natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Containing less than 10 parts per million by weight of boron.
b. kaltsiumtsirkonaat (metatsirkonaat) (CaZrO3);
Magnesium having both of the following characteristics:
c. tseeriumsulfiid (Ce2S3);
a.
d. erbiumoksiid (Er2O3);
Containing less than 200 parts per million by weight of metallic impurities other than calcium; and
e. hafniumoksiid (HfO2);
Bismuth having both of the following characteristics:
f. magneesiumoksiid (MgO);
a.
g. nitriiditud nioobiumi-titaani-volframisulam, mis sisaldab ligikaudu 50 % Nb, 30 % Ti ja 20 % W;
A purity of 99,99 % or greater by weight; and
h. ütriumoksiid (Y2O3) või
b.
i. tsirkooniumoksiid (ZrO2);
Containing less than 10 ppm (parts per million) by weight of silver.
b. tiiglid, millel on mõlemad järgmised omadused:
Beryllium metal, alloys containing more than 50 % beryllium by weight, beryllium compounds, manufactures thereof, and waste or scrap of any of the foregoing, other than that specified in the Military Goods Controls.
mahutavus 50–2000 cm3 ja
1C230 does not control the following:
valmistatud tantaalist või kaetud tantaaliga, mille puhtusaste on 99,9 massiprotsenti või rohkem;
Metal windows for X-ray machines, or for bore-hole logging devices;
c. tiiglid, millel on kõik järgmised omadused:
Oxide shapes in fabricated or semi-fabricated forms specially designed for electronic component parts or as substrates for electronic circuits;
mahutavus 50–2000 cm3
Beryl (silicate of beryllium and aluminium) in the form of emeralds or aquamarines.
valmistatud tantaalist või kaetud tantaaliga, mille puhtusaste on 98 massiprotsenti või rohkem; ja
Hafnium metal, alloys containing more than 60 % hafnium by weight, hafnium compounds containing more than 60 % hafnium by weight, manufactures thereof, and waste or scrap of any of the foregoing.
kaetud tantaalkarbiidi, -nitriidi või -boriidiga või nende kombinatsiooniga.
Helium-3 (3He), mixtures containing helium-3, and products or devices containing any of the foregoing.
Klapid, millel on kõik järgmised omadused:
1C232 does not control a product or device containing less than 1 g of helium-3.
a. 'nimimõõt' 5 mm või rohkem;
Lithium enriched in the lithium-6 (6Li) isotope to greater than its natural isotopic abundance, and products or devices containing enriched lithium, as follows: elemental lithium, alloys, compounds, mixtures containing lithium, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing.
b. omab lõõtstihendit ja
1C233 does not control thermoluminescent dosimeters.
c. valmistatud alumiiniumist, alumiiniumisulamist, niklist või niklisulamist, mis sisaldab 60 massiprotsenti või rohkem niklit, või sellega kaetud.
The natural isotopic abundance of lithium-6 is approximately 6,5 weight per cent (7,5 atom per cent).
Erinevate sisendava ja väljundava läbimõõtudega klappide korral tähistab punktis 2A226 'nimimõõt' väikseimat läbimõõtu.
Zirconium with a hafnium content of less than 1 part hafnium to 500 parts zirconium by weight, as follows: metal, alloys containing more than 50 % zirconium by weight, compounds, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing, other than those specified in 0A001.f.
Täiendavaid paralleelseid kontuurtelgesid (nt horisontaalsete karussellsisetreipinkide w-telg või teisene pöördtelg, mille pöörlemistelg on paralleelne põhitelje pöörlemisteljega) ei loeta kontuurtelgede koguhulka.
1C234 does not control zirconium in the form of foil having a thickness of 0,10 mm or less.
Pöördteljed ei pea pöörlema üle 360°.
Tritium, tritium compounds, mixtures containing tritium in which the ratio of tritium to hydrogen atoms exceeds 1 part in 1000, and products or devices containing any of the foregoing.
Pöördtelge võib pöörlema panna lineaarseade (nt tigu- või hammaslattajam).
1C235 does not control a product or device containing less than 1,48 × 103 GBq (40 Ci) of tritium.
Punkti 2B tähenduses on nende telgede arv, mida võib samaaegselt koordineerida "kontuurjuhtimiseks", telgede arv, piki mida või mille ümber toimub mis tahes töödeldava detaili või tööriista samaaegne ja omavahel seotud liikumine.
'Radionuclides' appropriate for making neutron sources based on alpha-n reaction, other than those specified in 0C001 and 1C012.a., in the following forms:
Sinna hulka ei loeta lisatelgi, piki mida või mille ümber toimub muu suhteline liikumine seadmes, näiteks
Elemental;
paralleelseid pöördtelgesid, mis on kavandatud eraldi asuvate töödeldavate detailide paigaldamiseks;
b.
kolineaarseid pöörlevaid abitelgesid, mis on kavandatud sama töödeldava detaili käsitsemiseks, hoides seda kinni erinevatest punktidest.
Compounds having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
Telgede nimestik peab olema vastavuses rahvusvahelise standardiga ISO 841:2001 "Industrial automation systems and integration – Numerical Control Machines – Axis and Motion Nomenclature" (tööstuslikud automaatsüsteemid – numbrilised juhtimismasinad – telje ja liikumise nimestik).
c.
Punktide 2B001–2B009 tähenduses loetakse "kaldvõll" pöördteljeks.
Mixtures having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
'Kindlaksmääratud "ühesuunalist positsioneerimise korratavust"' võib iga tööpingi mudeli puhul kasutada alternatiivina üksikutele tööpinkide testidele ja see määratakse järgmiselt:
d.
valida viis tööpinki hinnatavast mudelist;
Products or devices containing any of the foregoing.
mõõta lineaartelje korratavus (R↑, R↓) vastavalt ISO 230-2:2014 ning hinnata "ühesuunalise positsioneerimise korratavust" viie tööpingi iga telje kohta;
1C236 does not control a product or device containing less than 3,7 GBq (100 millicuries) of activity.
määrata "ühesuunalise positsioneerimise korratavuse" aritmeetiline keskmine väärtus – väärtused kõigi viie tööpingi iga telje kohta.
Actinium-225 (Ac-225)
Sellest väärtusest saab mudeli iga telje kindlaksmääratud väärtus (UPR
Actinium-227 (Ac-227)
kuna 2. kategooria nimekiri viitab igale lineaarteljele eraldi, siis on kindlaksmääratud "ühesuunalise positsioneerimise korratavuse" väärtusi sama palju kui lineaarseid telgi;
Californium-253 (Cf-253)
kui mõni sellise tööpingi mudeli, mis ei ole hõlmatud punktidega 2B001.a–2B001.c, telg omab kindlaksmääratud "ühesuunalist positsioneerimise korratavust", mis on võrdne või väiksem kui iga tööpingu mudeli kindlaksmääratud "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" pluss 0,7 μm, peab valmistaja kinnitama täpsusastet kord 18 kuu jooksul.
Curium-240 (Cm-240)
Punktide 2B001.a–2B001.c mõistes jääb töömasinate "ühesuunalise positsioneerimise korratavuse" mõõtemääramatus vastavalt standardile ISO 230-2:2014 või sellega võrdväärsele riigisisesele standardile arvestamata.
Curium-241 (Cm-241)
Punktide 2.B001.a–2B001.c tähenduses tehakse telgede mõõtmised vastavalt ISO 230-2:2014 punkti 5.3.2 katsekorrale.
Curium-242 (Cm-242)
Katsesegmendid on võrdsete vahedega täistelje pikkuses, kusjuures liigne pikkus jaguneb võrdselt katsesegmentide alguses, vahel ja lõpus.
Curium-243 (Cm-243)
Teatada tuleb kõigi katsesegmentide väikseim "ühesuunalise positsioneerimise korratavuse" väärtus.
Curium-244 (Cm-244)
Töömasinad ja nende ükskõik millised kokkuseaded, mis on ette nähtud eemaldama (või lõikama) metalle, keraamikat või "komposiite", mida vastavalt tootjapoolsele tehnilisele spetsifikatsioonile saab komplekteerida elektronseadmetega "arvjuhtimiseks" järgmiste näitajatega:
Einsteinium-253 (Es-253)
VT KA PUNKT 2B201.
Einsteinium-254 (Es-254)
Punkt 2B001 ei hõlma eriotstarbelisi tööpinke, mida kasutatakse üksnes hammasrataste valmistamiseks.
Gadolinium-148 (Gd-148)
Nende pinkide kohta vt punkt 2B003.
Plutonium-236 (Pu-236)
Punkt 2B001 ei hõlma eriotstarbelisi tööpinke, mida kasutatakse üksnes järgmiste detailide tootmiseks:
Plutonium-238 (Pu-238)
väntvõllid või nukkvõllid,
Polonium-208 (Po-208)
tööriistad või lõiketerad,
Polonium-209 (Po-209)
pressi tiguvõllid;
Polonium-210 (Po-210)
graveeritud või lihvitud juveeltooted või
Radium-223 (Ra-223)
hambaproteesid.
Thorium-227 (Th-227)
Tööpinke, millel on vähemalt kaks kolmest võimalusest – treimise, freesimise või lihvimise võimalus (nt treipink, millel on ka freesimise võimalus), tuleb hinnata kõigi kohaldatavate punktide 2B001.a, 2B001.b või 2B001.c järgi.
Thorium-228 (Th-228)
Optiliste viimistlustööpinkide kohta vt punkt 2B002.
Uranium-230 (U-230)
a. treipingid, millel on kaks või enam telge, mida võib üheaegselt koordineerida "kontuurjuhtimiseks" ning millel on kõik järgmised omadused:
Uranium-232 (U-232)
"ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 0,9 μm või vähem (parem) käigupikkusega alla 1,0 m; või
Radium-226 (226Ra), radium-226 alloys, radium-226 compounds, mixtures containing radium-226, manufactures thereof, and products or devices containing any of the foregoing.
"ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,1 μm või vähem (parem) käigupikkusega 1,0 m või rohkem
1C237 does not control the following:
Punkt 2B001.a ei hõlma treipinke, mis on spetsiaalselt ette nähtud selliste kontaktläätsede tootmiseks, millel on kõik järgmised omadused:
Medical applicators;
masinjuhtimine on sisendandmete töötlemise programmide suhtes piiratud oftalmoloogilise tarkvara kasutamisega ja
A product or device containing less than 0,37 GBq (10 millicuries) of radium-226.
ei kasuta vaakumiga kinnituspadrunit.
Chlorine trifluoride (ClF3).
Punkt 2B001.a ei hõlma spetsiaalseid tööpinke (Swissturn), millega töödeldakse üksnes varbmaterjali, kui varbade diameeter on 42 mm või väiksem, ja mille puhul kinnituspadruneid paigaldada ei ole võimalik.
High explosives, other than those specified in the Military Goods Controls, or substances or mixtures containing more than 2 % by weight thereof, with a crystal density greater than 1,8 g/cm3 and having a detonation velocity greater than 8000 m/s.
Masinatel võib olla puurimise ja/või freesimise funktsioon alla 42 mm diameetriga detailide töötlemiseks.
Nickel powder and porous nickel metal, other than those specified in 0C005, as follows:
b. freespingid, millel on üks järgmistest omadustest:
a.
kolm lineaarset telge ja üks pöörlemistelg, mida saab üheaegselt koordineerida "kontuurjuhtimiseks" ning millel on üks järgmine omadus:
Nickel powder having both of the following characteristics:
a. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 0,9 μm või vähem (parem) käigupikkusega alla 1,0 m; või
A nickel purity content of 99,0 % or greater by weight; and
b. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,1 μm või vähem (parem) käigupikkusega 1,0 m või rohkem;
A mean particle size of less than 10 μm measured by American Society for Testing and Materials (ASTM) B330 standard;
viis või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida "kontuurjuhtimiseks" ning millel on kõik järgmised omadused:
b.
'Rööpmehhanismiga' töömasinaid on kirjeldatud punktis 2B001.b.2.d.
Porous nickel metal produced from materials specified in 1C240.a.
a. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 0,9 μm või vähem (parem) käigupikkusega alla 1,0 m;
1C240 does not control the following:
b. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,4 μm või vähem (parem) käigupikkusega 1 m või rohkem ja vähem kui 4 m;
Filamentary nickel powders;
c. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 6,0 μm või vähem (parem) käigupikkusega 4 m või rohkem; või
Single porous nickel sheets with an area of 1000 cm2 per sheet or less.
d. mis on 'rööpmehhanismiga töömasin';
1C240.b. refers to porous metal formed by compacting and sintering the materials in 1C240.a. to form a metal material with fine pores interconnected throughout the structure.
'Rööpmehhanismiga töömasin' on mitme lüliga töömasin, kus lülid on seotud aluse ja täituritega ja kus iga täitur käitab oma lüli üheaegselt ja sõltumatult.
Rhenium, and alloys containing 90 % by weight or more rhenium; and alloys of rhenium and tungsten containing 90 % by weight or more of any combination of rhenium and tungsten, other than those specified in 1C226, having both of the following characteristics:
koordinaatpuurpinkide "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,1 μm või vähem (parem) või
a.
lendteraga lõikeseadmed, millel on kõik järgmised omadused:
In forms with a hollow cylindrical symmetry (including cylinder segments) with an inside diameter between 100 and 300 mm; and
a. peavõlli "aksiaallõtku" ja "viskumise" koguväärtus on väiksem (parem) kui 0,0004 mm TIR ja
b.
b. liugliikumise nurkhälvete (võnkumine risti- ja pikisuunas ning pöördliikumine) koguväärtus 300 mm teekonnal on väiksem (parem) kui 2 kaaresekundit TIR;
A mass greater than 20kg.
c. lihvimispingid, millel on mis tahes järgmised omadused:
Chemicals, which may be used as precursors for toxic chemical agents, as follows, and "chemical mixtures" containing one or more thereof:
millel on kõik järgmised omadused:
SEE ALSO MILITARY GOODS CONTROLS AND 1C450.
a. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,1 μm või vähem (parem) ja
Thiodiglycol (111-48-8);
b. kolm või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida "kontuurjuhtimiseks", või
Phosphorus oxychloride (10025-87-3);
viis või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida "kontuurjuhtimiseks" ning millel on kõik järgmised omadused:
Dimethyl methylphosphonate (756-79-6);
a. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,1 μm või vähem (parem) käigupikkusega alla 1 m;
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Methyl phosphonyl difluoride (676-99-3);
b. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,4 μm või vähem (parem) käigupikkusega 1 m või rohkem ja vähem kui 4 m; või
Methyl phosphonyl dichloride (676-97-1);
c. "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 6,0 μm või vähem (parem) käigupikkusega 4 m või rohkem;
Dimethyl phosphite (DMP) (868-85-9);
Punkt 2B001.c ei hõlma järgmisi lihvimispinke:
Phosphorus trichloride (7719-12-2);
silindriliste välis-, sise- ja välis-sisepindade lihvimispingid, millel on kõik järgmised omadused:
Trimethyl phosphite (TMP) (121-45-9);
ainult silindriliste pindade lihvimiseks ja
Thionyl chloride (7719-09-7);
ainult selliste detailide töötlemiseks, mille maksimaalne välisläbimõõt või pikkus võib olla 150 mm.
ydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);
tööpingid, mis on spetsiaalselt projekteeritud koordinaatlihvimispinkidena, millel puuduvad z-telg või w-telg, mille "ühesuunalise positsioneerimise korratavus" on väiksem (parem) kui 1,1 μm
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethyl chloride (96-79-7);
pinnalihvimispingid.
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethane thiol (5842-07-9);
d. juhtmeteta elektroerosioonpingid (EDM), millel on kaks või enam pöördtelge, mida saab üheaegselt koordineerida "kontuurjuhtimiseks";
uinuclidinol (1619-34-7);
e. tööpingid metallide, keraamika ja "komposiitide" eemaldamiseks, millel on kõik järgmised omadused:
Potassium fluoride (7789-23-3);
kasutavad materjalide eemaldamiseks üht järgmistest moodustest:
hloroethanol (107-07-3);
a. vee- või muude vedelike joad, kaasa arvatud need, mis sisaldavad abrasiivlisandeid;
Dimethylamine (124-40-3);
b. elektronkiir või
Diethyl ethylphosphonate (78-38-6);
c. "laser"kiir ja
Diethyl N,N-dimethylphosphoramidate (2404-03-7);
millel on vähemalt kaks pöördtelge ja kõik järgmised omadused:
Diethyl phosphite (762-04-9);
a. mida saab üheaegselt "kontuurjuhtimiseks" koordineerida ja
Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);
b. positsioneerimis"täpsus" on väiksem (parem) kui 0,003°;
Ethyl phosphinyl dichloride (1498-40-4);
f. puurpingid sügavate aukude puurimiseks ning sügavate aukude puurimiseks kohandatud treipingid, mis võimaldavad puuritava augu maksimaalseks sügavuseks 5 m ja enam.
Ethyl phosphonyl dichloride (1066-50-8);
Arvjuhitavad optilised viimistlustööpingid materjali selektiivseks eemaldamiseks ja selle kaudu mittesfääriliste optiliste pindade tootmiseks ja millel on kõik järgmised omadused:
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Ethyl phosphonyl difluoride (753-98-0);
a. valmistamistäpsus (tolerants) on väiksem kui 1,0 μm;
Hydrogen fluoride (7664-39-3);
b. pinna karedus on väiksem (parem) kui 100 nm rms.
Methyl benzilate (76-89-1);
c. neli või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida "kontuurjuhtimiseks", ja
Methyl phosphinyl dichloride (676-83-5);
d. mis kasutavad mis tahes järgmist protsessi:
N,N-Diisopropyl-(beta)-amino ethanol (96-80-0);
magneto-reoloogiline viimistlemine ('MRF');
Pinacolyl alcohol (464-07-3);
elektro-reoloogiline viimistlemine ('ERF');
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for O-Ethyl O-2-diisopropylaminoethyl methylphosphonite (QL) (57856-11-8);
'suure siseenergiaga osakeste joaga viimistlemine';
Triethyl phosphite (122-52-1);
'täispuhutava membraaniga tööriistaviimistlus' või
Arsenic trichloride (7784-34-1);
'vedelikujoaga viimistlemine'.
Benzilic acid (76-93-7);
Punkti 2B002 tähenduses:
Diethyl methylphosphonite (15715-41-0);
'MRF' on materjali eemaldamise protsess, milles kasutatakse abrasiivset magnetilist vedelikku, mille viskoossust reguleerib magnetväli.
Dimethyl ethylphosphonate (6163-75-3);
'ERF' on eemaldamise protsess, milles kasutatakse abrasiivset vedelikku, mille viskoossust reguleerib elektriväli.
Ethyl phosphinyl difluoride (430-78-4);
'Suure siseenergiaga osakeste joaga viimistlemisel' kasutatakse materjali selektiivseks eemaldamiseks reaktiivset aatomiplasmat (RAP) või ioonkiirgust.
Methyl phosphinyl difluoride (753-59-3);
'Täispuhutava membraaniga tööriistaviimistlus' on protsess, mille käigus kasutatakse surve all olevat membraani, mis deformeerub töödeldava pinnaga väga väikeses osas kokkupuuteks.
uinuclidone (3731-38-2);
'Vedelikujoaga viimistlemisel' kasutatakse materjali eemaldamiseks vedelikujuga.
Phosphorus pentachloride (10026-13-8);
Arv- ja käsijuhtimisega tööpingid ning spetsiaalselt nende jaoks ettenähtud komponendid, juhtimis- ja lisaseadmed, mis on ette nähtud karastatud (Rc = 40 või enam) sirghammastega silinderrataste, kaldhammasrataste ja noolhammasrataste, mille jaotusringjoone läbimõõt on suurem kui 1250 mm ning mille hamba tööpinna laius on 15 % jaotusringjoone läbimõõdust või enam ning mis on viimistletud AGMA 14 või parema kvaliteediga (võrdne ISO 1328 klass 3ga), lõikamiseks, viimistlemiseks, lihvimiseks või hoonimiseks.
Pinacolone (75-97-8);
Kuum"isostaatpressid" ning spetsiaalselt nende jaoks ettenähtud komponendid ja lisaseadmed:
Potassium cyanide (151-50-8);
VT KA PUNKTID 2B104 JA 2B204.
Potassium bifluoride (7789-29-9);
a. termiliselt kontrollitav keskkond suletud töökambris ning kambri siseläbimõõt on 406 mm või rohkem ja
Ammonium hydrogen fluoride or ammonium bifluoride (1341-49-7);
b. millel on mõni järgmistest omadustest:
Sodium fluoride (7681-49-4);
maksimaalne töörõhk üle 207 MPa;
Sodium bifluoride (1333-83-1);
kontrollitava termilise keskkonna temperatuur üle 1773 K (1500 °C) või
Sodium cyanide (143-33-9);
võimalus süsivesinikega impregneerimiseks ja tekkivate gaasiliste lagunemisproduktide eemaldamiseks.
Triethanolamine (102-71-6);
Kambri sisemõõde tähendab kambri selle osa mõõte, milles saavutatakse samaaegselt nii töötemperatuur kui ka töörõhk, ning siia ei arvestata kinnitusrakiseid.
Phosphorus pentasulphide (1314-80-3);
See mõõde on väiksem kas rõhukambri sisediameetrist või isoleeritud ahju sisediameetrist, sõltuvalt sellest, kumb kahest eespool nimetatud kambrist asub teise sees.
Di-isopropylamine (108-18-9);
Spetsiaalselt konstrueeritud stantside, valuvormide ning tööriistade kohta vt punktid 1B003, 9B009 ja sõjaliste kaupade nimekiri.
Diethylaminoethanol (100-37-8);
Seadmed, mis on spetsiaalselt ette nähtud anorgaaniliste kihtide, pinnakatete ja pinna modifikatsioonide sadestamiseks ja töötlemiseks mitteelektroonsetele põhimikele ning protsessi käigu kontrollimiseks selliste menetluste abil, mis on esitatud punkti 2E003.f tabelis ja märkustes ning spetsiaalselt nende seadmete automaatseks kasutamiseks, positsioneerimiseks, käsitsemiseks ja kontrolliks kavandatud komponendid:
Sodium sulphide (1313-82-2);
a. keemilise aurustamise-sadestamise (CVD) seadmed, millel on kõik järgmised omadused:
Sulphur monochloride (10025-67-9);
VT KA PUNKT 2B105.
Sulphur dichloride (10545-99-0);
ühe järgneva modifitseeritud protsessi kasutamine:
Triethanolamine hydrochloride (637-39-8);
a.
N,N-Diisopropyl-(Beta)-aminoethyl chloride hydrochloride (4261-68-1);
CVD-katmine pulseeriva rõhu juures;
Methylphosphonic acid (993-13-5);
b. kontrollitud idustamisega termiline sadestamine (CNTD) või
Diethyl methylphosphonate (683-08-9);
c. plasmaaktiveeritud või plasma osalusel CVD ja
N,N-Dimethylaminophosphoryl dichloride (677-43-0);
a. kasutatakse pöörlevaid kõrgvaakumtihendeid (rõhk 0,01 Pa või vähem) või
Triisopropyl phosphite (116-17-6);
b. protsessi käigus kontrollitakse pidevalt katte paksust (in situ);
Ethyldiethanolamine (139-87-7);
b. ioonlegeerimisseadmed, milles ioonivoo vool on 5 mA või rohkem;
O,O-Diethyl phosphorothioate (2465-65-8);
c. elektronkiire abil toimuva aurustamise-sadestamise (EB-PVD) seadmed nimivõimsusega kokku üle 80 kW ja millel on üks järgmistest omadustest:
O,O-Diethyl phosphorodithioate (298-06-6);
vannis vedelikutaseme "laser"kontrollisüsteem, mis reguleerib täpselt kangide söötmiskiirust, või
Sodium hexafluorosilicate (16893-85-9);
arvuti abil juhitav kiirusemonitor, mis kontrollib kaht või enamat elementi sisaldava katte sadestamise kiirust ning toimib auruvoos ioniseeritud aatomite fotoluminestsentsi mõõtmise põhimõttel;
Methylphosphonothioic dichloride (676-98-2);
d. plasmapihustusseadmed, millel on järgmised omadused:
Diethylamine (109-89-7).
protsess viiakse läbi madalal rõhul kontrollitavas atmosfääris (10 kPa või vähem, mõõdetuna kahuri väljunddüüsi kohal 300 mm piirides) vaakumkambris, milles on võimalik vähendada rõhku kuni 0,01 Pa enne pihustamisprotsessi algust, või
For exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 and .63 in which no individually specified chemical constitutes more than 10 % by the weight of the mixture.
protsessi käigus kontrollitakse pidevalt katte paksust (in situ);
For exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 and .63 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
e. atomisatsioonsadestusseadmed, mis võimaldavad voolutihedust 0,1 mA/mm2 või rohkem sadestuskiirusel 15 μm/h või rohkem;
1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350 .2, .6, .7, .8, .9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61, .62 and .64 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
f. katoodsadestusseadmed, mis sisaldavad elektromagnetitest võret kaare otspunkti juhtimiseks katoodil;
1C350 does not control products identified as consumer goods packaged for retail sale for personal use or packaged for individual use.
g. ioonpindamisseadmed, millega on võimalik (in situ) mõõta ükskõik kumba järgmistest:
Human and animal pathogens and "toxins", as follows:
kattekihi paksus põhimikul ja sadestuskiirus või
a.
optilised omadused.
Viruses, whether natural, enhanced or modified, either in the form of "isolated live cultures" or as material including living material which has been deliberately inoculated or contaminated with such cultures, as follows:
Punkt 2B005 ei hõlma keemilise aurustamise-sadestamise, katoodsadestuse, atomisatsioonsadestuse, ioonpindamise või ioonlegeerimise seadmeid, mis on spetsiaalselt kavandatud lõikamis- või tööriistade jaoks.
African horse sickness virus;
Mõõtmelised kontrolli- või mõõtesüsteemid, seadmed ja "elektroonikasõlmed":
Avian influenza virus, which are:
VT KA PUNKT 2B206.