natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
"cellák", az alábbiak szerint:
Surface preparation;
a.
Strain rate;
20 °C-on 550 Wh/kg-nál nagyobb "energiasűrűségű""primer cellák";
Pressure;
20 °C-on 350 Wh/kg-nál nagyobb "energiasűrűségű" "másodlagos cellák";
b.
A 3A001.e.1. pont alkalmazásában az "energiasűrűséget" (Wh/kg) úgy kapjuk meg, hogy az átlagos feszültséget szorozzuk az amperórában (Ah) kifejezett névleges kapacitással, és osztjuk a kilogrammban mért tömeggel.
"Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
Amennyiben a névleges kapacitás nem került meghatározásra, az energiasűrűséget úgy kapjuk meg, hogy a névleges feszültséget négyzetre emeljük és szorozzuk az órában kifejezett teljesítménnyel és osztjuk az ohmban kifejezett teljesítményterheléssel és a kilogrammban mért tömeggel.
c.
A 3A001.e.1. pont alkalmazásában a "cella" olyan elektrokémiai eszköz, amely pozitív és negatív elektródákkal, valamint elektrolittal rendelkezik, és elektromos energia forrása.
"Direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
Ez a telepek alapvető építőeleme.
Cycle time;
A 3A001.e.1.a. pont alkalmazásában a "primer cella" olyan "cella", amelyet nem más források általi töltésre terveztek.
d.
A 3A001.e.1b. pont alkalmazásában a "másodlagos cella" olyan "cella", amelyet külső elektromos forrás általi töltésre terveztek.
"Hot isostatic densification" of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
A 3A001.e.1. pont nem vonja ellenőrzés alá az telepeket, így az egy cellából álló telepeket sem.
c.
nagy energiájú tárolókondenzátorok, az alábbiak szerint:
"Technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
N.B.:
d.
LÁSD MÉG: 3A201.a. és a Katonai célú termékek ellenőrzési jegyzékét.
"Technology" for the "development" of generators of machine tool instructions (e.g., part programmes) from design data residing inside "numerical control" units;
a. kondenzátorok, melyek ismétlési frekvenciája kisebb, mint 10 Hz (egytöltetű kondenzátorok), és amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők mindegyikével:
e.
a névleges feszültség legalább 5 kV;
"Technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
legalább 250 J/kg energiasűrűség; és
f.
az összenergia legalább 25 kJ;
"Technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
b. legalább 10 Hz ismétlési frekvenciájú kondenzátorok (ismétlő kondenzátorok), amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők mindegyikével:
The table and Technical Note appear after entry 2E301.
legalább 50 J/kg energiasűrűség;
This table should be read to specify the technology of a particular Coating Process only when the Resultant Coating in column 3 is in a paragraph directly across from the relevant Substrate under column 2.
az összenergia legalább 100 J; és
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal "matrix" "composites" substrates, but are not included for the application of silicides to 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18) substrates.
legalább 10000 töltési/kisülési ciklus élettartam;
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18).
1 másodpercnél rövidebb idejű teljes feltöltésre vagy kisütésre tervezett "szupravezető" elektromágnesek vagy mágnestekercsek, amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők mindegyikével:
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
LÁSD MÉG: 3A201.b.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B233, 2D201 or 2D202.
A 3A001.e.3. nem vonja ellenőrzés alá a kifejezetten mágneses rezonancia képalkotó (MRI) orvosi berendezésekhez készített "szupravezető" elektromágneseket, illetve mágnestekercseket.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
a. a kisütés során szállított maximális energia az első másodpercben meghaladja a 10 kJ-t;
Table
b. az áram alatti tekercsek belső átmérője több, mint 250 mm; és
Deposition techniques
c. a névleges mágneses indukció több, mint 8 T, vagy a tekercsben a teljes áramsűrűség több, mint 300 A/mm2;
Coating Process (1) [3]
"űrminősítésű", 1367 W/m2 szimulált "AM0" besugárzás esetén, 301 K (+ 28 °C) üzemi hőmérsékleten 20 %-ot meghaladó minimális átlagos hatékonyságú napelemek, cellás belső kapcsolású borító üveges (CIC) szerelt egységek, nappanelek és napkollektorok.
Substrate
Az "AM0" vagy "Air Mass Zero" (zéró légtömeg) a napfény spektrális sugárzására vonatkozik a Föld külső atmoszférájában, amikor a Föld és a Nap távolsága egy csillagászati egység (AU).
Resultant Coating
f. forgóbemenet típusú tengely abszolútpozíció-kódolók, amelyek "pontossága" ± 1,0 ívmásodperc vagy kevesebb (jobb) annál;
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
g. elektromos, optikai vagy elektronsugárzás-vezérlésű kapcsolási módozatú, szilárd test impulzusos áramkapcsoló tirisztorok és "tirisztor-modulok", amelyek rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:
"Superalloys"
a maximális bekapcsolási áramváltozási meredekség (di/dt) több mint 30000 A/ms, a pozitív zárófeszültség pedig több mint 1100 V; vagy
Aluminides for internal passages
a maximális bekapcsolási áramváltozási meredekség (di/dt) több mint 2000 A/ms, és az alábbiak mindegyike fennáll:
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
a. a pozitív csúcszáró feszültség 3000 V vagy annál nagyobb; és
Silicides
b. legalább 3000 A csúcsáram.
Carbides
A 3A001.g. pont az alábbiakat foglalja magában:
Dielectric layers (15)
szilíciumvezérlésű egyenirányítók (SCR)
Diamond
elektromos kapcsolású tirisztorok (ETT)
Diamond-like carbon (17)
fény kapcsolású tirisztor (LTT)
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix""composites"
integrált vezérlőelektródával szabályozott tirisztor (IGCT)
Refractory metals
vezérlőelektródával kikapcsolható tirisztor (GTO)
Mixtures thereof (4)
MOS-vezérlésű tirisztor (MCT)
Aluminides
Szolidtron
Alloyed aluminides (2)
A 3A001.g. pont nem vonja ellenőrzés alá a polgári vasúti közlekedés és a "polgári repülőgépek" általi felhasználás céljára tervezett berendezésekbe beépített tirisztorokat és "tirisztor modulokat".
Boron nitride
A 3A001.g. pont alkalmazásában a "tirisztor modul" egy vagy több tirisztort tartalmaz.
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
h. szilárdtest alapú teljesítményelektronikai félvezető kapcsolók, diódák vagy "modulok", amelyek az alábbi jellemzők mindegyikével rendelkeznek:
Tungsten
488 K (215 °C) feletti maximális pn-átmenet hőmérsékleten is működőképesek;
Molybdenum and Molybdenum alloys
a pozitív ismétlődő csúcszáró feszültség (zárófeszültség) meghaladja a 300 V-ot; és
Beryllium and Beryllium alloys
az egyenáram erőssége nagyobb, mint 1 A.
Sensor window materials (9)
A 3A001.h. pontban említett pozitív ismétlődő csúcszáró feszültség magában foglalja a nyelő-forrás feszültséget, a kollektor-emitter feszültséget, a negatív ismétlődő csúcszáró feszültséget és a pozitív ismétlődő lezáró csúcsfeszültséget.
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
A 3A001.h. pont magában foglalja az alábbiakat:
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
záróréteges térvezérlésű tranzisztorok (JFET)
Alloyed silicides
záróréteges térvezérlésű vertikális tranzisztorok (VJFET)
Modified zirconia (12)
fém-oxid-félvezető térvezérlésű tranzisztorok (MOSFET)
Corrosion resistant steel (7)
kétszeresen diffundáltatott, fém-oxid-félvezető térvezérlésű tranzisztorok (DMOSFET)
Borides
szigetelt vezérlőelektródos bipoláris tranzisztorok (IGBT)
Beryllium
nagy elektronmozgékonyságú tranzisztorok (HEMT)
Titanium alloys (13)
bipoláris tranzisztorok (BJT)
Nitrides
tirisztorok és szilíciumvezérlésű egyenirányítók (SCR)
B.2.
vezérlőelektródával kikapcsolható tirisztor (GTO)
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
emittorral kikapcsolható tirisztorok (ETO)
Ceramics (19) and Low-expansion glasses
PiN-diódák
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
schottky-diódák
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
A 3A001.h. pont nem vonja ellenőrzés alá a polgári gépkocsik, a polgári vasúti közlekedés és a "polgári repülőgépek" általi felhasználás céljára tervezett berendezésekbe beépített kapcsolókat, diódákat vagy "modulokat".
Diamond-like carbon
A 3A001.h. pont alkalmazásában a "modulok" magukban foglalnak egy vagy több, szilárdtest alapú teljesítményelektronikai félvezető kapcsolót vagy diódát.
B.4.
Általános célú "elektronikus részegységek", modulok és berendezések az alábbiak szerint:
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
rögzítőberendezések és oszcilloszkópok az alábbiak szerint:
Polymers (11) and Organic "matrix""composites"
az alábbi jellemzők mindegyikével rendelkező digitális adatrögzítők:
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
a. lemezre vagy szilárdtestmeghajtó-memóriára való, tartós, több mint 6,4 Gbit/s "folyamatos átbocsátási sebesség"; és
Refractory metals and alloys (8)
b. a rádiófrekvenciás jeladatok rögzítése közben azok elemzését is végző processzor;
Oxides
Párhuzamos buszfelépítésű rögzítők esetén a "folyamatos átbocsátási sebességet" a maximális szósebesség és a szó bitekben mért hosszának a szorzata adja.
D. Plasma spraying
A "folyamatos átbocsátási sebesség" a berendezésnek az a legnagyobb adatsebessége, amelynél a lemezre vagy szilárdtestmeghajtó-memóriára való rögzítéskor a digitálisadat-beviteli gyakoriság vagy digitalizáló átalakítási arány fenntartása mellett adatveszteség nem lép fel.
Abradable Nickel-Graphite
valós idejű oszcilloszkópok, melyek zajfeszültsége a függőleges tengely teljes skálázása 2 %-ának felelő meg (rms, négyzetes középérték), ahol a 3 dB-es sávszélességű inputok a 60 GHz-es és afeletti sávban csatornánként a legkevesebb zajt adják.
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
A 3A002.a.7. nem vonja ellenőrzés alá az ekvivalens idejű mintavételezést alkalmazó oszcilloszkópokat.
Abradable Al-Si-Polyester
c. "jelanalizátorok", az alábbiak szerint:
Aluminium alloys (6)
"jelanalizátorok", amelyek a 31,8 GHz-et meghaladó, de 37 GHz-et meg nem haladó frekvenciatartományon belül bárhol 10 MHz-et meghaladó, 3 dB felbontási sávszélességgel (RBW) rendelkeznek;
E. Slurry Deposition
"jelanalizátorok", amelyek kijelzett átlagos zajszintje (DANL) a 43,5 GHz-et meghaladó, de 90 GHz-et meg nem haladó frekvenciatartományon belül bárhol alacsonyabb (jobb), mint –150 dBm/Hz;
Fused silicides
"jelanalizátorok", amelyek frekvenciája meghaladja a 90 GHz-et;
Fused aluminides except for resistance heating elements
"jelanalizátorok", amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők mindegyikével:
F. Sputter Deposition
a.
Noble metal modified aluminides (3)
170 MHz-et meghaladó "valós idejű sávszélesség"; és
Platinum
b.
Ceramics and Low- expansion glasses (14)
100 % észlelésivalószínűségű észlelés kevesebb, a teljes amplitúdóról kevesebb, mint 3 dB-es csökkenéssel hézagok vagy a 15 s vagy rövidebb időtartamú jelek ablakhatása miatt;
Dielectic layers (15)
A 3A002.c.4.b. pontban szereplő észlelési valószínűség más néven elfogási valószínűség vagy befogási valószínűség.
G. Ion Implantation
A 3A002.c.4.b. pont alkalmazásában, a 100 %-os észlelési valószínűségre vonatkozó időtartam megegyezik a meghatározott szintű mérési bizonytalansághoz szükséges minimális jelidőtartammal.
High temperature bearing steels
A 3A002.c.4. nem vonja ellenőrzés alá azokat a "jelanalizátorokat", amelyek csak állandó százalékú sávszélesség-szűrőket (más néven oktáv vagy törtoktáv szűrőket) használnak;
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
a 15 μs vagy rövidebb időtartamú jelek esetében 100 %-os triggerelési (fogási) valószínűségű "frekvenciamaszk-trigger" funkcióval rendelkező "jelanalizátorok";
Cemented tungsten carbide (16)
d. "jelgenerátorok", amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők mindegyikével:
TABLE — DEPOSITION TECHNIQUES — NOTES
specifikációjuk szerint a 31,8 GHz-et meghaladó, de 37 GHz-nél nem nagyobb frekvenciatartományban bárhol az alábbiak mindegyikével rendelkező impulzusmodulált jelek generálására alkalmasak;
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
a. az "impulzus-időtartama" kevesebb, mint 25 ns; és
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
b. a be-/kikapcsolási arány 65 dB vagy annál nagyobb;
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
kimenőteljesítményük a 43,5 GHz-et meghaladó, de 90 GHz-et nem meghaladó frekvenciatartományban bárhol meghaladja a 100 mW-ot (20 dBm);
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
az alábbi jellemzők valamelyikével bíró "frekvenciakapcsolási idő":
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
b. a 4,8 GHz és 31,8 GHz közötti frekvenciatartományban a 2,2 GHz-et meghaladó frekvenciaváltás esetén a frekvenciakapcsolási idő kevesebb, mint 100 μs;
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
d. a 31,8 GHz és 37 GHz közötti frekvenciatartományban az 550 MHz-et meghaladó frekvenciaváltás esetén a frekvenciakapcsolási idő kevesebb, mint 500 μs; vagy
a.
e. a 37 GHz és 90 GHz közötti frekvenciatartományban az 2,2 GHz-et meghaladó frekvenciaváltás esetén a frekvenciakapcsolási idő kevesebb, mint 100 μs;
CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
Nem használt.
b.
egyoldalsávos (SSB) fáziszaj dBc/Hz-ben, amely meghatározása szerint eleget tesz az alábbiak bármelyikének:
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight of yttrium; or
a. a 10 Hz ≤ F ≤ 10 kHz közötti tartományban és a 3,2 GHz-nél nagyobb, de legfeljebb 90 GHz frekvenciatartományban bárhol – (126 + 20log10F – 20log10f)-nél kisebb (jobb); vagy
c.
b. a 10 kHz < F ≤ 100 kHz közötti tartományban és a 3,2 GHz-nél nagyobb, de legfeljebb 90 GHz frekvenciatartományban bárhol – (206 – 20log10f)-nél kisebb (jobb); vagy
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
A 3A002.d.4. pontban F a működési frekvenciától történő eltérés Hz-ben, f pedig a működési frekvencia MHz-ben kifejezve;
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
a maximális frekvencia meghaladja a 90 GHz-et;
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
megjegyzés:
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
A 3A002.d. pont alkalmazásában a jelgenerátorok magukban foglalják a digitális hullámforma generátorokat és a funkciógenerátorokat is.
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
megjegyzés:
"Technology" for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
A 3A002.d nem vonja ellenőrzés alá azokat a berendezéseket, amelyekben a kimenő frekvenciát két vagy több kristályoszcillátor frekvenciájának összegzése vagy kivonása, vagy pedig az összegzés, illetve kivonás utáni eredmény szorzata adja.
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
A digitális hullámforma generátorok és funkciógenerátorok maximális frekvenciájának kiszámításához a minta/másodpercben kifejezett mintarátát el kell osztani 2,5-tel.
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
A 3A002.d.1.a. alkalmazásában az "impulzusidőtartam" az impulzus belépő élén mért, az impulzus amplitúdója 50 %-ának megfelelő pont és az impulzus kilépő élén mért, az impulzus amplitúdója 50 %-ának megfelelő pont közötti időintervallumot jelenti.
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
e. az alábbi jellemzők bármelyikével rendelkező hálózati analizátorok:
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
kimenőteljesítményük a 43,5 GHz-et meghaladó, de 90 GHz-et nem meghaladó működési frekvenciatartományban bárhol meghaladja a 31,62 mW-ot (15 dBm);
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10– 7 K– 1 or less measured at 293 K (20 °C).
kimenőteljesítményük a 90 GHz-et meghaladó, de 110 GHz-et nem meghaladó működési frekvenciatartományban bárhol meghaladja a 1 mW-ot (0 dBm);
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
"nemlineáris vektoros mérési funkció" 50 GHz-nél nagyobb, de legfeljebb 110 GHz frekvencián; vagy
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
Műszaki megjegyzés
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
A "nemlineáris vektoros mérési funkció" egy eszköz azon képessége, hogy elemezze a nagyjelű tartományban vagy a nemlineáris torzítási tartományban lévő eszközök teszteredményeit.
"Technology" specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
a maximális üzemi frekvencia meghaladja a 110 GHz-et;
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
f. mikrohullámú mérő vevőkészülékek, amelyek rendelkeznek a következő jellemzők mindegyikével:
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
a maximális üzemi frekvencia meghaladja a 110 GHz-et; és
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
képes az amplitúdó és a fázis egyszerre történő mérésére;
TABLE — DEPOSITION TECHNIQUES — TECHNICAL NOTE
g. az alábbi atomfrekvencia-etalonok bármelyike:
Processes specified in Column 1 of the Table are defined as follows:
"Űrminősítésű";
a.
nem rubídium és a hosszú távú stabilitás kisebb (jobb), mint 1 × 10–11/hónap; vagy
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
nem "űrminősítésű", és rendelkezik az alábbi jellemzők mindegyikével:
Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate.
a. rubídium-etalon;
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
b. a hosszú távú stabilitás kisebb (jobb), mint 1 × 10–11/hónap; és
CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
c. a teljes energiafogyasztás 1 W-nál kevesebb.
Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
h. "elektronikus részegységek", modulok és berendezések, az alábbiak mindegyikének elvégzésére:
The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
analóg-digitális átalakítások, amelyek rendelkeznek az alábbi jellemzők bármelyikével:
b.
a. felbontásuk legalább 8 bit, de 10 bitnél kevesebb, 1300 millió minta/másodpercnél nagyobb mintabeviteli gyakorisággal;
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material.
b. felbontásuk legalább 10 bit, de 12 bitnél kevesebb, 1000 millió minta/másodpercnél nagyobb mintabeviteli gyakorisággal;
This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates.
c. felbontásuk legalább 12 bit, de 14 bitnél kevesebb, 1000 millió minta/másodpercnél nagyobb mintabeviteli gyakorisággal;
The addition of gases to the vacuum chamber during the coating process to synthesize compound coatings is an ordinary modification of the process.
d. felbontásuk legalább 14 bit, de 16 bitnél kevesebb, 400 millió minta/másodpercnél nagyobb mintabevitetli gyakorisággal; vagy
The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.
e. felbontásuk legalább 16 bit, 180 millió minta/másodpercnél nagyobb mintabeviteli gyakorisággal; és
The use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thickness of coatings can be a feature of these processes.
a. a digitalizált adatok kivitele;
Specific TE-PVD processes are as follows:
b. a digitalizált adatok tárolása; vagy
Electron Beam PVD uses an electron beam to heat and evaporate the material which forms the coating;
c. a digitalizált adatok feldolgozása;
Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
A digitális adatrögzítők, oszcilloszkópok, "jelanalizátorok", jelgenerátorok, hálózati analizátorok és mikrohullámú mérő vevőkészülékek a 3A002.a.6., a 3A002.a.7., a 3A002.c., a 3A002.d, a .3A002.e. és a 3A002.f. pontban szerepelnek.
"Laser" Vaporization uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporize the material which forms the coating;
Többcsatornás "elektronikus részegységek" vagy modulok ellenőrzési státusát a legmagasabb egycsatornás specifikus teljesítmény határozza meg.