natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Maraging steels are iron alloys generally characterised by high nickel, very low carbon content and the use of substitutional elements or precipitates to produce strengthening and age-hardening of the alloy.
Maraging-teräkset ovat rautaseoksia, joille oni tunnusomaista korkea nikkelipitoisuus, hyvin alhainen hiilipitoisuus sekä seostusaineiden tai erkaumien käyttö vanhenemis-karkenemisen aikaansaamiseksi.
Tungsten and tungsten alloys, other than those specified in 1C117, in the form of uniform spherical or atomized particles of 500 μm (micrometre) diameter or less with a tungsten content of 97 % by weight or more;
muut kuin 1C117 kohdassa määritellyt volframi ja volframiseokset tasakokoisina pallomaisina tai atomisoituina hiukkasina, joiden läpimitta on enintään 500 μm (mikrometriä) ja volframipitoisuus vähintään 97 painoprosenttia
Molybdenum and molybdenum alloys, other than those specified in 1C117, in the form of uniform spherical or atomized particles of 500 μm diameter or less with a molybdenum content of 97 % by weight or more;
muut kuin 1C117 kohdassa määritellyt molybdeeni ja molybdeeniseokset tasakokoisina pallomaisina tai atomisoituina hiukkasina, joiden läpimitta on enintään 500 μm ja molybdeenipitoisuus vähintään 97 painoprosenttia
Tungsten materials in the solid form, other than those specified in 1C226 having material compositions as follows:
muut kuin 1C226 kohdassa määritellyt kiinteät volframimateriaalit, joiden koostumus on seuraava:
Tungsten and alloys containing 97 % by weight or more of tungsten;
puhdas volframi ja volframiseokset, jotka sisältävät vähintään 97 painoprosenttia volframia
Copper infiltrated tungsten containing 80 % by weight or more of tungsten; or
kuparia sisältävä volframi, joka sisältää vähintään 80 painoprosenttia volframia tai
Silver infiltrated tungsten containing 80 % by weight or more of tungsten.
hopeaa sisältävä volframi, joka sisältää vähintään 80 painoprosenttia volframia
Soft magnetic alloys, other than those specified in 1C003, having a chemical composition as follows:
Muut kuin 1C003 kohdassa määritellyt pehmeät magneettiset seokset, joiden kemiallinen koostumus on seuraava:
Iron content between 30 % and 60 %; and
rautapitoisuus 30–60 prosenttia; ja
Cobalt content between 40 % and 60 %.
kobolttipitoisuus 40–60 prosenttia
Graphite, other than that specified in 0C004 or 1C107.a., designed or specified for use in Electrical Discharge Machining (EDM) machines.
Kipinätyöstökoneissa käytettäväksi suunniteltu tai määritelty muu kuin 0C004 tai 1C107.a. kohdassa määritelty grafiitti
Vibration test systems, equipment and components thereof, other than those specified in 2B116:
Muut kuin 2B116 kohdassa määritellyt tärinäntestausjärjestelmät sekä laitteet ja komponentit niitä varten:
Digital controllers, combined with specially designed vibration test “software”, with a “real-time control bandwidth” greater than 5 kHz designed for use with vibration test systems specified in a.;
digitaaliset ohjaimet, joissa on erityisesti suunnitellut tärinäntestaus’ohjelmistot’, joiden ’tosiaikainen ohjauskaistanleveys’ on suurempi kuin 5 kHz ja jotka on suunniteltu a. kohdassa mainittujen tärinäntestausjärjestelmien käyttöä varten
Vibration thrusters (shaker units), with or without associated amplifiers, capable of imparting a force equal to or greater than 50 kN, measured “bare table”, and usable in vibration test systems specified in a.;
täristimet (täristinyksiköt), vahvistimien kanssa tai ilman, joilla voidaan tuottaa 50 kN:n tai suurempi tärinävoima ’paljaalla alustalla’ mitattuna ja joita voidaan käyttää a. kohdassa mainituissa tärinäntestausjärjestelmissä;
Test piece support structures and electronic units designed to combine multiple shaker units in a system capable of providing an effective combined force equal to or greater than 50 kN, measured “bare table”, and usable in vibration systems specified in a.
koekappaleen kannatinrakenteet ja elektroniset yksiköt, jotka on suunniteltu yhdistämään useita erillisiä täristinyksiköitä järjestelmäksi, joka pystyy tuottamaan 50 kN:n tai suuremman yhdistetyn tehollisen voiman ’paljaalla alustalla’ mitattuna ja joita voidaan käyttää a. kohdassa mainituissa tärinäntestausjärjestelmissä
“bare table” means a flat table, or surface, with no fixture or fittings.
’Paljaalla alustalla’ tarkoitetaan tasaista pöytää tai pintaa ilman varusteita.
Machine tools, other than those specified in 2B001.c. or 2B201.b., for grinding having positioning accuracies with “all compensations available” equal to or less (better) than 15 μm according to ISO 230/2 (1988) [2] or national equivalents along any linear axis.
Muut kuin 2B001.c. tai 2B201.b kohdassa määritellyt työstökoneet hiontaa varten, joiden paikannustarkkuus ’kaikkine käytettävissä olevine kompensointeineen’ on enintään (parempi) kuin 15 μm ISO 230/2:n (1988) [2] tai vastaavien kansallisten standardien mukaisesti minkä tahansa lineaarisen akselin suuntaan
Components and numerical controls, specially designed for machine tools specified in 2B001, 2B201 or I.A2.002 above.
Komponentit ja numeeriset ohjaimet, jotka on erityisesti suunniteltu 2B001, 2B201 tai I.A2.002 kohdassa määriteltyjä työstökoneita varten
Balancing machines, designed or modified for dental or other medical equipment, having all the following characteristics:
tasapainotuskoneet, jotka on suunniteltu tai muunnettu hammashoitolaitteita tai muita lääkinnällisiä laitteita varten ja joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
Not capable of balancing rotors/assemblies having a mass greater than 3 kg;
niillä ei voida tasapainottaa roottoreita/kokoonpanoja, joiden massa on suurempi kuin 3 kg;
“Indicator heads” designed or modified for use with machines specified in a. above.
edellä a. kohdassa määriteltyjen koneiden kanssa käytettäväksi suunnitellut tai muunnetut ’ilmaisinpäät’
“Indicator heads” are sometimes known as balancing instrumentation.
’Ilmaisinpäät’ tunnetaan toisinaan nimellä tasapainotuslaitteisto.
A capability of bridging over the top of a hot cell wall with a thickness of 0,3 m or more (over the wall operation).
ne pystyvät kurottamaan 0,3 m paksun tai paksumman kammion seinän yli (seinän yli työskentely)
Controlled atmosphere heat treatment furnaces or oxidation furnaces capable of operation at temperatures above 400 °C.
Kontrolloidun ympäristön lämpökäsittelyuunit tai hapetusuunit, joita voidaan käyttää yli 400 °C:n lämpötiloissa
This item does not cover tunnel kilns with roller or car conveyance, tunnel kilns with conveyor belt, pusher type kilns or shuttle kilns, specially designed for the production of glass, tableware ceramics or structural ceramics.
Tämä kohta ei kata tunneliuuneja tela- tai vaunukuljettimella, tunneliuuneja hihnakuljettimella, läpityöntöuuneja tai vaunu-uuneja, jotka on erityisesti suunniteltu lasin, pöytäkeramiikan tai rakennuskeramiikan tuotantoon.
Pressure sensing elements made of or protected by “Materials resistant to corrosion by uranium hexafluoride (UF6)”; and
kaasudiffuusioyksikön kotelot, jotka on valmistettu ’uraaniheksafluoridikorroosiota (UF6) kestävistä aineista’ tai suojattu niillä; ja
For the purposes of 2B230 “accuracy” includes non-linearity, hysteresis and repeatability at ambient temperature.
2B230 kohdassa ’tarkkuuteen’ sisältyy epälineaarisuus, hystereesi ja toistettavuus ympäristön lämpötilassa.
Liquid-liquid contacting equipment (mixer-settlers, pulsed columns, plate columns, centrifugal contactors); and liquid distributors, vapour distributors or liquid collectors designed for such equipment, where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
Neste-neste-kontaktorit (sekoitussaostimet, pulsoidut pylväät, levypylväät ja sentrifugaaliuuttimet) ja nesteen jakolaitteet, höyryn jakolaitteet ja nesteen kerääjät, jotka on suunniteltu tällaisia laitteita varten, joissa kaikki käsiteltävän kemikaalin (käsiteltävien kemikaalien) kanssa suoraan kosketukseen joutuvat pinnat on valmistettu jostain seuraavista materiaaleista:
i. Stainless steel.
i. ruostumaton teräs
“Carbon graphite” is a composition consisting of amorphous carbon and graphite, in which the graphite content is 8 % or more by weight.
’Grafiittihiili’ on amorfisesta hiilestä ja grafiitista koostuva seos, jonka koostumuksesta vähintään 8 painoprosenttia on grafiittia.
2B350.e.
2B350.e
Industrial equipment and components, other than those specified in 2B350.d., as follows:
Seuraavat muut kuin 2B350.d. kohdassa määritellyt teollisuuden laitteet ja komponentit:
Stainless steel.
ruostumaton teräs
This item does not cover vehicle radiators.
Tämä kohta ei kata ajoneuvojen jäähdyttimiä.
Multiple-seal, and seal-less pumps, other than those specified in 2B350.i, suitable for corrosive fluids, or vacuum pumps and casings (pump bodies), preformed casing liners, impellers, rotors or jet pump nozzles designed for such pumps, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
Muut kuin 2B350.i. kohdassa määritellyt monitiivisteiset ja tiivisteettömät pumput, jotka kestävät syövyttäviä nesteitä, tai tyhjiöpumput ja rungot (pumppujen rungot), muotoon puristetut runkotiivisteet, juoksupyörät, roottorit tai suihkupumppusuuttimet tällaisia pumppuja varten, joissa kaikki pinnat, jotka joutuvat suoraan kosketukseen käsiteltävän kemikaalin (kemikaalien) kanssa, on valmistettu jostain seuraavista materiaaleista:
Niobium (columbium) or niobium alloys;
niobium (columbium) tai niobiumseokset;
Stainless steel;
ruostumaton teräs;
Aluminium alloys; or
alumiiniseokset
Rubber.
kumi
The materials used for gaskets and seals and other implementations of sealing functions do not determine the status of control of the pump.
Tiivisteisiin ja tiivisterenkaisiin sekä muihin tiivistämiseen tarkoitettuihin sovelluksiin käytetyt materiaalit eivät vaikuta pumpun valvonnanalaisuuteen.
The term “rubber” encompasses all kinds of natural and synthetic rubbers.
Termi ’kumi’ kattaa kaikenlaiset luonnonkumit ja synteettiset kumit.
“Centrifugal separators”, other than those specified in 2B352.c., capable of continuous separation without the propagation of aerosols and manufactured from:
Muut kuin 2B352.c. kohdassa määritellyt ’keskipakoerottimet’, jotka pystyvät jatkuvaan erotukseen ilman aerosolimuodostusta ja jotka on valmistettu seuraavista:
Sintered metal filters, other than those specified in 2B352.d., made of nickel or nickel alloy with more than 40 % nickel by weight.
Muut kuin 2B352.d. kohdassa määritellyt sintratut metallisuodattimet, jotka on valmistettu nikkelistä tai nikkeliseoksesta, jossa on yli 40 painoprosenttia nikkeliä
Spin-forming machines and flow-forming machines, other than those specified by 2B009, 2B109 or 2B209 and specially designed components therefor.
Muut kuin 2B009, 2B109 tai 2B209 kohdassa määritellyt dreijaus- ja painesorvit ja niitä varten erityisesti suunnitellut komponentit
For the purpose of this item, machines combining the functions of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
Koneet, joissa yhdistyvät dreijaus- ja painesorvauksen toiminnot, katsotaan tässä kohdassa painesorveiksi.
Equipment and reagents, other than those specified in 2B350 or 2B352, as follows:
Seuraavat muut kuin 2B350 tai 2B352 kohdassa määritellyt laitteet ja reagenssit:
Fermenters capable of cultivation of pathogenic “micro-organisms” or viruses, or capable of toxin production, without the propagation of aerosols, and having a total capacity of 10 l or more;
fermenttorit, joilla voidaan kasvattaa patogeenisiä ’mikro-organismeja’ tai viruksia tai tuottaa toksiinia ilman aerosolin muodostusta ja joiden vetoisuus on vähintään 10 litraa;
Agitators for fermenters as mentioned in a.above;
sekoittajat, joita käytetään edellisessä kohdassa mainituissa fermenttoreissa
Laboratory equipment as follows:
seuraavat laboratoriolaitteistot ja -kalusto:
Polymerase chain reaction (PCR)-equipment
polymeraasiketjureaktiolaitteisto (PCR);
Genetic sequencing equipment;
geenisekvensserit;
Genetic synthesizers;
geenisyntetisaattorit;
Electroporation equipment;
elektroporaatiolaitteisto;
Specific reagents associated with the equipment in I.A2.014.c. numbers 1. to 4. above;
4 kohdassa oleviin laitteisiin liittyvät erityisreagenssit
Filters, micro-filters, nano-filters or ultra-filters usable in industrial or laboratory biology for continuous filtering, except filters specially designed or modified for medical or clear water production purposes and to be used in the framework of EU or UN officially supported projects;
suodattimet, mikrosuodattimet, nanosuodattimet tai ultrasuodattimet, joita voidaan käyttää teollisuus- tai laboratoriobiologiassa jatkuvaan suodatukseen, lukuun ottamatta suodattimia, jotka on suunniteltu tai muunnettu käytettäviksi nimenomaan lääketieteellisiin tarkoituksiin tai puhtaan veden tuotantoon liittyviin tarkoituksiin EU:n tai YK:n virallisesti tukemien hankkeiden puitteissa;
Ultracentrifuges, rotors and adaptors for ultracentrifuges;
ultrasentrifugit, roottorit ja ultrasentrifugien adapterit;
Freeze drying equipment.
kylmäkuivauslaitteisto
Equipment, other than that specified in 2B005, 2B105 or 3B001.d., for the deposition of metallic overlays as follows, and specially designed components and accessories therefor:
Seuraavat muut kuin 2B005, 2B105 tai 3B001.d. kohdassa määritellyt laitteet metallisten pinnoitteiden depositoimiseksi sekä niitä varten erityisesti suunnitellut komponentit ja varusteet:
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment;
tuotantovälineet kemiallista kaasufaasipinnoitetta varten (chemical vapor deposition, CVD)
Physical vapour deposition (PVD) production equipment;
tuotantovälineet fysikaalista kaasufaasipinnoitetta varten (physical vapor deposition, PVD)
Production equipment for deposition by means of inductive or resistance heating.
tuotantovälineet induktiivisen tai resistiivisen kuumentamisen avulla valmistettavaa pinnoitetta varten
Open tanks or containers, with or without agitators, with a total internal (geometric) volume greater than 0.5 m3 (500 litres), where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
Sellaiset avoimet tankit tai säiliöt sekoittajilla tai ilman, joiden sisätilavuus on suurempi kuin 0,5 m3 (500 l) ja joissa kaikki pinnat, jotka joutuvat suoraan kosketukseen valmistettavan tai säilytettävän kemikaalin (kemikaalien) kanssa, on valmistettu seuraavista materiaaleista:
i. Stainless steel;
i. ruostumaton teräs;
Wood; or
puu;
Current or voltage stability better than 0,1 % over a time period of four hours.
niiden jännitteen tai virran stabiilius on parempi kuin 0,1 % 4 tunnin jakson aikana
Mass spectrometers, other than those specified in 0B002.g. or 3A233, capable of measuring ions of 200 atomic mass units or more and having a resolution of better than 2 parts in 200, as follows, and ion sources therefor:
Seuraavat, muut kuin 0B002.g tai 3A233 kohdassa määritellyt massaspektrometrit, jotka kykenevät mittaamaan ioneja, joiden atomipaino on 200 tai enemmän ja joiden resoluutio on parempi kuin 2 osaa 200:sta ja niiden ionilähteet:
Inductively coupled plasma mass spectrometers (ICP/MS);
induktiivisesti kytketyt plasmamassaspektrometrit (ICP/MS = inductively coupled plasma mass Spectrometers);
Glow discharge mass spectrometers (GDMS);
hehkupurkausmassaspektrometrit (GDMS = glow discharge mass spectrometers);
Thermal ionisation mass spectrometers (TIMS);
termistä ionisaatiota käyttävät massaspektrometrit (TIMS = thermal ionization mass spectrometers)
Electron bombardment mass spectrometers which have a source chamber constructed from, lined with or plated with “materials resistant to corrosion by uranium hexafluoride UF6”;
elektronipommitusmassaspektrometrit, joiden lähdekammio on valmistettu ’uraaniheksafluoridikorroosiota (UF6) kestävistä materiaaleista’ tai vuorattu tai päällystetty niillä;
A source chamber constructed from, lined with or plated with stainless steel or molybdenum and equipped with a cold trap capable of cooling to 193 K (– 80 °C) or less; or
lähdekammio on valmistettu, vuorattu tai päällystetty ruostumattomalla teräksellä tai molybdeenillä ja varustettu kylmäloukulla, joka kykenee jäähtymään 193 K (– 80 C) asteeseen tai sen alle; tai
A source chamber constructed from, lined with or plated with materials resistant to UF6;
lähdekammio on valmistettu, vuorattu tai päällystetty UF6-kestävillä materiaaleilla tai vuorattu tai päällystetty niillä
Mass spectrometers equipped with a micro-fluorination ion source designed for actinides or actinide fluorides.
massaspektrometrit, jotka on varustettu aktinideja tai aktinidifluorideja varten käytettäväksi suunnitellulla mikrofluorausionilähteellä
Frequency changers or generators, other than those specified by 0B001.b.13. or 3A225, having all of the following characteristics, and specially designed components and software therefor:
Muut kuin 0B001.b.13 tai 3A225 kohdassa määritellyt taajuusmuuntimet tai -generaattorit, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet, ja tällaisia muuntimia varten erityisesti suunnitellut komponentit ja ohjelmistot:
Frequency control better (less) than 0,1 %.
taajuuden säätö on parempi (pienempi) kuin 0,1 %
Frequency changers are also known as converters, inverters, generators, electronic test equipment, AC power supplies, variable speed motor drives or variable frequency drives.
Taajuusmuuntimia kutsutaan myös konverttereiksi, inverttereiksi, generaattoreiksi, sähköisiksi testauslaitteiksi, vaihtovirtalähteiksi tai taajuusmuuttajiksi.
The functionality specified in this item may be met by certain equipment marketed as: electronic test equipment, AC power supplies, variable speed motor drives or variable frequency drives.
Tässä kohdassa määritellystä toiminnosta voivat vastata tietyt laitteet, jotka on saatettu markkinoille sähköisinä testauslaitteina, vaihtovirtalähteinä tai taajuusmuuttajina.
Spectrometers and diffractometers, designed for the indicative test or quantitative analysis of the elemental composition of metals or alloys without chemical decomposition of the material.
Spektrometrit ja diffraktometrit, jotka on tarkoitettu metallien tai seosten alkuainekoostumuksen kvalitatiiviseen tai kvantitatiiviseen analysointiin hajottamatta materiaalia kemiallisesti
Yttrium aluminium garnet (YAG) rods.
Yttrium-alumiini-granaatti (YAG) -tangot
Optical equipment and components, other than those specified in 6A002 or 6A004.b. as follows:
Seuraavat muut kuin 6A002 tai 6A004.b. kohdassa määritellyt optiset laitteet ja komponentit:
Infrared optics in the wavelength range 9 μm– 17 μm and components thereof, including cadmium telluride (CdTe) components.
Iinfrapunaoptiikka, jonka aallonpituus on 9–17 μm, ja sen komponentit, mukaan lukien kadmiumtelluridikomponentit (CdTe)
Wave front corrector systems, other than mirrors specified in 6A004.a., 6A005.e. or 6A005.f., for use with a laser beam having a diameter exceeding 4 mm, and specially designed components thereof, including control systems, phase front sensors and “deformable mirrors” including bimorph mirrors.
Muut aaltorintaman korjausjärjestelmät kuin 6A004.a., 6A005.e. tai 6A005.f. kohdassa määritellyt peilit, jotka on tarkoitettu käytettäväksi halkaisijaltaan yli 4 mm:n lasersäteen kanssa, ja erityisesti niitä varten suunnitellut komponentit, mukaan lukien valvontajärjestelmät, vaiherintama-anturit ja ’muotoaan muuttavat peilit’, myös bimorfiset peilit
Argon ion “lasers”, other than those specified in 0B001.g.5., 6A005.a.6. and/or 6A205.a., having an average output power equal to or greater than 5 W.
Muut kuin 0B001.g.5, 6A005 tai 6A205.a. kohdassa määritellyt argonioni’laserit’, joiden keskimääräinen lähtöteho on vähintään 5 W
Semiconductor “lasers”, other than those specified in 0B001.g.5., 0B001.h.6. or 6A005.b., and components thereof, as follows:
Seuraavat muut kuin 0B001.g.5., 0B001.h.6 tai 6A005.b. kohdassa määritellyt puolijohde’laserit’ ja niiden komponentit:
Individual semiconductor “lasers” with an output power greater than 200 mW each, in quantities larger than 100;
erilliset puolijohde’laserit’, joista kunkin lähtöteho on suurempi kuin 200 mW ja joita on enemmän kuin 100;
Semiconductor “laser” arrays having an output power greater than 20 W.
puolijohde’laserien’ ryhmät, joiden lähtöteho on suurempi kuin 20 mW
Notes:
Huom.: 1.
Semiconductor “lasers” are commonly called “laser” diodes.
Puolijohde’lasereita’ kutsutaan tavallisesti ’laser’diodeiksi.
This item does not cover “laser” diodes with a wavelength in the range 1,2 μm – 2,0 μm.
Tämä kohta ei kata ’laser’diodeja, joiden aallonpituus on 1,2–2,0 μm.
Tunable semiconductor “lasers” and tunable semiconductor “laser” arrays, other than those specified in 0B001.h.6. or 6A005.b., of a wavelength between 9 μm and 17 μm, as well as array stacks of semiconductor “lasers” containing at least one tunable semiconductor “laser” array of such wavelength.
Muut kuin 0B001.h.6. tai 6A005.b. kohdassa määritellyt viritettävät puolijohde’laserit’ ja viritettävien puolijohde’laserien’ ryhmät, joiden aallonpituus on 9–17 μm, ja puolijohde’laserien’ ryhmien kerrokset, jotka sisältävät vähintään yhden viritettävän puolijohde’laser’ryhmän, jolla on mainittu aallonpituus
Solid state “tunable”“lasers”, other than those specified in 0B001.g.5., 0B001.h.6. or 6A005.c.1., and specially designed components thereof, as follows:
Seuraavat muut kuin 0B001.g.5., 0B001.h.6 tai 6A005.c.1. kohdassa määritellyt ’viritettävät’ solid state -’laserit’ ja erityisesti niitä varten suunnitellut komponentit:
Alexandrite lasers.
aleksandriittilaserit
Neodymium-doped (other than glass) “lasers”, other than those specified in 6A005.c.2.b., having an output wavelength greater than 1,0 μm but not exceeding 1,1 μm and output energy exceeding 10 J per pulse.
Muut kuin 6A005.c.2.b. kohdassa määritellyt neodyymiseostetut (muut kuin lasi-) ’laserit’, joiden lähtöaallonpituus on yli 1,0 μm mutta ei enemmän kuin 1,1 μm ja lähtöenergia on yli 10 J pulssia kohden
Recurrence frequency supplies;
toistotiheystarvikkeet
Pockels cells.
pockel-kennot
Radiation-hardened cameras, or lenses thereof, other than those specified in 6A203.c., specially designed, or rated as radiation-hardened, to withstand a total radiation dose greater than 50 × 103 Gy (silicon) (5 × 106 rad (silicon)) without operational degradation.
Muut kuin 6A203.c. kohdassa määritellyt säteilyä kestävät kamerat tai niissä käytettävät linssit, jotka on erityisesti suunniteltu tai mitoitettu kestämään yli 50 × 103 Gy:n (pii) (5 × 106 radin (pii)) säteilyn kokonaisannosta toiminnallisuuden siitä kärsimättä
The term Gy (silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
Termillä Gy (pii) tarkoitetaan jouleina kilogrammaa kohti ilmaistua energiaa, jonka suojaamaton silikonitestikappale imee itseensä altistuessaan ionisoivalle säteilylle.
Tunable pulsed dye laser amplifiers and oscillators, other than those specified in 0B001.g.5., 6A005 and or 6A205.c., having all of the following characteristics:
Muut kuin 0B001.g.5., 6A005 tai 6A205.c. kohdassa määritellyt viritettävät pulssitoimiset väriainelaservahvistimet ja oskillaattorit, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
Pulse width less than 100 ns.
niiden pulssin leveys on alle 100 ns
Pulsed carbon dioxide “lasers”, other than those specified in, 0B001.h.6., 6A005.d. or 6A205.d., having all of the following characteristics:
Muut kuin 0B001.h.6., 6A005.d. tai 6A205.d. kohdassa määritellyt pulssitoimiset hiilidioksidi’laserit’, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
Operating at wavelengths between 9 μm and 11 μm;
ne toimivat 9 μm:n ja 11 μm:n välillä olevillä aallonpituuksilla;
A repetition rate greater than 250 Hz;
toistotaajuus suurempi kuin 250 Hz
Pulse width less than 200 ns.
niiden pulssin leveys on alle 200 ns
Inertial navigation systems which are certified for use on “civil aircraft” by civil authorities of a State participating in the Wassenaar Arrangement, and specially designed components thereof, as follows:
inertiasuunnistusjärjestelmät, jotka Wassenaarin järjestelyyn osallistuvan valtion siviiliviranomaiset ovat sertifioineet käytettäväksi ’siviili-ilma-aluksissa’ ja niitä varten erityisesti suunnitellut komponentit: