natgillin/translations-raw huggingface dataset:
For the purpose of 2B001.a. to 2B001.c.., the measurement of axes shall be made according to test procedures in 5.3.2. of ISO 230-2:2014.
”Teknologia” yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225–2B233, 2D201 tai 2D202 kohdassa määriteltyjen laitteiden tai ”ohjelmistojen” ”käyttöä” varten.
Tests for axes longer than 2 meters shall be made over 2 m segments.
”Teknologia” yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 2B350–2B352 kohdassa määriteltyjen tuotteiden ”käyttöä” varten.
Axes longer than 4 m require multiple tests (e.g., two tests for axes longer than 4 m and up to 8 m, three tests for axes longer than 8 m and up to 12 m), each over 2 m segments and distributed in equal intervals over the axis length.
Taulukko
Test segments are equally spaced along the full axis length, with any excess length equally divided at the beginning, in between, and at the end of the test segments.
Pinnoitustekniikat
The smallest "unidirectional positioning repeatability"-value of all test segments is to be reported.
Pinnoitusprosessi (1)
Machine tools and any combination thereof, for removing (or cutting) metals, ceramics or "composites", which, according to the manufacturer’s technical specification, can be equipped with electronic devices for "numerical control", as follows:
Substraatti
SEE ALSO 2B201.
Pinnoitetulos
2B001 does not control special purpose machine tools limited to the manufacture of gears.
A. Kemiallinen kaasufaasipinnoitus (CVD)
For such machines see 2B003.
”superseokset”
2B001 does not control special purpose machine tools limited to the manufacture of any of the following:
aluminidit sisäisiin kanaviin
Crankshafts or camshafts;
keraamiset aineet (19) ja vähän laajenevat lasit (14)
Tools or cutters;
silisidit
Extruder worms;
karbidit
Engraved or facetted jewellery parts; or
dielektriset kerrokset (15)
Dental prostheses.
timantti
A machine tool having at least two of the three turning, milling or grinding capabilities (e.g., a turning machine with milling capability), must be evaluated against each applicable entry 2B001.a., b. or c.
timantin kaltainen hiili (17)
For optical finishing machines, see 2B002.
hiili-hiili-, keraamiset ja metalli-”matriisi””komposiitit”
a.
tulenkestävät metallit
Machine tools for turning having two or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
niiden sekoitukset(4)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 0,9 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1,0 m; or
aluminidit
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1,0 m;
seostetut aluminidit (2)
2B001.a. does not control turning machines specially designed for producing contact lenses, having all of the following:
boorinitridi
Machine controller limited to using ophthalmic based software for part programming data input; and
volframikarbidi-kovametalli (16), piikarbidi (18)
No vacuum chucking.
volframi
2B001.a. does not control bar machines (Swissturn), limited to machining only bar feed thru, if maximum bar diameter is equal to or less than 42 mm and there is no capability of mounting chucks.
molybdeeni ja molybdeeniseokset
Machines may have drilling or milling capabilities for machining parts with diameters less than 42 mm.
beryllium ja berylliumseokset
b.
anturi-ikkunamateriaalit (9)
Machine tools for milling having any of the following:
Terminen höyrystys-fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (TE-PVD)
Three linear axes plus one rotary axis which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
Fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD): elektronisuihkun avulla tapahtuva fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (EB-PVD)
a.
seostetut silisidit
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 0,9 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1,0 m; or
muunnettu zirkoniumoksidi (12)
b.
korroosionkestävät teräkset (7)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1,0m;
boridit
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following;
berylium
a.
titaaniseokset (13)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 0,9 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1,0 m;
nitridit
b.
Ioniavusteinen resistiivinen fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD) (ionipinnoitus)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,4 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 1 m and less than 4 m; or
keraamiset aineet (19) ja vähän laajenevat lasit
c.
volframikarbidi-kovametalli (16), piikarbidit
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm (along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m;
Fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD): ”Laser”höyrystys
A "unidirectional positioning repeatability" for jig boring machines, equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; or
Fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD): Katodikaaripurkaus
Fly cutting machines having all of the following:
polymeerit (11) ja ”komposiitit”, joilla on orgaaninen ”matriisi”
Spindle "run-out" and "camming" less (better) than 0,0004 mm TIR; and
tulenkestävät metallit ja seokset (8)
Angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel;
D. Plasmaruiskutus
c.
muovattava nikkeligrafiitti
Machine tools for grinding having any of the following:
muovattavat Ni-Cr-Al-pitoiset aineet
Having all of the following:
muovattava Al-Si-polyesteri
a.
alumiiniseokset (6)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; and
E. Lietepinnoitus
b.
fuusatut silisidit
Three or four axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
fuusatut aluminidit paitsi lämmitysvastuselementit
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
F. Sputterointi
a.
jalometallimuunnetut aluminidit (3)
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
platina
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m.
dielektriset kerrokset (15)
2B001.c. does not control grinding machine as follows:
G. Ioni-istutus
Cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines, having all of the following:
korkean lämpötilan laakeriteräkset
Limited to cylindrical grinding; and
kromi-, tantaali- tai niobium-(columbium)lisäaineet
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
volframikarbidi-kovametalli (16)
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a "unidirectional positioning repeatability" less (better) than 1,1 μm
TAULUKKO – PINNOITUSTEKNIIKAT – HUOMAUTUKSET
Surface grinders.
Termi ’pinnoitusprosessi’ sisältää, paitsi alkuperäisen pinnoituksen, myös sen korjauksen tai uusimisen.
d.
Termi ’seostettu aluminidipinnoitus’ sisältää yksi- ja monivaiheiset pinnoitukset, joissa substraatti pinnoitetaan ensin tai samanaikaisesti aluminidipinnoituksen kanssa muulla alkuaineella tai -aineilla silloinkin, kun näillä alkuaineilla pinnoitetaan jotain muuta prosessia käyttäen.
Electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Se ei kuitenkaan sisällä yksivaiheista hiiletyslaatikkokarkaisuprosessia, jota käytetään useampaan kertaan seostetun aluminidin aikaansaamiseksi.
e.
Termi ’jalometallimuunnettu aluminidipinnoitus’ sisältää monivaiheiset pinnoitukset, joissa jalometallia tai jalometalleja aikaansaadaan substraatin pinnalle jollakin muulla prosessilla ennen aluminidipinnoitusta.
Machine tools for removing metals, ceramics or "composites", having all of the following:
Termi ’niiden sekoitukset’ sisältää suodatettuja aineita, lajiteltuja seoksia sekä lisä- ja monikerrospinnoitteita ja niitä aikaansaadaan yhden tai useamman taulukossa mainitun pinnoitusprosessin avulla.
Removing material by means of any of the following:
’McrAlX’ tarkoittaa metalliseospinnoitetta, jossa M vastaa kobolttia, rautaa, nikkeliä tai niiden yhdistelmiä ja X vastaa hafniumia, yttriumia, piitä, tantaalia missä tahansa määrässä tai muuta tarkoituksellista lisäainetta yli 0,01 painoprosenttia erilaisissa suhteissa ja yhdistelmissä, paitsi:
a.
a. CoCrAlY-pinnoitteet, jotka sisältävät alle 22 painoprosenttia kromia, alle 7 painoprosenttia alumiinia ja alle 2 painoprosenttia yttriumia;
Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
b. CoCrAlY-pinnoitteet, jotka sisältävät 22–24 painoprosenttia kromia, 10–12 painoprosenttia alumiinia ja 0,5–0,7 painoprosenttia yttriumia; tai
b.
c. NiCrAlY-pinnoitteet, jotka sisältävät 21–23 painoprosenttia kromia, 10–12 painoprosenttia alumiinia ja 0,9–1,1 painoprosenttia yttriumia.
Electron beam; or
Termi ’alumiiniseos’ tarkoittaa metalliseoksia, joiden murtovetolujuus on vähintään 190 MPa mitattuna 293 K:n (20 °C:n) lämpötilassa.
c.
Termi ’korroosionkestävä teräs’ tarkoittaa AISI (American Iron and Steal Institute) 300 -sarjaa tai vastaavia kansallisia standarditeräksiä.
"Laser" beam; and
’Tulenkestävät metallit ja seokset’ sisältävät seuraavia metalleja ja niiden seoksia: niobium (columbium), molybdeeni, volframi ja tantaali.
At least two rotary axes having all of the following:
’Anturi-ikkunamateriaaleja’ ovat seuraavat: alumiinioksidi, pii, germanium, sinkkisulfidi, sinkkiselenidi, galliumarsenidi, timantti, galliumfosfidi, safiiri ja seuraavat metallihalidit: zirkoniumfluoridista ja hafniumfluoridista koostuvat anturi-ikkunamateriaalit, joiden halkaisija on yli 40 mm.
a.
Ryhmään 2 ei sisälly ”teknologia” kiinteiden turbiininsiipilevyjen yksivaiheista hiiletyslaatikkokarkaisua varten.
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Seuraavat ’polymeerit’: polyimidi, polyesteri, polysulfidi, polykarbonaatit ja polyuretaanit.
b.
’Muunnettu zirkoniumoksidi’ tarkoittaa, että zirkoniumoksidissa on lisäaineena muiden metallien oksideja (esim. kalsiumoksidi, magnesiumoksidi, ytriumoksidi, hafniumoksidi ja harvinaisten maametallien oksidit), joita käytetään stabiloimaan tiettyjä kiteisiä faaseja ja faasikombinaatioita.
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003°;
Lämpöeristyspinnoitukset, jotka on valmistettu zirkoniumoksidista, joka on muunnettu kalsiumoksidia tai magnesiumoksidia sekoittamalla tai fuusioimalla, eivät ole valvonnanalaisia.
f.
’Titaaniseoksilla’ tarkoitetaan vain ilmailu- tai avaruuskäyttöön tarkoitettuja seoksia, joiden murtovetolujuus on vähintään 900 MPa mitattuna 293 K:n (20 °C:n) lämpötilassa.
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5m.
’Vähän laajenevilla laseilla’ tarkoitetaan laseja, joiden lämpölaajenemiskerroin on enintään 1 × 10–7 K-1 mitattuna 293 K:n (20 °C:n) lämpötilassa.
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
’Dielektriset kerrokset’ ovat pinnoitteita, jotka rakentuvat eristysmateriaalien useista kerroksista, joissa eri taitekertoimen omaavien materiaalien interferenssiominaisuuksia käytetään heijastamaan, lähettämään tai absorboimaan eri aallonpituuskaistoja.
a.
Dielektriset kerrokset tarkoittavat enemmän kuin neljää dielektristä kerrosta tai dielektristä/metalli”komposiitti”kerrosta.
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
’Volframikarbidikovametalli’ ei sisällä lastuamis- ja muovaustyökalumateriaaleja, joilla on seuraava koostumus: volframikarbidi/(koboltti, nikkeli), titaanikarbidi/(koboltti, nikkeli), kromikarbidi/nikkeli-kromi tai kromikarbidi/nikkeli.
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
magneettiset levyasemat ja magneettipäät, kertakäyttötuotteiden valmistukseen käytettävät laitteet, hanaventtiilit, kaiuttimien akustiset kalvot, moottorien osat autoihin, terätyökalut, lävistyspuristinmatriisit, toimistoautomaatiolaitteet, mikrofonit tai lääkinnälliset laitteet tai muovien valamiseen tai muovaamiseen tarkoitetut muotit, jotka on valmistettu alle 5 prosenttia berylliumia sisältävistä seoksista.
c.
’Piikarbidi’ ei sisällä terätyökaluihin tai muototeriin käytettäviä aineita.
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Tässä tarkoitetut keraamiset substraatit eivät sisällä keraamisia aineita, joissa on vähintään 5 painoprosenttia savea tai sementtiä erillisinä ainesosina tai yhdisteinä.
d.
TAULUKKO – PINNOITUSTEKNIIKAT – TEKNISET HUOMAUTUKSET
Using any of the following processes:
Taulukon 1 sarakkeessa mainitut prosessit määritellään seuraavasti:
Magnetorheological finishing ('MRF');
a. Kemiallinen kaasufaasipinnoitus (CVD) on pinnoitus- tai pinnan muunnosprosessi, jossa kuumennettu substraatti pinnoitetaan metallilla, metalliseoksella, ”komposiitilla”, dielektrisellä aineella tai keraamilla.
Electrorheological finishing ('ERF');
Kaasumaiset reagoivat aineet hajoavat tai yhdistyvät substraatin välittömässä läheisyydessä, jonka seurauksena haluttu alkuaine, metalliseos tai yhdiste pinnoittaa substraatin.
'Energetic particle beam finishing';
Hajoamisen tai kemiallisen reaktioprosessin tarvitsema energia saadaan substraatin lämmöstä, hohtopurkausplasmasta tai ”laser”säteilytyksestä.
'Inflatable membrane tool finishing'; or
CVD sisältää seuraavat prosessit: suunnatun kaasuvirtauksen ei-pakkauspinnoitus, sykkivä CVD, säädettävä ydintymislämpöhajoaminen (CNTD), plasma- tai plasma-avusteinen CVD.
'Fluid jet finishing'.
Pakkaus tarkoittaa jauheseokseen upotettua substraattia.
For the purposes of 2B002:
Kaasumaiset, reagoivat aineet, joita käytetään ei-pakkausprosessissa, tuotetaan käyttämällä samoja perusreaktioita ja parametreja kuin pakkauspinnoitusprosessissakin, paitsi että siinä pinnoitettava substraatti ei ole kosketuksissa jauheseokseen.
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
b. Terminen höyrystys-fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (TE-PVD = Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition) on pinnoitusprosessi, joka suoritetaan tyhjiössä paineen ollessa alle 0,1 Pa, jossa termistä energiaa käytetään höyrystämään pinnoitusmateriaalia.
'ERF' is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
Tässä prosessissa höyrystyneet ainesosat kondensoituvat tai asettuvat sopivasti sijoitetun substraatin pinnalle.
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Kaasujen lisääminen tyhjiökammioon pinnoitusprosessin aikana on tavallinen prosessin muunnos.
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Ioni- tai elektronisäteen tai plasman käyttö pinnoitusprosessin aktivoinnissa tai avustamisessa on myös tavallinen tämän tekniikan muunnos.
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
Monitorien käyttö mahdollistamaan prosessin aikana optisten ominaisuuksien tai pinnoitteen paksuuden mittauksen voi olla näiden prosessien lisäpiirre.
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc=40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
Eri TE-PVD-prosessit ovat seuraavat:
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
Elektronisuihku-PVD -prosessissa käytetään elektronisuihkua kuumentamaan ja höyrystämään pinnoitteen muodostavaa materiaalia.
SEE ALSO 2B104 and 2B204.
Ioniavusteinen resistiivinen-kuumennus-PVD -prosessissa käytetään resistiivisiä kuumennuslähteitä yhdessä iskeytyvän(-vien) ionisäte(id)en kanssa tuottamaan kontrolloidun ja yhtenäisen höyrystyneiden pinnoiteaineksien vuon.
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Katodikaaripinnoitus käyttää kuluvaa katodia, joka on pinnoitteen muodostavaa materiaalia sekä kaaripurkausta, joka aikaansaadaan koskettamalla hetkellisesti sen pintaa maaliipaisimella.
Having any of the following:
Anodina voi olla joko kartio, joka on kiinnitetty katodin läheisyyteen, eristeen tai kammion läpi.
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
Substraatin (jännite)biassointia käytetään näkymättömissä tapahtuvaan pinnoitukseen.
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
Tämä määritelmä ei koske satunnaista katodikaaripinnoitusta biassoimattomia substraatteja käytettäessä.
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Ioni-pinnoitus (-PVD) on TE-PVD -prosessin muunnos, jossa plasma- tai ionilähdettä käytetään ionisoimaan pinnoitettavia ainesosia ja negatiivinen biasjännite johdetaan substraattiin ainesosien erottamiseksi plasmasta.
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Reagoivien aineksien käyttäminen, kiinteiden aineiden höyrystäminen prosessikammiossa ja monitorien käyttö mahdollistamaan prosessin aikaisen, pinnoitteen optisten ominaisuuksien ja paksuuden mittaamiseksi ovat tavallisia prosessin muunnoksia.
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
c. Pakkasementointi on pinnan muunnos- tai pinnoitusprosessi, jossa substraatti upotetaan jauheseokseen (pakkaan), joka koostuu seuraavista:
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Pinnoitukseen käytettävät metallijauheet (tavallisesti alumiinia, kromia, piitä tai niiden yhdistelmiä);
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for substrates specified in column 2, by processes shown in column 1 in the Table following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
Aktivaattori (tavallisesti halidisuola); ja
a.
Reagoimaton aine, useimmiten alumiinioksidi.
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Substraatti ja jauheseos asetetaan retorttiin, joka kuumennetaan 1030–1375K:n (757–1102 °C:n) lämpötilaan riittäväksi ajaksi pinnoitteen aikaansaamiseksi.
SEE ALSO 2B105.
d. Plasmaruiskutus on pinnoitusprosessi, jossa plasmaa tuottavaan ja ohjaavaan sumuttimeen syötetään pinnoitemateriaalia jauheena tai lankana, ne sulatetaan ja kiihdytetään substraattia kohden.
A process modified for one of the following:
Plasmaruiskutus on joko matalapaineessa tapahtuvaa tai suurinopeuksista plasmaruiskutusta.
a.
Matalapaineella tarkoitetaan alle ilmakehän painetta.
Pulsating CVD;
Suurinopeuksisella tarkoitetaan kaasun lähtönopeutta suuttimesta, kun se on yli 750 m/s laskettuna 293 K:n (20 °C:n) lämpötilassa ja 0,1 MPa paineessa.
b.
e. Lietepinnoitus on pinnan muunnos- tai pinnoitusprosessi, jossa orgaanisen aineen sitoma metalli- tai keraamijauhe on suspendoitunut nesteeseen, ja sitä lisätään sumuttamalla, kastamalla tai maalaamalla substraatille, minkä jälkeen tehdään ilmassa tai uunissa tapahtuva kuivaus sekä lämpökäsittely halutun pinnoitteen aikaansaamiseksi.
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
f. Sputterointi on pinnoitusprosessi, joka perustuu liikemäärän siirtoilmiöön, jossa positiiviset ionit kiihdytetään sähkökentässä kohti pinnoitemateriaalin pintaa.
c.
Iskeytyvien ionien kineettinen energia on riittävä, jotta pinnoitemateriaalin pinnasta irtoaa atomeja, jotka pinnoittavat sopivasti sijoitetun substraatin.
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
Taulukko viittaa vain triodi-, magnetroni- tai reaktiiviseen sputterointiin, jota käytetään lisäämään pinnoitteen kiinnittymistä ja pinnoitusnopeutta, ja radiotaajuudella voimistettuun sputterointiin, jota käytetään mahdollistamaan ei-metallisten pinnoitemateriaalien höyrystäminen.
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
g. Ioni-istutus on pinnan muunnospinnoitusprosessi, jossa seostettava elementti ionisoidaan, kiihdytetään potentiaaligradientin läpi ja istutetaan substraatin pinnan tietylle alueelle.
Incorporating in situ coating thickness control;
RYHMÄ 3 – ELEKTRONIIKKA
b.
3A001 tai 3A002 kohdassa kuvattujen laitteiden ja komponenttien, lukuun ottamatta 3A001.a.3–3A001.a.10 tai 3A001.a.12–3A001.a.14 kohdassa kuvattuja laitteita ja komponentteja, jotka on erityisesti suunniteltu jotain muuta laitetta varten tai joilla on samat toiminnalliset ominaisuudet kuin jollain muulla laitteella, valvonnanalaisuus määräytyy näiden muiden laitteiden mukaan.
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
3A001.a.3–3A001.a.9 tai 3A001.a.12–3A001.a.14 kohdassa kuvattujen integroitujen piirien, jotka on ohjelmoitu ei-muutettavasti tai jotka on suunniteltu jonkin muun laitteen erityistä toimintoa varten, valvonnanalaisuus määräytyy näiden muiden laitteiden mukaan.
c.
Jos valmistaja tai vientiluvan hakija ei pysty määrittelemään näiden muiden laitteiden valvonnanalaisuutta, integroitujen piirien valvonnanalaisuus määräytyy 3A001.a.3–3A001.a.9 ja 3A001.a.12–3A001.a.14 kohdan mukaan.
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
Seuraavat elektroniset tuotteet:
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
a. Seuraavat yleiskäyttöiset integroidut piirit:
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
(Valmiiden tai puolivalmiiden) piikiekkojen, joissa toiminto on määritelty, valvonnanalaisuus arvioidaan 3A001.a kohdan parametrien mukaan.
d.
Integroidut piirit sisältävät seuraavat tyypit:
Plasma spraying production equipment having any of the following:
”Monoliittiset integroidut piirit”;
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
”Integroidut hybridipiirit”;
Incorporating in situ coating thickness control;
”Integroidut monipalapiirit”;
e.
”Integroidut kalvopiirit”, integroidut pii-safiiripiirit mukaan lukien;
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
”Optiset integroidut piirit”.
f.
”Kolmiulotteiset integroidut piirit”;
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
”Monoliittiset integroidut mikroaaltopiirit” (”MMIC”).
g.
Integroidut piirit, jotka on suunniteltu tai mitoitettu kestämään jotakin seuraavista:
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
a. Säteilyä, jonka kokonaisannos on 5 × 103 Gy (pii) tai enemmän;
Coating thickness on the substrate and rate control; or
b. Säteilyä, jonka annosnopeus 5 × 106 Gy (pii)/s tai enemmän; tai