natgillin/translations-raw huggingface dataset:
SEE ALSO 2B207.
CoCrAlY-katted, mis sisaldavad 22–24 massiprotsenti kroomi, 10–12 massiprotsenti alumiiniumi ja 0,5–0,7 massiprotsenti ütriumi; või
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
NiCrAlY-katted, mis sisaldavad 21–23 massiprotsenti kroomi, 10–12 massiprotsenti alumiiniumi ja 0,9–1,1 massiprotsenti ütriumi.
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
Mõiste 'alumiiniumisulam' tähendab sulameid, mille tõmbetugevus on 190 MPa või rohkem, mõõdetuna temperatuuril 293 K (20 °C).
c.
Mõiste 'korrosioonikindel teras' tähendab AISI (American Iron and Steel Institute (Ameerika raua ja terase instituut)) 300 seeria või vastavale riigisisesele standardile vastavaid terasesorte.
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
'Rasksulavad metallid ja sulamid' hõlmavad järgmisi metalle ja nende sulameid: nioobium (kolumbium), molübdeen, volfram ja tantaal.
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
'Andur-aknamaterjalid' on järgmised: alumiiniumoksiid, räni, germaanium, tsinksulfiid, tsinkseleniid, galliumarseniid, teemant, galliumfosfiid, safiir ning järgmiste metallide halogeniidid: tsirkooniumfluoriidist ja hafniumfluoriidist koosnevad andur-aknamaterjalid, mille läbimõõt on üle 40 mm.
d.
kategooria ei hõlma üheastmelist massiivsete turbiinilabade tahke tsementiitimise "tehnoloogiat".
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
Järgmised polümeerid: polüimiid, polüester, polüsulfiid, polükarbonaadid ja polüuretaanid.
'Compound rotary tables' and "tilting spindles", specially designed for machine tools, as follows:
'Muundatud tsirkooniumoksiid' tähendab, et tsirkooniumis on lisandina muude metallide oksiide (nt kaltsiumoksiid, magneesiumoksiid, ütriumoksiid, hafniumoksiid, haruldaste muldmetallide oksiidid), et stabiliseerida kindlaid kristallograafilisi faase ja faaside ühendeid.
'Compound rotary tables' having all of the following:
'Titaanisulamid' tähendavad ainult kosmoselendude jaoks kasutatavaid sulameid, mille temperatuuril 293 K (20 °C) mõõdetud tõmbetugevus on 900 MPa või rohkem.
Designed for machine tools for turning, milling or grinding; and
'Vähepaisuvad klaasid' tähendavad klaase, mille temperatuuril 293 K (20 °C) mõõdetud soojusliku paisumise tegur on 1 × 10–7 K-1 või vähem.
Two rotary axes designed to be coordinated simultaneously for “contouring control”;
'Dielektrilised kihid' on pinnakatted, mis koosnevad paljudest dielektrilise materjali kihtidest, mille erinevate murdumisnäitajatega ainete kombinatsioonide planeeritud interferentsiomadused on kasutatud erinevate lainepikkusvahemike peegeldamiseks, ülekandmiseks või neelamiseks.
A 'compound rotary table' is a table allowing the workpiece to rotate and tilt about two non-parallel axes
Dielektrilised kihid tähendavad rohkem kui nelja dielektrilist kihti või dielektrik/metall "komposiit"kihti.
d.
'Kõvasulamvolframkarbiid' ei hõlma lõike- ja vormimisinstrumentide materjale, mis koosnevad volframkarbiidist/(koobalt, nikkel), titaankarbiidist/(koobalt, nikkel), kroomkarbiidist/nikkel-kroom ja kroomkarbiidist/nikkel.
"Tilting spindles" having all of the following:
Hõlmatud ei ole "tehnoloogia", mis on kavandatud teemandilaadse süsiniku sadestamiseks järgmistele materjalidele:
Designed to be coordinated simultaneously for "contouring control".
magnetketta ajurid ja magnetpead, ühekordse kasutusega kaupade tootmise seadmed, kraanide klapid, valjuhääldite akustilised membraanid, autode mootoriosad, lõiketerad, stantsimise-pressimise matriitsid, kontorite automatiseerimise seadmed, mikrofonid ning meditsiinitehnika või vormid vähem kui 5 %-lise berülliumi sisaldusega sulamitest toodetud plastide valamiseks või vormimiseks.
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control and having all of the following:
'Ränikarbiid' ei hõlma lõike- ning vormimisinstrumentide materjale.
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
Keraamilised põhimikud ei hõlma käesolevas tähenduses keraamilisi materjale, mis sisaldavad 5 massiprotsenti või rohkem savi või tsementi kas eraldi komponentidena või kombinatsioonis.
a.
TABEL – PINNAKATMISE TEHNIKAD – TEHNILINE MÄRKUS
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Tabeli 1. veerus määratud menetlused on järgmised:
b.
a. keemiline aurustamine-sadestamine (CVD) on pinnakatmise või pinna muundamise protsess, mille kestel metall, sulam, dielektriline või keraamiline "komposiit" sadestatakse kuumutatud põhimikule.
A roller force more than 60 kN.
Gaasilised reageerivad ained lagunevad või ühinevad põhimiku läheduses, põhjustades soovitud elemendi, sulami või ühendi sadestumise põhimikule.
For the purpose of 2B009, machines combining the function of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
Energiat sellise lagunemise või keemilise reaktsiooni läbiviimiseks saab juurde anda põhimiku kuumutamisega, huumlahendusplasma või "laser"kiirguse abil.
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
CVD sisaldab järgmisi menetlusi: sadestamine suunatud gaasivoo abil, ilma otsese põhimiku pulberkontaktita (out-of-pack), CVD-katmine pulseeriva rõhu juures, kontrollitud idustamisega termiline sadestamine (CNTD), plasmaaktiveeritud või plasma osalusel CVD menetlused.
SEE ALSO 2B204.
Pulberkontakt tähendab, et põhimik on pulbrisegusse uputatud.
a.
Gaasilisi reageerivaid aineid, mida kasutatakse pulberkontaktita menetlustes, toodetakse samu põhireaktsioone ja parameetreid kasutades nagu tahke tsementiitimise protsessiski, välja arvatud see, et kaetav põhimik pole otseses kokkupuutes pulbriseguga.
Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
b. termoaurustamine / füüsikaline aurustamine-sadestamine (TE-PVD) on pinnakatmise menetlus, mis viiakse läbi vaakumis rõhul vähem kui 0,1 Pa ja milles kasutatakse kattematerjali aurustamiseks soojusallikat.
b.
Selle menetluse käigus kondenseerub või sadestub aurustunud aine sobivalt asetatud põhimiku pinnale.
Designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
Lisagaaside juhtimine vaakumkambrisse pinnakatmise protsessi ajal sünteesimaks ühendkatteid on tavaline menetluse modifikatsioon.
c.
Ioon- või elektronkiirte või plasma kasutamine pinnakatte sadestumise aktiveerimiseks või aitamiseks on samuti selle tehnika tavaline modifikatsioon.
Possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
Menetluse üheks iseloomulikuks jooneks võib olla protsessi käigus monitoride kasutamine katete paksuse ja optiliste parameetrite mõõtmiseks.
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.
Järgmised protsessid on iseloomulikud TE-PVD-protsessid.
Flow-forming machines, other than those specified in 2B009, usable in the "production" of propulsion components and equipment (e.g. motor cases and interstages) for "missiles", and specially designed components as follows:
Elektronkiire abil toimuval aurustamisel-sadestamisel (PVD) kasutatakse elektronkiirt katet moodustava aine soojendamiseks ning aurustamiseks.
SEE ALSO 2B209.
Ioonide abil toimuva takistusliku kuumutamisega tekitatud aurustamisel-sadestamisel kasutatakse takistuslikke elektrilisi soojusallikaid kombinatsioonis põrkuvate ioonkiirtega, et saavutada reguleeritud ühtlast aurustatud katteaine voogu.
a.
"Laser"aurustamisel kasutatakse kas impulss- või pidevlaine "laser"kiiri katet moodustava aine aurustamiseks.
Flow-forming machines having all of the following:
Katoodsadestamisel kasutatakse pinnakatet moodustavast ainest kuluvat katoodi ja kaarlahendust, mis süüdatakse hetkelisel katoodi ja pinna kokkupuutel.
Equipped with, or according to the manufacturer's technical specification are capable of being equipped with "numerical control" units or computer control; and
Kaare kontrollitav liikumine kulutab katoodi pinda, moodustades üliioniseeritud plasma.
More than two axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control".
Anoodiks võib kasutada kas katoodi lähedusse isolaatori kaudu kinnitatud koonust või kambrit.
b.
Mittesirgjoonelise sadestamise korral kasutatakse põhimiku eelpingestamist.
Specially designed components for flow-forming machines specified in 2B009 or 2B109.a.
See definitsioon ei hõlma juhuslikku katoodsadestamist eelpingestamata põhimikele.
Machines combining the function of spin-forming and flow-forming are for the purpose of 2B109 regarded as flow-forming machines.
Ioonpindamine on üks erijuht üldisest termoaurustamise / füüsikalise aurustamise-sadestamise (TE-PVD) menetlusest, mille käigus kasutatakse plasmat või iooniallikat sadestatava aine ioniseerimiseks ning sadestatava aine eraldamiseks plasmast rakendatakse põhimikule negatiivset eelpinget.
Vibration test systems, equipment and components therefor, as follows:
Reageerivate ainete protsessi kaasamine, tahkiste aurustamine protsessikambris ning protsessi käigus monitoride kasutamine katete paksuse ja optiliste parameetrite mõõtmiseks on selle menetluse tavalised modifikatsioonid.
Vibration test systems employing feedback or closed loop techniques and incorporating a digital controller, capable of vibrating a system at an acceleration equal to or greater than 10 g rms between 20 Hz and 2 kHz while imparting forces equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table';
Tahke tsementiitimine on pinna muundamis- või katmismenetlus, milles põhimik on asetatud pulbrisegusse (pakend), mis koosneb järgmisest:
b.
sadestatavad metallipulbrid (tavaliselt alumiinium, kroom, räni või nende segud);
Digital controllers, combined with specially designed vibration test software, with a 'real-time control bandwidth' greater than 5 kHz designed for use with vibration test systems specified in 2B116.a.;
aktivaator (tavaliselt halogeniidisool) ja
In 2B116.b., 'real-time control bandwidth' means the maximum rate at which a controller can execute complete cycles of sampling, processing data and transmitting control signals.
inertne pulber, tavaliselt alumiiniumoksiid.
c.
Põhimik ja pulbrisegu asetatakse retorti, mida kuumutatakse katte sadestamiseks piisava aja jooksul temperatuurivahemikus 1030 K (757 °C) kuni 1375 K (1102 °C).
Vibration thrusters (shaker units), with or without associated amplifiers, capable of imparting a force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration test systems specified in 2B116.a.;
d.
d.
Plasmapihustus on üks pinnakatmismenetlus, milles plasmat tekitav ja juhtiv plasmakahur võtab vastu kattematerjali pulbrit või traati, sulatab selle ning paiskab põhimikule, millel moodustubki homogeenne seotud kiht.
Test piece support structures and electronic units designed to combine multiple shaker units in a system capable of providing an effective combined force equal to or greater than 50 kN, measured 'bare table', and usable in vibration systems specified in 2B116.a.
Plasmapihustus on kas madalrõhu plasma pihustus või ülikiire plasma pihustus.
In 2B116, 'bare table' means a flat table, or surface, with no fixture or fittings.
Madal rõhk tähendab siin ümbritsevast rõhust madalamat rõhku.
Equipment and process controls, other than those specified in 2B004, 2B005.a., 2B104 or 2B105, designed or modified for densification and pyrolysis of structural composite rocket nozzles and reentry vehicle nose tips.
Ülikiire tähendab düüsist väljuva gaasi kiirust, mis on suurem kui 750 m/s, arvutatuna 293 K (20 °C) juures rõhul 0,1 MPa.
Balancing machines and related equipment, as follows:
e.
SEE ALSO 2B219.
Mudasadestus on üks pinna muundamis- või katmismenetlus, milles orgaanilise sideainega vedelikus suspenseeritud metalli- või keraamikapulber kantakse põhimikule kas pihustamise, sukeldamise või pintsli abil, millele järgneb õhus või ahjus kuivatamine ning termotöötlemine, saavutamaks soovitud pinnakatet.
Balancing machines having all the following characteristics:
Atomisatsioonsadestus on pinnakatmismenetlus, mis põhineb impulsi ülekande nähtusel, milles positiivsed ioonid kiirendatakse elektriväljas märklaua (kattev aine) pinna suunas.
Not capable of balancing rotors/assemblies having a mass greater than 3 kg;
Põrkuvate ioonide kineetiline energia on piisav, et aatomeid märklauast välja lüüa ning sadestada sobivalt asetatud põhimikule.
Capable of balancing rotors/assemblies at speeds greater than 12500 rpm;
Tabelis on viidatud vaid triood-, magnetron- või reaktiiv-atomisatsioonsadestamisele, mida kasutatakse katte nakkuvuse ja sadestuskiiruse suurendamiseks ning raadiosageduslikult suurendatud atomisatsioonsadestamisel, mis võimaldab aurustada ka mittemetallilisi kattematerjale.
Capable of correcting unbalance in two planes or more; and
Sadestumise aktiveerimiseks kasutatakse madalaenergeetilisi (alla 5 keV) ioonkiiri.
Capable of balancing to a residual specific unbalance of 0,2 g mm per kg of rotor mass;
g.
2B119.a. does not control balancing machines designed or modified for dental or other medical equipment.
Ioonlegeerimine on üks pinna muundamis- või katmismenetlus, milles sulandatav element ioniseeritakse, kiirendatakse potentsiaali gradiendi abil ning implanteeritakse põhimiku pinna piirkonnas.
Indicator heads designed or modified for use with machines specified in 2B119.a.
KATEGOORIA – ELEKTROONIKA
Indicator heads are sometimes known as balancing instrumentation.
Punktis 3A001 või 3A002 (v.a punktides 3A001.a.3.–3A001.a.10. või 3A001.a.12.–3A001.a.14) nimetatud selliste seadmete ja komponentide kontrolli alla kuulumine, mis on spetsiaalselt ette nähtud kasutamiseks muudes seadmetes või millel on samad funktsionaalsed omadused mis muudel seadmetel, määratakse nende muude seadmete kontrolli alla kuulumisega.
Motion simulators or rate tables having all of the following characteristics:
Punktides 3A001.a.3–3A001.a.9. või 3A001.a.12.–3A001.a.14 nimetatud selliste integraallülituste kontrolli alla kuulumine, mis on püsiprogrammeeritud või projekteeritud muude seadmete spetsiifiliste funktsioonide täitmiseks, määratakse nende seadmete kontrolli alla kuulumise alusel, milles neid kasutatakse.
a.
Kui tootja või loataotleja ei suuda kindlaks määrata nende muude seadmete kontrolli alla kuulumist, määratakse nende integraallülituste kontrolli alla kuulumine punktides 3A001.a.3.–3A001.a.9. ja 3A001.a.12.–3A001.a.14.
Two or more axes;
Järgmised elektroonilised kaubad:
b.
a. järgmised üldise kasutusega integraallülitused:
Designed or modified to incorporate slip rings or integrated non-contact devices capable of transferring electrical power, signal information, or both; and
Selliste (valmis või poolvalmis) pooljuhtplaatide kontrolli alla kuulumist, mille otstarve on kindlaks määratud, hinnatakse punkti 3A001.a parameetrite põhjal.
c.
Integraallülituste tüübid:
Having any of the following characteristics:
"monoliit-integraallülitused";
For any single axis having all of the following:
"hübriidintegraallülitused";
a.
"mitmekiibilised integraallülitused";
Capable of rates of 400 degrees/s or more, or 30 degrees/s or less; and
"kile-tüüpi integraallülitused", kaasa arvatud räni-safiir-tüüpi integraallülitused;
b.
"optilised integraallülitused";
A rate resolution equal to or less than 6 degrees/s and an accuracy equal to or less than 0,6 degrees/s;
"kolmemõõtmelised integraallülitused".
Having a worst-case rate stability equal to or better (less) than plus or minus 0,05 % averaged over 10 degrees or more; or
"mikrolaine monoliitsed integraallülitused" ("MMIC"d).
A positioning "accuracy" equal to or less (better) than 5 arc second.
Integraallülitused, mis on planeeritud või arvestatud taluma kiirgust järgmiselt:
2B120 does not control rotary tables designed or modified for machine tools or for medical equipment.
a. kogudoos, mille väärtus on 5 × 103 Gy (räni) või rohkem;
For controls on machine tool rotary tables see 2B008.
b. doosikiirus, mille väärtus on 5 × 106 Gy (räni)/s või rohkem või
Motion simulators or rate tables specified in 2B120 remain controlled whether or not slip rings or integrated non-contact devices are fitted at time of export.
c. neutronite (1 MeV ekvivalent) integreeritud vootihedus 5 × 1013 n/cm2 või suurem räni korral või selle ekvivalent muude ainete korral.
Positioning tables (equipment capable of precise rotary positioning in any axes), other than those specified in 2B120, having all of the following characteristics:
Punkt 3A001.a.1.c ei hõlma metall-isolaator-pooljuht- (MIS) struktuure.
a.
"Mikroprotsessori mikroskeemid", "mikroarvuti mikroskeemid", mikrokontrolleri mikroskeemid, liitpooljuhtidest valmistatud mäluintegraallülitused, analoog-digitaal-muundurid, analoog-digitaal-muundureid sisaldavad ning digiteeritud andmeid salvestavad või töötlevad integraallülitused, digitaal-analoogmuundurid, "signaalitöötluseks" ettenähtud elektro-optilised või "optilised integraallülitused", kasutaja poolt programmeeritavad loogikaseadmed, tundmatu otstarbega tavaintegraallülitused või integraallülitused, mis on ette nähtud kasutamiseks teadmata kontrollitavusega seadmes, Fourier' kiirteisenduse (FFT) protsessorid, staatilised muutmälud (SRAM) või 'säilmälud', millel on mis tahes järgmine omadus:
Two or more axes; and
a. määratud toimima keskkonnatemperatuuril üle 398 K (125 °C);
b.
b. määratud toimima keskkonnatemperatuuril alla 218 K (–55 °C); või
A positioning "accuracy" equal to or less (better) than 5 arc second.
c. määratud toimima keskkonnatemperatuuril 218 K (– 55 °C) kuni 398 K (+125 °C).
2B121 does not control rotary tables designed or modified for machine tools or for medical equipment.
Punkt 3A001.a.2 ei hõlma integraallülitusi, mida kasutatakse tsiviilotstarbelistes autodes või rongides.
Centrifuges capable of imparting accelerations greater than 100 g and designed or modified to incorporate slip rings or integrated non-contact devices capable of transferring electrical power, signal information, or both.
'Säilmälud' on mälud, milles andmed säilivad teatava aja jooksul pärast toite väljalülitamist.
Centrifuges specified in 2B122 remain controlled whether or not slip rings or integrated non-contact devices are fitted at time of export.
"Mikroprotsessori mikroskeemid", "mikroarvuti mikroskeemid" ja mikrokontrolleri mikroskeemid, mis on valmistatud liitpooljuhist ja toimib taktsagedusel üle 40 MHz.
Machine tools and any combination thereof, other than those specified in 2B001, as follows, for removing or cutting metals, ceramics or "composites", which, according to the manufacturer’s technical specification, can be equipped with electronic devices for simultaneous "contouring control" in two or more axes:
Punkt 3A001.a.3 hõlmab digitaalseid signaalprotsessoreid, digitaalmaatriksprotsessoreid ja digitaalseid kaasprotsessoreid.
Stated positioning accuracy levels derived under the following procedures from measurements made according to ISO 230-2:1988 or national equivalents may be used for each machine tool model if provided to, and accepted by, national authorities instead of individual machine tests.
Analoog-digitaalmuunduri (ADC) ja digitaal-analoogmuunduri (DAC) integraallülitused:
Determination of stated positioning accuracy:
a. analoog-digitaalmuundurid, millel on mis tahes järgmine omadus:
Measure the linear axis accuracies according to ISO 230-2:1988Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230-2:1997 or 2006 should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
VT KA PUNKT 3A101.
Determine the accuracy values (A) for each axis of each machine.
eraldusvõime vähemalt 8 bitti, kuid vähem kui 10 bitti, "võendisagedusega" rohkem kui 1,3 gigavõendit sekundis (GSPS);
The method of calculating the accuracy value is described in the ISO 230-2:1988Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230-2:1997 or 2006 should consult the competent authorities of the Member State in which they are established. standard;
eraldusvõime vähemalt 10 bitti, kuid vähem kui 12 bitti, "võendisagedusega" rohkem kui 600 megavõendit sekundis (MSPS);
Determine the average accuracy value of each axis.
eraldusvõime vähemalt 12 bitti, kuid vähem kui 14 bitti, "võendisagedusega" rohkem kui 400 MSPS;
This average value becomes the stated positioning accuracy of each axis for the model (Âx Ây…);
eraldusvõime vähemalt 14 bitti, kuid vähem kui 16 bitti, "võendisagedusega" rohkem kui 250 MSPS; või
Since Item 2B201 refers to each linear axis, there will be as many stated positioning accuracy values as there are linear axes;
eraldusvõime vähemalt 16 bitti koos "võendisagedusega" üle 65 MSPS;
If any axis of a machine tool not specified in 2B201.a., 2B201.b. or 2B201.c. has a stated positioning accuracy of 6 μm or better (less) for grinding machines, and 8 μm or better (less) for milling and turning machines, both according to ISO 230-2:1988Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230-2:1997 or 2006 should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
analoog-digitaal-muundureid sisaldavate ning digiteeritud andmeid salvestavate või töötlevate integraallülituste kohta vt 3A001.a.14.
, then the builder should be required to reaffirm the accuracy level once every eighteen months.
Eraldusvõime n bitti vastab signaali amplituudi kvantimisele 2n tasemeks.
a.
ADC eraldusvõime on digitaalväljundi bittide arv, mis kujutab endast mõõdetud analoogsisendit.
Machine tools for milling, having any of the following characteristics:
ADC eraldusvõime määramiseks ei kasutata efektiivsete bittide arvu (effective number of bits – ENOB).
Positioning accuracies with "all compensations available" equal to or less (better) than 6 μm according to ISO 230-2:1988Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230-2:1997 or 2006 should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
"Mitmekanaliliste ADCde" puhul "võendisagedusi" ei liideta ja "võendisagedus" on iga kanali maksimaalne sagedus.
or national equivalents along any linear axis;
"Kombineeritud ADCde" või selliste "mitmekanaliliste ADCde" puhul, millel on kirjelduse kohaselt kombineeritud töörežiim, "võendisagedused" liidetakse ja "võendisagedus" on kõikide kombineeritud kanalite maksimaalne summaarne sagedus.
Two or more contouring rotary axes; or
b.
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
Digitaal-analoogmuundurid (DAC), millel on mis tahes järgmine omadus:
2B201.a. does not control milling machines having the following characteristics:
eraldusvõime vähemalt 10 bitti koos 'sobitatud uuendussagedusega' (adjusted update rate) 3500 megavõendit või enam sekundis (MSPS) või
X-axis travel greater than 2 m; and
eraldusvõime vähemalt 12 bitti koos 'sobitatud uuendussagedusega' 1250 megavõendit sekundis (MSPS) ja millel on mis tahes järgmine omadus:
Overall positioning accuracy on the x-axis more (worse) than 30 μm.
a. siirdeaeg on vähem kui 9 ns 0,024 %-ni täisskaalast täisskaala astmest või
b.
b. 'häiringuvaba dünaamiline diapasoon' (SFDR) on suurem, kui 68 dBc (carrier), kui sünteesitakse 100 MHz maksimaalse amplituudiga analoogsignaali või maksimaalse amplituudiga analoogsignaali, mille määratud sagedus alla 100 MHz.
Machine tools for grinding, having any of the following characteristics:
'Häiringuvaba dünaamiline diapasoon' (SFDR) on määratletud kui DAC sisendi kandesageduse (maksimaalse signaali) RMSi (ruutkeskmise väärtuse) ning DAC väljundi järgmise suurima müraga või harmooniliste moonutustega komponendi RMSi (ruutkeskmise väärtuse) suhe.
Positioning accuracies with "all compensations available" equal to or less (better) than 4 μm according to ISO 230-2:1988Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230-2:1997 or 2006 should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
SFDR määratakse otse spetsifikatsioonitabeli abil või SFDRi ja sageduse vastavusdiagrammide abil.