natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Note: In 6A203.a. components of such cameras include their synchronizing electronics units and rotor assemblies consisting of turbines, mirrors and bearings.
Huom.: 6A203.a kohdassa näiden kameroiden komponentteihin sisältyvät niiden synkronointi-elektroniikkayksiköt sekä turbiineista, peileistä ja laakereista koostuvat roottorikokoonpanot.
Electronic streak cameras, electronic framing cameras, tubes and devices, as follows:
Seuraavat elektroniset juova- ja erilliskuvakamerat, putket ja laitteet:
Electronic streak cameras capable of 50 ns or less time resolution;
Elektroniset juovakamerat, jotka kykenevät 50 ns:n tai lyhyempään aikaresoluutioon;
Streak tubes for cameras specified in 6A203.b.1.;
Juovaputket 6A203.b.1 kohdassa määriteltyjä kameroita varten;
Electronic (or electronically shuttered) framing cameras capable of 50 ns or less frame exposure time;
Elektroniset (tai elektronisin sulkimin varustetut) erilliskuvakamerat, joiden valotusaika kuvaa kohden on 50 ns tai lyhyempi;
Framing tubes and solid-state imaging devices for use with cameras specified in 6A203.b.3., as follows:
Seuraavat erilliskuvaputket tai solid-state-kuvauslaitteet, joita käytetään 6A203.b.3 kohdassa määriteltyjen kameroiden kanssa:
Proximity focused image intensifier tubes having the photocathode deposited on a transparent conductive coating to decrease photocathode sheet resistance;
Lähitarkenteiset kuvantehostinputket, joissa valokatodi on muodostettu läpinäkyvälle johtavalle pinnoitteelle valokatodin pintavastuksen pienentämiseksi;
Gate silicon intensifier target (SIT) videcon tubes, where a fast system allows gating the photoelectrons from the photocathode before they impinge on the SIT plate;
Piitehostinkohtiolevyllä (SIT = Silicon Intensifier Target) varustetut hilakameraputket, joiden nopeatoiminen järjestelmä mahdollistaa valokatodilta tulevien valosähköisten elektronien veräjöinnin ennen niiden iskeytymistä SIT-levylle;
Kerr or Pockels cell electro-optical shuttering;
Kerr- tai Pockel-kennoon perustuva sähköoptinen suljin;
Other framing tubes and solid-state imaging devices having a fast-image gating time of less than 50 ns specially designed for cameras specified in 6A203.b.3.;
Muut erilliskuvaputket ja solid-statekuvauslaitteet, joiden pikakuvauksen veräjöintiaika on lyhyempi kuin 50 ns ja jotka on erityisesti suunniteltu 6A203.b.3 kohdassa määriteltyjä kameroita varten;
Radiation-hardened TV cameras, or lenses therefor, specially designed or rated as radiation hardened to withstand a total radiation dose greater than 50 × 103 Gy(silicon) (5 × 106 rad (silicon)) without operational degradation.
Säteilyä kestävät TV-kamerat tai niissä käytetyt linssit, jotka on erityisesti suunniteltu tai mitoitettu kestämään yli 50 × 103 Gy:n (Pii) (5 × 106 radin (Pii)) säteilyn kokonaisannosta toiminnallisuuden siitä kärsimättä.
"Lasers", "laser" amplifiers and oscillators, other than those specified in 0B001.g.5., 0B001.h.6. and 6A005; as follows:
Seuraavat, muut kuin 0B001.g.5, 0B001.h.6 tai 6A005 kohdassa määritellyt "laserit", "laser"vahvistimet ja oskillaattorit:
Argon ion "lasers" having both of the following characteristics:
Argonioni"laserit", joilla on molemmat seuraavista ominaisuuksista:
Operating at wavelengths between 400 nm and 515 nm; and
toimivat 400 nm:n ja 515 nm:n välillä olevilla aallonpituuksilla; ja
An average output power greater than 40 W;
keskimääräinen lähtöteho on suurempi kuin 40 W;
Tunable pulsed single-mode dye laser oscillators having all of the following characteristics:
Viritettävät pulssitoimiset yksimuoto-väriainelaser-oskillaattorit, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
Operating at wavelengths between 300 nm and 800 nm;
ne toimivat 300 nm:n ja 800 nm:n välillä olevilla aallonpituuksilla;
An average output power greater than 1 W;
1 W suurempi keskimääräinen lähtöteho;
A repetition rate greater than 1 kHz; and
toistotaajuus suurempi kuin 1 kHz; ja
Pulse width less than 100 ns;
pulssin leveys alle 100 ns;
Tunable pulsed dye laser amplifiers and oscillators, having all of the following characteristics:
Viritettävät pulssitoimiset väriaine"laser"vahvistimet ja oskillaattorit, joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
An average output power greater than 30 W;
keskimääräinen lähtöteho on suurempi kuin 30 W;
Note: 6A205.c. does not control single mode oscillators;
Huom.: 6A205.c kohta ei aseta valvonnanalaiseksi yksimuoto-oskillaattoreita.
Pulsed carbon dioxide "lasers" having all of the following characteristics:
Pulssitoimiset hiilidioksidi"laserit", joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
Operating at wavelengths between 9000 nm and 11000 nm;
ne toimivat 9000 nm:n ja 11000 nm:n välillä olevilla aallonpituuksilla;
A repetition rate greater than 250 Hz;
toistotaajuus on suurempi kuin 250 Hz;
An average output power greater than 500 W; and
keskimääräinen lähtöteho suurempi kuin 500 W; ja
Pulse width of less than 200 ns;
pulssin leveys alle 200 ns;
Para-hydrogen Raman shifters designed to operate at 16 micrometre output wavelength and at a repetition rate greater than 250 Hz;
Paravetykäyttöiset Raman-muuntimet, jotka on suunniteltu toimimaan 16 mikrometrin lähtöaaltopituudella ja joiden toistotaajuus on suurempi kuin 250 Hz.
Pulse-excited, Q-switched neodymium-doped (other than glass) "lasers", having all of the following characteristics:
Pulssiviritettävät, neodyymiseostetut "Q-kytkin-laserit" (muut kuin lasi-), joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
An output wavelength exceeding 1000 nm but not exceeding 1100 nm;
Lähtöaallonpituus ylittää 1000 nm, mutta ei ylitä 1100 nm;
A pulse duration equal to or more than 1 ns; and
Pulssinkesto on 1 ns tai enemmän; ja
A multiple-transverse mode output having an average power exceeding 50 W.
Monitransversaalimoodin ulostulo, jonka keskimääräinen teho ylittää 50 W.
Velocity interferometers for measuring velocities exceeding 1 km/s during time intervals of less than 10 microseconds.
Nopeusinterferometrit yli 1 km/s nopeuksien mittaamiseksi lyhyemmän kuin 10 mikrosekunnin aikajakson kuluessa
Note: 6A225 includes velocity interferometers such as VISARs (Velocity interferometer systems for any reflector) and DLIs (Doppler laser interferometers).
Huom.: 6A225 kohtaan sisältyvät sellaiset nopeusinterferometrit kuten VISAR:it ja DLI:t (dopplerlaserinterferometrit).
Pressure sensors, as follows:
Seuraavat paineanturit:
Manganin gauges for pressures greater than 10 GPa;
Manganiini-anturit, joilla mitataan yli 10 GPa:n paineita;
Quartz pressure transducers for pressures greater than 10 GPa.
Kvartsipaineanturit, joilla mitataan yli 10 GPa:n paineita.
Equipment for measuring absolute reflectance to an accuracy of ± 0,1 % of the reflectance value;
Laitteet, joilla mitataan absoluuttista heijastumissuhdetta ± 0,1 %:n tarkkuudella heijastumissuhteen arvosta;
Equipment other than optical surface scattering measurement equipment, having an unobscured aperture of more than 10 cm, specially designed for the non-contact optical measurement of a non-planar optical surface figure (profile) to an "accuracy" of 2 nm or less (better) against the required profile.
Muut laitteet kuin optisen pinnan sironnan mittarit, joiden himmentämätön aukko on suurempi kuin 10 cm, ja jotka on erityisesti suunniteltu epätasaisen optisen pinnan kuvan (profiilin) mittaamiseen 2 nm:n tai pienemmällä (paremmalla) "tarkkuudella" tarvittavaa profiilia vasten.
Note: 6B004 does not control microscopes.
Huom.: 6B004 kohta ei aseta valvonnanalaiseksi mikroskooppeja.
Equipment to produce, align and calibrate land-based gravity meters with a static accuracy of better than 0,1 mgal.
Laitteet, joilla tuotetaan, linjataan ja kalibroidaan maalle asennettavia painovoiman mittareita, joiden staattinen tarkkuus on parempi kuin 0,1 mgal.
Pulse radar cross-section measurement systems having transmit pulse widths of 100 ns or less and specially designed components therefor.
Tutkan kaikupinnan pulssimittausjärjestelmät, joiden lähetettävien pulssien leveydet ovat 100 ns tai vähemmän, ja niitä varten erityisesti suunnitellut komponentit.
N.B.: SEE ALSO 6B108.
Huom.: KATSO MYÖS 6B108 KOHTA.
Systems, other than those specified in 6B008, specially designed for radar cross section measurement usable for "missiles" and their subsystems.
Muut kuin 6B008 kohdassa määritellyt järjestelmät, joita voidaan käyttää "ohjuksissa" ja niiden alajärjestelmissä ja jotka on erityisesti suunniteltu tutkapoikkipintojen mittaamiseen.
Optical sensor materials, as follows:
Seuraavat optiset anturimateriaalit:
Elemental tellurium (Te) of purity levels of 99,9995 % or more;
Telluuri (Te) alkuaineena, jonka puhtausaste on 99,9995 % tai korkeampi;
Single crystals (including epitaxial wafers) of any of the following:
Yksittäiskiteet (mukaan lukien epitaksikiekot) joistakin seuraavista:
Cadmium zinc telluride (CdZnTe), with zinc content of less than 6 % by 'mole fraction';
Kadmiumsinkkitelluoidi (CdZnTe), jonka sinkkipitoisuus on alle 6 'mooliosuus'prosenttia;
Cadmium telluride (CdTe) of any purity level; or
Kadmiumtelluridi (CdTe) puhtausasteesta riippumatta; tai
Mercury cadmium telluride (HgCdTe) of any purity level.
Elohopeakadmiumtelluridi (HgCdTe) puhtausasteesta riippumatta.
'Mole fraction' is defined as the ratio of moles of ZnTe to the sum of moles of CdTe and ZnTe present in the crystal.
'Mooliosuus' määritellään ZnTe-moolien suhteeksi kiteessä olevien CdTe- ja ZnTe-moolien summaan.
Optical materials, as follows:
Seuraavat optiset materiaalit:
Zinc selenide (ZnSe) and zinc sulphide (ZnS) "substrate blanks" produced by the chemical vapour deposition process, having any of the following:
Sinkkiselenidi (ZnSe)- ja sinkkisulfidi (ZnS)- "substraattiaihiot", jotka on tuotettu kemiallisella kaasufaasipinnoitusmenetelmällä ja joilla on jokin seuraavista:
A volume greater than 100 cm3; or
Tilavuus suurempi kuin 100 cm3; tai
A diameter greater than 80 mm having a thickness of 20 mm or more;
Läpimitta suurempi kuin 80 mm ja paksuus 20 mm tai enemmän;
Boules of the following electro-optic materials:
Seuraavien sähköoptisten materiaalien synteettiset kiteet:
Potassium titanyl arsenate (KTA);
Kaliumtitanyyliarsenaatti (KTA);
Silver gallium selenide (AgGaSe2);
Hopeagalliumselenidi (AgGaSe2);
Thallium arsenic selenide (Tl3AsSe3, also known as TAS);
Talliumarseeniselenidi (Tl3AsSe3, tunnetaan myös nimellä TAS);
Non-linear optical materials, having all of the following:
Epälineaariset optiset materiaalit, joilla on kaikki seuraavat:
Third order susceptibility (chi 3) of 10-6 m2/V2 or more; and
Kolmannen tason suskeptibiliteetti (khi 3) on 10-6m2/V2 tai enemmän; ja
A response time of less than 1 ms;
Vasteaika on vähemmän kuin 1 ms;
"Substrate blanks" of silicon carbide or beryllium beryllium (Be/Be) deposited materials exceeding 300 mm in diameter or major axis length;
Piikarbidista tai beryllium-beryllium (Be/Be) -pinnoitetuista materiaaleista valmistetut "substraattiaihiot", joiden läpimitta tai pääakselin pituus on yli 300 mm;
Glass, including fused silica, phosphate glass, fluorophosphate glass, zirconium fluoride (ZrF4) and hafnium fluoride (HfF4), having all of the following:
Lasi, mukaan lukien kvartsilasi, fosfaattilasi, fluorofosfaattilasi, zirkoniumfluoridi (ZrF4) ja hafniumfluoridi (HfF4), joilla on kaikki seuraavat ominaisuudet:
A hydroxyl ion (OH-) concentration of less than 5 ppm;
Hydroksyyli-ioni(OH-)konsentraatio on vähemmän kuin 5 ppm;
Integrated metallic purity levels of less than 1 ppm; and
Metallisten epäpuhtauksien kokonaistaso on vähemmän kuin 1 ppm; ja
High homogeneity (index of refraction variance) less than 5 × 10-6;
Korkea homogeenisuus (refraktiovarianssin indeksi) on vähemmän kuin 5 × 10-6;
Synthetically produced diamond material with an absorption of less than 10-5 cm-1 for wavelengths exceeding 200 nm but not exceeding 14000 nm.
Synteettisesti tuotettu timanttimateriaali, jonka absorptio on vähemmän kuin 10-5 cm-1 aallonpituuksilla, jotka ylittävät 200 nm mutta ovat alle 14000 nm.
Synthetic crystalline "laser" host material in unfinished form, as follows:
Seuraavat kiteiset "laserien" perusmateriaalit käsittelemättömässä muodossa:
Titanium doped sapphire;
Titaaniseostettu safiiri;
Alexandrite.
Aleksandriitti.
"Software" specially designed for the "development" or "production" of equipment specified in 6A004, 6A005, 6A008 or 6B008.
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu 6A004, 6A005, 6A008 tai 6B008 kohdassa määriteltyjen laitteiden "kehittämistä" tai "tuotantoa" varten.
"Software" specially designed for the "use" of equipment specified in 6A002.b., 6A008 or 6B008.
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu 6A002.b., 6A008 tai 6B008 kohdassa määriteltyjen laitteiden "käyttöä" varten.
Other "software", as follows:
Seuraavat muut "ohjelmistot":
"Software" specially designed for acoustic beam forming for the "real time processing" of acoustic data for passive reception using towed hydrophone arrays;
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu akustisen säteen muokkaamiseen akustisen tiedon "tosiaikaiseksi käsittelemiseksi" hinattavia hydrofonijärjestelmiä käyttävää passiivista vastaanottoa varten;
"Source code" for the "real time processing" of acoustic data for passive reception using towed hydrophone arrays;
"Lähdekoodi" akustisen tiedon "tosiaikaiseksi käsittelemiseksi" hinattavia hydrofonijärjestelmiä käyttävää passiivista vastaanottoa varten;
"Software" specially designed for acoustic beam forming for "real time processing" of acoustic data for passive reception using bottom or bay cable systems;
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu akustisen säteen muokkaamiseen;
"Source code" for "real time processing" of acoustic data for passive reception using bottom or bay cable systems;
"Lähdekoodi" akustisen tiedon "tosiaikaiseksi käsittelemiseksi" pohja- tai poukamakaapelijärjestelmiä käyttävää passiivista vastaanottoa varten;
"Software" specially designed for magnetic compensation systems for magnetic sensors designed to operate on mobile platforms;
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu magneettisia kompensointijärjestelmiä varten magneettisille antureille, jotka on suunniteltu toimimaan liikkuvilla alustoilla;
"Software" specially designed for magnetic anomaly detection on mobile platforms;
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu magneettisten poikkeamien ilmaisuun liikkuvilla alustoilla;
"Software" specially designed to correct motional influences of gravity meters or gravity gradiometers;
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu korjaamaan liikkumisen vaikutuksia painovoimamittareihin tai painovoimagradiometreihin;
Air Traffic Control "software" application "programmes" hosted on general purpose computers located at Air Traffic Control centres and capable of any of the following:
Lennonjohto-"ohjelmistojen" sovellus"ohjelmat", jotka toimivat lennonjohtokeskuksiin sijoitetuissa yleiskäyttöisissä tietokoneissa ja kykenevät johonkin seuraavista:
Processing and displaying more than 150 simultaneous "system tracks"; or
Käsittelemään ja näyttämään enemmän kuin 150:n samanaikaisen kohteen "reitit"; tai
Accepting radar target data from more than four primary radars;
Vastaanottamaan kohteiden tutkatietoja useammalta kuin neljältä ensiötutkalta;
"Software" for the design or "production" of radomes which:
"Ohjelmistot" sellaisten suojakupujen suunnittelua tai "tuotantoa" varten, jotka:
Are specially designed to protect the "electronically steerable phased array antennae" specified in 6A008.e.; and
On erityisesti suunniteltu suojaamaan 6A008.e kohdassa määriteltyjä, "elektronisesti ohjattavia vaiheistettuja ryhmä-antenneja"; ja
Result in an antenna pattern having an 'average side lobe level' more than 40 dB below the peak of the main beam level.
Aiheuttavat antennin säteilykuvion, jonka 'keskimääräinen sivukeilataso' on enemmän kuin 40 dB pääsäteen tason alapuolella.
'Average side lobe level' in 6D003.d.2.b. is measured over the entire array excluding the angular extent of the main beam and the first two side lobes on either side of the main beam.
'Keskimääräinen sivukeilataso' 6D003.d.2.b kohdassa mitataan koko ryhmän yli poislukien pääkeilan ja pääkeilan molemmilla puolilla olevien kahden ensimmäisen sivukeilan kulmasuure.
"Software" specially designed or modified for the "use" of goods specified in 6A108.
"Ohjelmistot", jotka on erityisesti suunniteltu tai muunnettu 6A108 kohdassa määriteltyjen tuotteiden "käyttöä" varten.
"Software" which processes post-flight, recorded data, enabling determination of vehicle position throughout its flight path, specially designed or modified for 'missiles'.
"Ohjelmistot", jotka lennon jälkeen prosessoivat nauhoitettua tietoa ja jotka mahdollistavat lentolaitteen aseman määrityksen sen koko lentoradalla ja jotka on erityisesti suunniteltu tai muunnettu 'ohjuksia' varten.
In 6D103 'missile' means complete rocket systems and unmanned aerial vehicle systems capable of a range exceeding 300 km.
6D103 kohdassa tarkoitetaan 'ohjuksella' täydellisiä rakettijärjestelmiä ja miehittämättömiä ilma-alusjärjestelmiä, joiden kantomatka on yli 300 kilometriä.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of equipment, materials or "software" specified in 6A, 6B, 6C or 6D.
"Teknologia" yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 6A, 6B, 6C tai 6D kohdassa määriteltyjen laitteiden, materiaalien tai "ohjelmistojen""kehittämistä" varten.
"Technology" according to the General Technology Note for the "production" of equipment or materials specified in 6A, 6B or 6C.
"Teknologia" yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 6A, 6B tai 6C kohdassa määriteltyjen laitteiden tai materiaalien "tuotantoa" varten.
Optical surface coating and treatment "technology""required" to achieve uniformity of 99,5 % or better for optical coatings 500 mm or more in diameter or major axis length and with a total loss (absorption and scatter) of less than 5 × 10-3;
Optisen pinnan pinnoitus- ja käsittely"teknologia", jota tarvitaan 99,5 %:n tai paremman tasalaatuisuuden saavuttamiseen optisille pinnoitteille, joiden läpimitta tai pääakselin pituus on 500 mm tai enemmän ja joiden kokonaishäviö (absorptio ja sironta) on vähemmän kuin 5 × 10-3;
N.B.: See also 2E003.f.
Huom.: Katso myös 2E003.f kohta.
Optical fabrication "technology" using single point diamond turning techniques to produce surface finish accuracies of better than 10 nm rms on non-planar surfaces exceeding 0,5 m2;
Yhden kärjen timanttisorvaustekniikat, joilla tuotetaan parempia pinnan viimeistelytarkkuuksia kuin 10 nm rms yli 0,5 m2:n ei-tasomaisille pinnoille;
"Technology""required" for the "development", "production" or "use" of specially designed diagnostic instruments or targets in test facilities for "SHPL" testing or testing or evaluation of materials irradiated by "SHPL" beams;
"SHPL"-laserien testaamista tai "SHPL"-säteillä säteilytettyjen materiaalien testaamista tai evaluointia varten erityisesti suunniteltujen diagnostiikka-instrumenttien tai maalien "kehittämiseen", "tuotantoon" tai "käyttöön""tarvittava""teknologia";
"Technology""required" for the "development" or "production" of non-triaxial fluxgate "magnetometers" or non-triaxial fluxgate "magnetometer" systems, having any of the following:
"Teknologia", jota "tarvitaan" muiden kuin kolmikanavaisten fluxgate-"magnetometrien" tai muiden kuin kolmikanavaisten -"magnetometri"järjestelmien "kehittämistä" tai "tuotantoa" varten, joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista:
A "noise level" of less than 0,05 nT rms per square root Hz at frequencies of less than 1 Hz; or
"Kohinataso" on vähemmän kuin 0,05 nT rms Hz:n neliöjuurta kohti pienemmillä kuin 1 Hz:n taajuuksilla; tai
A "noise level" of less than 1 × 10-3 nT rms per square root Hz at frequencies of 1 Hz or more.
"Kohinataso" on 1 × 10-3 nT rms Hz:n neliöjuurta kohti 1 Hz:n tai sitä suuremmilla taajuuksilla.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 6A002, 6A007.b. and c., 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 or 6D103.
"Teknologia" yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 6A002, 6A007.b ja c, 6A008, 6A102, 6A107, 6A108, 6B108, 6D102 tai 6D103 kohdassa määriteltyjen laitteiden tai "ohjelmistojen""käyttöä" varten.
Note: 6E101 only specifies "technology" for equipment specified in 6A008 when it is designed for airborne applications and is usable in "missiles".
Huom.: 6E101 kohta määrittelee 6A008 kohdassa määriteltyjen laitteiden "teknologian" vain, kun se on suunniteltu ilmailusovelluksiin ja sitä voidaan käyttää "ohjuksissa".
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment specified in 6A003, 6A005.a.1.c., 6A005.a.2.a., 6A005.c.1.b., 6A005.c.2.c.2., 6A005.c.2.d.2.b., 6A202, 6A203, 6A205, 6A225 or 6A226.
"Teknologia" yleisen teknologiahuomautuksen mukaisesti 6A003, 6A005.a.1.c, 6A005.a.2.a, 6A005.c.1.b, 6A005.c.2.c.2, 6A005.c.2.d.2.b, 6A202, 6A203, 6A205, 6A225 tai 6A226 kohdassa määriteltyjen laitteiden "käyttöä" varten.
CATEGORY 7
RYHMÄ 7
NAVIGATION AND AVIONICS
NAVIGOINTI JA ILMAILU
N.B.: For automatic pilots for underwater vehicles, see Category 8.
Huom.: Vedenalaisten kulkuneuvojen automaattiohjaukset: katso 8 ryhmä.
For radar, see Category 6.
Tutkat: katso 6 ryhmä.
Linear accelerometers designed for use in inertial navigation or guidance systems and having any of the following characteristics, and specially designed components therefor:
Lineaariset kiihtyvyysmittarit, jotka on suunniteltu käytettäväksi inertiasuunnistus- tai ohjausjärjestelmissä ja joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista, sekä erityisesti niitä varten suunnitellut komponentit:
N.B.: SEE ALSO 7A101.
Huom.: KATSO MYÖS 7A101 KOHTA.
For angular or rotational accelerometers, see 7A002.
Kulma- tai kiertokiihtyvyysmittareiden osalta katso 7A002 kohta.
A "bias""stability" of less (better) than 130 micro g with respect to a fixed calibration value over a period of one year;
"Biasstabiilisuus" vuoden aikana on vähemmän (parempi) kuin 130 mikro-g suhteessa kiinteään kalibrointiarvoon;
A "scale factor""stability" of less (better) than 130 ppm with respect to a fixed calibration value over a period of one year; or
"Mittakertoimen""stabiilisuus" vuoden aikana on vähemmän (parempi) kuin 130 ppm suhteessa kiinteään kalibrointiarvoon; tai
Specified to function at linear acceleration levels exceeding 100 g.
Ne on määritelty toimimaan yli 100 g:n lineaarisilla kiihtyvyystasoilla.
Gyros, and angular or rotational accelerometers, having any of the following characteristics, and specially designed components therefor:
Gyroskoopit sekä kulma- tai kiertokiihtyvyysmittarit, joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista, ja niitä varten erityisesti suunnitellut komponentit:
N.B.: SEE ALSO 7A102.
Huom.: KATSO MYÖS 7A102 KOHTA.
A "drift rate""stability", when measured in a 1 g environment over a period of three months and with respect to a fixed calibration value, of:
"Ryömintänopeuden""stabiilisuus", mitattuna 1 g:n olosuhteissa kolmen kuukauden aikana ja suhteessa kiinteään kalibrointiarvoon, on:
Less (better) than 0,1° per hour when specified to function at linear acceleration levels below 10 g; or
Vähemmän (parempi) kuin 0,1 astetta tunnissa, kun ne on määritelty toimimaan alle 10 g:n lineaarisilla kiihtyvyystasoilla; tai
Less (better) than 0,5° per hour when specified to function at linear acceleration levels from 10 g to 100 g inclusive; or
Vähemmän (parempi) kuin 0,5 astetta tunnissa, kun ne on määritelty toimimaan lineaarisilla kiihtyvyystasoilla 10 g–100 g; tai
Inertial Systems and specially designed components, as follows:
Inertiajärjestelmät ja seuraavat erityisesti suunnitellut komponentit:
N.B.: SEE ALSO 7A103.
Huom.: KATSO MYÖS 7A103 KOHTA.
Inertial navigation systems (INS) (gimballed or strapdown) and inertial equipment designed for "aircraft", land vehicle, vessels (surface or underwater) or "spacecraft" for attitude, guidance or control, having any of the following characteristics, and specially designed components therefor:
Inertiasuunnistusjärjestelmät (INS) (kardaaniset ja sidotut) sekä inertialaitteet, jotka on suunniteltu "ilma-aluksen", maakulkuneuvon, aluksen (pinta- tai vedenalaisen) tai "avaruusaluksen" asentoa, ohjausta tai valvontaa varten ja joilla on jokin seuraavista ominaisuuksista, sekä niitä varten erityisesti suunnitellut komponentit: