natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Tritium, tritium compounds, mixtures containing tritium in which the ratio of tritium to hydrogen atoms exceeds 1 part in 1000, and products or devices containing any of the foregoing.
väntvõllid või nukkvõllid,
235 does not control a product or device containing less than 1.48 × 103 GBq (40 Ci) of tritium.
tööriistad või lõiketerad,
'Radionuclides' appropriate for making neutron sources based on alpha-n reaction, other than those specified in 0C001 and 1C012.a., in the following forms:
pressi tiguvõllid;
a.
graveeritud või lihvitud juveeltooted või
Elemental;
hambaproteesid.
b.
Tööpinke, millel on vähemalt kaks kolmest võimalusest – treimise, freesimise või lihvimise võimalus (nt treipink, millel on ka freesimise võimalus), tuleb hinnata kõigi kohaldatavate punktide 2B001.a, 2B001.b või 2B001.c järgi.
Compounds having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
Optiliste viimistlustööpinkide kohta vt punkt 2B002.
c.
a. treipingid, millel on kõik järgmised omadused:
Mixtures having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
„ühesuunalise positsioneerimise korratavus” (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,1 μm või vähem (parem) ja
d.
kaks või enam telge, mida võib üheaegselt koordineerida „kontuurjuhtimiseks”;
Products or devices containing any of the foregoing.
Punkt 2B001.a ei hõlma treipinke, mis on spetsiaalselt ette nähtud selliste kontaktläätsede tootmiseks, millel on kõik järgmised omadused:
236 does not control a product or device containing less than 3,7 GBq (100 millicuries) of activity.
masinjuhtimine on sisendandmete töötlemise programmide suhtes piiratud oftalmoloogilise tarkvara kasutamisega ja
In 1C236 'radionuclides' are any of the following:
ei kasuta vaakumiga kinnituspadrunit.
Actinium-225 (Ac-225)
b. freespingid, millel on üks järgmistest omadustest:
Actinium-227 (Ac-227)
millel on kõik järgmised omadused:
Californium-253 (Cf-253)
a. „ühesuunalise positsioneerimise korratavus” (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,1 μm või vähem (parem) ja
Curium-240 (Cm-240)
b. kolm lineaarset telge ja üks pöörlemistelg, mida saab üheaegselt koordineerida „kontuurjuhtimiseks”;
Curium-241 (Cm-241)
viis või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida „kontuurjuhtimiseks”, millel on ükskõik milline järgmistest omadustest;
Curium-242 (Cm-242)
‘Rööpmehhanismiga’ töömasinaid on kirjeldatud punktis 2B001.b.2.d.
Curium-244 (Cm-244)
b. „ühesuunalise positsioneerimise korratavus” (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,4 μm või vähem (parem) käigupikkusega 1 m või rohkem ja vähem kui 4 m;
Einsteinium-253 (Es-253)
c. „ühesuunalise positsioneerimise korratavus” (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 6,0 μm või vähem (parem) käigupikkusega 4 m või rohkem või
Einsteinium-254 (Es-254)
d. mis on ‘rööpmehhanismiga töömasin’;
Gadolinium-148 (Gd-148)
‘Rööpmehhanismiga töömasin’ on mitme lüliga töömasin, kus lülid on seotud aluse ja täituritega ja kus iga täitur käitab oma lüli üheaegselt ja sõltumatult.
Plutonium-238 (Pu-238)
lendteraga lõikeseadmed, millel on kõik järgmised omadused:
Polonium-208 (Po-208)
a. peavõlli „aksiaallõtku” ja „viskumise” koguväärtus on väiksem (parem) kui 0,0004 mm TIR ja
Polonium-209 (Po-209)
b. liugliikumise nurkhälvete (võnkumine risti- ja pikisuunas ning pöördliikumine) koguväärtus 300 mm teekonnal on väiksem (parem) kui 2 kaaresekundit TIR;
Polonium-210 (Po-210)
c. lihvimispingid, millel on mis tahes järgmised omadused:
Radium-223 (Ra-223)
b. kolm või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida „kontuurjuhtimiseks”, või
Thorium-227 (Th-227)
viis või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida „kontuurjuhtimiseks”, millel on mis tahes järgmised omadused;
Thorium-228 (Th-228)
a. „ühesuunalise positsioneerimise korratavus” (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,1 μm või vähem (parem) käigupikkusega alla 1 m;
Uranium-230 (U-230)
b. „ühesuunalise positsioneerimise korratavus” (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 1,4 μm või vähem (parem) käigupikkusega 1 m või rohkem ja vähem kui 4 m; või
Uranium-232 (U-232)
c. „ühesuunalise positsioneerimise korratavus” (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) on 6,0 μm või vähem (parem) käigupikkusega 4 m või rohkem.
Radium-226 (226Ra), radium-226 alloys, radium-226 compounds, mixtures containing radium-226, manufactures thereof, and products or devices containing any of the foregoing.
Punkt 2B001.c ei hõlma järgmisi lihvimispinke:
237 does not control the following:
silindriliste välis-, sise- ja välis-sisepindade lihvimispingid, millel on kõik järgmised omadused:
Medical applicators;
ainult silindriliste pindade lihvimiseks ja
A product or device containing less than 0,37 GBq (10 millicuries) of radium-226.
ainult selliste detailide töötlemiseks, mille maksimaalne välisläbimõõt või pikkus võib olla 150 mm.
Chlorine trifluoride (ClF3).
tööpingid, mis on spetsiaalselt projekteeritud koordinaatlihvimispinkidena, millel puuduvad z-telg või w-telg, mille „ühesuunalise positsioneerimise korratavus” on väiksem (parem) kui 1,1 μm
High explosives, other than those specified in the Military Goods Controls, or substances or mixtures containing more than 2 % by weight thereof, with a crystal density greater than 1,8 g/cm3 and having a detonation velocity greater than 8000 m/s.
pinnalihvimispingid.
Nickel powder and porous nickel metal, other than those specified in 0C005, as follows:
d. juhtmeteta elektroerosioonpingid (EDM), millel on kaks või enam pöördtelge, mida saab üheaegselt koordineerida „kontuurjuhtimiseks”;
a.
e. tööpingid metallide, keraamika ja „komposiitide” eemaldamiseks, millel on kõik järgmised omadused:
Nickel powder having both of the following characteristics:
kasutavad materjalide eemaldamiseks üht järgmistest moodustest:
A nickel purity content of 99,0 % or greater by weight; and
a. vee- või muude vedelike joad, kaasa arvatud need, mis sisaldavad abrasiivlisandeid;
A mean particle size of less than 10 μm measured by American Society for Testing and Materials (ASTM) B330 standard;
b. elektronkiir või
b.
c. „laser” kiir ja
Porous nickel metal produced from materials specified in 1C240.a.
millel on vähemalt kaks pöördtelge ja kõik järgmised omadused:
240 does not control the following:
a. mida saab üheaegselt „kontuurjuhtimiseks” koordineerida ja
Filamentary nickel powders;
b. positsioneerimis „täpsus” on väiksem (parem) kui 0,003 °;
Single porous nickel sheets with an area of 1000 cm2 per sheet or less.
f. puurpingid sügavate aukude puurimiseks ning sügavate aukude puurimiseks kohandatud treipingid, mis võimaldavad puuritava augu maksimaalseks sügavuseks 5 m ja enam.
b. refers to porous metal formed by compacting and sintering the materials in 1C240.a. to form a metal material with fine pores interconnected throughout the structure.
„Arvjuhitavad” optilised viimistlustööpingid materjali selektiivseks eemaldamiseks ja selle kaudu mittesfääriliste optiliste pindade tootmiseks ja millel on kõik järgmised omadused:
Rhenium, and alloys containing 90 % by weight or more rhenium; and alloys of rhenium and tungsten containing 90 % by weight or more of any combination of rhenium and tungsten, other than those specified in 1C226, having both of the following characteristics:
a. valmistamistäpsus (tolerants) on väiksem kui 1,0 μm;
a.
b. pinna karedus on väiksem (parem) kui 100 nm rms.
In forms with a hollow cylindrical symmetry (including cylinder segments) with an inside diameter between 100 and 300 mm; and
c. neli või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida „kontuurjuhtimiseks”, ja
Chemicals, which may be used as precursors for toxic chemical agents, as follows, and "chemical mixtures" containing one or more thereof:
d. mis kasutavad mis tahes järgmist protsessi:
SEE ALSO MILITARY GOODS CONTROLS AND 1C450.
magneto-reoloogiline viimistlemine (‘MRF’);
Thiodiglycol (111-48-8);
elektro-reoloogiline viimistlemine (‘ERF’);
Phosphorus oxychloride (10025-87-3);
‘suure siseenergiaga osakeste joaga viimistlemine’;
Dimethyl methylphosphonate (756-79-6);
‘täispuhutava membraaniga tööriistaviimistlus’ või
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Methyl phosphonyl difluoride (676-99-3);
‘vedelikujoaga viimistlemine’.
Methyl phosphonyl dichloride (676-97-1);
Punkti 2B002 tähenduses:
Dimethyl phosphite (DMP) (868-85-9);
‘MRF’ on materjali eemaldamise protsess, milles kasutatakse abrasiivset magnetilist vedelikku, mille viskoossust reguleerib magnetväli.
Phosphorus trichloride (7719-12-2);
‘ERF’ on eemaldamise protsess, milles kasutatakse abrasiivset vedelikku, mille viskoossust reguleerib elektriväli.
Trimethyl phosphite (TMP) (121-45-9);
‘Suure siseenergiaga osakeste joaga viimistlemisel’ kasutatakse materjali selektiivseks eemaldamiseks reaktiivset aatomiplasmat (RAP) või ioonkiirgust.
Thionyl chloride (7719-09-7);
‘Täispuhutava membraaniga tööriistaviimistlus’ on protsess, mille käigus kasutatakse surve all olevat membraani, mis deformeerub töödeldava pinnaga väga väikeses osas kokkupuuteks.
ydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);
‘Vedelikujoaga viimistlemisel’ kasutatakse materjali eemaldamiseks vedelikujuga.
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethyl chloride (96-79-7);
Arv- ja käsijuhtimisega tööpingid ning spetsiaalselt nende jaoks ettenähtud komponendid, juhtimis- ja lisaseadmed, mis on ette nähtud karastatud (Rc = 40 või enam) sirghammastega silinderrataste, kaldhammasrataste ja noolhammasrataste, mille jaotusringjoone läbimõõt on suurem kui 1250 mm ning mille hamba tööpinna laius on 15 % jaotusringjoone läbimõõdust või enam ning mis on viimistletud AGMA 14 või parema kvaliteediga (võrdne ISO 1328 klass 3 ga), lõikamiseks, viimistlemiseks, lihvimiseks või hoonimiseks.
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethane thiol (5842-07-9);
Kuum „isostaatpressid” ning spetsiaalselt nende jaoks ettenähtud komponendid ja lisaseadmed:
uinuclidinol (1619-34-7);
VT KA PUNKTID 2B104 JA 2B204.
Potassium fluoride (7789-23-3);
a. termiliselt kontrollitav keskkond suletud töökambris ning kambri siseläbimõõt on 406 mm või rohkem ja
hloroethanol (107-07-3);
b. millel on mõni järgmistest omadustest:
Dimethylamine (124-40-3);
maksimaalne töörõhk üle 207 MPa;
Diethyl ethylphosphonate (78-38-6);
kontrollitava termilise keskkonna temperatuur üle 1773 K (1500 °C) või
Diethyl N,N-dimethylphosphoramidate (2404-03-7);
võimalus süsivesinikega impregneerimiseks ja tekkivate gaasiliste lagunemisproduktide eemaldamiseks.
Diethyl phosphite (762-04-9);
Kambri sisemõõde tähendab kambri selle osa mõõte, milles saavutatakse samaaegselt nii töötemperatuur kui ka töörõhk, ning siia ei arvestata kinnitusrakiseid.
Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);
See mõõde on väiksem kas rõhukambri sisediameetrist või isoleeritud ahju sisediameetrist, sõltuvalt sellest, kumb kahest eespool nimetatud kambrist asub teise sees.
Ethyl phosphinyl dichloride (1498-40-4);
Spetsiaalselt konstrueeritud stantside, valuvormide ning tööriistade kohta vt punktid 1B003, 9B009 ja sõjaliste kaupade nimekiri.
Ethyl phosphonyl dichloride (1066-50-8);
Seadmed, mis on spetsiaalselt ette nähtud anorgaaniliste kihtide, pinnakatete ja pinna modifikatsioonide sadestamiseks ja töötlemiseks mitteelektroonsetele põhimikele ning protsessi käigu kontrollimiseks selliste menetluste abil, mis on esitatud punkti 2E003.f tabelis ja märkustes ning spetsiaalselt nende seadmete automaatseks kasutamiseks, positsioneerimiseks, käsitsemiseks ja kontrolliks kavandatud komponendid:
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Ethyl phosphonyl difluoride (753-98-0);
a. keemilise aurustamise-sadestamise (CVD) seadmed, millel on kõik järgmised omadused:
Hydrogen fluoride (7664-39-3);
VT KA PUNKT 2B105.
Methyl benzilate (76-89-1);
ühe järgneva modifitseeritud protsessi kasutamine:
Methyl phosphinyl dichloride (676-83-5);
a.
N,N-Diisopropyl-(beta)-amino ethanol (96-80-0);
CVD-katmine pulseeriva rõhu juures;
Pinacolyl alcohol (464-07-3);
b. kontrollitud idustamisega termiline sadestamine (CNTD) või
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for O-Ethyl-O-2-diisopropylaminoethyl methyl phosphonite (QL) (57856-11-8);
c. plasmaaktiveeritud või plasma osalusel CVD ja
Triethyl phosphite (122-52-1);
a. kasutatakse pöörlevaid kõrgvaakumtihendeid (rõhk 0,01 Pa või vähem) või
Arsenic trichloride (7784-34-1);
b. protsessi käigus kontrollitakse pidevalt katte paksust reaalajas (in situ);
Benzilic acid (76-93-7);
b. ioonlegeerimisseadmed, milles ioonivoo vool on 5 mA või rohkem;
Diethyl methylphosphonite (15715-41-0);
c. elektronkiire abil toimuva aurustamise-sadestamise (EB-PVD) seadmed nimivõimsusega kokku üle 80 kW ja millel on üks järgmistest omadustest:
Dimethyl ethylphosphonate (6163-75-3);
vannis vedelikutaseme „laser” kontrollisüsteem, mis reguleerib täpselt kangide söötmiskiirust, või
Ethyl phosphinyl difluoride (430-78-4);
arvuti abil juhitav kiirusemonitor, mis kontrollib kaht või enamat elementi sisaldava katte sadestamise kiirust ning toimib auruvoos ioniseeritud aatomite fotoluminestsentsi mõõtmise põhimõttel;
Methyl phosphinyl difluoride (753-59-3);
d. plasmapihustusseadmed, millel on järgmised omadused:
uinuclidone (3731-38-2);
protsess viiakse läbi madalal rõhul kontrollitavas atmosfääris (10 kPa või vähem, mõõdetuna kahuri väljunddüüsi kohal 300 mm piirides) vaakumkambris, milles on võimalik vähendada rõhku kuni 0,01 Pa enne pihustamisprotsessi algust, või
Phosphorus pentachloride (10026-13-8);
protsessi käigus kontrollitakse pidevalt katte paksust (in situ);
Pinacolone (75-97-8);
e. atomisatsioonsadestusseadmed, mis võimaldavad voolutihedust 0,1 mA/mm2 või rohkem sadestuskiirusel 15 μm/h või rohkem;
Potassium cyanide (151-50-8);
f. katoodsadestusseadmed, mis sisaldavad elektromagnetitest võret kaare otspunkti juhtimiseks katoodil;
Potassium bifluoride (7789-29-9);
g. ioonpindamisseadmed, millega on võimalik (in situ) mõõta ükskõik kumba järgmistest:
Ammonium hydrogen fluoride or ammonium bifluoride (1341-49-7);
kattekihi paksus põhimikul ja sadestuskiirus või
Sodium fluoride (7681-49-4);
optilised omadused.
Sodium bifluoride (1333-83-1);
Punkt 2B005 ei hõlma keemilise aurustamise-sadestamise, katoodsadestuse, atomisatsioonsadestuse, ioonpindamise või ioonlegeerimise seadmeid, mis on spetsiaalselt kavandatud lõikamis- või tööriistade jaoks.
Sodium cyanide (143-33-9);
Mõõtmelised kontrolli- või mõõtesüsteemid, seadmed ja „elektroonikasõlmed”:
Triethanolamine (102-71-6);
a. arvutiga juhitavad või „arvjuhitavad” koordinaatmõõtemasinad (CMM), millel kolmemõõtmeline (ruumiline) maksimaalne lubatud pikkuse mõõtmise piirviga (E0,MPE) on masina tööpiirkonna igas punktis (st telgede pikkuse ulatuses) võrdne või väiksem (parem) kui (1,7 + L/1000) μm (L on mõõdetud pikkus millimeetrites), mõõtes vastavalt ISO standardile 10360–2 (2009);
Phosphorus pentasulphide (1314-80-3);
Tootja määratud CMM kõige täpsema konfiguratsiooni E0,MPE (nt järgnevatest parim: mõõteandur, mõõteotsaku pikkus, liikumisparameetrid, keskkond) ning koos „kõigi olemasolevate kompensatsioonidega” on võrreldav 1,7+L/1000 μm künnisega.
Di-isopropylamine (108-18-9);
VT KA PUNKT 2B206.
Diethylaminoethanol (100-37-8);
b. lineaarse ja nurknihke mõõtevahendid:
Sodium sulphide (1313-82-2);
‘lineaarnihke’ mõõtevahendid, millel on mis tahes järgmised omadused:
Sulphur monochloride (10025-67-9);
Nihet mõõtvaid „laser” interferomeetrid on hõlmatud ainult punktis 2B006.b.1.c.
Sulphur dichloride (10545-99-0);
a. mittekontakt-tüüpi mõõtesüsteemid, mille „eraldusvõime” on kuni 0,2 mm mõõtepiirkonnas 0,2 μm või vähem (parem);
Triethanolamine hydrochloride (637-39-8);
b. lineaardiferentsiaaltransformaatorsüsteemid (LVDT), millel on kõik järgmised omadused:
N,N-Diisopropyl-(Beta)-aminoethyl chloride hydrochloride (4261-68-1);
a. „lineaarsus” on 0,1 % või vähem (parem), mõõdetuna nullist ‘täistööpiirkonnani’ LVDT-de puhul, mille ‘täistööpiirkond’ on kuni ± 5 mm (kaasa arvatud), või
Methylphosphonic acid (993-13-5);
b. „lineaarsus” on 0,1 % või vähem (parem), mõõdetuna nullist 5 millimeetrini LVDT-de puhul, mille ‘täistööpiirkond’ on rohkem kui ± 5 mm, ja
Diethyl methylphosphonate (683-08-9);
triiv on väiksem (parem) kui 0,1 % päevas või sellega võrdne kontrollruumi standardtemperatuuri kõikumisel ± 1 K;
N,N-Dimethylaminophosphoryl dichloride (677-43-0);
Vastavalt punktile 2B006.b.1.b. on ‘täistööpiirkond’ pool LVDT kogu võimalikust lineaarnihkest.
Triisopropyl phosphite (116-17-6);
Näiteks LVDT-d ‘täistööpiirkonnaga’ kuni ± 5 mm (kaasa arvatud) suudavad mõõta võimalikku lineaarnihet kokku 10 mm.
Ethyldiethanolamine (139-87-7);
c. mõõtesüsteemid, millel on kõik järgmised omadused:
O,O-Diethyl phosphorothioate (2465-65-8);
sisaldavad „laserit” ja
O,O-Diethyl phosphorodithioate (298-06-6);
säilitavad vähemalt 12 tunni jooksul temperatuuril 20 ± 1 °C kõik järgmised omadused:
Sodium hexafluorosilicate (16893-85-9);
a. „eraldusvõime” mõõteskaala täisulatuses 0,1 μm või väiksem (parem) ja
Methylphosphonothioic dichloride (676-98-2).
b. õhu murdumisnäitaja osas kompenseerituna suuteline saavutama mis tahes mõõtmispiirkonna punktis „mõõtehälbe”, mis on (0,2 + L/2000) μm (L on mõõdetud pikkus millimeetrites) või sellest väiksem (parem), või
For exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 and .63 in which no individually specified chemical constitutes more than 10 % by the weight of the mixture.
d. „elektroonikasõlmed”, mis on spetsiaalselt ette nähtud tagasiside andmiseks punktis 2B006.b.1.c nimetatud süsteemides;
For exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 and .63 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Punkt 2B006.b.1 ei hõlma interferomeetrilisi mõõtesüsteeme, millel on automaatkontrollsüsteem, mis ei kasuta tagasisidetehnoloogiat ja mis sisaldavad „laserit” tööpingi, mõõtekontrollimehhanismide või sarnaste seadmete nihkuri liikumise vigade mõõtmiseks.
350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61 and .62 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
nurknihke mõõtevahendid, mille nurkpositsiooni „täpsus” on 0,00025 ° või väiksem (parem);
350 does not control products identified as consumer goods packaged for retail sale for personal use or packaged for individual use.
Punkt 2B006.b.2 ei hõlma optilisi seadmeid, nagu autokollimaatorid, mis kasutavad kollimeeritud valgust (nt laservalgust) peegli nurknihke määramiseks.
Human and animal pathogens and "toxins", as follows:
c.
a.
Seadmed pinna ebatasasuse (sealhulgas pinnadefektide) mõõtmiseks, mis mõõdavad optilist hajumist tundlikkusega 0,5 nm või vähem (parem).
Viruses, whether natural, enhanced or modified, either in the form of "isolated live cultures" or as material including living material which has been deliberately inoculated or contaminated with such cultures, as follows:
Punkt 2B006 hõlmab tööpinke, v.a punktis 2B001 täpsustatud tööpinke, mida saab kasutada mõõtemasinatena, kui nad vastavad mõõtemasinate toimimisele kehtestatud kriteeriumidele või ületavad neid.
African horse sickness virus;
„Robotid”, millel on järgmised tehnilised omadused, ning spetsiaalselt nende jaoks ettenähtud juhtimisseadmed ja „tööorganid”:
African swine fever virus;
VT KA PUNKT 2B207.
Andes virus;
a. on võimelised kolmemõõtmelise kujutise täielikuks töötluseks või täielikuks kolmemõõtmeliseks ‘stseeni analüüsiks’ reaalajas, et genereerida või teisendada „programme” või et genereerida või teisendada programmi arvandmeid;
Avian influenza virus, which are:
Stseenianalüüsi piirang ei hõlma kolmanda mõõtme lähendusi, kui vaadatakse antud nurga all, või piiratud hallskaala tõlgendusi sügavuse või tekstuuri tajumiseks heakskiidetud ülesannete jaoks (2 1/2 D).
a.
b. on spetsiaalselt projekteeritud rahuldama riigisiseseid ohutusnorme, mida kohaldatakse potentsiaalselt plahvatusohtliku sõjamoona ümbruses;
Uncharacterised; or
Punkt 2B007.b ei hõlma „roboteid”, mis on spetsiaalselt ette nähtud pulverisaatorvärvimiskambritele.
b.
c. on spetsiaalselt projekteeritud või liigitatud kiirguskestvana, võimelisena taluma suuremat kui 5 × 103 Gy (räni) summaarset kiirgusdoosi, ilma toimimisvõime languseta, või
Defined in Annex I(2) EC Directive 2005/94/EC (OJ L 10 14.1.2006 p.
Termin „Gy (räni)” tähistab ühes kilogrammis ekraneerimata räniproovis selle ioniseeriva kiirgusega kiiritamisel neeldunud energiahulka džaulides.
16) as having high pathogenicity, as follows:
d. spetsiaalselt ette nähtud töötama kõrgemal kui 30000 m.
Type A viruses with an IVPI (intravenous pathogenicity index) in 6 week old chickens of greater than 1,2; or
Agregaadid või moodulid, mis on spetsiaalselt ette nähtud tööpinkide jaoks, või mõõtmelised kontrolli- või mõõtesüsteemid ja -seadmed:
Type A viruses of the subtypes H5 or H7 with genome sequences codified for multiple basic amino acids at the cleavage site of the haemagglutinin molecule similar to that observed for other HPAI viruses, indicating that the haemagglutinin molecule can be cleaved by a host ubiquitous protease;
a. lineaarasendi tagasiside moodulid, mille üldine „täpsus” on väiksem (parem) kui (800 + (600 × L/1000)) nm (L on võrdne efektiivpikkusega millimeetrites);
Bluetongue virus;
„Laser” süsteemide kohta vaata ka märkust punktides 2B006.b.1.c ja 2B006.b.1.d.
Choclo virus;
Punktides 2B008.a ja 2B008.b kirjeldatud juhtseadmed, mis on ette nähtud asukoha määramiseks või tagasisidega reguleerimiseks, nagu näiteks induktiivandurid, gradueeritud skaalad, infrapunasüsteemid või „laser”-süsteemid.
Congo-Crimean haemorrhagic fever virus;
c. „liitpöördlauad” ja „kallutatavad spindlid”, mis võimaldavad metallilõikepinke vastavalt tootja spetsifikatsioonidele täiustada, saavutades või ületades punktis 2B kirjeldatud või kõrgema taseme.
Dengue fever virus;
Trugimis- ja tõukamispingid, mis vastavalt tootja tehnilisele kirjeldusele võivad olla varustatud „arvjuhtimis” mooduliga või arvutijuhtimisega ja millel on kõik järgmised omadused:
Dobrava-Belgrade virus;
VT KA PUNKTID 2B109 JA 2B209.
Eastern equine encephalitis virus;
a. kolm või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida „kontuurjuhtimiseks”, ja
Ebola virus;
b. valtsimisjõud üle 60 kN.
Foot and mouth disease virus;
Tööpinke, milles on ühendatud nii trugimise kui ka tõukamise põhimõtted, käsitatakse punkti 2B009 tähenduses tõukamispinkidena.
Goat pox virus;
„Isostaatpressid”, muud kui punktis 2B004 nimetatud, millel on kõik järgmised omadused:
Guanarito virus;
VT KA PUNKT 2B204.
Hantaan virus;
a. maksimaalne töörõhk 69 MPa või suurem;
Hendra virus (Equine morbillivirus);
b. konstrueeritud reguleeritava soojusliku 873 K (600 °C) või kõrgema temperatuurilise keskkonna saavutamiseks ning säilitamiseks ja
Herpes virus (Aujeszky's disease);
c. kambriõõnsuse siseläbimõõt on 254 mm või rohkem.
Hog cholera virus (swine fever virus);
Keemilise aurustamise-sadestamise (CVD) ahjud, muud kui punktis 2B005.a nimetatud, mis on kavandatud või kohandatud süsinik-süsinik-komposiitide tihendamiseks.
Japanese encephalitis virus;
Tõukamispingid, muud kui punktis 2B009 nimetatud, ja spetsiaalselt nende jaoks ettenähtud komponendid:
Junin virus;
VT KA PUNKT 2B209.
Kyasanur Forest virus;
a. tõukamispingid, millel on kõik järgmised omadused:
Laguna Negra virus;
vastavalt tootja tehnilisele kirjeldusele võivad olla varustatud „arvjuhtimis” mooduli või arvutijuhtimisega ka siis, kui nad seda algselt ei ole, ja
Lassa fever virus;
kahe või enama juhitava teljega, millest vähemalt kaht on võimalik üheaegselt „kontuurjuhtimiseks” koordineerida.
Louping ill virus;
b. punktis 2B009 või 2B109.a nimetatud tõukamispinkide jaoks spetsiaalselt konstrueeritud komponendid.
Lujo virus;
Punkt 2B109 ei hõlma masinaid, mis ei ole kasutatavad tõukemootori komponentide ja seadmete (nt mootorikestad) tootmiseks punktis 9A005, 9A007.a või 9A105.a nimetatud süsteemidele.