natgillin/translations-raw huggingface dataset:
a.
Többszörös szigetelésű szivattyúk és szigetelés nélküli szivattyúk; továbbá az ilyen szivattyúkhoz tervezett házak (szivattyúházak), előformált szivattyúbélések, keverőlapátok, rotorok vagy sugárszivattyú fúvókák, amelyeknél a gyártó által meghatározott maximális térfogatáram nagyobb mint 0,6 m3/h, vagy vákuumszivattyúk, amelyeknél a gyártó által meghatározott legnagyobb térfogatáram nagyobb mint 5 m3/h (normál körülmények [273 K (0 °C) hőmérséklet, 101,30 kPa nyomás] között), amelyekben a feldolgozott vegyszerrel (vegyszerekkel) közvetlenül érintkező valamennyi felület a következő anyagok bármelyikéből készült:
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
Kerámia;
b.
Ferroszilícium (magas szilíciumtartalmú szilícium-vas ötvözetek);
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,4 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1 m and less than 4 m;
A 2B350.i. pontban szereplő „szigetelés” kifejezés csak azokra a szigetelésekre vonatkozik, amelyek közvetlenül érintkeznek a feldolgozás alatt álló vegyi anyagokkal (vagy azokkal közvetlen érintkezésre tervezték őket), valamint olyan konstrukció szigetelését biztosítják, ahol a forgó- vagy dugattyús tengely áthalad a szivattyútesten.
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm (along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m; or
Az 1C350 pont alatt meghatározott vegyi anyagok megsemmisítésére tervezett, különleges hulladékbetápláló rendszerrel és kezelő-berendezésekkel ellátott hulladékégetők, amelyeknél az égetőkamra átlagos hőmérséklete meghaladja az 1273 K-t (1000 °C), és amelyekben a betápláló rendszernek a hulladékkal közvetlenül érintkező valamennyi felülete az alábbi anyagok bármelyikéből készült, vagy azok bármelyikével vonták be:
d.
Kerámia; vagy
Being a 'parallel mechanism machine tool';
Nikkel, vagy 40 tömegszázaléknál több nikkelt tartalmazó ’ötvözetek’.
A 'parallel mechanism machine tool' is a machine tool having multiple rods which are linked with a platform and actuators; each of the actuators operates the respective rod simultaneously and independently.
A 2B350 alkalmazásában, a tömítések, töltőanyagok, szigetelések, csavarok, alátétek vagy más szigetelő funkciót betöltő anyagokhoz használt anyagok nem határozzák meg az ellenőrzés állását, amennyiben az ilyen alkatrészeket cserélhetőnek tervezték.
A "unidirectional positioning repeatability" for jig boring machines, equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; or
A ’szén-grafit’ amorf szén és grafit olyan keveréke, amelynek a grafittartalma legalább 8 tömegszázalék.
Fly cutting machines having all of the following:
A fenti bekezdésekben felsorolt anyagok esetében az ’ötvözet’ kifejezés, amennyiben nincs feltüntetve mellette konkrét elemi koncentráció, olyan ötvözetekre vonatkozik, amelyek a mellettük feltüntetett fémet nagyobb tömegszázalékban tartalmazzák, mint bármely más elemet.
a.
Toxikus gázoknak az 1A004 pontban meghatározottaktól eltérő megfigyelőrendszerei és az ezekhez való detektoregységek, az alábbiak szerint, továbbá azok detektorai, szenzorai és cserélhető szenzorbetétei:
Spindle "run-out" and "camming" less (better) than 0,0004 mm TIR; and
a.
b.
Folyamatos üzemre tervezték és alkalmasak az 1C350 alatt meghatározott vegyszerek vagy vegyi fegyver anyagok kimutatására, 0,3 mg/m3-nél kisebb koncentrációnál; vagy
Angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel;
b.
c.
Kolinészteráz-gátló hatás detektálására tervezték.
Machine tools for grinding having any of the following:
Biológiai anyagok kezelésére alkalmas berendezések, az alábbiak szerint:
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
P3, P4 biztonsági szintű biológiailag teljesen biztonságos létesítmények;
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
A P3, vagy P4 (BL3, BL4, L3, L4) biztonsági szintet a WHO Laboratory Biosafety kézikönyve (3. kiadás, Genf, 2004) határozza meg.
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1.1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
Fermentorok és alkatrészek, ideértve a következőket:
b.
Az aeroszol szaporítása nélkül a patogén „mikroorganizmusok”, vírusok tenyésztésére vagy toxintermelésre képes fermentorok 20 l vagy afeletti kapacitással;
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1.4 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1 m and less than 4 m; or
A 2B352.b.1. pontban szereplő fermentorokhoz tervezett alkatrészek az alábbiak szerint:
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6.0 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m.
In situ sterilizálásra vagy fertőtlenítésre tervezett tenyésztőkamrák;
c. does not control grinding machine as follows:
b.
Cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines, having all of the following:
Tenyésztőkamrát tartó eszközök;
Limited to cylindrical grinding; and
c.
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
Olyan folyamatvezérlő egységek, amelyek képesek a fermentációs rendszer két vagy több paraméterének (pl. hőmérséklet, pH, tápanyagtartalom, erjesztőkád keverése, oldott oxigén mennyisége, levegőáram, habzásellenőrzés) egyidejű figyelemmel kísérésére és ellenőrzésére;
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a "unidirectional positioning repeatability" less (better) than 1,1 μm
A 2B352.b. alkalmazásában, a fermentorok közé tartoznak a bioreaktorok, egyszer használatos (eldobható) bioreaktorok, a kemosztátok és a folyamatos áramú rendszerek is.
Surface grinders.
c.
d.
Centrifugális szeparátorok, amelyek az aeroszolok szaporítása nélkül képesek folyamatos elválasztásra és rendelkeznek az alábbi jellemzők mindegyikével:
Electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
100 l/h-nál nagyobb térfogatáram;
e.
Polírozott rozsdamentes acélból vagy titánból készült alkatrészek;
Machine tools for removing metals, ceramics or "composites", having all of the following:
A gőzt tartalmazó területen belüli egy vagy több szigetelő csatlakozás; és
Removing material by means of any of the following:
Zárt állapotban képesek in-situ gőzsterilizálásra;
a.
A centrifugális szeparátorok magukban foglalják a dekantereket is.
Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
d.
b.
A következő keresztáramú szűrőberendezések és alkatrészek:
Electron beam; or
Keresztáramú szűrőberendezések, amelyek képesek kórokozó mikroorganizmusok, vírusok, toxinok és sejtkultúrák elválasztására, és amelyek rendelkeznek valamennyi alábbi jellemzővel:
"Laser" beam; and
1 m2 vagy annál nagyobb teljes szűrőfelület; és
At least two rotary axes having all of the following:
b.
a.
Rendelkeznek az alábbi jellemzők bármelyikével:
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
in situ lehetséges azok sterilizálása vagy fertőtlenítése; vagy
b.
Eldobható vagy egyszer használatos alkatrészeket használnak;
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003 °;
A 2B352.d.1.b. pontban a sterilizálás a berendezésben található összes életképes mikroba eltávolítását jelenti fizikai (pl. gőz) vagy kémiai úton.
f.
A fertőtlenítés a mikrobák okozta potenciális fertőzés fertőtlenítő hatású kémiai anyagok használatával történő kiirtását jelenti a berendezésben.
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m.
A sterilizálás és a fertőtlenítés különbözik a higienizálástól: ez utóbbi olyan tisztítási eljárást jelent, amely során csökkentik a berendezés mikrobatartalmát, de nem feltétlenül sikerül eltávolítani az összes, mikrobák okozta fertőzést vagy életképes mikrobát.
"Numerically controlled" optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
A 2B352.d. pont nem vonja ellenőrzés alá a fordított ozmózis elvén működő berendezést, ahogy azt a gyártó jelezte.
a.
A keresztáramú szűrőberendezések alkatrészei (pl. modulok, elemek, kazetták, szűrőbetétek, egységek és lemezek), amelyek szűrőfelülete egyenként 0,2 m2 vagy annál nagyobb, és a 2B352.d. pontban meghatározott keresztáramú szűrőberendezések használatához terveztek.
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
e.
b.
Gőzzel sterilizálható fagyasztva szárító berendezések, amelyek kondenzáló kapacitása nagyobb, mint 10 kg jég/nap és kisebb, mint 1000 kg jég/nap.
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
f.
c.
Védő és izoláló berendezések, az alábbiak szerint:
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Független levegőellátású fél, vagy egész védőöltözékek, vagy hozzákapcsolt külső levegőellátástól függő és pozitív nyomás alatt működő sisakok;
d.
A 2B352.f.1. nem vonja ellenőrzés alá az olyan öltözékeket, amelyeket úgy terveztek, hogy független levegőztető berendezéssel együtt viseljék.
Using any of the following processes:
osztályba sorolt biológiai biztonsági kabinok, vagy hasonló teljesítményű elkülönítők.
Magnetorheological finishing ('MRF');
A 2B352.f.2. alkalmazásában az izolátorok magukban foglalják a flexibilis izolátorokat, a szárazboxokat, az anaerob kamrákat, a kesztyűboxokat és a lamináris áramlású (függőleges áramlással zárt) sátrakat.
Electrorheological finishing ('ERF');
g.
'Energetic particle beam finishing';
Patogén „mikroorganizmusokkal”, vírusokkal vagy „toxinokkal” történő tesztelésre tervezett, 1 m3 vagy annál nagyobb kapacitású aeroszol kamrák.
'Inflatable membrane tool finishing'; or
h.
'Fluid jet finishing'.
A toxinok és kórokozó mikroorganizmusok szárítására alkalmas porlasztva szárító berendezés, amely rendelkezik az alábbi összes jellemzővel:
For the purposes of 2B002:
Vízpárologtatási kapacitása ≥ 0,4 kg/ó és ≤ 400 kg/ó;
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
Képes arra, hogy a kívánt részecskeméret generálását lehetővé tevő porlasztó szórófejekkel ≤10 μm tipikus átlagos részecskeméretet generáljon a meglévő szerelvényekkel vagy a porlasztva szárító berendezés minimális módosításával; és
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Nincs.
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
A 2D002 alatt meghatározottaktól eltérő „szoftver”, az alábbiak szerint:
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
a.
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc = 40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1,250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
Kifejezetten a 2A001 vagy 2B001 által ellenőrzés alá vont berendezések „kifejlesztésére” vagy „gyártására” tervezett vagy átalakított „szoftver”.
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
b.
a.
A 2D001 nem vonja ellenőrzés alá az alkatrészek programozását végző olyan „szoftvert”, amely „számjegyvezérlésű” kódokat generál a különféle részek megmunkálására.
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
„Szoftver” elektronikus eszközökhöz, még akkor is, ha elektronikus eszközbe, vagy rendszerbe építették be, lehetővé téve, hogy az ilyen rendszerek „számjegyvezérlésű” egységként működjenek, és amely képes több mint négy tengely egyidejű koordinálása „kontúrvezérlésre”;
b.
A 2D002 nem vonja ellenőrzés alá a kifejezetten a 2. kategória alatt nem meghatározott tételek működtetésére tervezett, vagy módosított „szoftvert”.
Having any of the following:
A 2D002 nem vonja ellenőrzés alá a 2B002. pontban meghatározott termékekhez tartózó „szoftvert”.
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
A 2B002. pontban meghatározott termékekhez tartózó „szoftver” tekintetében lásd: 2D001 és 2D003.
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
A 2D002 nem vonja ellenőrzés alá a 2. kategóriában meg nem határozott cikkekkel exportált és azok működéséhez minimálisan szükséges „szoftvert”.
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
A 2B002 alatt meghatározott berendezések működéséhez tervezett vagy módosított olyan „szoftver”, amely a kívánt munkadarabforma elérése érdekében az optikai kialakítást, a munkadarab mérési értékeit és az anyageltávolítási funkciókat „számjegyvezérlésű” parancsokká alakítja át.
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Kifejezetten a 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 vagy 2B119-2B122 alatt meghatározott berendezések „felhasználására” tervezett „szoftver”.
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
LÁSD MÉG: 9D004.
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Kifejezetten a 2B204, 2B206, 2b207, 2b209, 2B219 vagy a 2B227 alatt meghatározott berendezések „felhasználására” tervezett „szoftver”.
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
Az 1D003 alatt meghatározottól eltérő, kifejezetten a 2B351 alatt meghatározott berendezés „felhasználására” tervezett „szoftver”.
a.
A 2A, a 2B vagy a 2D alatt meghatározott berendezések vagy „szoftver”„kifejlesztésére” vonatkozó, az Általános technológiai megjegyzés szerinti „technológia”.
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
A 2E001 magában foglalja a próbarendszereknek a 28006.a. pontban meghatározott koordinált mérőgépekbe történő integrálására szolgáló „technológiát”.
SEE ALSO 2B105.
A 2 A vagy 2 B által ellenőrzés alá vont berendezések „gyártására” vonatkozó, az Általános technológiai megjegyzés szerinti „technológia”.
A process modified for one of the following:
Egyéb „technológia”, az alábbiak szerint:
a.
a. „Technológia” a részprogramok elkészítésére, vagy módosítására szolgáló „számjegyvezérlésű” egységek integráns részét képező interaktív grafika „kifejlesztésére”;
Pulsating CVD;
b. „Technológia” fémmegmunkáló gyártási eljárásokhoz, az alábbiak szerint:
b.
Kifejezetten az alábbi eljárások bármelyikéhez tervezett szerszámok, matricák, tartozékok tervezésére szolgáló „technológia”:
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
a. „Szuperképlékeny alakítás”;
c.
b. „Diffúziós kötés”; vagy
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
c. „Közvetlen hatású hidraulikus sajtolás”;
a.
Az alábbiak szabályozására szolgáló, feldolgozási módszerekből vagy paraméterekből álló műszaki adat:
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
a.
b.
Alumíniumötvözetek, titánötvözetek vagy „szuperötvözetek” „szuperképlékeny alakítása”:
Incorporating in situ coating thickness control;
Felület-előkészítés;
b.
Alakváltozási sebesség;
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Hőmérséklet;
c.
Nyomás;
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
b. „Szuperötvözetek” vagy titánötvözetek „diffúziós kötése”:
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
c.
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
Alumíniumötvözetek vagy titánötvözetek „közvetlen hatású hidraulikus sajtolása”:
d.
Ciklusidő;
Plasma spraying production equipment having any of the following:
d.
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Titánötvözetek, alumíniumötvözetek vagy „szuperötvözetek” „meleg izosztatikus tömörítése”:
Incorporating in situ coating thickness control;
c.
e.
Repülőgép-szerkezetek gyártásához használt, hidraulikus nyújtó-formázó gépek és szerszámaik „kifejlesztésére” vagy „gyártására” szolgáló „technológia”;
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
d.
f.
Szerszámgép-utasítások (pl. részprogramok) generátorának „kifejlesztésére” szolgáló olyan „technológia”, amely a „számjegyvezérlésű” egységben található tervezési adatokra támaszkodik;
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
e.
g.
Műhelytevékenység korszerű döntéstámogatási rendszeréhez szükséges szakértői rendszert „számjegyvezérlő egységbe” integráló „szoftver” „kifejlesztésére” szolgáló „technológia”;
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
f.
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Szervetlen fedőrétegeknek, vagy szervetlen felületmódosító burkolatoknak (amelyeket következő táblázat 3. oszlopa határoz meg) a nem-elektronikus szubsztrátumokra (amelyeket a következő táblázat 2. oszlopa határoz meg) történő alkalmazásának „technológiája”, a következő táblázat 1. oszlopában meghatározott és a Műszaki megjegyzésben meghatározott eljárásokkal.
Optical characteristics.
A táblázat és a Műszaki megjegyzések a 2E301 után találhatók.
005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
Ezt a táblázatot egy adott bevonási eljárás technológiájának meghatározásához csak abban az esetben kell figyelembe venni, amikor a 3. oszlopban található keletkezett bevonat abban a bekezdésben szerepel, amely pontosan szemben helyezkedik el a 2. oszlopban található vonatkozó hordozóval.
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
Például a gőzfázisú kémiai leválasztás (CVD) bevonási eljárás műszaki adatai a szilicideknek szén-szén, kerámia és fém-„mátrix” „kompozitok” hordozókra való alkalmazása esetében vannak feltüntetve, nincsenek azonban feltüntetve a szilicideknek a ’cementált volfrám-karbid’ (16) és ’szilícium-karbid’ (18) hordozókra történő alkalmazására.
a.
A második esetben a keletkezett bevonat nem szerepel abban a 3. oszlopban található bekezdésben, amelyik pontosan szemben helyezkedik el a 2. oszlopnak azzal a bekezdésével, amely a ’cementált volfrám-karbid’ (16) és ’szilícium-karbid’ (18) hordozókat tünteti fel.
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0, MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
A 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116 vagy a 2D101 alatt meghatározott berendezés vagy „szoftver” „felhasználására” vonatkozó, az Általános technológiai megjegyzés szerinti „technológia”.
The E0, MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1000 μm threshold.
A 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225-2B232, 2D201 vagy 2D202 alatt meghatározott berendezés, vagy „szoftver” „felhasználására” vonatkozó, az Általános technológiai megjegyzés szerinti „technológia”.
SEE ALSO 2B206.
A 2B350-2B352 alatt meghatározott termékek „felhasználására” vonatkozó, az Általános technológiai megjegyzés szerinti „technológia”.
b.
Táblázat
Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
Anyagleválasztó eljárások
'Linear displacement' measuring instruments having any of the following:
Bevonási eljárás (1) [3]
Displacement measuring "laser" interferometers are only controlled in 2B006.b.1.c.
Alaplemez
For the purpose of 2B006.b.1.
Keletkezett bevonat
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
A. Gőzfázisú kémiai leválasztás (CVD)
a.
„Szuperötvözetek”
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Aluminidek belső felületekhez
b.
Kerámia (19) és alacsony tágulású üvegek (14)
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
Szilicidek
a.
Karbidok
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
Dielektromos rétegek (15)
b.
Gyémánt
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
„Lézer” elpárologtatás
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ± 1 K;
Szén-szén, Kerámia és Fém-„mátrix” „kompozitok”
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
Tűzálló fémek
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm..
Ezek keverékei (4)
c.
Aluminidek
Measuring systems having all of the following:
Ötvözött aluminidek (2)
Containing a "laser"; and
Bór-nitrid
Maintaining, for at least 12 hours, at a temperature of 20 ± 1 °C, all of the following:
Cementált volfrámkarbid (16), Szilícium-karbid (18)
a.
Volfrám
A "resolution" over their full scale of 0,1 μm or less (better); and
Molibdén és molibdénötvözetek
b.
Berillium és berillium ötvözetek
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (0,2 + L/2000) μm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air; or
Szenzorablak-anyagok (9)
d.
Fizikai gőzfázisú termikus leválasztás (TE-PVD)
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD): elektronsugaras (EB-PVD)
b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
Ötvözött szilicidek
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025 °;
Módosított cirkónium-oxid (12)
b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., laser light) to detect angular displacement of a mirror.
Korrózióálló acél (7)
c.
Boridok