natgillin/translations-raw huggingface dataset:
f. “Technology” for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
f. Szervetlen fedőrétegeknek vagy szervetlen felületmódosító burkolatoknak (amelyeket a következő táblázat 3. oszlopa határoz meg) a nem elektronikus szubsztrátumokra (amelyeket a következő táblázat 2. oszlopa határoz meg) történő alkalmazásának „technológiája”, a következő táblázat 1. oszlopában meghatározott és a műszaki megjegyzésben meghatározott eljárásokkal.
The table and Technical Note appear after entry 2E301.
A táblázat és a műszaki megjegyzések a 2E301 után találhatók.
This table should be read to specify the technology of a particular Coating Process only when the Resultant Coating in column 3 is in a paragraph directly across from the relevant Substrate under column 2.
Ezt a táblázatot egy adott bevonási eljárás technológiájának meghatározásához csak abban az esetben kell figyelembe venni, amikor a 3. oszlopban található keletkezett bevonat abban a bekezdésben szerepel, amely pontosan szemben helyezkedik el a 2. oszlopban található vonatkozó hordozóval.
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal “matrix” “composites” substrates, but are not included for the application of silicides to ‘cemented tungsten carbide’ (16), ‘silicon carbide’ (18) substrates.
Például a gőzfázisú kémiai leválasztás (CVD) bevonási eljárás műszaki adatai a szilicideknek szén-szén, kerámia és fém „mátrix” „kompozitok” hordozókra való alkalmazása esetében vannak feltüntetve, nincsenek azonban feltüntetve a szilicideknek a ’cementált volfrám-karbid’ (16) és ’szilícium-karbid’ (18) -hordozókra történő alkalmazására.
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing ‘cemented tungsten carbide’ (16), ‘silicon carbide’ (18).
A második esetben a keletkezett bevonat nem szerepel abban a 3. oszlopban található bekezdésben, amelyik pontosan szemben helyezkedik el a 2. oszlopnak azzal a bekezdésével, amely a ’cementált volfrám-karbid’ (16) és ’szilícium-karbid’ (18) -hordozókat tünteti fel.
“Technology” according to the General Technology Note for the “use” of equipment or “software” specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
A 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119–2B122 vagy a 2D101 alatt meghatározott berendezés vagy „szoftver” „felhasználására” vonatkozó, az általános technológiai megjegyzés szerinti „technológia”.
“Technology” according to the General Technology Note for the “use” of equipment or “software” specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B232, 2D201 or 2D202.
A 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225–2B232, 2D201 vagy 2D202 alatt meghatározott berendezés vagy „szoftver” „felhasználására” vonatkozó, az általános technológiai megjegyzés szerinti „technológia”.
“Technology” according to the General Technology Note for the “use” of goods specified in 2B350 to 2B352.
A 2B350–2B352 alatt meghatározott termékek „felhasználására” vonatkozó, az általános technológiai megjegyzés szerinti „technológia”.
Coating Process (1) [5]
Bevonási eljárás (1) [5]
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
A. Gőzfázisú kémiai leválasztás (CVD)
“Superalloys”
„Szuperötvözetek”
Carbon-carbon, Ceramic and Metal “matrix” “composites”
Szén-Szén, Kerámia és fém „mátrix” „Kompozitok”
Beryllium and Beryllium alloys
Berillium és Berilliumötvözetek
B. Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
B. Fizikai gőzfázisú termikus leválasztás (TE-PVD)
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
Iontámogatású ellenállás-fűtésű fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD) (ionplattírozás)
Physical Vapour Deposition (PVD): “Laser” Vaporisation
Fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD): „lézer” elpárologtatás
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
Fizikai gőzfázisú leválasztás (PVD): katódív-kisülés
Polymers (11) and Organic “matrix” “composites”
Polimerek (11) és szerves „mátrix” „kompozitok”
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
C. Pack-cementálás (a „nem pack” cementálás tekintetében lásd: „A”) (10)
D. Plasma spraying
D. Plazmaszórás
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
Csiszolható Ni-Cr-Al-tartalmú anyagok
E. Slurry Deposition
E. Iszapleválasztás
F. Sputter Deposition
F. Katódporlasztás
G. Ion Implantation
G. Ionbeültetés
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
Króm, Tantál, vagy Nióbium (kolumbium)-adalékok
Table — Deposition Techniques — Notes
Táblázat – Anyagleválasztó eljárások – Megjegyzések
The term ‘coating process’ includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
’Bevonási folyamaton’ egyaránt értendő a felületen végzett javítás, a felület korábbi állapotának visszaállítása, illetve az eredeti bevonási folyamat is.
The term ‘alloyed aluminide coating’ includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
Az ’ötvözöttaluminid-bevonat’ kifejezés vonatkozik az egy vagy több lépcsőben előállított bevonatokra, amelyekben egy vagy több elemet az aluminidbevonat felvitele előtt helyeztek el, még akkor is, ha ez egy más bevonatolási folyamattal történt.
The term ‘noble metal modified aluminide’ coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
A ’nemesfémmel módosított aluminid’ kifejezés arra a többlépcsős bevonási folyamatra vonatkozik, amelynek során az aluminidbevonatolás alkalmazása előtt valamilyen más bevonási folyamattal nemesfémet vagy nemesfémeket visznek fel.
The term ‘mixtures thereof’ includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
Az ’ezek keverékei’ kifejezés diffúz anyagokra, szemcsés kompozitokra, kodepozitokra és többrétegű depozitokra vonatkozik, és azok a táblázatban szereplő bevonási folyamatok egyszeri vagy többszöri alkalmazásával állíthatók elő.
‘MCrAlX’ refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
Az ’MCrAlX’ olyan bevonó ötvözeteket jelent, amelyekben az „M” kobaltnak, vasnak, nikkelnek vagy ezek valamilyen kombinációjának felel meg, az „X” hafniumot, ittriumot, szilíciumot, tantált jelent, bármely mennyiségben vagy egyéb különböző arányokban és kombinációkban szándékosan bevitt adalékanyagot 0,01 tömegszázalék fölött, kivéve:
a. CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
a. A CoCrAlY-bevonat, amely kevesebb mint 22 tömegszázalék krómot, kevesebb mint 7 tömegszázalék alumíniumot és kevesebb mint 2 tömegszázalék ittriumot tartalmaz;
b. CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight of yttrium; or
b. A CoCrAlY-bevonat, amely 22–24 tömegszázalék krómot, 10–12 tömegszázalék alumíniumot és 0,5–0,7 tömegszázalék ittriumot tartalmaz; vagy
c. NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
c. A NiCrAlY-bevonat, amely 21–23 tömegszázalék krómot, 10–12 tömegszázalék alumíniumot és 0,9–1,1 tömegszázalék ittriumot tartalmaz.
The term ‘aluminium alloys’ refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Az ’alumíniumötvözetek’ olyan ötvözeteket jelentenek, amelyek 293 K (20 °C) hőmérsékleten mért maximális szakítószilárdsága legalább 190 Mpa.
The term ‘corrosion resistant steel’ refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
A ’korrózióálló acél’ kifejezés olyan acélokra vonatkozik, mint például az AISI (American Iron and Steel Institute – Amerikai Vas- és Acélintézet) 300-as sorozata vagy az ezzel egyenértékű nemzeti szabvány szerinti acélok.
‘Refractory metals and alloys’ include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
A ’tűzálló fémek és ötvözetek’ az alábbi fémekből és ötvözeteikből állnak: nióbium (kolumbium), molibdén, volfrám és tantál.
‘Sensor window materials’, as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
A ’szenzorablak-anyagok’ a következők: alumínium-oxid, szilícium, germánium, cink-szulfid, cink-szelenid, gallium-arzenid, gyémánt, gallium-foszfid, zafír és a következő fémhalogenidek: a 40 mm-nél nagyobb átmérőjű érzékelő üveganyagok esetén cirkónium-fluorid és hafnium-fluorid.
“Technology” for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
A 2. kategória nem vonja ellenőrzés alá a repülőgépek szilárd szárnyszelvényeinek egylépcsős pack-cementálására szolgáló „technológiát”.
‘Polymers’, as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
’Polimerek’, ideértve a következőket: polimidek, poliészterek, poliszulfidok, polikarbonátok és poliuretánok.
‘Modified zirconia’ refers to additions of other metal oxides (e.g. calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
A ’módosított cirkónium-oxid’ más fémoxidok adalékaira vonatkozik (pl. kalcium, magnézium, ittrium, hafnium, ritkaföldfémek oxidjai stb.), amelyeket azért adagolnak a cirkóniumhoz, hogy stabilizálják a krisztallográfiai fázisokat és a fázisösszetételeket.
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
Az ellenőrzés nem terjed ki a kalciummal vagy a magnéziummal történő keverés vagy fúzió útján módosított cirkóniumból készült hőgátbevonatokra.
‘Titanium alloys’ refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
A ’titánötvözetek’ azokra az űrhajózási ötvözetekre utalnak, amelyek 293 K (20 °C) hőmérsékleten mért maximális szakítószilárdsága 900 MPa vagy annál több.
‘Low-expansion glasses’ refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10–7 K–1 or less measured at 293 K (20 °C).
Az ’alacsony tágulású üvegek’ olyan üvegekre vonatkoznak, amelyek 293 K (20 °C) hőmérsékleten mért hőtágulási együtthatója 1 × 10–7 K–1 vagy annál kevesebb.
‘Dielectric layers’ are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
A ’dielektromos rétegek’ többrétegű szigetelőanyagból készült bevonatok, amelyekben a különböző törésmutatójú anyagokból álló modell interferencia-jellemzőit használják fel a különböző hullámhosszúságú sávok visszaverésére, átvitelére vagy elnyelésére.
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal “composite” layers.
A dielektromos rétegek négynél több dielektromos rétegre vagy szigetelő/fém „kompozit” rétegre vonatkoznak.
‘Cemented tungsten carbide’ does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
A ’cementált volfrám-karbid’ nem foglalja magában a volfrám-karbid/(kobalt, nikkel), titán-karbid/(kobalt, nikkel), króm-karbid/nikkel- króm és króm-karbid/nikkel vágó és forgácsoló szerszámanyagokat.
“Technology” specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
Az ellenőrzés nem terjed ki a kifejezetten a következő anyagok bármelyikén gyémántszerű szén bevonatok létrehozására tervezett „technológiára”:
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
mágneses lemezmeghajtók és fejek, eldobható termékek gyártására szolgáló berendezések, vízcsapszelepek, hangszórómembrán, gépjárművek motorrésze, vágószerszámok, lyukasztó süllyesztékei, iroda-automatizálási berendezések, mikrofonok és gyógyászati eszközök vagy a műanyagok öntésére vagy formázására használt, kevesebb mint 5 % beríliumot tartalmazó ötvözetekből gyártott formák.
‘Silicon carbide’ does not include cutting and forming tool materials.
A ’szilícium-karbid’ nem foglalja magába a vágó és forgácsoló szerszámanyagokat.
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
A kerámia-hordozóanyagok kifejezés e tétel alkalmazásában nem foglalják magukban az 5 % vagy nagyobb tömegben agyagot vagy cementet – akár különálló komponensek, akár kombinációban szerepelnek – tartalmazó kerámiákat.
Table — Deposition Techniques — Technical Note
Táblázat – Anyagleválasztó eljárások – Műszaki megjegyzések
CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
A CVD-eljárások közé tartoznak a következők is: nem pack (out-of-pack) irányított gázáram, pulzáló CVD, szabályozott nukleidos termikus leválasztás (controlled nucleation thermal decomposition – CNTD), plazmagerjesztésű vagy plazmát alkalmazó CVD-eljárások.
Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
A pack porkeverékbe merített hordozót jelent.
The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
A nem pack eljárásokban használt gáz-halmazállapotú anyagok ugyanazon alapreakció során ugyanolyan paraméterekkel jönnek létre, mint a pack-cementálás eljárás paraméterei, kivéve, hogy a bevonandó hordozó nem kerül kapcsolatba a porkeverékkel.
b. Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporise the coating material.
b. Termikus gőzölögtetésű fizikai gőzfázisú leválasztás (TE-PVD) olyan bevonatkezelési eljárás, amelyet 0,1 Pa-nál kisebb nyomású vákuumban végeznek el, úgy, hogy a bevonóanyag elgőzölögtetésére hőenergiát használnak fel.
The addition of gases to the vacuum chamber during the coating process to synthesise compound coatings is an ordinary modification of the process.
Az eljárás szokásos módosítási eszköze az, hogy kompaund bevonatok szintetizálása céljából a bevonási eljárás során gázt adagolnak be a vákuumkamrába.
The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating’s deposition is also a common modification in this technique.
Ion- vagy elektronsugarak, illetve plazma alkalmazása a bevonási eljárás aktiválására vagy előmozdítására szintén e technikai eljárás szokásos módosítását képezi.
Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
Az iontámogatású ellenállás-fűtésű PVD villamosan ellenálló hőforrások és visszaverődő ionsugarak kombinációját alkalmazza, amelyek képesek biztosítani az elgőzölögtetett bevonóanyagok ellenőrzött és egységes áramát;
“Laser” Vaporisation uses either pulsed or continuous wave “laser” beams to vaporise the material which forms the coating;
A „lézer” elgőzölögtetés vagy pulzáló vagy folytonos hullámú “lézer”-sugarakat alkalmaz a bevonóanyag elpárologtatására;
Controlled motion of arcing erodes the cathode surface creating a highly ionised plasma.
Az ív ellenőrzött mozgása erodálja a katód felületét, s ezzel intenzív ionizált plazmaáramot hoz létre.
Substrate biasing is used for non-line-of-sight deposition.
A „non line-of-sight” bevonásnál hordozóeltolást alkalmaznak.
This definition does not include random cathodic arc deposition with non-biased substrates.
Ez a meghatározás nem tartalmazza a nem előfeszített szubsztrátumok esetén alkalmazott random katódsugaras bevonást.
Ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionise the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma.
Az ionbeültetés az általános TE-PVD eljárás speciális módosítása, amelyben plazmát vagy ionforrást használnak a létrehozandó bevonat anyagának ionizálására, és a plazmából leválasztandó anyagok kinyerésének megkönnyítésére a hordozóhoz negatív előfeszítést alkalmaznak.
The introduction of reactive species, evaporation of solids within the process chamber, and the use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thicknesses of coatings are ordinary modifications of the process.
Ezen eljárások szokásos módosításait képezik: a reaktív anyagok bevezetése, a szilárd anyagoknak a kamrában történő elgőzölögtetése és monitorok alkalmazása az optikai jellemzők eljárás közbeni mérésére és a bevonatok vastagságának ellenőrzésére.
c. Pack Cementation is a surface modification coating or overlay coating process wherein a substrate is immersed in a powder mixture (a pack), that consists of:
c. A pack-cementálás olyan felületmódosító bevonási vagy rétegfelviteli eljárás, amelynek során a hordozót porkeverékbe (az ún. pack) merítik, amely a következőkből áll:
The substrate and powder mixture is contained within a retort which is heated to between 1030 K (757 °C) and 1375 K (1102 °C) for sufficient time to deposit the coating.
A hordozót és a porkeveréket egy retortában helyezik el, amelyet a bevonóanyag leválásához szükséges időtartamra 1030 K (757 °C) és 1375 K (1102 °C) közötti hőmérsékletre fűtenek fel.
d. Plasma Spraying is an overlay coating process wherein a gun (spray torch) which produces and controls a plasma accepts powder or wire coating materials, melts them and propels them towards a substrate, whereon an integrally bonded coating is formed.
d. A plazmaszórás olyan rétegfelviteli eljárás, amely során a plazmát egy szórófej állítja elő és szabályozza; a porított vagy huzalos bevonóanyag a szórófejbe kerül be, amely azt megolvasztja, és ezt szórja ki a hordozó felé, ahol az teljes mértékben tapadó bevonatot képez.
Low pressure means less than ambient atmospheric pressure.
A kis nyomás a környezeti, légköri nyomásnál kisebb nyomást jelent.
High velocity refers to nozzle-exit gas velocity exceeding 750 m/s calculated at 293 K (20 °C) at 0,1 MPa.
A nagy sebesség azt jelenti, hogy a fúvókából eltávozó gáz sebessége 0,1 MPa nyomásnál 293 K-en (20 °C) meghaladja a 750 m/s-ot.
e. Slurry Deposition is a surface modification coating or overlay coating process wherein a metallic or ceramic powder with an organic binder is suspended in a liquid and is applied to a substrate by either spraying, dipping or painting, subsequent air or oven drying, and heat treatment to obtain the desired coating.
e. Az iszapleválasztás az a felületmódosító bevonási vagy rétegfelviteli eljárás, amelynek során a kívánt bevonat elérése érdekében a hordozóra folyadékban feloldott szerves kötőanyaggal kevert fém- vagy kerámiaport visznek fel szórással, bemerítéssel vagy festéssel, az azt követő levegőn vagy kemencében történő szárítással, illetve hőkezeléssel.
f. Sputter Deposition is an overlay coating process based on a momentum transfer phenomenon, wherein positive ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material).
f. A katódporlasztás olyan rétegfelviteli folyamat, amelyben pozitív töltésű részecskéket gyorsítanak és mozgatnak elektromos térben a céltárgy (bevonóanyag) felszíne felé.
The Table refers only to triode, magnetron or reactive sputter deposition which is used to increase adhesion of the coating and rate of deposition and to radio frequency (RF) augmented sputter deposition used to permit vaporisation of non-metallic coating materials.
A táblázat csak a triódás, magnetronos vagy reaktív katódporlasztásra vonatkozik, amelyekkel a bevonóanyag tapadásának növelését és a leválasztás sebességét kívánják növelni, valamint a megnövelt nagyfrekvenciás (NF) porlasztásra vonatkozik, amelyet a nemfémes bevonóanyagok elgőzölögtetésére használnak.
Low-energy ion beams (less than 5 keV) can be used to activate the deposition.
Az alacsony energiájú (5 keV-nál kisebb) ionsugarakat a leválasztás aktiválására lehet használni.
g. Ion Implantation is a surface modification coating process in which the element to be alloyed is ionised, accelerated through a potential gradient and implanted into the surface region of the substrate.
g. Az ionbeültetés az a felületmódosító bevonási eljárás, amelynek során az ötvözőelemet ionizálják, erőtérben felgyorsítják és a hordozó felületének meghatározott részébe ültetik.
This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
Ez magában foglalja azokat az eljárásokat, amelyek során az ionbeültetés az elektronsugaras fizikai gőzfázisú leválasztással vagy katódporlasztással egyidejűleg történik. 3.
CATEGORY 3
KATEGÓRIA
The control status of equipment and components described in 3A001 or 3A002, other than those described in 3A001.a.3. to 3A001.a.10. or 3A001.a.12., which are specially designed for or which have the same functional characteristics as other equipment is determined by the control status of the other equipment.
A 3A001.a.3–3A001.a.10. alatt, vagy a 3A001.a.12. alatt meghatározottaktól eltérő, a 3A001, vagy 3A002 alatt ismertetett berendezések és alkatrészek – amelyeket más berendezésekhez speciálisan terveztek, illetve amelyek ugyanolyan funkcionális jellemzőkkel rendelkeznek, mint a többi berendezés – ellenőrzési státusát a többi berendezés ellenőrzési státusa határozza meg.
The control status of integrated circuits described in 3A001.a.3. to 3A001.a.9. or 3A001.a.12. which are unalterably programmed or designed for a specific function for another equipment is determined by the control status of the other equipment.
A 3A001.a.3–3A001.a.9. alatt, vagy a 3A001.a.12. alatt ismertetett integrált áramkörök ellenőrzési státusát – amelyeket megváltoztathatatlan módon programoztak vagy más berendezéshez egyedi funkcióra terveztek – a többi berendezés ellenőrzési státusa határozza meg.
When the manufacturer or applicant cannot determine the control status of the other equipment, the control status of the integrated circuits is determined in 3A001.a.3. to 3A001.a.9. and 3A001.a.12.
Amikor a gyártó vagy a felhasználó nem tudja meghatározni a többi berendezés ellenőrzési státusát, akkor az integrált áramkörök ellenőrzési státusát a 3A001.a.3–3A001.a.9. vagy a 3A001.a.12. határozza meg.
a. General purpose integrated circuits, as follows:
a. Általános célú integrált áramkörök, az alábbiak szerint: