natgillin/translations-raw huggingface dataset:
j. Incinerators designed to destroy chemicals specified in entry 1C350, having specially designed waste supply systems, special handling facilities and an average combustion chamber temperature greater than 1273 K (1000 °C), in which all surfaces in the waste supply system that come into direct contact with the waste products are made from or lined with any of the following materials:
j. punktis 1C350 nimetatud kemikaalide hävitamiseks ettenähtud põletusseadmed, mis on varustatud spetsiaalselt kavandatud jäätmete etteande süsteemiga, spetsiaalsete käsitsemisseadmetega ning põletuskambri keskmise temperatuuriga üle 1273 K (1000 °C), mille jäätmete etteande süsteemi kemikaalidega otseselt kokku puutuvad tööpinnad on valmistatud mis tahes järgmistest materjalidest:
Nickel or ‘alloys’ with more than 40 % nickel by weight.
nikkel või sulamid, milles on üle 40 massiprotsendi niklit.
‘Carbon graphite’ is a composition consisting of amorphous carbon and graphite, in which the graphite content is eight percent or more by weight.
‘Süsinikgrafiit’ on amorfse süsiniku ja grafiidi segu, milles grafiidisisaldus on 8 massiprotsenti või rohkem.
For the listed materials in the above entries, the term ‘alloy’ when not accompanied by a specific elemental concentration is understood as identifying those alloys where the identified metal is present in a higher percentage by weight than any other element.
Eelpool esitatud punktides loetletud materjalides on sulam, mille suhtes pole antud konkreetset elemendi kontsentratsiooni, selline sulam, milles nimetatud metall moodustab suurema massiprotsendi kui mõni teine element.
Toxic gas monitoring systems and their dedicated detecting components, other than those specified in 1A004, as follows; and detectors; sensor devices; and replaceable sensor cartridges therefor:
Mürgiste gaaside seire süsteemid ja nende eriotstarbelised detektorkomponendid, mida ei ole punktis 1A004 nimetatud, ning detektorid, sensorseadmed ja nende jaoks ette nähtud asendatavad sensorpadrunid:
a. Designed for continuous operation and usable for the detection of chemical warfare agents or chemicals specified in 1C350, at concentrations of less than 0,3 mg/m3; or
a. kavandatud pidevaks toimimiseks ja kasutatavad keemiliste ründeainete ja punktis 1C350 nimetatud kemikaalide avastamiseks kontsentratsioonidel alla 0,3 mg/m3 või
b. Designed for the detection of cholinesterase-inhibiting activity.
b. ainete avastamiseks, millel on koliinesteraasi inhibeeriv mõju.
a. Complete biological containment facilities at P3, P4 containment level;
a. komplektsed isolaatorid, mis vastavad ohutustasemetele P3 või P4;
P3 or P4 (BL3, BL4, L3, L4) containment levels are as specified in the WHO Laboratory Biosafety manual (3rd edition Geneva 2004).
P3 või P4 (BL3, BL4, L3, L4) ohtutustasemed on määratletud Maailma Terviseorganisatsiooni laboratooriumide bioohutuse käsiraamatus (WHO Laboratory Biosafety Manual)(kolmas väljaanne, Genf 2004).
b. Fermenters capable of cultivation of pathogenic “microorganisms”, viruses or capable of toxin production, without the propagation of aerosols, and having a total capacity of 20 litres or more;
b. fermentaatorid, mida on ilma aerosoolide keskkonda sattumise riskita võimalik kasutada patogeensete „mikroorganismide” ja viiruste kultiveerimiseks või toksiinide valmistamiseks, üldmahuga 20 liitrit või enam;
c. Centrifugal separators, capable of continuous separation without the propagation of aerosols, having all the following characteristics:
c. tsentrifugaalseparaatorid, mis ilma aerosoolide keskkonda sattumise riskita võimaldavad pidevat separeerimist ning millel on kõik järgmised omadused:
Flow-rate exceeding 100 litres per hour;
läbivoolukiirus üle 100 liitri tunnis;
In 2B352.f.2., isolators include flexible isolators, dry boxes, anaerobic chambers, glove boxes and laminar flow hoods (closed with vertical flow).
Tehniline märkus
g. Chambers designed for aerosol challenge testing with “microorganisms”, viruses or “toxins” and having a capacity of 1 m3 or greater.
Punktis 2B352.d.1.b tähendab steriliseerimine kõigi eluvõimeliste mikroobide elimineerimist aparatuurilt füüsikaliste mõjurite (nt aur) või keemiliste toimeainete kasutamise teel. Desinfitseerimine tähendab potentsiaalse mikroobidega nakkavuse kõrvaldamist aparatuurilt bakteritsiidsete keemiliste toimeainete kasutamise teel. Desinfektsioon ja steriliseerimine erinevad hügieeniliseks tegemisest (sanitisation), mis tähendab puhastamist, mille eesmärk on aparatuuril mikroobe vähendada ilma, et saavutataks tingimata täielik mikroobidega nakkavuse või kõigi elujõuliste mikroobide kõrvaldamine.
“Software”, other than that specified in 2D002, specially designed or modified for the “development”, “production” or “use” of equipment specified in 2A001 or 2B001 to 2B009.
Märkus: punkt 2B352.f.1 ei hõlma ülikondi, mis on ette nähtud kasutamiseks koos kompaktse hingamisseadmega. 2. III klassi bioloogiliselt ohutud ruumid või isolaatorid, mis vastavad samadele toimimisstandarditele; Märkus:
002 does not control “software” specially designed or modified for the operation of machine tools not specified in Category 2.
Materjalid Puuduvad. 2D Tarkvara 2D001 Punktis 2D002 nimetamata „tarkvara”, mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktides 2A001 või 2B001–2B009 nimetatud seadmete „arenduseks”, „tootmiseks” või „kasutamiseks”. 2D002 „Tarkvara” elektroonsetele seadmetele, ka siis, kui see on elektroonsesse seadmesse või süsteemi pidevalt paigaldatud, mis võimaldab selliseid seadmeid või süsteeme toimida „arvjuhitavate” moodulitena ja mis suudab koordineerida üheaegselt enam kui nelja telje liikumist „kontuurjuhtimiseks”. Märkus 1:
002 does not control “software” for items specified in 2B002.
Märkus 2: punkt 2D002 ei hõlma „tarkvara” punktis 2B002 määratletud kaupadele.
See 2D001 for “software” for items specified in 2B002.
Punktis 2B002 määratletud kaupade „tarkvara” kohta vaata punkti 2D001.
“Software” specially designed or modified for the “use” of equipment specified in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 or 2B119 to 2B122.
„Tarkvara”, mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktis 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 või 2B119–2B122 nimetatud seadmete „kasutamiseks”.
SEE ALSO 9D004.
VT KA PUNKTI 9D004.
“Software” specially designed for the “use” of equipment specified in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 or 2B227.
„Tarkvara”, mis on spetsiaalselt loodud punktis 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 või 2B227 nimetatud seadmete „kasutamiseks”.
“Software” specially designed or modified for the “development”, “production” or “use” of equipment specified in 2B201.
„Tarkvara”, mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktis 2B201 nimetatud seadmete „arenduseks”, „tootmiseks” või „kasutamiseks”.
“Software”, other than that specified in 1D003, specially designed for “use” of equipment specified in 2B351.
Punktiga 1D003 hõlmamata „tarkvara”, mis on spetsiaalselt loodud punktis 2B351 nimetatud seadmete „kasutamiseks”.
“Technology” according to the General Technology Note for the “development” of equipment or “software” specified in 2A, 2B or 2D.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav „tehnoloogia” punktides 2A, 2B või 2D nimetatud seadmete või „tarkvara”„arenduseks”.
“Technology” according to the General Technology Note for the “production” of equipment specified in 2A or 2B.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav „tehnoloogia”, mis on ette nähtud punktis 2A või 2B nimetatud seadmete „tootmiseks”.
Other “technology”, as follows:
Muu järgmine „tehnoloogia”:
a. “Technology” for the “development” of interactive graphics as an integrated part in “numerical control” units for preparation or modification of part programmes;
a. „tehnoloogia” töötlemisprogrammide ettevalmistamiseks või muutmiseks vajaliku interaktiivgraafika „arenduseks”„arvjuhtimis” moodulite integreeritud osana;
b. “Technology” for metal-working manufacturing processes, as follows:
b. metallitöötlemise tootmisprotsesside „tehnoloogia”:
“Technology” for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
spetsiaalselt järgnevalt loetletud protsesside jaoks loodud tööriistade, matriitside ja rakiste konstrueerimise „tehnoloogia”:
a. “Superplastic forming”;
a. „üliplastne vormimine”;
b. “Diffusion bonding”; or
b. „difusioonkeevitus” või
c. “Direct-acting hydraulic pressing”;
c. „otsetoimehüdropressimine”;
a. “Superplastic forming” of aluminium alloys, titanium alloys or “superalloys”:
a. alumiiniumi-, titaani- või „supersulamite”„üliplastne vormimine”:
Surface preparation;
pinna ettevalmistus,
Strain rate;
deformatsiooni kiirus,
Temperature;
temperatuur,
Pressure;
rõhk,
b. “Diffusion bonding” of “superalloys” or titanium alloys:
b. titaani- või „supersulamite”„difusioonkeevitus”:
c. “Direct-acting hydraulic pressing” of aluminium alloys or titanium alloys:
c. alumiiniumi- või titaanisulamite „otsetoimehüdropressimine”:
d. “Hot isostatic densification” of titanium alloys, aluminium alloys or “superalloys”:
d. titaani-, alumiiniumi- või „supersulamite”„kuumisostaattihendamine”:
c. “Technology” for the “development” or “production” of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
c. õhusõidukite tarindite tootmiseks hüdraulilise venitamisega vormimismasinate ja nende juurde kuuluvate matriitside „arendus”- või „tootmis”-„tehnoloogia”;
d. “Technology” for the “development” of generators of machine tool instructions (e.g. part programmes) from design data residing inside “numerical control” units;
d. tööpingi „arvjuhtimis” moodulis olevatest projekteerimisandmetest juhtimiskäskude moodustamise generaatori (nt töötlemisprogrammid) „arendus”-„tehnoloogia”;
e. “Technology” for the “development” of integration “software” for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into “numerical control” units;
e. „tehnoloogia” integratsiooni „tarkvara”„arenduseks” ekspertsüsteemide sisseviimiseks „arvjuhitavatesse” moodulitesse, tootmispindadel toiminguotsuste edendatud toetamiseks;
f. “Technology” for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
f. „tehnoloogia” mitteelektroonsete põhimike (substraatide) (määratletud alljärgneva tabeli 2. veerus) anorgaaniliste pinnakatetega või anorgaaniliste muundatud pinnakatetega (määratletud alljärgneva tabeli 3. veerus) katmiseks protsessides, mis on määratletud alljärgneva tabeli 1. veerus ning on defineeritud tehnilises märkuses.
The table and Technical Note appear after entry 2E301.
tabel ning tehniline märkus on esitatud punkti 2E301 järel.
This table should be read to specify the technology of a particular Coating Process only when the Resultant Coating in column 3 is in a paragraph directly across from the relevant Substrate under column 2.
Nimetatud tabelit tuleks tõlgendada nii, et selles määratakse konkreetse pindamismenetluse tehnoloogia kindlaks vaid juhul, kui 3. veerus esitatud lõplikud kihid on märgitud punktis, mis paikneb otse asjaomast substraati märkiva 2. veerus oleva punkti vastas.
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are included for the application of silicides to carbon-carbon, ceramic and metal “matrix” “composites” substrates, but are not included for the application of silicides to ‘cemented tungsten carbide’ (16), ‘silicon carbide’ (18) substrates.
Näiteks keemilist aurustamist-sadestamist (CVD) hõlmava pindamismenetluse tehnilised andmed puudutavad neid juhte, kus silitsiitidega pinnatakse süsinik-süsinik-, keraamiliste ja metallpõhiainete komposiitsubstraate, kuid ei kehti siis, kui silitsiitidega pinnatakse kõvasulamvolframkarbiid- (16) ja ränikarbiid (18) -substraate.
In the second case, the resultant coating is not listed in the paragraph under column 3 directly across from the paragraph under column 2 listing ‘cemented tungsten carbide’ (16), ‘silicon carbide’ (18).
Teisel juhul ei nimetata lõplikke kihte (silitsiidid) 3. veeru punktis, mis asub otse 2. veeru selle punkti vastas, kus on loetletud kõvasulamvolframkarbiid (16) ja ränikarbiid (18).
“Technology” according to the General Technology Note for the “use” of equipment or “software” specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav „tehnoloogia”, mis on ette nähtud punktis 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119–2B122 või 2D101 nimetatud seadmete või „tarkvara”„kasutamiseks”.
“Technology” according to the General Technology Note for the “use” of equipment or “software” specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B232, 2D201 or 2D202.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav „tehnoloogia”, mis on ette nähtud punktis 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225–2B232, 2D201 või 2D202 nimetatud seadmete või „tarkvara”„kasutamiseks”.
“Technology” according to the General Technology Note for the “use” of goods specified in 2B350 to 2B352.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav „tehnoloogia”, mis on ette nähtud punktides 2B350–2B352 nimetatud kaupade „kasutamiseks”.
Coating Process (1) [5]
Pindamismenetlus (1) [5]
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
A. Keemiline aurustamine-sadestamine (CVD)
“Superalloys”
„Supersulamid”
Carbon-carbon, Ceramic and Metal “matrix” “composites”
Süsinik-süsinik, keraamiliste ja metall „põhiainete”„komposiidid”
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
Kõvasulam volframkarbiid (16) ränikarbiid (18)
Sensor window materials (9)
Andur-akna materjalid (9)
B. Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
B. Termoaurustamine – füüsikaline aurustamine-sadestamine (TE-PVD)
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
Füüsikaline aurustamine-sadestamine (PVD): elektronkiir (EB-PVD)
Physical Vapour Deposition (PVD): “Laser” Vaporisation
Füüsikaline aurustamine-sadestamine (PVD): „laser” aurustamine
Polymers (11) and Organic “matrix” “composites”
Polümeerid (11) ja orgaaniliste „põhiainete”„komposiidid”
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
C. Tahke tsementiitimine (vt A ülal pulber-kontaktita (out-of-pack) tsementiitimine) (10)
D. Plasma spraying
D. Plasmapihustus
E. Slurry Deposition
E. Mudasadestus
Fused aluminides except for resistance heating elements
Klaasistatud aluminiidid, v.a takistus- kütteelemendid
F. Sputter Deposition
F. Atomisatsioonsadestamine
G. Ion Implantation
G. Ioonlegeerimine
Table — Deposition Techniques — Notes
Tabel – Pinnakatmise tehnikad – Märkused
The term ‘coating process’ includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
Mõiste ‘pindamismenetlus’ hõlmab nii pinnakatte parandamist ja uuendamist kui ka originaalpinnakatmist.
The term ‘alloyed aluminide coating’ includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
Mõiste ‘legeeritud aluminiidkate’ sisaldab ühe- või mitmeastmelise katmise, mille kestel element või elemendid on sadestatud enne või ka samaaegselt aluminiidiga, ka siis, kui need elemendid sadestatakse erineva pindamismenetluse abil.
The term ‘noble metal modified aluminide’ coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
Mõiste ‘väärismetallidega muundatud aluminiidkate’ hõlmab mitmeastmelisi kihte, milles väärismetall või väärismetallid on kantud põhimikule enne aluminiidiga katmist mõne muu pindamismenetluse abil.
The term ‘mixtures thereof’ includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
Mõiste ‘nende segud’ sisaldab infiltreeritud aineid, nende astmelisi segusid, samaegseid kaassadestamisi ja mitmekihilisi sadestamisi ning on saadud ühe või enama tabelis nimetatud pindamismenetluse teel.
‘MCrAlX’ refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
‘MCrAlX’ tähistab pindamissulamit, kus „M” tähistab koobaldit, rauda, niklit või nende kombinatsioone ning „X” tähistab hafniumit, ütriumit, räni, tantaali mis tahes koguses või teisi tahtlikke lisandeid üle 0,01 massiprotsendi mitmesugustes kombinatsioonides ning suhetes, välja arvatud
a. CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
a. CoCrAlY-katted, mis sisaldavad vähem kui 22 massiprotsenti kroomi, vähem kui 7 massiprotsenti alumiiniumi ja vähem kui 2 massiprotsenti ütriumi;
b. CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight of yttrium; or
b. CoCrAlY-katted, mis sisaldavad 22–24 massiprotsenti kroomi, 10–12 massiprotsenti alumiiniumi ja 0,5–0,7 massiprotsenti ütriumi, või
c. NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
c. NiCrAlY-katted, mis sisaldavad 21–23 massiprotsenti kroomi, 10–12 massiprotsenti alumiiniumi ja 0,9–1,1 massiprotsenti ütriumi.
The term ‘aluminium alloys’ refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Mõiste ‘alumiiniumisulam’ tähendab sulameid, mille tõmbetugevus on 190 MPa või rohkem, mõõdetuna temperatuuril 293 K (20 °C).
The term ‘corrosion resistant steel’ refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
Mõiste ‘korrosioonikindel teras’ tähendab AISI (American Iron and Steel Institute (Ameerika Raua ja Terase Instituut)) 300 seeria või vastavale siseriiklikule standardile vastavaid terasesorte.
‘Refractory metals and alloys’ include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
‘Rasksulavad metallid ja sulamid’ hõlmavad järgmisi metalle ja nende sulameid: nioobium (kolumbium), molübdeen, volfram ja tantaal.
‘Sensor window materials’, as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
‘Andur-aknamaterjalid’ on järgmised: alumiiniumoksiid, räni, germaanium, tsinksulfiid, tsinkseleniid, galliumarseniid, teemant, galliumfosfiid, safiir ning järgmiste metallide halogeniidid: tsirkooniumfluoriididst ja hafniumfluoriidist koosnevad andur-akna materjalid, mille läbimõõt on üle 40 mm.
“Technology” for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
kategooria ei hõlma üheastmelist massiivsete turbiinilabade tahke tsementiitimise „tehnoloogiat”.
‘Polymers’, as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
Järgmised ‘polümeerid’: polüimiid, polüester, polüsulfiid, polükarbonaadid ja polüuretaanid.
‘Modified zirconia’ refers to additions of other metal oxides (e.g. calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
‘Muundatud tsirkooniumoksiid’ tähendab, et tsirkooniumis on lisandina muude metallide oksiide (nt kaltsiumoksiid, magneesiumoksiid, ütriumoksiid, hafniumoksiid, haruldaste muldmetallide oksiidid), et stabiliseerida kindlaid kristallograafilisi faase ja faaside ühendeid.
‘Titanium alloys’ refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
‘Titaanisulamid’ tähendavad ainult kosmoselendude jaoks kasutatavaid sulameid, mille temperatuuril 293 K (20 °C) mõõdetud tõmbetugevus on 900 MPa või rohkem.
‘Low-expansion glasses’ refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10–7 K–1 or less measured at 293 K (20 °C).
‘Vähepaisuvad klaasid’ tähendavad klaase, mille temperatuuril 293 K (20 °C) mõõdetud soojusliku paisumise tegur on 1 × 10–7 K–1 või vähem.
‘Dielectric layers’ are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
‘Dielektrilised kihid’ on pinnakatted, mis koosnevad paljudest dielektrilise materjali kihtidest, mille erinevate murdumisnäitajatega ainete kombinatsioonide planeeritud interferentsiomadused on kasutatud erinevate lainepikkusvahemike peegeldamiseks, ülekandmiseks või neelamiseks.
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal “composite” layers.
Dielektrilised kihid tähendavad rohkem kui nelja dielektrilist kihti või dielektrik/metall „komposiit” kihti.
‘Cemented tungsten carbide’ does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
‘Kõvasulam volframkarbiid’ ei hõlma lõike- ja vormimisinstrumentide materjale, mis koosnevad volframkarbiidist/(koobalt, nikkel), titaankarbiidist/(koobalt, nikkel), kroomkarbiidist/nikkel-kroom ja kroomkarbiidist/nikkel.
“Technology” specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
Hõlmatud ei ole „tehnoloogia”, mis on spetsiaalselt kavandatud teemandilaadse süsiniku sadestamiseks järgmistele materjalidele:
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
magnetketta ajurid ja magnetpead, ühekordse kasutusega kaupade tootmise seadmed, kraanide klapid, valjuhääldite akustilised membraanid, autode mootoriosad, lõiketerad, stantsimise-pressimise matriitsid, kontorite automatiseerimise seadmed, mikrofonid ning meditsiinitehnika või vormid vähem kui 5 %-lise berülliumi sisaldusega sulamitest toodetud plastide valamiseks või vormimiseks.
‘Silicon carbide’ does not include cutting and forming tool materials.
‘Ränikarbiid’ ei hõlma lõike- ning vormimisinstrumentide materjale.
The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
Energiat sellise lagunemise või keemilise reaktsiooni läbiviimiseks saab juurde anda põhimiku kuumutamisega, huumlahendusplasma või „laser” kiirguse abil.
b. Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporise the coating material.
NB 1! CVD sisaldab järgmisi menetlusi: sadestamine suunatud gaasivoo abil, ilma otsese põhimiku pulberkontaktita (out-of-pack), CVD-katmine pulseeriva rõhu juures, kontrollitud idustamisega termiline sadestamine (CNTD), plasmaaktiveeritud või plasma osalusel CVD menetlused. NB 2! Pulberkontakt tähendab, et põhimik on pulbrisegusse uputatud. NB 3!
This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates.
Gaasilisi reageerivaid aineid, mida kasutatakse pulberkontaktita menetlustes, toodetakse samu põhireaktsioone ja parameetreid kasutades nagu tahke tsementiitimise protsessiski, välja arvatud see, et kaetav põhimik pole otseses kokkupuutes pulbriseguga.