natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Software", other than that specified in 1D003, specially designed for "use" of equipment specified in 2B351.
"Softver", osim onog navedenoga u 1D003, posebno namijenjen za "upotrebu" opreme navedene u 2B351.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of equipment or "software" specified in 2A, 2B or 2D.
"Tehnologija" u skladu s Napomenom o tehnologiji općenito za "razvoj" opreme ili "softvera" navedenih u 2A, 2B ili 2D.
2E001 includes "technology" for the integration of probe systems into coordinate measurement machines specified in 2B006.a.
2E001 uključuje "tehnologiju" za uključivanje sustava sondi u koordinatne mjerne uređaje navedene u 2B006.a.
"Technology" according to the General Technology Note for the "production" of equipment specified in 2A or 2B.
"Tehnologija" u skladu s Napomenom o tehnologiji općenito za "proizvodnju" opreme navedene u 2A ili 2B.
Other "technology", as follows:
Ostala "tehnologija" kako slijedi:
a. "Technology" for the "development" of interactive graphics as an integrated part in "numerical control" units for preparation or modification of part programmes;
a. "tehnologija" za "razvoj" interaktivne grafike kao sastavnog dijela jedinica za "numeričko upravljanje" za pripremu ili modifikaciju programa za dijelove;
b. "Technology" for metal-working manufacturing processes, as follows:
b. "tehnologija" za postupke izrade metalnih predmeta, kako slijedi:
"Technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
"tehnologija" za projektiranje alata, uložaka za prešanje ili ugrađenih uređaja posebno projektiranih za bilo koji od sljedećih postupaka:
a. "Superplastic forming";
a. "superplastično oblikovanje";
b. "Diffusion bonding"; or
b. "difuzijsko spajanje" ili
c. "Direct-acting hydraulic pressing";
c. "hidrauličko prešanje s izravnim djelovanjem";
a. "Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
a. "superplastičnog oblikovanja" slitina aluminija, slitina titanija ili "superslitina":
b. "Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
b. "difuzijskog spajanja". "superslitina" ili slitina titanija:
c. "Direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
c. "hidrauličkog prešanja s izravnim djelovanjem" slitina aluminija ili slitina titanija:
d. "Hot isostatic densification" of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
d. "vruće izostatske densifikacije" slitina titanija, slitina aluminija ili "superslitina":
c. "Technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
c. "tehnologija" za "razvoj" ili "proizvodnju". hidrauličkih strojeva za oblikovanje rastezanjem i ulošci za njih, za proizvodnju konstrukcija zrakoplovnih okvira;
d. "Technology" for the "development" of generators of machine tool instructions (e.g., part programmes) from design data residing inside "numerical control" units;
d. "tehnologija" za "razvoj" generatora iz uputa za strojne alate (npr. programi za dijelove) iz projektnih podataka koji se nalaze u jedinicama za "numeričko upravljanje";
e. "Technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
e. "tehnologija" za "razvoj" i integraciju "softvera" za uključivanje stručnih sustava za podršku pri donošenju naprednih odluka u vezi s radioničkim operacijama u jedinice za "numeričko upravljanje";
f. "Technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
f. "tehnologija" za primjenu anorganskih završnih premaza ili anorganskih premaza za modifikaciju (navedeno u stupcu 3. tablice u nastavku) na neelektroničke podloge (navedeno u stupcu 2. tablice u nastavku), i to postupcima navedenima u stupcu 1. tablice u nastavku i definiranima u tehničkoj napomeni.
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal "matrix" "composites" substrates, but are not included for the application of silicides to 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18) substrates.
Na primjer, tehnički podaci kod postupka premazivanja taloženjem kemijskim parama (CVD) navedeni su samo za nanošenje silicida na podloge ugljik-ugljik, keramičkih i metalnih "matričnih" "kompozita", ali ne i za nanošenje silicida na podloge od 'cementiranog volframova karbida') (16) i 'silicijeva karbida') (18).
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing 'cemented tungsten carbide' (16), 'silicon carbide' (18).
U drugom slučaju rezultirajući premaz nije naveden u okviru stupca 3., u istom redu kao i okvir u stupcu 2. u kojem su navedeni 'cementirani volframov karbid') (16) i 'silicijev karbid' (18).
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
"Tehnologija" prema Napomeni o tehnologiji općenito za "upotrebu" opreme ili "softvera" navedenih u 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 do 2B122 ili 2D101.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B233, 2D201 or 2D202.
"Tehnologija" prema Napomeni o tehnologiji općenito za "upotrebu" opreme ili "softvera" navedenih u 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 do 2B233, 2D201 ili 2D202.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
"Tehnologija" prema Napomeni o tehnologiji općenito za "upotrebu" robe navedene u 2B350 do 2B352.
Deposition techniques
Tehnike Taloženja
"Superalloys"
"superslitine"
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix""composites"
ugljik-ugljik, "kompoziti" s keramičkim i metalnim "matricama"
Polymers (11) and Organic "matrix""composites"
polimeri (11) i "kompoziti" s organskim "matricama"
Ceramics and Low- expansion glasses (14)
keramika i slabošireća stakla (14)
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
Izraz 'postupak premazivanja') uključuje popravke premaza i njegovo obnavljanje, kao i samo premazivanje.
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
Izraz 'premazivanje slitinom aluminida') uključuje jednostruke ili višestruke premaze u kojima se element ili elementi talože prije ili tijekom primjene aluminidskog premaza, čak i kad su ti elementi nataloženi nekim drugim postupkom premazivanja.
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
Izraz premazivanje 'aluminidom modificiranim plemenitim metalom') uključuje višefazno premazivanje tijekom kojeg se plemeniti metal ili plemeniti metali postavljaju nekim drugim postupkom premazivanja prije primjene premaza od aluminida.
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
Izraz 'njihove smjese') uključuje infiltrirani materijal, razvrstane spojeve, su-taloge i višeslojne taloge, a dobivaju se jednim ili više postupaka premazivanja navedenih u tablici.
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
'MCrAlX') odnosi se na slitinu premaza u kojoj je M jednako kobaltu, željezu, niklu ili njihovim kombinacijama, a X je jednako hafniju, itriju, siliciju, tantalu bilo koje količine ili drugih namjernih dodataka koji čine više od 0,01 % masenog udjela u raznim omjerima i kombinacijama, osim:
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Izraz 'slitine aluminija') odnosi se na slitine čija je granična vlačna čvrstoća 190 MPa ili više mjerena pri 293 K (20 °C).
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
Izraz 'čelik otporan na koroziju') odnosi se na seriju 300 AISI-ja (American Iron and Steel Institute) ili ekvivalentne nacionalne standardne čelike.
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
'Vatrostalni metali i slitine') uključuju sljedeće metale i njihove slitine: niobij (kolumbij), molibden, volfram i tantal.
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
'Materijali za senzorska okna', kako slijedi: aluminijev oksid, silicij, germanij, cinkov sulfid, cinkov selenid, galijev arsenid, dijamant, galijev fosfid, safir i sljedeći metalni halidi: materijali za senzorska okna promjera više od 40 mm za cirkonijev fluorid i hafnijev fluorid.
"Technology" for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
"Tehnologija" za jednofazni postupak cementnog začepljivanja čvrstih zračnih folija nije pod nadzorom kategorije 2.
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
'Polimeri', kako slijedi: poliimid, poliester, polisulfid, polikarbonati i poliuretani.
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
'Modificirani cirkonijev oksid') odnosi se na dodatke drugih metalnih oksida (npr. kalcija, magnezija, itrija, hafnija, rijetkih zemljanih oksida) cirkonijevu oksidu čime se stabiliziraju određene kristalografske faze i faze spajanja.
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
'Slitine titana') odnosi se samo na slitine za aviokozmičku upotrebu čija je granična vlačna čvrstoća 900 MPa ili više mjereno pri 293 K (20 °C).
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10– 7 K– 1 or less measured at 293 K (20 °C).
'Slabošireća stakla') odnosi se na stakla čiji je koeficijent toplinske ekspanzije 1 × 10 – 7 K – 1 ili manje mjereno pri 293° K (20 °C).
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
'Dielektrični slojevi') premazi su izrađeni od više slojeva izolacijskih materijala čija se svojstva interferencije kod izrade koja se sastoji od materijala različitih koeficijenata loma upotrebljavaju da odraze, prenose ili apsorbiraju razne pojaseve valnih dužina.
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
Dielektrički slojevi odnose se na više od četiri dielektrička sloja ili dielektrično/metalna "kompozitna" sloja.
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
'Cementirani volfram karbid') ne uključuje materijale za alat za rezanje i oblikovanje koji se sastoje od volfram karbid/(kobalt, nikal), titan karbid/(kobalt, nikal), krom karbid/nikl-krom i krom karbid/nikl.
"Technology" specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
"Tehnologija" posebno namijenjena taloženju dijamantnog ugljika na bilo koje od navedenoga nije pod nadzorom:
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
'Silicijev karbid') ne uključuje materijale za alate za rezanje i oblikovanje.
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
Keramičke podloge, kako se upotrebljavaju u ovom stavku, ne uključuju keramičke materijale koji sadržavaju maseni udio gline ili cementa od 5 % ili više, bilo kao odvojenih sastojaka ili u kombinaciji.
a. Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
a. Taloženje kemijskim parama (CVD) postupak je izvođenja završnog premaza ili modificiranja površine premazom u kojem se metal, slitina ili "kompozit" te dielektrični ili keramički sloj taloži na zagrijanu podlogu.
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
Za ovaj postupak raspadanja ili kemijske reakcije energija se može osigurati toplinom podloge, tinjavim izbijanjem plazme ili zračenjem "lasera".
CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
CVD taloženje uključuje sljedeće postupke: taloženje usmjerenim protokom plina svežnja, impulsno CVD taloženje, kontrolirano nukleatsko termalno taloženje (CNTD), postupci CVD taloženja ojačani ili potpomognuti plazmom.
Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
Smjesa označava podlogu uronjenu u mješavinu praha.
The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.
Upotreba ionskog ili elektronskog snopa ili plazme, za aktiviranje ili pomaganje taloženju premaza jednako je tako uobičajena modifikacija ove tehnike.
"Laser" Vaporization uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporize the material which forms the coating;
isparavanje "laserom" koristi se impulsnim ili neprekinutim valnim "laserskim" snopom za isparavanje materijala koji tvore premaz;
The substrate and powder mixture is contained within a retort which is heated to between 1030 K (757 °C) and 1375 K (1102 °C) for sufficient time to deposit the coating.
Podloga i mješavina praha nalaze se u retorti koja se zagrijava do temperature između 1030 K (757 °C) i 1375 K (1102 °C) dovoljno dugo da se premaz nataloži.
Low pressure means less than ambient atmospheric pressure.
Nizak tlak znači manje od okolno atmosferskog tlaka.
The kinetic energy of the impacting ions is sufficient to cause target surface atoms to be released and deposited on an appropriately positioned substrate.
Kinetička energija iona pri udaru dovoljna je da se oslobode atomi na ciljanoj površini i talože na odgovarajuće postavljenu podlogu.
The Table refers only to triode, magnetron or reactive sputter deposition which is used to increase adhesion of the coating and rate of deposition and to radio frequency (RF) augmented sputter deposition used to permit vaporisation of non-metallic coating materials.
Tablica se odnosi samo na taloženje triode, magnetrona ili reaktivnog isprštanog materijala koji se upotrebljava za povećanje adhezivnosti premaza i brzine taloženja i na povećano taloženje raspršenih čestica s pomoću radio frekvencije (RF) koje se upotrebljava za omogućivanje isparavanja nemetalnih materijala za premazivanje.
Electronic items as follows:
Elektronički uređaji kako slijedi:
"Monolithic integrated circuits";
"monolitski integrirani sklop",
"Hybrid integrated circuits";
"hibridni integrirani sklop",
"Multichip integrated circuits";
"integrirani sklop s više čipova",
"Film type integrated circuits", including silicon-on-sapphire integrated circuits;
"integrirani sklop presvučen filmom", uključujući integrirane sklopove silicij-na-safiru,
"Optical integrated circuits";
"optički integrirani sklop";
"Three dimensional integrated circuits".
"trodimenzionalni integrirani sklop".
"Microprocessor microcircuits", "microcomputer microcircuits", microcontroller microcircuits, storage integrated circuits manufactured from a compound semiconductor, analogue-to-digital converters, digital-to-analogue converters, electro-optical or "optical integrated circuits" designed for "signal processing", field programmable logic devices, custom integrated circuits for which either the function is unknown or the control status of the equipment in which the integrated circuit will be used is unknown, Fast Fourier Transform (FFT) processors, electrical erasable programmable read-only memories (EEPROMs), flash memories or static random-access memories (SRAMs), having any of the following:
"mikroprocesorski mikrosklopovi", "mikroračunalni mikrosklopovi", mikroupravljački mikrosklopovi, integrirani sklopovi za pohranu izrađeni od složenih poluvodiča, analogno-digitalni pretvarači, digitalno-analogni pretvarači elektrooptički ili "optički integrirani sklopovi" namijenjeni za "obradu signala", logički uređaji s programabilnim poljima, integrirani sklopovi po narudžbi za koje su nepoznati funkcija i status nadzora opreme u kojoj će se integrirani sklop upotrebljavati, procesori za brzu Fourierovu transformaciju (FFT), električne memorije s mogućnošću programiranja i brisanja (EEPROMs), impulsne memorije ili statičke memorije s izravnim pristupom (SRAMs), koji imaju bilo koju od sljedećih značajki:
b. Rated for operation at an ambient temperature below 218 K (– 55 °C); or
b. predviđeni su za rad pri temperaturi okoliša ispod 218 K (– 55 °C) ili
c. Rated for operation over the entire ambient temperature range from 218 K (– 55 °C) to 398 K (125 °C);
c. predviđeni su za rad u cijelom rasponu temperature okoliša od 218 K (– 55 °C) do 398 K (125 °C);
3A001.a.2. does not control integrated circuits for civil automobiles or railway train applications.
3A001.a.2. ne odnosi se na integrirane sklopove za primjenu u području civilnih automobila ili željeznice.
"Microprocessor microcircuits", "microcomputer microcircuits" and microcontroller microcircuits, manufactured from a compound semiconductor and operating at a clock frequency exceeding 40 MHz;
"mikroprocesorski mikrosklopovi", "mikroračunalni mikrosklopovi" i mikroupravljački mikrosklopovi, proizvedeni od sastavljenih poluvodiča koji djeluju na taktnoj frekvenciji većoj od 40 MHz;
3A001.a.3. includes digital signal processors, digital array processors and digital coprocessors.
3A001.a.3. uključuje procesore digitalnog signala, procesore digitalnog niza i digitalne koprocesore.
A resolution of 8 bit or more, but less than 10 bit, with an output rate greater than 1000 million words per second;
razlučivost 8 bita ili veću, ali manju od 10 bita, s izlaznom brzinom većom od 1000 milijuna riječi u sekundi;
A resolution of 10 bit or more, but less than 12 bit, with an output rate greater than 500 million words per second;
razlučivost od 10 bita ili veća, ali manja od 12 bita, s izlaznom brzinom većom od 500 milijuna riječi u sekundi;
A resolution of 12 bit or more, but less than 14 bit, with an output rate greater than 200 million words per second;
razlučivost od 12 bita ili veća, ali manja od 14 bita, s izlaznom brzinom većom od 200 milijuna riječi u sekundi;
A resolution of 14 bit or more, but less than 16 bit, with an output rate greater than 250 million words per second; or
razlučivost od 14 bita ili veća, ali manja od 16 bita, s izlaznom brzinom većom od 250 milijuna riječi u sekundi; ili
A resolution of 16 bit or more with an output rate greater than 65 million words per second;
razlučivost od 16 bita ili veća s izlaznom brzinom većom od 65 milijuna riječi u sekundi;
For 'multiple channel ADCs', the outputs are not aggregated and the output rate is the maximum output rate of any single channel.
Kod 'višekanalnih A/D pretvarača' izlazne se brzine ne zbrajaju, već je izlazna brzina jednaka najvećoj izlaznoj brzini bilo kojeg pojedinačnog kanala.
For 'interleaved ADCs' or for 'multiple channel ADCs' that are specified to have an interleaved mode of operation, the outputs are aggregated and the output rate is the maximum combined total output rate of all of the outputs.
Kod 'A/D pretvarača s razdijeljenim sustavom' ili kod 'višekanalnih A/D pretvarača' kod kojih je moguće razdijeljeno djelovanje, izlazne se brzine zbrajaju tako da je izlazna brzina jednaka najvišoj kombiniranoj ukupnoj izlaznoj brzini svih izlaznih brzina.
'Multiple channel ADCs' are defined as devices which integrate more than one ADC, designed so that each ADC has a separate analogue input.
'Višekanalni A/D pretvarači' znači uređaji koji integriraju više od jednog A/D pretvarača, izrađeni tako da svaki A/D pretvarač ima odvojen analogni ulaz.
'Interleaved ADCs' are defined as devices which have multiple ADC units that sample the same analogue input at different times such that when the outputs are aggregated, the analogue input has been effectively sampled and converted at a higher sampling rate.
'A/D pretvarači s razdijeljenim sustavom' znači uređaji koji imaju više A/D pretvaračkih jedinica koje uzorkuju isti analogni ulaz u različitim vremenima, tako da je po zbrajanju izlaznih signala ulazni analogni signal učinkovito uzorkovan i pretvoren pri višoj brzini uzorkovanja.
A resolution of 10 bit or more with an 'adjusted update rate' of greater than 3500 MSPS; or
1. rezolucija od 10 bita ili veća s podešenom brzinom ažuriranja većom od 3500 MSPS ili
A resolution of 12 bit or more with an 'adjusted update rate' of greater than 1250 MSPS and having any of the following:
2. rezolucija od 12 bita ili veća s podešenom brzinom ažuriranja većom od 1250 MSPS i koji imaju bilo koju od sljedećih značajki:
a. A settling time less than 9 ns to 0,024 % of full scale from a full scale step; or
a. vrijeme potrebno za dosizanje odstupanja od 0,024 % od pune izlazne vrijednosti je manje od 9 ns; ili
b. A 'Spurious Free Dynamic Range' (SFDR) greater than 68 dBc (carrier) when synthesising a full scale analogue signal of 100 MHz or the highest full scale analogue signal frequency specified below 100 MHz.
b. 'dinamički opseg bez smetnji' (SFDR) veći je od 68 dBc (nosač) kada se sintetizira analogni signal u punom opsegu s frekvencijom 100 MHz ili analogni signal u punom opsegu s najvišom frekvencijom, koja je određena ispod 100 MHz.
'Spurious Free Dynamic Range' (SFDR) is defined as the ratio of the RMS value of the carrier frequency (maximum signal component) at the input of the DAC to the RMS value of the next largest noise or harmonic distortion component at its output.
'Dinamički opseg bez smetnji' (SFDR) znači odnos RMS vrijednosti noseće frekvencije (najjača signalna komponenta) na ulazu D/A pretvarača i RMS vrijednosti sljedeće najjače šumne komponente ili komponente harmonične distorzije na izlazu.
'Adjusted update rate' for DACs:
'Prilagođen stupanj nadogradnje' za D/A pretvarače:
For conventional (non-interpolating) DACs, the 'adjusted update rate' is the rate at which the digital signal is converted to an analogue signal and the output analogue values are changed by the DAC.
kod konvencionalnih D/A pretvarača (bez interpolacije) 'prilagođen stupanj nadogradnje' jednak je stupnju pretvaranja digitalnog signala u analogni signal i stupnju po kojem D/A pretvarač mijenja izlazne analogne vrijednosti.