natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm (along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m;
Desinfitseerimine tähendab potentsiaalse mikroobidega nakkavuse kõrvaldamist aparatuurilt bakteritsiidsete keemiliste toimeainete kasutamise teel.
A "unidirectional positioning repeatability" for jig boring machines, equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; or
Desinfektsioon ja steriliseerimine erinevad hügieeniliseks tegemisest (sanitisation), mis tähendab puhastamist, mille eesmärk on aparatuuril mikroobe vähendada ilma, et saavutataks tingimata täielik mikroobidega nakkavuse või kõigi elujõuliste mikroobide kõrvaldamine.
Fly cutting machines having all of the following:
Punkt 2B352.d. ei hõlma pöördosmoos- ja hemodialüüsseadmeid, nagu on kindlaks määratud tootja poolt.
a.
ristvoolu filtratsiooniaparatuuri osad (nt moodulid, elemendid, kassetid, padrunid, plokid või plaadid), mille filtripindala on iga osa puhul vähemalt 0,2 m2 ja mis on kavandatud kasutamiseks punktis 2B352.d. määratletud ristvoolu filtratsiooniaparatuuris;
Spindle "run-out" and "camming" less (better) than 0,0004 mm TIR; and
e. auru või gaasiga steriliseeritav vaakumsublimatsioonkuivatamise seade kondensaatori suutlikkusega 10 – 1000 kg jääd 24 tunni jooksul;
b.
f. järgmised kaitsevahendid:
Angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel;
pool- või täiskaitseülikonnad või mütsid, mis sõltuvad nende külge kinnitatud välisest õhuvarustussüsteemist ning mida käitatakse ülerõhul;
c.
Punkt 2B352.f.1 ei hõlma ülikondi, mis on ette nähtud kasutamiseks koos kompaktse hingamisseadmega.
Machine tools for grinding having any of the following:
Bioohjekambrid, isolaatorid või bioloogiliselt ohutud ruumid, millel on tavapäraseks tööks kõik järgmised omadused:
Having all of the following:
a. täielikult suletud tööruum, kus töötaja on tööst eraldatud füüsilise barjääriga;
a.
b. suudab funktsioneerida alarõhu tingimustes;
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; and
c. vahendid objektide ohutuks liigutamiseks tööalal;
b.
d. tööruumi sisenev ja sealt väljuv õhk läbib HEPA filtri;
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
Punkt 2B352.f.2. hõlmab III klassi bioloogiliselt ohutuid ruume, mis on määratletud Maailma Terviseorganisatsiooni laboratooriumide bioohutuse käsiraamatus või mille ehitamisel on järgitud riiklikke standardeid, eeskirju või juhendeid.
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
Punkt 2B352.f.2. ei hõlma distantshooldamiseks või nakatunud patsientide transpordiks ettenähtud isolaatoreid.
a.
g. järgmised aerosoolide inhalatsioonikambrid, mis on konstrueeritud katseteks "mikroorganismide", viiruste või "toksiinide" aerosoolidega:
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
kogu keha haarav individuaalne kamber mahuga 1 m3 või rohkem;
c.
suunatud aerosoolivoogu kasutav ainult ninale suunatud seade, mis on mõeldud kokkupuuteks:
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m.
a.
2B001.c. does not control grinding machine as follows:
12 või enamale närilisele; või
Cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines, having all of the following:
2 või enamale muule loomale kui närilised;
Limited to cylindrical grinding; and
suletud hoiutorud loomadele, mis on ette nähtud kasutamiseks suunatud aerosoolivoogu kasutava ainult ninale suunatud seadmega;
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
h. pihustuskuivatamise seadmed, mis on võimelised kuivatama toksiine või patogeenseid "mikroorganisme", millel on kõik järgmised omadused:
b.
vee aurustamisvõimsus ≥ 0,4 kg/h ja ≤ 400 kg/h;
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a "unidirectional positioning repeatability" less (better) than 1,1 μm
suutlikkus genereerida tüüpilise suurusega keskmise toote osakesi ≤ 10 μm olemasolevate tarvikutega või nõutavat osakeste suurust genereerida võimaldava pihustuskuivati otsakute minimaalse muutmise teel ja
c.
kohapeal (in situ) steriliseeritavad või desinfitseeritavad.
Surface grinders.
Puuduvad.
d.
"Tarkvara", mis erineb punktis 2D002 nimetatud "tarkvarast" järgmiselt:
Electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
a. "tarkvara", mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktides 2A001 või 2B001 nimetatud seadmete "arendamiseks" või "tootmiseks";
e.
b. "tarkvara", mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktides 2A001.c, 2B001 või 2B003– 2B009 nimetatud seadmete "kasutamiseks".
Machine tools for removing metals, ceramics or "composites", having all of the following:
Punkt 2D001 ei hõlma töötlemise programmide "tarkvara", mis loob "arvjuhtimise" koode erinevate osade töötlemiseks.
Removing material by means of any of the following:
"Tarkvara" elektroonilistele seadmetele, ka siis, kui see asub pidevalt salvestatuna elektroonilises seadmes või süsteemis, mis võimaldab sellistel seadmetel või süsteemidel toimida "arvjuhitavate" moodulitena ja mis suudab koordineerida üheaegselt enam kui nelja telje liikumist "kontuurjuhtimiseks".
a.
Punkt 2D002 ei hõlma "tarkvara", mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud 2. kategoorias nimetamata tööpinkide kasutamiseks.
Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
Punkt 2D002 ei hõlma "tarkvara" punktis 2B002 määratletud kaupadele.
b.
Punktides 2D001 ja 2D003 määratletud kaupade "tarkvara" kohta vaata punkti 2B002.
Electron beam; or
2D002 ei hõlma "tarkvara", mida eksporditakse 2. kategoorias nimetamata esemetega, ja nende kasutamiseks vajalikku minimaalset "tarkvara".
c.
"Tarkvara", mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktis 2B002 nimetatud seadmete kasutamiseks, millega konverteeritakse optiline disain, töödeldava eseme mõõtmed ja materjali eemaldamise funktsioonid "arvjuhtimise" käsklustesse, et saada soovitud töödeldava eseme vorm.
"Laser" beam; and
"Tarkvara", mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktides 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 või 2B119–2B122 nimetatud seadmete "kasutamiseks".
At least two rotary axes having all of the following:
VT KA PUNKT 9D004.
a.
"Tarkvara", mis on ette nähtud punktides 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 või 2B227 nimetatud seadmete "kasutamiseks".
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
"Tarkvara", mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktis 2B201 nimetatud seadmete "arendamiseks", "tootmiseks" või "kasutamiseks".
b.
Punkt 2D202 ei hõlma töötlemise programmide "tarkvara", mis loob "arvjuhtimise" käskluskoode, kuid ei luba seadmete otsest kasutamist erinevate osade töötlemiseks.
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003o;
"Tarkvara", mis erineb punktis 1D003 nimetatud "tarkvarast," on spetsiaalselt projekteeritud või kohandatud punktis 2B351 nimetatud seadmete "kasutamiseks".
f.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav "tehnoloogia" punktides 2A, 2B või 2D nimetatud seadmete või tarkvara arendamiseks.
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5m.
Punkt 2E001 hõlmab "tehnoloogiat", mis on ette nähtud indikaatorsüsteemide integreerimiseks punktis 2B006.a nimetatud koordinaatmõõtemasinatega.
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Tehnoloogia üldmärkusele vastav "tehnoloogia", mis on ette nähtud punktis 2A või 2B nimetatud seadmete "tootmiseks".
a.
Muu tehnoloogia:
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
a. "tehnoloogia" töötlemisprogrammide ettevalmistamiseks või muutmiseks vajaliku interaktiivgraafika "arenduseks" "arvjuhtimis"moodulite integreeritud osana;
b.
b. metallitöötlemise tootmisprotsesside "tehnoloogia":
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
spetsiaalselt järgnevalt loetletud protsesside jaoks loodud tööriistade, matriitside ja rakiste konstrueerimise "tehnoloogia":
c.
a. "üliplastne vormimine";
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
b. "difusioonkeevitus" või
d.
c. "otsetoimehüdropressimine";
Using any of the following processes:
tehnilised andmed protsessi meetodite või parameetrite kohta, millega juhitakse järgmist:
Magnetorheological finishing ('MRF');
a. alumiiniumi-, titaani- või "supersulamite" "üliplastne vormimine":
Electrorheological finishing ('ERF');
pinna ettevalmistus;
'Energetic particle beam finishing';
deformatsiooni kiirus;
'Inflatable membrane tool finishing'; or
temperatuur;
'Fluid jet finishing'.
rõhk;
For the purposes of 2B002:
b. titaani- või "supersulamite" "difusioonkeevitus":
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
c. alumiiniumi- või titaanisulamite "otsetoimehüdropressimine":
'ERF' is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
protsessi kestus;
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
d. titaani-, alumiiniumi- või "supersulamite" "kuumisostaattihendamine":
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
c. õhusõidukite tarindite tootmiseks hüdraulilise venitamisega vormimismasinate ja nende juurde kuuluvate matriitside "arendamise" või "tootmise" "tehnoloogia";
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
d. tööpingi "arvjuhtimis"moodulis olevatest projekteerimisandmetest juhtimiskäskude moodustamise generaatori (nt töötlemisprogrammid) "arendamise" "tehnoloogia";
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc=40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
e. "tehnoloogia" integratsiooni "tarkvara" "arendamiseks" ekspertsüsteemide sisseviimiseks "arvjuhitavatesse" moodulitesse, tootmispindadel toiminguotsuste edendatud toetamiseks;
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
f. "tehnoloogia" mitteelektroonsete põhimike (substraatide) (määratletud alljärgneva tabeli 3. veerus) anorgaaniliste pinnakatetega või anorgaaniliste muundatud pinnakatetega (määratletud järgmise tabeli 2. veerus) katmiseks protsessides, mis on määratletud järgmise tabeli 1. veerus ning on defineeritud tehnilises märkuses.
SEE ALSO 2B104 and 2B204.
Tabel ning tehniline märkus on esitatud punkti 2E301 järel.
a.
Nimetatud tabelit tuleks tõlgendada nii, et selles määratakse konkreetse pindamismenetluse "tehnoloogia" kindlaks vaid juhul, kui 3. veerus esitatud lõplikud kihid on märgitud punktis, mis paikneb otse asjaomast substraati märkiva 2. veerus oleva punkti vastas.
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Näiteks keemilist aurustamist-sadestamist (CVD) hõlmava pindamismenetluse tehnilised andmed puudutavad neid juhte, kus silitsiitidega pinnatakse süsinik-süsinik-, keraamiliste ja metall"põhiainete" "komposiit"substraate, kuid ei kehti siis, kui silitsiitidega pinnatakse 'kõvasulamvolframkarbiid'- (16) ja 'ränikarbiid' (18) -substraate.
b.
Teisel juhul ei nimetata lõplikke kihte (silitsiidid) 3. veeru punktis, mis asub otse 2. veeru selle punkti vastas, kus on loetletud 'kõvasulamvolframkarbiid' (16) ja 'ränikarbiid' (18).
Having any of the following:
Tehnoloogia üldmärkusele vastav "tehnoloogia", mis on ette nähtud punktides 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119–2B122 või 2D101 nimetatud "tarkvara" või seadmete "kasutamiseks".
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
Tehnoloogia üldmärkusele vastav "tehnoloogia", mis on ette nähtud punktides 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225–2B233, 2D201 või 2D202 nimetatud "tarkvara" "kasutamiseks".
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
Tehnoloogia üldmärkusele vastav "tehnoloogia", mis on ette nähtud punktides 2B350–2B352 nimetatud kaupade "kasutamiseks".
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Tabel
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Pinnakatmise tehnikad
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
Pindamismenetlus (1) [2]
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Substraat
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for substrates specified in column 2, by processes shown in column 1 in the Table following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
Lõplikud kihid
a.
A. Keemiline aurustamine-sadestamine (CVD)
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
"Supersulamid"
SEE ALSO 2B105.
Aluminiidid sisemiste läbiviikude jaoks
A process modified for one of the following:
Keraamika (19) ja vähepaisuvad klaasid (14)
a.
Silitsiidid
Pulsating CVD;
Karbiidid
b.
Dielektrilised kihid (15)
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Teemant
c.
Teemandilaadne süsinik (17)
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
Süsinik-süsinik, keraamiliste ja metall"põhiainete" "komposiidid"
a.
Rasksulavad metallid
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
Nende segud (4)
b.
Aluminiidid
Incorporating in situ coating thickness control;
Legeeritud aluminiidid (2)
b.
Boornitriid
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Kõvasulamvolframkarbiid (16), ränikarbiid (18)
c.
Volfram
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
Molübdeen ja molübdeenisulamid
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
Berüllium ja berülliumisulamid
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
Andur-akna materjalid (9)
d.
Termoaurustamine / füüsikaline aurustamine-sadestamine (TE-PVD)
Plasma spraying production equipment having any of the following:
Füüsikaline aurustamine-sadestamine (PVD): Elektronkiire abil toimuv aurustamine-sadestamine (EB-PVD)
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Legeeritud silitsiidid
Incorporating in situ coating thickness control;
Muundatud tsirkooniumoksiid (12)
e.
Korrosioonikindel teras (7)
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Boriidid
f.
Berüllium
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
Titaanisulamid (13)
g.
Nitriidid
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
Ioonide takistikuumutuse füüsikaline auru sadestamine (PVD) (ioonpindamine)
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Keraamika (19) ja vähepaisuvad klaasid
Optical characteristics.
Kõvasulam volframkarbiid (16), ränikarbiid
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
Füüsikaline aurustamine-sadestamine (PVD): "laser"aurustamine
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
Teemandilaadne süsinik
a.
Füüsikaline aurustamine-sadestamine (PVD): Katoodkaarlahendus
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1 000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
Polümeerid (11) ja orgaaniliste "põhiainete" "komposiidid"
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1 000 μm threshold.
C. Tahke tsementiitimine (vt A ülal pulber-kontaktita (out-of-pack) tsementimine) (10)
SEE ALSO 2B206.
Rasksulavad metallid ja sulamid (8)
b.
Oksiidid
Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
D. Plasmapihustus
'Linear displacement' measuring instruments having any of the following:
Kulutatav nikkelgrafiit
Interferometer and optical-encoder displacement measuring systems containing a "laser" are only controlled in 2B006.b.1.c. and 2B206.c.
Kulutatavad materjalid, mis sisaldavad Ni-Cr-Al
For the purpose of 2B006.b.1.
Kulutatav Al-Si-polüester
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
Alumiiniumsulamid (6)
a.
E. Mudasadestus
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Klaasistatud silitsiidid
b.
Klaasistatud aluminiidid, v.a takistus- kütteelemendid
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
F. Atomisatsioonsadestamine
a.
Väärismetallidega muundatud aluminiidid (3)
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
Plaatina
b.
Keraamika ja vähepaisuvad klaasid (14)
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5 mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
Dielektrilised kihid (15)
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ±1 K;
G. Ioonlegeerimine
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
Kõrgtemperatuursed laagriterased
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm.
Lisandid: kroom, tantaal või nioobium (kolumbium)
c.
Kõvasulam volframkarbiid (16)
Measuring systems having all of the following:
TABEL – PINNAKATMISE TEHNIKAD – MÄRKUSED
Containing a "laser";
Mõiste 'pindamismenetlus' hõlmab nii pinnakatte parandamist ja uuendamist kui ka originaalpinnakatmist.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
Mõiste 'legeeritud aluminiidkate' sisaldab ühe- või mitmeastmelist katmist, mille kestel element või elemendid on sadestatud enne või ka samaaegselt aluminiidiga, ka siis, kui need elemendid sadestatakse erineva pindamismenetluse abil.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2 000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20 ± 0,01 °C; or
See ei sisalda aga mitmekordset üheastmelist tahke tsementiitimise menetluse kasutamist legeeritud aluminiidikihi saamiseks.
d.
Mõiste 'väärismetallidega muundatud aluminiidkate' hõlmab mitmeastmelisi kihte, milles väärismetall või väärismetallid on kantud põhimikule enne aluminiidiga katmist mõne muu pindamismenetluse abil.
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Mõiste 'nende segud' sisaldab infiltreeritud aineid, nende astmelisi segusid, samaaegseid kaassadestamisi ja mitmekihilisi sadestamisi ning on saadud ühe või enama tabelis nimetatud pindamismenetluse teel.
2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
'MCrAlX' tähistab pindamissulamit, kus "M" tähistab koobaltit, rauda, niklit või nende kombinatsioone ning "X" tähistab hafniumi, ütriumi, räni, tantaali mis tahes koguses või teisi tahtlikke lisandeid üle 0,01 massiprotsendi mitmesugustes kombinatsioonides ning suhetes, välja arvatud
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025o;
a.
2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
CoCrAlY-katted, mis sisaldavad vähem kui 22 massiprotsenti kroomi, vähem kui 7 massiprotsenti alumiiniumi ja vähem kui 2 massiprotsenti ütriumi;
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
CoCrAlY-katted, mis sisaldavad 22–24 massiprotsenti kroomi, 10–12 massiprotsenti alumiiniumi ja 0,5–0,7 massiprotsenti ütriumi, või
2B006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
c.
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
NiCrAlY-katted, mis sisaldavad 21–23 massiprotsenti kroomi, 10–12 massiprotsenti alumiiniumi ja 0,9–1,1 massiprotsenti ütriumi.
SEE ALSO 2B207.
Mõiste 'alumiiniumisulam' tähendab sulameid, mille tõmbetugevus on 190 MPa või rohkem, mõõdetuna temperatuuril 293 K (20 °C).
a.
Mõiste 'korrosioonikindel teras' tähendab AISI (American Iron and Steel Institute (Ameerika raua ja terase instituut)) 300 seeria või vastavale riigisisesele standardile vastavaid terasesorte.
Capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional 'scene analysis' to generate or modify "programs" or to generate or modify numerical program data;
'Rasksulavad metallid ja sulamid' hõlmavad järgmisi metalle ja nende sulameid: nioobium (kolumbium), molübdeen, volfram ja tantaal.
The 'scene analysis' limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
'Andur-aknamaterjalid' on järgmised: alumiiniumoksiid, räni, germaanium, tsinksulfiid, tsinkseleniid, galliumarseniid, teemant, galliumfosfiid, safiir ning järgmiste metallide halogeniidid: tsirkooniumfluoriidist ja hafniumfluoriidist koosnevad andur-aknamaterjalid, mille läbimõõt on üle 40 mm.
b.
kategooria ei hõlma üheastmelist massiivsete turbiinilabade tahke tsementiitimise "tehnoloogiat".