadódnak, és a kimeneti teljesítmény nem más, mint az összes kimenet maximális összevont kimeneti összteljesítménye.
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10-7 K-1 or less measured at 293 K (20 °C).
Az értékesítők a kimeneti teljesítményt mintavételezési teljesítménynek, átalakítási aránynak, átbocsátási sebességnek vagy átmenőteljesítmény- frekvenciának is nevezik.
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
Gyakran megahertzben (MHz) vagy mega szó/másodpercben (MSPS) fejezik ki.
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
A kimeneti teljesítmény mérésének alkalmazásában egy minta/másodperc egyenlő egy Hertz-cel vagy egy szó per másodperccel.
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
a 'többcsatornás AD átalakítók' olyan készülékek, amelyek egynél több AD átalakító egységből állnak, amelyek mindegyike külön analóg bemenettel rendelkezik.
"Technology" for depositing diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
a 'közvetett AD átalakítók' olyan készülékek, amelyek több AD átalakító egységből állnak, amelyek egyazon analóg bemenő jelet mintavételezik különböző időpontokban, oly módon, hogy végül a kimenetek aggregálásával hatékony módon, nagyobb mintavételezési sebességgel valósul meg az analóg bemeneti jel mintavételezése és átalakítása.
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
b.
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
Digitális-analóg (DA) átalakítók, amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők bármelyikével:
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
felbontásuk legalább 10 bit, 3500 MSPS-nál nagyobb "kiigazított adatfrissítési gyakoriság" mellett; vagy
TABLE - DEPOSITION TECHNIQUES - TECHNICAL NOTE
felbontásuk legalább 12 bit, legalább 1250 MS/s "kiigazított adatfrissítési gyakoriság" mellett, és rendelkeznek az alábbi jellemzők valamelyikével:
Processes specified in Column 1 of the Table are defined as follows:
a.
a.
9 ns-nél alacsonyabb beállási idő a digitális bemenetben történő változástól a kimeneti végérték 0 024 %-os hibasávon belüli eléréséig; vagy
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
b.
Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate.
100 MHz-es teljes kivezérlésű analóg jel vagy 100 MHz alatt meghatározott legmagasabb teljes kivezérlésű analógjel-frekvencia szintetizálásakor 68 dBc-nél (ahol c = carrier, vivő) nagyobb "Torzítás feletti dinamikatartomány" (SFDR).