natgillin/translations-raw huggingface dataset:
a.
U 3A102 ‚projektil’ znači cjelokupni raketni sustavi i sustavi zračnih bespilotnih letjelica čiji je doseg veći od 300 km.
"Technology" for the "development" of interactive graphics as an integrated part in "numerical control" units for preparation or modification of part programs;
Elektroničke komponente, osim onih navedenih u 3A001, kako slijedi;
b.
a. kondenzatori koji imaju bilo koju od sljedećih skupina značajki:
"Technology" for metal-working manufacturing processes, as follows:
a. nazivni napon veći od 1,4 kV;
"Technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
b. pohranu energije veće od 10 J;
a.
c. kapacitivnost veću od 0,5 μF i
"Superplastic forming";
d. serijsku induktivnost manju od 50 nH; ili
b.
a. nazivni napon veći od 750 V;
"Diffusion bonding"; or
b. kapacitivnost veću od 0,25 μF i
c.
c. serijsku induktivnost manju od 10 nH;
"Direct-acting hydraulic pressing";
b.
Technical data consisting of process methods or parameters as listed below used to control:
Supervodljivi solenoidni elektromagneti koji imaju sve sljedeće značajke:
a.
mogu stvarati magnetno polje veće od 2 T;
"Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
omjer duljine i unutarnjeg promjera veći od 2;
Surface preparation;
unutarnji promjer veći od 300 mm; i
Strain rate;
uniformnost magnetnog polja bolja od 1 % kroz središnjih 50 % unutarnjeg volumena;
Temperature;
3A201.b. ne odnosi se na magnete posebno namijenjene za uporabu ‚kao dio’ medicinskih sustava za nuklearnu magnetnu rezonancu (NMR) te koji se kao takvi izvoze.
Pressure;
Izraz ‚kao dio’ ne označava nužno fizički dio iste pošiljke; dopuštene su odvojene pošiljke iz različitih izvora pod uvjetom da se u njihovim izvoznim dozvolama jasno navede da se pošiljke šalju ‚kao dio’ sustava za snimanje.
b.
c. generatori treptavih X-zraka ili impulsni akceleratori elektrona koji imaju bilo koju skupinu sljedećih značajki:
"Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
a. vršna energija elektrona akceleratora od 500 keV ili veća, ali manja od 25 MeV i
c.
b. ‚faktor kakvoće’ (K) od 0,25 ili veći ili
"Direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
a. vršna energija elektrona akceleratora od 25 MeV ili veća i
Cycle time;
b. ‚vršna snaga’ veća od 50 MW.
d.
3A201.c. ne odnosi se na akceleratore koji su sastavni dijelovi uređaja namijenjenih za uporabu u svrhe koje nisu zračenje elektronskog snopa ili X-zraka (elektronska mikroskopija, na primjer) i one namijenjene za uporabu u medicinske svrhe.
"Hot isostatic densification" of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
‚Faktor kakvoće’ K definiran je kao:
"Technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
V je vršna energija elektrona u milijunima elektronvolta.
d.
Ako trajanje impulsa snopa akceleratora iznosi najmanje 1 μs, tada je Q ukupni ubrzani naboj u kulonima.
"Technology" for the "development" of generators of machine tool instructions (e.g., part programs) from design data residing inside "numerical control" units;
Ako je trajanje impulsa snopa akceleratora veće od 1 μs, tada je Q maksimalni ubrzani naboj u 1 μs.
e.
Q je jednak integralu od i u odnosu na t, kroz manje od 1 μs ili vrijeme trajanja impulsa snopa (Q = ∫ idt), gdje je i struja snopa u amperima, a t je vrijeme u sekundama.
"Technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
„Vršna snaga” = (vršni potencijal u voltima) × (vršna struja snopa u amperima).
f.
Kod strojeva koji se temelje na šupljinama s ubrzanim mikrovalovima vrijeme trajanja impulsa snopa jednako je 1 μs ili vremenu trajanja paketa usnopljenih zraka koji proizlazi iz jednog impulsa mikrovalnog modulatora ovisno o tome koja je vrijednost manja.
"Technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
Kod strojeva koji se temelje na šupljinama s ubrzanim mikrovalovima vršna struja snopa jest prosječna struja u vremenu trajanja paketa usnopljenih zraka.
The table and Technical Note appear after entry 2E301.
Pretvarači ili generatori frekvencija, osim onih navedenih u 0B001.b.13., koji se mogu upotrebljavati kao motorni pogon varijabilne ili fiksne frekvencije i koji imaju sve sljedeće značajke:
This table should be read to specify the "technology" for a particular Coating Process only when the Resultant Coating in column 3 is in a paragraph directly across from the relevant Substrate under column 2.
„Softveri” posebno namijenjeni poboljšanju ili uklanjanju ograničenja radnih značajki pretvarača ili generatora frekvencija kako bi se zadovoljile značajke iz 3A225. navedeni su u 3D225.
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal "matrix" "composites" substrates, but are not included for the application of silicides to 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18) substrates.
„Tehnologija” u obliku kodova ili ključeva za poboljšanje ili uklanjanje ograničenja radnih značajki pretvarača ili generatora frekvencija kako bi se zadovoljile značajke iz 3A225 navedena je u 3E225.
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18).
a. višefazni izlaz koji daje snagu od 40 VA ili veću;
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
b. radi na frekvenciji od 600 Hz ili većoj i
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B233, 2D201 or 2D202.
c. upravljanje frekvencijom bolje (manje) od 0,2 %.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
3A225 ne odnosi se na pretvarače ili generatore frekvencija ako imaju ograničenja u pogledu hardvera, „softvera” ili „tehnologije” kojima se performanse svode na razinu nižu od prethodno navedene, pod uvjetom da zadovoljavaju bilo koji od sljedećih uvjeta:
Table
potrebno ih je vratiti originalnom proizvođaču radi poboljšanja ili uklanjanja ograničenja;
Deposition techniques
potreban im je „softver”, kako je navedeno u 3D225, radi poboljšanja ili uklanjanja ograničenja performansi kako bi se udovoljilo značajkama iz 3A225 ili
Coating Process (1) [2]
potrebna im je „tehnologija” u obliku ključeva ili kodova, kako je navedeno u 3E225, radi poboljšanja ili uklanjanja ograničenja performansi kako bi se udovoljilo značajkama iz 3A225.
Substrate
Pretvarači frekvencija iz 3A225 poznati su i kao pretvarači ili inverteri.
Resultant Coating
Pretvarače frekvencija iz 3A225 moguće je stavljati na tržište kao generatore, elektroničku ispitnu opremu, izvore izmjenične struje, motorne pogone varijabilne brzine, pogone varijabilne brzine, pogone varijabilne frekvencije, pogone podesive frekvencije ili pogone podesive brzine.
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
Izvori istosmjerne struje velike snage, osim onih navedenih u 0B001.j.6., koji imaju obje sljedeće značajke:
"Superalloys"
a. tijekom razdoblja od osam sati mogu neprestano proizvoditi 100 V ili više s izlazom struje od 500 A ili većim i
Aluminides for internal passages
b. tijekom razdoblja od osam sati imaju stabilnost struje ili napona veću od 0,1 %.
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
Izvori istosmjerne struje velike snage, osim onih navedenih u 0B001.j.5., koji imaju obje sljedeće značajke:
Silicides
a. tijekom razdoblja od osam sati mogu neprestano proizvoditi 20 kV ili više s izlazom struje od 1 A ili većim i
Carbides
Sklopni uređaji kako slijedi:
Dielectric layers (15)
a. cijevi s hladnom katodom, bilo da su ispunjene plinom ili ne, koje rade slično kao međuprostor između iskri i koje imaju sve sljedeće značajke:
Diamond
tri elektrode ili više njih;
Diamond-like carbon (17)
vršni nazivni napon anode od 2,5 kV ili veći;
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix" "composites"
vršna nazivna struja anode od 100 A ili više i
Refractory metals
vrijeme zadrške anode od 10 μs ili kraće;
Mixtures thereof (4)
3A228 uključuje plinske cijevi na kritron i vakuum cijevi na spritron.
Aluminides
b. međuprostori između iskri na okidanje koji imaju obje sljedeće značajke:
Alloyed aluminides (2)
vrijeme zadrške anode od 15 μs ili kraće i
Boron nitride
namijenjeni za vršnu struju od 500 A ili veću;
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
c. moduli ili sklopovi s funkcijom brzog prebacivanja, osim onih navedenih u 3A001.g. ili 3A001.h., koji imaju sve sljedeće značajke:
Tungsten
vršni nazivni napon anode veći od 2 kV;
Molybdenum and Molybdenum alloys
vršna nazivna struja anode od 500 A ili veća i
Beryllium and Beryllium alloys
vrijeme uključivanja od 1 μs ili kraće.
Sensor window materials (9)
Impulsni generatori jake struje kako slijedi:
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
a. oprema za aktiviranje detonatora (sustavi za pokretanje, sustavi za paljenje) uključujući opremu za aktiviranje koja se pokreće elektronički, eksplozivom ili optički, osim one navedene u 1A007.a., izrađena za pokretanje višestruko kontroliranih detonatora navedenih u 1A007.b.;
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
b. modularni generatori električnog impulsa (impulsni generatori) koji imaju sve sljedeće značajke:
Alloyed silicides
projektirani su za prijenosnu ili mobilnu upotrebu ili upotrebu u teškim uvjetima;
Modified zirconia (12)
mogu isporučiti energiju za manje od 15 μs u opterećenjima manjima od 40 oma;
Corrosion resistant steel (7)
imaju izlaz veći od 100 A;
Borides
dimenzije im ne prelaze 30 cm;
Beryllium
imaju težinu manju od 30 kg i
Titanium alloys (13)
namijenjeni su za upotrebu u širem rasponu temperatura od 223 K (–50 °C) do 373 K (100 °C) ili su primjereni za upotrebu u aeronautici.
Nitrides
3A229.b. uključuje pogone za bljeskalice na ksenon.
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
c. jedinice za mikropaljenje koje imaju sve sljedeće značajke:
Ceramics (19) and Low-expansion glasses
dimenzije im ne prelaze 35 mm;
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
nazivni napon od 1 kV ili veći i
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
kapacitivnost od 100 nF ili veća.
Diamond-like carbon
Impulsni generatori visoke brzine s pripadajućim ‚impulsnim glavama’, koji imaju obje sljedeće značajke:
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
a. izlazni napon veći od 6 V u otporsko opterećenje manje od 55 oma i
Polymers (11) and Organic "matrix" "composites"
b. ‚vrijeme prijelaza impulsa’ kraće od 500 ps.
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
U 3A230 ‚vrijeme odziva impulsa’ znači vremenski interval između 10 % i 90 % amplitude napona.
Refractory metals and alloys (8)
‚Impulsne glave’ znači mreže koje formiraju impulse namijenjene prihvaćanju naponskog skoka i njegovu oblikovanju u razne impulsne oblike koji mogu biti pravokutni, trokutasti, skokoviti, impulsni, eksponencijalni ili monociklični.
Oxides
‚Impulsne glave’ mogu biti sastavni dio impulsnog generatora, mogu biti utični sastavnici za uređaj ili uređaji za vanjsko spajanje.
D. Plasma spraying
Sustavi za generiranje neutrona, uključujući cijevi, koji imaju obje sljedeće značajke:
Abradable Nickel-Graphite
a. namjena za rad bez vanjskog sustava vakuuma i
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
b. primjenjuju bilo što od sljedećeg:
Abradable Al-Si-Polyester
elektrostatsku akceleraciju kako bi potaknuli nuklearnu reakciju tricija-deuterija ili
Aluminium alloys (6)
elektrostatsku akceleraciju kako bi potaknuli nuklearnu reakciju deuterija-deuterija kojom može nastati 3 × 109 ili više neutrona u sekundi.
E. Slurry Deposition
Sustavi za višestruko iniciranje, osim onih navedenih u 1A007, kako slijedi:
Fused silicides
Vidi 1A007.b. za detonatore.
Fused aluminides except for resistance heating elements
b. sustavi koji upotrebljavaju jedan ili više detonatora i koji su projektirani za gotovo istodobno iniciranje eksplozivne površine na području većem od 5000 mm2 jednim signalom za paljenje, pri čemu je vremensko odstupanje iniciranja na cijeloj površini manje od 2,5 μs.
F. Sputter Deposition
3A232 ne odnosi se na detonatore u kojima se upotrebljavaju samo primarni eksplozivi, primjerice olovni azid.
Noble metal modified aluminides (3)
Maseni spektrometri, osim onih navedenih u 0B002.g., koji mogu mjeriti ione od 230 jedinica atomske mase ili više i koji imaju razlučivost bolju od dva dijela u 230 te njihovi izvori iona:
Platinum
a. maseni spektrometri s induktivno vezanom plazmom (ICP/MS);
Ceramics and Low- expansion glasses (14)
b. maseni spektrometri s tinjavim izbijanjem (GDMS);
Dielectic layers (15)
c. maseni spektrometri s termičkom ionizacijom (TIMS);
G. Ion Implantation
d. maseni spektrometri s bombardiranjem elektrona koji imaju obje sljedeće značajke:
High temperature bearing steels
sustav ulaza molekularnog snopa kojim se ubacuje paralelna zraka molekule analita u područje izvora iona gdje molekule ionizira elektronski snop i
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
jedna ili više ‚stupica s hlađenjem’ koje je moguće ohladiti na temperaturu od 193 K (–80 °C);
Cemented tungsten carbide (16)
e. ne upotrebljava se;
TABLE - DEPOSITION TECHNIQUES - NOTES
f. maseni spektrometri opremljeni izvorom za mikrofluorinaciju iona namijenjeni za aktinide ili fluoride aktinida.
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
Maseni spektrometri s bombardiranjem elektrona iz 3A233.d. poznati su i kao maseni spektrometri s elektronskim udarom ili maseni spektrometri s elektronskom ionizacijom.
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
U 3A233.d.2. ‚stupica s hlađenjem’ znači uređaj koji hvata plinske molekule kondenziranjem ili zamrzavanjem molekula na hladne površine.
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
Za potrebe 3A233.d.2. plinska helij-kriogenska vakuumska pumpa zatvorene petlje nije ‚stupica s hlađenjem’.
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
Trakasti vodovi koji osiguravaju niskoinduktivnu vezu prema detonatorima, koji imaju sljedeće značajke:
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
a. nazivni napon veći od 2 kV i
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
b induktivnost manja od 20 nH.
a.
Oprema za proizvodnju poluvodičkih uređaja ili materijala, kako slijedi, te za njih posebno namijenjene komponente i pribor:
CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
VIDI I 2B226
b.
a. oprema koja se upotrebljava za epitaksijalni rast kako slijedi:
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight of yttrium; or
oprema namijenjena ili preinačena za proizvodnju sloja bilo kojeg materijala osim silicija debljine manje od ± 2,5 % na udaljenosti od 75 mm ili više;
c.
3B001.a.1. uključuje opremu za epitaksiju atomskog sloja.
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
reaktori za taloženje para metalnoorganskih kemikalija (MOCVD) koji se upotrebljavaju za epitaksijalni rast materijala složenog poluvodiča, koji imaju najmanje dva sljedeća elementa: aluminij, galij, indij, arsen, fosfor, antimon ili dušik;
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
oprema za epitaksijalni rast s molekularnim snopom koja upotrebljava plinovite ili krute izvore;
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
b. oprema namijenjena implantaciji iona, koja ima bilo koju od sljedećih značajki:
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
namijenjena je i optimizirana za rad pri energiji snopa od 20 keV ili većoj i struji snopa od 10 mA ili većoj za usađivanje vodika, deuterija ili helija;
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
ima mogućnost izravnog upisivanja;
Category 2 does not include "technology" for single-step pack cementation of solid airfoils.
energija snopa od 65 keV ili veća i struja snopa od 45mA ili veća za usađivanje visokoenergetskog kisika u grijani poluvodički materijal „podloge”; ili
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
namijenjena je i optimizirana za rad pri energiji snopa od 20 keV ili većoj i struji snopa od 10 mA ili većoj za usađivanje silicija u poluvodički materijal „podloge” koji je grijan na 600 °C ili na višu temperaturu;
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
e. višekomorni središnji sustavi s automatskim punjenjem radi rukovanja pločicama koji imaju sve sljedeće značajke:
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
sučelja za ulaz/izlaz poluvodičke pločice, na koja se spajaju više od dva ‚poluvodička procesna alata’ navedena u 3B001.a.1., 3B001.a.2., 3B001.a.3 ili 3B001.b. i
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
upotrebljavaju se za tvorbu integriranog sustava u vakuumskoj okolini za ‚sekvencijsku obradu višestruke poluvodičke pločice’;
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10-7 K-1 or less measured at 293 K (20 °C).
3B001.e. ne odnosi se na sustave za rukovanje automatskim robotskim poluvodičkim pločicama posebno namijenjene paralelnom procesuiranju pločica.
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
Za potrebe 3B001.e. ‚poluvodički procesni alati’ znači modularni alati koji omogućavaju funkcionalno različite fizičke postupke za proizvodnju poluvodiča, kao što su nanošenje, implantacija ili termička obrada.
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
Za potrebe 3B001.e. ‚sekvencijska obrada višestruke poluvodičke pločice’ znači mogućnost obrade svake pločice u drugom ‚poluvodičkom procesnom alatu’, npr. prijenos svake pločice s jednog alata na drugi i treći alat s višekomornim središnjim sustavom s automatskim punjenjem radi rukovanja pločicama.
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
f. litografska oprema kako slijedi:
"Technology" for depositing diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
oprema za poravnavanje, izlaganje i ponavljanje (izravan korak na poluvodičkoj pločici) ili oprema za skakanje i pretraživanje (pretraživač) za obradu poluvodičke pločice s pomoću fotooptičke ili metode X-zraka, koja ima bilo koju od sljedećih značajki:
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
a. valna duljina svjetlosnog izvora kraća od 193 nm ili
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
b. sposobnost proizvodnje oblika s ‚minimalnom veličinom razlučive značajke’ (MRF) od 45 nm ili manje;
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
‚Minimalna veličina razlučive značajke’ (Minimum Resolvable Feature – MRF) izračunava se s pomoću sljedeće formule:
TABLE - DEPOSITION TECHNIQUES - TECHNICAL NOTE
valna duljina svjetlosnog izvora u nm
Processes specified in Column 1 of the Table are defined as follows:
faktor K
a.
numerički otvor
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
pri čemu je faktor K = 0,35
Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate.
litografska oprema za tiskanje s mogućnošću izrade detalja od 45 nm ili manjih;
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
3B001.f.2. uključuje:
N.B.1.
mikrokontaktne alate za tiskanje,
CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
alate za vruće utiskivanje,
N.B.2.
tiskarske litografske alate nanopreciznosti
Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
„step and flash” tiskarske litografske alate (S-FIL).
N.B.3.
oprema posebno namijenjena izradi maski koja ima sve sljedeće značajke:
The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
a. odstupanje fokusiranog elektronskog snopa, ionskog snopa ili „laserskog” snopa i
b.
veličina točke FWHM (puna širina na polovini visine) manja od 65 nm i pozicioniranje slike manje od 17 nm (srednja vrijednost + 3 sigme); ili
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material.
pogreška preklapanja drugog sloja manja od 23 nm (srednja vrijednost + 3 sigme) na maski;
This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates.
3B001.f. nastavak 4. oprema namijenjena obradi uređaja s pomoću metoda izravnog zapisa, koja ima sve sljedeće značajke: