natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Note 2:for exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.a.1. and .a.2. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Huom. 2:Kemiallisia aseita koskevaan yleissopimukseen kuuluviin valtioihin vietävien tuotteiden osalta 1C450 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi "kemiallisia seoksia", jotka sisältävät yhtä tai useampaa 1C450.a.1 ja 1C450.a.2 kohdassa mainittua kemikaalia ja joissa yksikään yksittäinen kemikaali ei muodosta yli 30:tä painoprosenttia kyseisestä seoksesta.
Note 3:1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.a.4., .a.5., .a.6. and .a.7. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Huom. 3:1C450 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi "kemiallisia seoksia", jotka sisältävät yhtä tai useampaa 1C450.a.4, 1C450.a.5, 1C450.a.6 ja 1C450.a.7 kohdassa mainittua kemikaalia ja joissa yksikään yksittäinen kemikaali ei muodosta yli 30:tä painoprosenttia kyseisestä seoksesta.
Note 1:for exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. and .b.6. in which no individually specified chemical constitutes more than 10 % by the weight of the mixture.
Huom. 1:Kemiallisia aseita koskevaan yleissopimukseen kuulumattomiin valtioihin vietävien tuotteiden osalta 1C450 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi "kemiallisia seoksia", jotka sisältävät yhtä tai useampaa 1C450.b.1, 1C450.b.2, 1C450.b.3, 1C450.b.4, 1C450.b.5 ja 1C450.b.6 kohdassa mainittua kemikaalia ja joissa yksikään yksittäinen kemikaali ei muodosta yli 10:tä painoprosenttia kyseisestä seoksesta.
Note 2:for exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. and .b.6. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Huom. 2:Kemiallisia aseita koskevaan yleissopimukseen kuuluviin valtioihin vietävien tuotteiden osalta 1C450 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi "kemiallisia seoksia", jotka sisältävät yhtä tai useampaa 1C450.b.1, 1C450.b.2, 1C450.b.3, 1C450.b.4, 1C450.b.5 ja 1C450.b.6 kohdassa mainittua kemikaalia ja joissa yksikään yksittäinen kemikaali ei muodosta yli 30:tä painoprosenttia kyseisestä seoksesta.
Note 3:1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entry 1C450.b.8. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Huom. 3:1C450 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi "kemiallisia seoksia", jotka sisältävät yhtä tai useampaa 1C450.b.8 kohdassa mainittua kemikaalia ja joissa yksikään yksittäinen kemikaali ei muodosta yli 30:tä painoprosenttia kyseisestä seoksesta.
"Software" specially designed or modified for the "use" of goods specified in 1B101.
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu tai muunnettu 1B101 kohdassa määriteltyjen tuotteiden "käyttöä" varten.
base materials having all of the following:
Perusmateriaalit, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
any of the total metallic impurities (excluding intentional additions):
Mikä tahansa seuraavista metallisten epäpuhtauksien kokonaismääristä (haluttuja lisäaineita lukuun ottamatta):
less than 1000 ppm for single oxides or carbides; or
Vähemmän kuin 1000 ppm yksinkertaisten oksidien tai karbidien osalta; tai
less than 5000 ppm for complex compounds or single nitrides; and
Vähemmän kuin 5000 ppm kompleksisten yhdisteiden tai yksinkertaisten nitridien osalta; ja
being any of the following:
Jotka ovat jokin seuraavista:
Non-"composite" ceramic materials composed of the materials specified in 1E002.c.1.;
Keraamiset ei-"komposiitti"materiaalit, jotka koostuvat 1E002.c.1 kohdassa määritellyistä materiaaleista;
"libraries (parametric technical databases)" specially designed or modified to enable equipment to perform the functions of equipment specified in 1A004.c.
"Kirjastot" (tekniset parametrien tietokannat), jotka on erityisesti suunniteltu tai muunnettu sitä varten, että laitteet voivat suorittaa 1A004.c kohdassa määriteltyjen laitteiden toiminnot.
For the purpose of 1E002.g., the term "library (parametric technical database)" means a collection of technical information, reference to which may enhance the performance of relevant equipment or systems.
1E002.g kohdassa "kirjastolla" (tekninen parametrien tietokanta) tarkoitetaan teknisten tietojen kokoelmaa, jonka käytöllä voidaan tehostaa asiaankuuluvien laitteiden tai järjestelmien suorituskykyä.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 1A002, 1A007, 1A202, 1A225 to 1A227, 1B201, 1B225 to 1B233, 1C002.b.3. or .b.4., 1C010.b., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 to 1C240 or 1D201.
"Teknologia" yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 1A002, 1A007, 1A202, 1A225–1A227, 1B201, 1B225–1B233, 1C002.b.3 tai .b.4, 1C010.b, 1C202, 1C210, 1C216, 1C225–1C240 tai 1D201 kohdassa määriteltyjen tuotteiden "käyttöä" varten.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" or "production" of goods specified in 1A007, 1A202 or 1A225 to 1A227.
"Teknologia" yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 1A007, 1A202 tai 1A225–1A227 kohdassa määriteltyjen tuotteiden "kehittämistä" tai "tuotantoa" varten.
a "nominal size" of 5 mm or greater;
’nimelliskoko’ 5 mm tai suurempi;
For valves with different inlet and outlet diameters, the "nominal size" in 2A226 refers to the smallest diameter.
Niiden venttiilien osalta, joiden sisäänmenon ja ulostulon halkaisijat ovat erilaiset, kohdassa 2A226 ’nimelliskoolla’ tarkoitetaan pienintä halkaisijaa.
"Stated positioning accuracy" derived from measurements made according to ISO 230/2 (1988) [1] or national equivalents may be used for each machine tool model as an alternative to individual machine tests.
’Taattua paikannustarkkuutta’, joka poikkeaa ISO 230/2:n (1988) [1] tai vastaavien kansallisten standardien mukaisesti tehdyistä mittauksista, voidaan käyttää työstökonemalleille vaihtoehtona erillisille konetesteille.
"Stated positioning accuracy" means the accuracy value provided to the competent authorities of the Member State in which the exporter is established as representative of the accuracy of a specific machine model.
’Taatulla paikannustarkkuudella’ tarkoitetaan sen jäsenvaltion toimivaltaisille viranomaisille toimitettua tarkkuusarvoa, johon viejä on sijoittautunut tietyn konemallin tarkkuuden edustajana.
Determination of "Stated Positioning Accuracy"
’Taatun paikannustarkkuuden’ määrittäminen
Select five machines of a model to be evaluated;
Valitse viisi arvioitavan mallin konetta;
Note 1:2B001 does not control special purpose machine tools limited to the manufacture of gears.
Huom. 1:2B001 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi alaiseksi erikoistyöstökoneita, joiden käyttö on rajattu hammaspyörien valmistukseen.
Note 2:2B001 does not control special purpose machine tools limited to the manufacture of any of the following:
Huom. 2:2B001 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi alaiseksi erikoistyöstökoneita, joiden käyttö on rajattu joidenkin seuraavien tuotteiden valmistukseen:
extruder worms; or
Puristimen syöttöruuvi; tai
N.B.:For optical finishing machines, see 2B002.
Huom.:Optisten viimeistelytyöstökoneiden osalta katso 2B002.
Machine tools for turning, having all of the following:
Työstökoneet sorvaamista varten, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
positioning accuracy with "all compensations available" equal to or less (better) than 6 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
Paikannustarkkuus "kaikkine käytettävissä olevine kompensointeineen" on saman suuruinen tai vähemmän (parempi) kuin 6 mikrometriä ISO 230/2:n [1] Valmistajien, jotka laskevat paikannustarkkuustasoja ISO 230/2:n (1997) mukaisesti, olisi neuvoteltava sen jäsenvaltion toimivaltaisten viranomaisten kanssa, johon ne ovat sijoittautuneet.
two or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Kaksi tai useampia akseleita, joita voidaan samanaikaisesti koordinoida "ääriviivaohjauksessa";
Note:2B001.a. does not control turning machines specially designed for the producing contact lenses having all of the following:
Huom.:2B001.a kohta ei aseta valvonnanalaiseksi kontaktilinssien valmistusta varten suunniteltuja sorveja, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
machine controller limited to using ophthalmic based software for part programming data input; and
Koneohjain on rajoitettu käyttämään silmätautioppiin perustuvaa ohjelmistoa tuotteen määrittelyyn kuuluvaa tietojen syöttämistä varten; ja
no vacuum chucking.
Niissä ei ole imua.
machine tools for milling having any of the following:
Työstökoneet jyrsintää varten, joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
three linear axes plus one rotary axis which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Kolme lineaarista ja yksi pyörivä akseli, joita voidaan samanaikaisesti koordinoida "ääriviivaohjauksessa";
fly cutting machines having all of the following:
Nokkateräkoneet, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
spindle"run-out" and "camming" less (better) than 0,0004 mm TIR; and
Karan "poikkeaman" ja "aksiaalisiirtymän" kokonaislukema on vähemmän (parempi) kuin 0,0004 mm TIR; ja
angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel.;
Luistin liikkeen kulmapoikkeaman (kiertymä pysty-, poikittais- ja pituusakselin ympäri) kokonaislukema on 30 mm:n matkalla vähemmän (parempi) kuin 2 kaarisekuntia TIR;
Machine tools for grinding having any of the following:
Työstökoneet hiontaa varten, joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
positioning accuracy with "all compensations available" equal to or less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
Paikannustarkkuus "kaikkine käytettävissä olevine kompensointeineen" on saman suuruinen, tai vähemmän (parempi) kuin 4 mikrometriä ISO 230/2:n [1] Valmistajien, jotka laskevat paikannustarkkuustasoja ISO 230/2:n (1997) mukaisesti, olisi neuvoteltava sen jäsenvaltion toimivaltaisten viranomaisten kanssa, johon ne ovat sijoittautuneet.
three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
Kolme lineaarista ja yksi pyörivä akseli, joita voidaan samanaikaisesti koordinoida "ääriviivaohjauksessa"; tai
Note:2B001.c. does not control grinding machine as follows:
Huom.:2B001.c kohta ei aseta valvonnanalaiseksi seuraavia hiomakoneita:
cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines having all the following characteristics:
Ulkopuolisia, sisäpuolisia tai ulko-sisäpuolisia pyöröhiomakoneita, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
limited to cylindrical grinding; and
Kone on rajoitettu vain pyöröhiontaan; ja
limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
Hiomakoneen työkappaleen maksimikoko on ulkohalkaisijaltaan tai pituudeltaan 150 mm.
machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a positioning accuracy with "all compensations available" less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
Koneita, jotka on erityisesti suunniteltu mallinehiomakoneeksi, joilla ei ole z-akselia eikä w-akselia ja joiden paikannustarkkuus "kaikkine käytettävissä olevine kompensointeineen" on vähemmän (parempi) kuin 4 μm ISO 230/2:n [1] Valmistajien, jotka laskevat paikannustarkkuustasoja ISO 230/2:n (1997) mukaisesti, olisi neuvoteltava sen jäsenvaltion toimivaltaisten viranomaisten kanssa, johon ne ovat sijoittautuneet.
surface grinders.
Pintahiomakoneet.
electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Langattomat kipinätyöstökoneet (EDM), joilla on kaksi tai useampia pyöriviä akseleita, joita voidaan samanaikaisesti koordinoida "ääriviivaohjauksessa";
machine tools for removing metals, ceramics or "composites" having all of the following:
Metallin, keraamisten aineiden tai "komposiittien" työstämiseen tarkoitetut koneet, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
removing material by means of any of the following:
Ne käyttävät materiaalin työstämiseen jotakin seuraavista keinoista:
water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
Vesi- tai muuta nestesuihkua, mukaan lukien ne, jotka käyttävät hiomalisäaineita;
electron beam; or
Elektronisuihkua; tai
"laser" beam; and
"Laser"sädettä; ja
having two or more rotary axes and all of the following:
Niissä on kaksi tai useampia pyöriviä akseleita ja niillä on kaikki seuraavat ominaisuudet:
can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Niitä voidaan samanaikaisesti koordinoida "ääriviivaohjauksessa"; ja
a positioning accuracy of less (better) than 0,003°;
Paikannustarkkuus on vähemmän (parempi) kuin 0,003 astetta.
deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m and specially designed components therefor.
Syväreikäporauskoneet ja sorvit, jotka on muunnettu sopiviksi syväreikäporaukseen, joilla maksimi poraussyvyys ylittää 5 m, sekä niitä varten erityisesti kehitetyt komponentit.
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Numeerisesti ohjatut optiset viimeistelytyöstökoneet, jotka on varustettu valikoivaa materiaalin työstämistä varten tuottamaan ei-pallomaisia optisia pintoja ja joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
Muodon viimeistely alle (paremmaksi kuin) 1,0 μm:iin;
finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms;
Karheuden viimeistely alle (paremmaksi kuin) 100 nm rms:iin;
four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Neljä tai useampia akseleita, jotka voidaan koordinoida yhtäaikaisesti "ääriviivaohjausta" varten; ja
using any of the following processes:
Ne käyttävät jotain seuraavista prosesseista:
magnetorheological finishing (’MRF’);
Magnetoreologinen viimeistely (’MRF’);
electrorheological finishing (’ERF’);
Elektroreologinen viimeistely (’ERF’);
’energetic particle beam finishing’;
’Suurenerginen hiukkassuihkuviimeistely’; tai
’inflatable membrane tool finishing’; or
Viimeistely ilmatäytteisellä kalvotyökalulla; tai
’fluid jet finishing’.
Nestesuihkuviimeistely
For the purposes of 2B002:
2B002 kohdassa:
"MRF" is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
’MRF’ on materiaalin poistoprosessi, jossa käytetään hiovaa magneettista nestettä, jonka viskositeetti muuttuu magneettikentässä.
"ERF" is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
’ERF’ on poistoprosessi, jossa käytetään hiovaa nestettä, jonka viskositeettia ohjataan sähkökentällä.
"Energetic particle beam finishing" uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
’Suurenergisessä hiukkassuihkuviimeistelyssä’ käytetään reaktiivisia atomiplasmoja (RAP) tai ionisuihkuja materiaalin poistamiseksi valikoivasti.
"Inflatable membrane tool finishing" is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
’Viimeistely ilmatäytteisellä kalvotyökalulla’ on prosessi, jossa paineistettu kalvo on pienaluekontaktissa työstettävään kappaleeseen.
"Fluid jet finishing" makes use of a fluid stream for material removal.
’Nestesuihkuviimeistelyssä’ käytetään nestesuihkua materiaalin työstöön.
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc = 40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
"Numeerisesti ohjatut" tai käsiohjatut työstökoneet ja niitä varten erityisesti suunnitellut komponentit, ohjaukset ja varusteet, jotka on erityisesti suunniteltu höyläämään, viimeistelemään, hiomaan tai hoonaamaan karkaistuja (Rc = 40 tai yli) lieriöhammaspyöriä, ruuvipyöriä tai kaksoisruuvipyöriä, joiden jakohalkaisija on enemmän kuin 1250 mm ja hampaan leveys on 15 % jakohalkaisijasta tai enemmän, ja jotka on koneistettu AGMA 14:n laatuisiksi tai paremmiksi (vastaa ISO 1328:n 3 luokkaa).
N.B.:SEE ALSO 2B104 and 2B204.
Huom.:KATSO MYÖS 2B104 ja 2B204 KOHTA.
a controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Suljetussa tilassaan säädettävä lämpötila, ja kammiotilan sisäläpimitta on 406 mm tai enemmän; ja
having any of the following:
Jokin seuraavista ominaisuuksista:
a maximum working pressure exceeding 207 MPa;
Maksimityöpaine ylittää 207 MPa;
a controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
Säädettävä lämpötila ylittää 1773 K (1500 °C); astetta; tai
a facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Joissa on edellytykset hiilivetykyllästykseen ja syntyvien kaasumaisten hajoamistuotteiden poistoon.
N.B.:For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Huom.:Erityisesti suunnitellut suulakkeet, muotit ja laitteet: katso kohdat 1B003, 9B009 ja asetarvikeluettelo.
chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Tuotantolaitteet kemiallista kaasufaasipinnoitusta varten (CVD), joilla on molemmat seuraavista ominaisuuksista:
N.B.:SEE ALSO 2B105.
Huom.:KATSO MYÖS 2B105 KOHTA.
a process modified for one of the following:
Prosessi, joka on muunnettu jotakin seuraavaa varten:
pulsating CVD;
Syke-CVD (pulsating CVD);
controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Säädeltävä ydintymis-lämpöhajoaminen (CNTD); tai
plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
Plasma-CVD; ja
incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
Sisältävät pyörivät tyhjiötiivisteet (0,01 pa tai vähemmän); tai
ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Ioni-istutustuotantolaitteet, joiden ionisuihkun virta on 5 mA tai enemmän;
electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over80 kW and having any of the following:
Tuotantolaitteet elektronisuihkun avulla tapahtuvaa fysikaalista kaasufaasipinnoitusta varten (EB-PVD), joihin sisältyvien tehojärjestelmien nimellisteho ylittää 80 kW ja joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
plasma spraying production equipment having any of the following:
Plasmaruiskutustuotantolaitteet, joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Toimivat säädettävässä alennetussa paineessa (10 kPa tai vähemmän, mitattuna 300 mm:n sisältä suuttimen ulostulon yläpuolelta) tyhjökammiossa, joka ennen suihkutusprosessia voidaan tyhjentää 0,01 Pa:iin asti; tai
computer controlled or "numerically controlled" co-ordinate measuring machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of indication (MPEE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), tested according to ISO 10360-2 (2001);
Tietokoneohjatut tai "numeerisesti ohjatut" koordinaattimittauskoneet (KMK), joiden kolmen dimension (tilavuuden) osoituksen suurin sallittu virhe (MPEE) koneen toiminta-alueen missä tahansa kohdassa (akselien pituuden puitteissa) on (1,7 + L/1000) μm tai pienempi (parempi) (L on mitattu pituus millimetreinä) standardin ISO 10360–2 (2001) mukaisesti testattuna;
N.B.:SEE ALSO 2B206.
Huom.:KATSO MYÖS 2B206 KOHTA.
linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
Seuraavat lineaarisen ja kulmasiirtymän mittausinstrumentit:
"linear displacement" measuring instruments having any of the following:
’Lineaarisen siirtymän’ mittausinstrumentit, joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
For the purpose of 2B006.b.1. "linear displacement" means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
2B006.b.1 kohdassa ’lineaarisella siirtymällä’ tarkoitetaan mittapään ja mitattavan kohteen välisen etäisyyden muutosta.
non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Kosketuksettomat mittausjärjestelmät, joiden "resoluutio" on 0,2 μm tai vähemmän (parempi) 0,2 mm:n mittausalueella;
linear voltage differential transformer systems having all of the following:
Lineaariset differentiaalimuuntajajärjestelmät, joilla on molemmat seuraavat ominaisuudet:
"linearity" equal to or less (better) than 0,1 % within a measuring range up to 5 mm; and
"Lineaarisuus" on 0,1 % tai vähemmän (parempi) mittausalueella, joka on 5 mm tai pienempi; ja
drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ±1 K;
Ryömintä on 0,1 % tai vähemmän (parempi) päivässä testaushuoneen vakiolämpötilassa ±1 K astetta;
measuring systems having all of the following:
Mittausjärjestelmät, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
containing a "laser"; and
Sisältävät "laserin"; ja
maintaining, for at least 12 hours at a temperature of ±20 °C, all of the following:
Säilyttävät vähintään 12 tuntia 20 ± 1 °C:n lämpötilassa kaikki seuraavat ominaisuudet:
a "resolution" over their full scale of 0,1 μm or less (better); and
"Resoluution" 0,1 mikrometriä tai vähemmän (parempi) koko mittausalueella; ja
capable of achieving a "measurement uncertainty" when compensated for the refractive index of air, equal to or less (better) than (0,2 + L/2000) μm (L is the measured length in mm); or
Pystyvät saavuttamaan "mittauksen epävarmuuden", joka on (0,2 + L/2000) mikrometriä tai vähemmän (parempi) (L on mitattu pituus millimetreinä); kompensoituna ilman taitekertoimen osalta; tai
"electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
"Elektroniset kokoonpanot", jotka on erityisesti suunniteltu mahdollistamaan takaisinkytkentäkyvyn 2B006.b.1.c kohdassa määritellyissä järjestelmissä;
Note:2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
Huom.:2B006.b.1 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi interferometrimittausjärjestelmiä, joissa on automaattinen valvontajärjestelmä, joka on suunniteltu niin, ettei se käytä takaisinkytkentätekniikoita, ja jotka sisältävät "laserin" työstökoneen, mittatarkastuskoneen tai vastaavien laitteiden luistin liikkeen virheitä.
angular displacement measuring instruments having an "angular position deviation" equal to or less (better) than 0,00025°;
Kulmasiirtymän mittausinstrumentit, joiden "kiertymiskulman poikkeama" on 0,00025 astetta tai vähemmän (parempi);