natgillin/translations-raw huggingface dataset:
N-Dialkyl [methyl, ethyl or propyl (normal or iso)] aminoethane-2-ols and corresponding protonated salts, other than N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethanol (96-80-0) and N,N-Diethylaminoethanol (100-37-8) which are specified in 1C350;
Tekninen tieto, joka koostuu alla luetelluista prosessimenetelmistä tai niiden parametreista ja jolla ohjataan seuraavia:
b.5. does not control the following:
a. Alumiiniseosten, titaaniseosten tai ”superseosten” ”superplastinen muovaus”:
N,N-Dimethylaminoethanol (108-01-0) and corresponding protonated salts;
Pinnan valmistelu;
Protonated salts of N,N-Diethylaminoethanol (100-37-8);
Jännityksen taso;
N,N-Dialkyl [methyl, ethyl or propyl (normal or iso)] aminoethane-2-thiols and corresponding protonated salts, other than N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethane thiol which is specified in 1C350;
Lämpötila;
See 1C350 for ethyldiethanolamine (139-87-7);
Paine;
Methyldiethanolamine (105-59-9).
b. ”Superseosten” tai titaaniseosten ”diffuusioliittäminen”:
For exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. and .b.6. in which no individually specified chemical constitutes more than 10 % by the weight of the mixture.
c. Alumiiniseosten tai titaaniseosten ”suoravaikutteinen hydraulipuristus”:
For exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. and .b.6. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Jakson aika;
450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entry 1C450.b.8. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
d. Titaaniseosten, alumiiniseosten tai ”superseosten” ”kuumaisostaattinen puristus”:
"Software" specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment specified in 1B001 to 1B003.
c. ”Teknologia” ilma-alusten runkorakenteiden valmistukseen tarkoitettujen hydraulisten venytysmuovauskoneiden ja niiden muottien ”kehittämistä” tai ”tuotantoa” varten;
"Software" for the "development" of organic "matrix", metal "matrix" or carbon "matrix" laminates or "composites".
d. ”Teknologia” ”numeerisessa ohjaus”yksikössä olevasta suunnittelutiedosta tuotettavien työstökonekäskyjen (esim. työstöohjelmien) ohjelmakehittimien ”kehittämistä” varten;
"Software" specially designed or modified to enable equipment to perform the functions of equipment specified in 1A004.c. or 1A004.d.
e. ”Teknologia” valmistusosaston toimintojen kehittyneen päätöksenteon tukemiseksi ”numeerisiin ohjaus”yksiköihin asiantuntijajärjestelmiä sisällyttävien integrointi”ohjelmistojen” ”kehittämistä” varten;
"Software" specially designed or modified for the operation or maintenance of goods specified in 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 or 1B119.
f. ”Teknologia”, jolla epäorgaanisilla päällystyspinnoitteilla tai epäorgaanisilla pinnanmuunnospinnoitteilla (määritelty seuraavan taulukon 3 sarakkeessa) pinnoitetaan johtamattomia substraatteja (määritelty seuraavan taulukon 2 sarakkeessa) seuraavan taulukon 1 sarakkeessa määritellyillä ja teknisessä huomautuksessa kuvatuilla prosesseilla.
"Software" specially designed for analysis of reduced observables such as radar reflectivity, ultraviolet/infrared signatures and acoustic signatures.
Taulukko ja tekniset huomautukset on esitetty 2E301 kohdan jälkeen.
"Software" specially designed for the "use" of goods specified in 1B201.
Tätä taulukkoa olisi tulkittava niin, että siinä määritellään tietyn pinnoitusprosessin teknologia vain silloin, kun 3 sarakkeessa mainittu pinnoitetulos esitetään vastaavassa kohdassa kuin asiaankuuluva substraatti 2 sarakkeessa.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" or "production" of equipment or materials specified in 1A001.b., 1A001.c., 1A002 to 1A005, 1A006.b., 1A007, 1B or 1C.
”Teknologia” yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119–2B122 tai 2D101 kohdassa määriteltyjen laitteiden tai ”ohjelmistojen” ”käyttöä” varten.
Other "technology" as follows:
”Teknologia” yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225–2B233, 2D201 tai 2D202 kohdassa määriteltyjen laitteiden tai ”ohjelmistojen” ”käyttöä” varten.
a.
”Teknologia” yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 2B350–2B352 kohdassa määriteltyjen tuotteiden ”käyttöä” varten.
"Technology" for the "development" or "production" of polybenzothiazoles or polybenzoxazoles;
Taulukko
b.
Pinnoitustekniikat
"Technology" for the "development" or "production" of fluoroelastomer compounds containing at least one vinylether monomer;
Pinnoitusprosessi (1) [3]
c.
Substraatti
"Technology" for the design or "production" of the following ceramic powders or non-"composite" ceramic materials:
Pinnoitetulos
Ceramic powders having all of the following:
A. Kemiallinen kaasufaasipinnoitus (CVD)
a.
”superseokset”
Any of the following compositions:
aluminidit sisäisiin kanaviin
Single or complex oxides of zirconium and complex oxides of silicon or aluminium;
keraamiset aineet (19) ja vähän laajenevat lasit (14)
Single nitrides of boron (cubic crystalline forms);
silisidit
Single or complex carbides of silicon or boron; or
karbidit
Single or complex nitrides of silicon;
dielektriset kerrokset (15)
b.
timantti
Any of the following total metallic impurities (excluding intentional additions):
timantin kaltainen hiili (17)
Less than 1000 ppm for single oxides or carbides; or
hiili-hiili-, keraamiset ja metalli-”matriisi””komposiitit”
Less than 5000 ppm for complex compounds or single nitrides; and
tulenkestävät metallit
c.
niiden sekoitukset(4)
Being any of the following:
aluminidit
Zirconia (CAS 1314-23-4) with an average particle size equal to or less than 1 μm and no more than 10 % of the particles larger than 5 μm or
seostetut aluminidit (2)
Other ceramic powders with an average particle size equal to or less than 5 μm and no more than 10 % of the particles larger than 10 μm; or
boorinitridi
Non-"composite" ceramic materials composed of the materials specified in 1E002.c.1;
volframikarbidi-kovametalli (16), piikarbidi (18)
c.2. does not control "technology" for the design or production of abrasives.
volframi
d.
molybdeeni ja molybdeeniseokset
Not used.
beryllium ja berylliumseokset
e.
anturi-ikkunamateriaalit (9)
"Technology" for the installation, maintenance or repair of materials specified in 1C001;
Terminen höyrystys-fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (TE-PVD)
f.
Fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD) elektronisuihkun avulla tapahtuva fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (EB-PVD)
"Technology" for the repair of "composite" structures, laminates or materials specified in 1A002, 1C007.c. or 1C007.d.;
seostetut silisidit
f. does not control "technology" for the repair of "civil aircraft" structures using carbon "fibrous or filamentary materials" and epoxy resins, contained in aircraft manufacturers' manuals.
muunnettu zirkoniumoksidi (12)
g.
korroosionkestävät teräkset (7)
"Libraries" specially designed or modified to enable equipment to perform the functions of equipment specified in 1A004.c. or 1A004.d.
boridit
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 to 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 to 1C118, 1D101 or 1D103.
berylium
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of "software" specified in 1D001, 1D101 or 1D103.
titaaniseokset (13)
"Technology" for the regulation of temperature, pressure or atmosphere in autoclaves or hydroclaves, when used for the "production" of "composites" or partially processed "composites".
nitridit
"Technology" relating to the "production" of pyrolytically derived materials formed on a mould, mandrel or other substrate from precursor gases which decompose in the 1573 K (1300 °C) to 3173 K (2900 °C) temperature range at pressures of 130 Pa to 20 kPa.
Ioniavusteinen resistiivinen fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD) (ionipinnoitus)
104 includes "technology" for the composition of precursor gases, flow-rates and process control schedules and parameters.
keraamiset aineet (19) ja vähän laajenevat lasit
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 1A002, 1A007, 1A202, 1A225 to 1A227, 1B201, 1B225 to 1B234, 1C002.b.3. or .b.4., 1C010.b., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 to 1C241 or 1D201.
volframikarbidi-kovametalli (16), piikarbidit
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" or "production" of goods specified in 1A007, 1A202 or 1A225 to 1A227.
Fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD): ”Laser”höyrystys
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of "software" specified in 1D201.
timantin kaltainen hiili
CATEGORY 2 —
Fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (PVD): Katodikaaripurkaus
MATERIALS PROCESSING
polymeerit (11) ja ”komposiitit”, joilla on orgaaninen ”matriisi”
For quiet running bearings, see the Military Goods Controls.
C. Hiilletyslaatikkokarkaisu (katso edellä A kohta muun kuin laatikkokarkaisun osalta) (10)
Anti-friction bearings and bearing systems, as follows, and components therefor:
tulenkestävät metallit ja seokset (8)
SEE ALSO 2A101.
oksidit
001 does not control balls with tolerances specified by the manufacturer in accordance with ISO 3290 as grade 5 or worse.
D. Plasmaruiskutus
a.
muovattava nikkeligrafiitti
Ball bearings and solid roller bearings, having all tolerances specified by the manufacturer in accordance with ISO 492 Tolerance Class 4 (or national equivalents), or better, and having both rings and rolling elements (ISO 5593), made from monel or beryllium;
muovattavat Ni-Cr-Al-pitoiset aineet
a. does not control tapered roller bearings.
muovattava Al-Si-polyesteri
c.
alumiiniseokset (6)
Active magnetic bearing systems using any of the following:
E. Lietepinnoitus
Materials with flux densities of 2,0 T or greater and yield strengths greater than 414 MPa;
fuusatut silisidit
All-electromagnetic 3D homopolar bias designs for actuators; or
fuusatut aluminidit paitsi lämmitysvastuselementit
High temperature (450 K (177 °C) and above) position sensors.
F. Sputterointi
Radial ball bearings, other than those specified in 2A001, having all tolerances specified in accordance with ISO 492 Tolerance Class 2 (or ANSI/ABMA Std 20 Tolerance Class ABEC-9 or other national equivalents), or better and having all the following characteristics:
jalometallimuunnetut aluminidit (3)
a.
platina
An inner ring bore diameter between 12 mm and 50 mm;
keraamiset aineet ja vähän laajenevat lasit (14)
b.
dielektriset kerrokset (15)
An outer ring outside diameter between 25 mm and 100 mm; and
G. Ioni-istutus
c.
korkean lämpötilan laakeriteräkset
A width between 10 mm and 20 mm.
kromi-, tantaali- tai niobium-(columbium)lisäaineet
Crucibles made of materials resistant to liquid actinide metals, as follows:
volframikarbidi-kovametalli (16)
a.
TAULUKKO – PINNOITUSTEKNIIKAT – HUOMAUTUKSET
Crucibles having both of the following characteristics:
Termi ’pinnoitusprosessi’ sisältää, paitsi alkuperäisen pinnoituksen, myös sen korjauksen tai uusimisen.
A volume of between 150 cm3 and 8000 cm3; and
Termi ’jalometallimuunnettu aluminidipinnoitus’ sisältää monivaiheiset pinnoitukset, joissa jalometallia tai jalometalleja aikaansaadaan substraatin pinnalle jollakin muulla prosessilla ennen aluminidipinnoitusta.
Made of or coated with any of the following materials, or combination of the following materials, having an overall impurity level of 2 % or less by weight:
Termi ’niiden sekoitukset’ sisältää suodatettuja aineita, lajiteltuja seoksia sekä lisä- ja monikerrospinnoitteita ja niitä aikaansaadaan yhden tai useamman taulukossa mainitun pinnoitusprosessin avulla.
a.
’McrAlX’ tarkoittaa metalliseospinnoitetta, jossa M vastaa kobolttia, rautaa, nikkeliä tai niiden yhdistelmiä ja X vastaa hafniumia, yttriumia, piitä, tantaalia missä tahansa määrässä tai muuta tarkoituksellista lisäainetta yli 0,01 painoprosenttia erilaisissa suhteissa ja yhdistelmissä, paitsi:
Calcium fluoride (CaF2);
a. CoCrAlY-pinnoitteet, jotka sisältävät alle 22 painoprosenttia kromia, alle 7 painoprosenttia alumiinia ja alle 2 painoprosenttia yttriumia;
b.
b. CoCrAlY-pinnoitteet, jotka sisältävät 22–24 painoprosenttia kromia, 10–12 painoprosenttia alumiinia ja 0,5–0,7 painoprosenttia yttriumia; tai
Calcium zirconate (metazirconate) (CaZrO3);
c. NiCrAlY-pinnoitteet, jotka sisältävät 21–23 painoprosenttia kromia, 10–12 painoprosenttia alumiinia ja 0,9–1,1 painoprosenttia yttriumia.
c.
Termi ’alumiiniseos’ tarkoittaa metalliseoksia, joiden murtovetolujuus on vähintään 190 MPa mitattuna 293 K:n (20 °C:n) lämpötilassa.
Cerium sulphide (Ce2S3);
Termi ’korroosionkestävä teräs’ tarkoittaa AISI (American Iron and Steal Institute) 300 -sarjaa tai vastaavia kansallisia standarditeräksiä.
d.
’Tulenkestävät metallit ja seokset’ sisältävät seuraavia metalleja ja niiden seoksia: niobium (columbium), molybdeeni, volframi ja tantaali.
Erbium oxide (erbia) (Er2O3);
’Anturi-ikkunamateriaaleja’ ovat seuraavat: alumiinioksidi, pii, germanium, sinkkisulfidi, sinkkiselenidi, galliumarsenidi, timantti, galliumfosfidi, safiiri ja seuraavat metallihalidit: zirkoniumfluoridista ja hafniumfluoridista koostuvat anturi-ikkunamateriaalit, joiden halkaisija on yli 40 mm.
e.
Kiinteiden turbiininsiipilevyjen yksivaiheinen hiiletyslaatikkokarkaisu ”teknologia” ei ole valvonnanalaista 2 ryhmässä.
Hafnium oxide (hafnia) (HfO2);
’Polymeerit’ seuraavasti: polyimidi, polyesteri, polysulfidi, polykarbonaatit ja polyuretaanit.
f.
’Titaaniseoksilla’ tarkoitetaan vain ilmailu- tai avaruuskäyttöön tarkoitettuja seoksia, joiden murtovetolujuus on vähintään 900 MPa mitattuna 293 K:n (20 °C:n) lämpötilassa.
Magnesium oxide (MgO);
’Vähän laajenevilla laseilla’ tarkoitetaan laseja, joiden lämpölaajenemiskerroin on enintään 1 × 10–7 K–1 mitattuna 293 K:n (20 °C:n) lämpötilassa.
g.
’Volframikarbidikovametalli’ ei sisällä lastuamis- ja muovaustyökalumateriaaleja, joilla on seuraava koostumus: volframikarbidi/(koboltti, nikkeli), titaanikarbidi/(koboltti, nikkeli), kromikarbidi/nikkeli-kromi tai kromikarbidi/nikkeli.
Nitrided niobium-titanium-tungsten alloy (approximately 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);
Valvonnanalaiseksi ei aseteta ”teknologiaa”, joka on erityisesti tarkoitettu pinnoittamaan timantin kaltaisella hiilellä seuraavia:
h.
magneettiset levyasemat ja magneettipäät, kertakäyttötuotteiden valmistukseen käytettävät laitteet, hanaventtiilit, kaiuttimien akustiset kalvot, moottorien osat autoihin, terätyökalut, lävistyspuristinmatriisit, toimistoautomaatiolaitteet, mikrofonit tai lääkinnälliset laitteet tai muovien valamiseen tai muovaamiseen tarkoitetut muotit, jotka on valmistettu alle 5 prosenttia berylliumia sisältävistä seoksista.
Yttrium oxide (yttria) (Y2O3); or
’Piikarbidi’ ei sisällä terätyökaluihin tai muototeriin käytettäviä aineita.
i.
Tässä tarkoitetut keraamiset substraatit eivät sisällä keraamisia aineita, joissa on vähintään 5 painoprosenttia savea tai sementtiä erillisinä ainesosina tai yhdisteinä.
Zirconium oxide (zirconia) (ZrO2);
TAULUKKO – PINNOITUSTEKNIIKAT – TEKNISET HUOMAUTUKSET
b.
CVD sisältää seuraavat prosessit: suunnatun kaasuvirtauksen ei-pakkauspinnoitus, sykkivä CVD, säädettävä ydintymislämpöhajoaminen (CNTD), plasma- tai plasma-avusteinen CVD.
Crucibles having both of the following characteristics:
Pakkaus tarkoittaa jauheseokseen upotettua substraattia.
A volume of between 50 cm3 and 2000 cm3; and
Kaasumaiset, reagoivat aineet, joita käytetään ei-pakkausprosessissa, tuotetaan käyttämällä samoja perusreaktioita ja parametreja kuin pakkauspinnoitusprosessissakin, paitsi että siinä pinnoitettava substraatti ei ole kosketuksissa jauheseokseen.
Made of or lined with tantalum, having a purity of 99,9 % or greater by weight;
b. Terminen höyrystys-fysikaalinen kaasufaasipinnoitus (TE-PVD = Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition) on pinnoitusprosessi, joka suoritetaan tyhjössä paineen ollessa alle 0,1 Pa, jossa termistä energiaa käytetään höyrystämään pinnoitusmateriaalia.
Crucibles having all of the following characteristics:
Kaasujen lisääminen tyhjökammioon pinnoitusprosessin aikana on tavallinen prosessin muunnos.
A volume of between 50 cm3 and 2000 cm3;
Ioni- tai elektronisäteen tai plasman käyttö pinnoitusprosessin aktivoinnissa tai avustamisessa on myös tavallinen tämän tekniikan muunnos.
Made of or lined with tantalum, having a purity of 98 % or greater by weight; and
Monitorien käyttö mahdollistamaan prosessin aikana optisten ominaisuuksien tai pinnoitteen paksuuden mittauksen voi olla näiden prosessien lisäpiirre.
Coated with tantalum carbide, nitride, boride, or any combination thereof.
Eri TE-PVD-prosessit ovat seuraavat:
Valves having all of the following characteristics:
Elektronisuihku-PVD -prosessissa käytetään elektronisuihkua kuumentamaan ja höyrystämään pinnoitteen muodostavaa materiaalia.
a.
Ioniavusteinen resistiivinen-kuumennus-PVD -prosessissa käytetään resistiivisiä kuumennuslähteitä yhdessä iskeytyvän(-vien) ionisäte(id)en kanssa tuottamaan kontrolloidun ja yhtenäisen höyrystyneiden pinnoiteaineksien vuon.
A 'nominal size' of 5 mm or greater;
”Laser”höyrystys-prosessi käyttää joko pulssi- tai jatkuvan aallon ”laser”säteitä höyrystämään pinnoituksen muodostavia materiaaleja;
b.
Katodikaaripinnoitus käyttää kuluvaa katodia, joka on pinnoitteen muodostavaa materiaalia sekä kaaripurkausta, joka aikaansaadaan koskettamalla hetkellisesti sen pintaa maaliipaisimella.
Having a bellows seal; and
Ohjaamalla kaarta erotetaan katodin pinnasta ionisoitua plasmaa.
c.
Anodina voi olla joko kartio, joka on kiinnitetty katodin läheisyyteen, eristeen tai kammion läpi.
Wholly made of or lined with aluminium, aluminium alloy, nickel, or nickel alloy containing more than 60 % nickel by weight.
Substraatin (jännite)biassointia käytetään näkymättömissä tapahtuvaan pinnoitukseen.
For valves with different inlet and outlet diameters, the 'nominal size' in 2A226 refers to the smallest diameter.
Tämä määritelmä ei koske satunnaista katodikaaripinnoitusta biassoimattomia substraatteja käytettäessä.
Secondary parallel contouring axes, (e.g., the w-axis on horizontal boring mills or a secondary rotary axis the centre line of which is parallel to the primary rotary axis) are not counted in the total number of contouring axes.
Ioni-pinnoitus (-PVD) on TE-PVD -prosessin muunnos, jossa plasma- tai ionilähdettä käytetään ionisoimaan pinnoitettavia ainesosia ja negatiivinen biasjännite johdetaan substraattiin ainesosien erottamiseksi plasmasta.
Rotary axes need not rotate over 360 °.
Reagoivien aineksien käyttäminen, kiinteiden aineiden höyrystäminen prosessikammiossa ja monitorien käyttö mahdollistamaan prosessin aikaisen, pinnoitteen optisten ominaisuuksien ja paksuuden mittaamiseksi ovat tavallisia prosessin muunnoksia.
A rotary axis can be driven by a linear device (e.g., a screw or a rack-and-pinion).
c. Pakkasementointi on pinnan muunnos- tai pinnoitusprosessi, jossa substraatti upotetaan jauheseokseen (pakkaan), joka koostuu seuraavista:
For the purposes of 2B, the number of axes which can be co-ordinated simultaneously for "contouring control" is the number of axes along or around which, during processing of the workpiece, simultaneous and interrelated motions are performed between the workpiece and a tool.
Pinnoitukseen käytettävät metallijauheet (tavallisesti alumiinia, kromia, piitä tai niiden yhdistelmiä);
This does not include any additional axes along or around which other relative movement within the machine are performed such as:
Aktivaattori (tavallisesti halidisuola); ja
Wheel-dressing systems in grinding machines;
Reagoimaton aine, useimmiten alumiinioksidi.
Parallel rotary axes designed for mounting of separate workpieces;
Substraatti ja jauheseos asetetaan retorttiin, joka kuumennetaan 1030–1375 K:n (757–1102 °C:n) lämpötilaan riittäväksi ajaksi pinnoitteen aikaansaamiseksi.
Co-linear rotary axes designed for manipulating the same workpiece by holding it in a chuck from different ends.
d. Plasmaruiskutus on pinnoitusprosessi, jossa plasmaa tuottavaan ja ohjaavaan sumuttimeen syötetään pinnoitemateriaalia jauheena tai lankana, ne sulatetaan ja kiihdytetään substraattia kohden.
Axis nomenclature shall be in accordance with International Standard ISO 8412001, Industrial automation systems and integration - Numerical Control –of machines Coordinate system and Motion nomenclature'.
Plasmaruiskutus on joko matalapaineessa tapahtuvaa tai suurinopeuksista plasmaruiskutusta.
For the purposes of 2B001 to 2B009 a "tilting spindle" is counted as a rotary axis.
Huom. 1:
'Stated "unidirectional positioning repeatability"' may be used for each machine tool model as an alternative to individual machine tests and is determined as follows:
Matalapaineella tarkoitetaan alle ilmakehän painetta.
Select five machines of a model to be evaluated;
Suurinopeuksisella tarkoitetaan kaasun lähtönopeutta suuttimesta, kun se on yli 750 m/s laskettuna 293 K:n (20 °C:n) lämpötilassa ja 0,1 MPa paineessa.
Measure the linear axis repeatability (R↑,R↓) according to ISO 2302:2014 and evaluate "unidirectional positioning repeatability" for each axis of each of the five machines;
e. Lietepinnoitus on pinnan muunnos- tai pinnoitusprosessi, jossa orgaanisen aineen sitoma metalli- tai keraamijauhe on suspendoitunut nesteeseen, ja sitä lisätään sumuttamalla, kastamalla tai maalaamalla substraatille, minkä jälkeen tehdään ilmassa tai uunissa tapahtuva kuivaus sekä lämpökäsittely halutun pinnoitteen aikaansaamiseksi.
Determine the arithmetic mean value of the "unidirectional positioning repeatability"-values for each axis of all five machines together.
f. Sputterointi on pinnoitusprosessi, joka perustuu liikemäärän siirtoilmiöön, jossa positiiviset ionit kiihdytetään sähkökentässä kohti pinnoitemateriaalin pintaa.
These arithmetic mean values of "unidirectional positioning repeatability" UPR become the stated value of each axis for the model UPR
Iskeytyvien ionien kineettinen energia on riittävä, jotta pinnoitemateriaalin pinnasta irtoaa atomeja, jotka pinnoittavat sopivasti sijoitetun substraatin.
Since the Category 2 list refers to each linear axis there will be as many 'stated "unidirectional positioning repeatability" values as there are linear axes;
Taulukko viittaa vain triodi-, magnetroni- tai reaktiiviseen sputterointiin, jota käytetään lisäämään pinnoitteen kiinnittymistä ja pinnoitusnopeutta, ja radiotaajuudella voimistettuun sputterointiin, jota käytetään mahdollistamaan ei-metallisten pinnoitemateriaalien höyrystäminen.
If any axis of a machine model not controlled by 2B001.a. to 2B001.c. has a 'stated "unidirectional positioning repeatability" equal to or less than the specified "unidirectional positioning repeatability" of each machine tool model plus 0,7 μm, the builder should be required to reaffirm the accuracy level once every eighteen months.
Matalaenergisiä (alle 5 keV) ionisäteitä voidaan käyttää aktivoimaan pinnoitusta.
For the purposes of 2B001.a. to 2B001.c., measurement uncertainty for the "unidirectional positioning repeatability" of machine tools, as defined in the International Standard ISO 230/2:2014 or national equivalents, shall not be considered.
g. Ioni-istutus on pinnan muunnospinnoitusprosessi, jossa seostettava elementti ionisoidaan, kiihdytetään potentiaaligradientin läpi ja istutetaan substraatin pinnan tietylle alueelle.
For the purpose of 2.B001.a. to 2B001.c.., the measurement of axes shall be made according to test procedures in 5.3.2. of ISO 230-2:2014.
Tämä sisältää prosessit, joissa ioni-istutus suoritetaan samanaikaisesti elektronisuihku-PVD:llä tai sputteroinnilla.