natgillin/translations-raw huggingface dataset:
positioning accuracy with "all compensations available" equal to or less (better) than 6 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
positsioneerimistäpsus koos kõigi olemasolevate kompensatsioonidega on võrdne või väiksem (parem) kui 6 μm (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) vastavalt ISO standardile 230/2 (1988) [1] Tootjad, kes arvutavad positsioneerimistäpsust vastavalt ISO standardile 230/2 (1997), peaksid konsulteerima oma asukohaliikmesriigi pädevate asutustega.
or national equivalents along any linear axis; and
või vastavatele siseriiklikele standarditele, ja
two or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
kaks või enam telge, mida võib üheaegselt koordineerida kontuurjuhtimiseks.
Note:2B001.a. does not control turning machines specially designed for the production of contact lenses, having all of the following characteristics:
Märkus:Punkt 2B001.a ei hõlma treipinke, mis on spetsiaalselt ette nähtud selliste kontaktläätsede valmistamiseks, millel on kõik järgmised omadused:
machine controller limited to using ophthalmic based software for part programming data input; and
masinjuhtimine on sisendandmete töötlemisprogrammide suhtes piiratud oftalmoloogilise tarkvara kasutamisega;
no vacuum chucking.
ega kasuta vaakumiga kinnituspadrunit;
machine tools for milling, having any of the following characteristics:
freespingid, millel on üks järgmistest omadustest:
three linear axes plus one rotary axis which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
kolm lineaarset telge ja üks pöörlemistelg, mida saab üheaegselt koordineerida kontuurjuhtimiseks;
five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
viis või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida kontuurjuhtimiseks;
a positioning accuracy for jig boring machines, with all "compensations available", equal to or less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
koordinaatpuurpinkide positsioneerimistäpsus, mis koos kõigi olemasolevate kompensatsioonidega on võrdne või väiksem (parem) kui 4 μm (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) vastavalt ISO standardile 230/2 (1988) [1] Tootjad, kes arvutavad positsioneerimistäpsust vastavalt ISO standardile 230/2 (1997), peaksid konsulteerima oma asukohaliikmesriigi pädevate asutustega.
fly cutting machines, having all of the following characteristics:
lendteraga lõikeseadmed, millel on kõik järgmised omadused:
spindle"run-out" and "camming" less (better) than 0,0004 mm TIR; and
peavõlli aksiaallõtku ja viskumise koguväärtus on väiksem (parem) kui 0,0004 mm (TIR) ja
angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel.
liugliikumise nurkhälvete (võnkumine risti- ja pikisuunas ning pöördliikumine) koguväärtus 300 mm teekonnal on väiksem (parem) kui 2 kaaresekundit (TIR);
positioning accuracy with "all compensations available" equal to or less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
positsioneerimistäpsus koos kõigi olemasolevate kompensatsioonidega on võrdne või väiksem (parem) kui 4 μm (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) vastavalt ISO standardile 230/2 (1988) [1] Tootjad, kes arvutavad positsioneerimistäpsust vastavalt ISO standardile 230/2 (1997), peaksid konsulteerima oma asukohaliikmesriigi pädevate asutustega.
three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
kolm või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida kontuurjuhtimiseks, või
Note:2B001.c. does not control grinding machines, as follows:
Märkus:Punkt 2B001.c ei hõlma järgmisi lihvimispinke:
cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines having all the following characteristics:
silindriliste välis-, sise- ja välis-sisepindade lihvimispingid järgmiste omadustega:
limited to cylindrical grinding; and
ainult silindriliste pindade lihvimiseks, ja
limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
ainult selliste detailide töötlemiseks, mille maksimaalne välisläbimõõt või pikkus võib olla 150 mm;
machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a positioning accuracy with "all compensations available" less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
tööpingid, mis on spetsiaalselt kavandatud koordinaatlihvimispinkideks, millel puuduvad z-telg või w-telg, mille positsioneerimistäpsus koos "kõigi olemasolevate kompensatsioonidega" on väiksem (parem) kui 4 μm (mõõdetuna piki mis tahes lineaartelge) vastavalt ISO standardile 230/2 (1988) [1] Tootjad, kes arvutavad positsioneerimistäpsust vastavalt ISO standardile 230/2 (1997), peaksid konsulteerima oma asukohaliikmesriigi pädevate asutustega.
or national equivalents.
või vastavatele siseriiklikele standarditele.
surface grinders.
pinnalihvimispingid;
electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control";
juhtmeteta elektroerosioonpingid (EDM), millel on kaks või enam pöördtelge, mida saab üheaegselt koordineerida kontuurjuhtimiseks;
machine tools for removing metals, ceramics or "composites" having all of the following characteristics:
tööpingid metallide, keraamika ja komposiitide eemaldamiseks, millel on kõik järgmised omadused:
removing material by means of any of the following:
kasutavad materjalide eemaldamiseks üht järgmistest moodustest:
water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
vee- või muude vedelike joad, kaasa arvatud need, mis sisaldavad abrasiivlisandeid;
electron beam; or
elektronkiir või
"laser" beam; and
laserkiir ja
having two or more rotary axes which:
millel on kaks või enam pöördtelge:
can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
mida saab üheaegselt kontuurjuhtimiseks koordineerida ja
have a positioning accuracy of less (better) than 0,003°;
mille positsioneerimistäpsus on väiksem (parem) kui 0,003°;
deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5000 mm and specially designed components therefor.
puurpingid sügavate aukude puurimiseks ning sügavate aukude puurimiseks kohandatud treipingid, mis võimaldavad puuritava augu maksimaalseks sügavuseks enam kui 5000 mm, ning spetsiaalselt nende jaoks ettenähtud komponendid.
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped to produce non-spherical optical surfaces, having all of the following characteristics:
Arvjuhitavad optilised viimistlustööpingi mittesfääriliste pindade tootmiseks ja millel on kõik järgmised omadused:
finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
valmistamistäpsus (tolerants) on väiksem kui 1,0 μm;
finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms;
pinna karedus on väiksem kui 100 nm rms;
three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
kolm või enam telge, mida saab üheaegselt koordineerida kontuurjuhtimiseks; ja
using any of the following processes:
mis kasutavad mis tahes järgmist protsessi:
magnetorheological finishing (’MRF’);
magneto-reoloogiline viimistlemine (MRF);
electrorheological finishing (’ERF’); or
elektro-reoloogiline viimistlemine (ERF) või
’energetic particle beam finishing’.
kõrge siseenergiaga osakeste joaga viimistemine.
For the purposes of 2B002, ’MRF’ is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
Punkti 2B002 tähenduses on MRF materjali eemaldamise protsess, milles kasutatakse abrasiivset magnetilist vedelikku, mille viskoossust reguleerib magnetväli.
’ERF’ is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
ERF on eemaldamise protsess, milles kasutatakse abrasiivset vedelikku, mille viskoossust reguleerib elektriväli.
’Energetic particle beam finishing’ uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Kõrge siseenergiaga osakeste joaga viimistlemisel kasutatakse materjali selektiivseks eemaldamiseks reaktiivset aatomiplasmat või ioonkiirgust.
N.B.:SEE ALSO 2B104 and 2B204.
NB!VT KA PUNKTE B104 JA 2B204.
a controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
termiliselt kontrollitav keskkond suletud töökambris ning kambri siseläbimõõt on 406 mm või rohkem ja
a maximum working pressure exceeding 207 MPa;
maksimaalne töörõhk üle 207 MPa;
a controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
kontrollitava termilise keskkonna temperatuur üle 1773 K (1500 °C) või
a facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
võimalus süsivesinikega impregneerimiseks ja tekkivate gaasiliste lagunemisproduktide eemaldamiseks.
N.B.:For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
NB!Spetsiaalselt konstrueeritud stantside, valuvormide ning tööriistade kohta vaata punkte B003, 9B009 ja sõjaliste kaupade nimekirja.
chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
keemilise aurustamise-sadestamise (CVD) seadmed, millel on kõik järgmised omadused:
N.B.:SEE ALSO 2B105.
NB!VT KA PUNKTI B105.
process modified for one of the following:
ühe järgneva modifitseeritud protsessi kasutamine:
pulsating CVD;
CVD-katmine pulseeriva rõhu juures;
controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
kontrollitud idustamisega termiline sadestamine (CNTD) või
plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
plasmaaktiveeritud või plasma osalusel CVD ja
incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
kasutatakse pöörlevaid kõrgvaakumtihendeid (rõhk 0,01 Pa või vähem) või
incorporating in situ coating thickness control;
protsessi käigus kontrollitakse pidevalt katte paksust reaalajas (in situ);
ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
ioonlegeerimisseadmed, milles ioonivoo vool on 5 mA või rohkem;
electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW, having any of the following:
elektronkiire abil toimuva aurustamise-sadestamise (EB-PVD) seadmed nimivõimsusega kokku üle 80 kW, millel on üks järgmistest omadustest:
a liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
vannis vedelikutaseme laserkontrollisüsteem, mis reguleerib täpselt kangide söötmiskiirust, või
a computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
arvuti abil juhitav kiirusemonitor, mis kontrollib kaht või enamat elementi sisaldava katte sadestamise kiirust ning toimib auruvoos ioniseeritud aatomite fotoluminestsentsi mõõtmise põhimõttel;
plasma spraying production equipment having any of the following characteristics:
plasmapihustusseadmed, millel on järgmised omadused:
operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0.01 Pa prior to the spraying process; or
protsess viiakse läbi madalal rõhul kontrollitavas atmosfääris (10 kPa või vähem, mõõdetuna kahuri väljunddüüsi kohal 300 mm piirides) vaakumkambris, milles on võimalik vähendada rõhku kuni 0,01 Pa enne pihustamisprotsessi algust, või
sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
atomisatsioonsadestusseadmed, mis võimaldavad voolutihedust 0,1 mA/mm2 või rohkem sadestuskiirusel 15 μm/h või rohkem;
cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
katoodsadestusseadmed, mis sisaldavad elektromagnetitest võret kaare otspunkti juhtimiseks katoodil;
ion plating production equipment allowing for the in situ measurement of any of the following:
ioonpindamisseadmed, mis võimaldavad protsessi käigus pidevalt reaalajas (in situ) mõõta ükskõik kumba järgmistest:
coating thickness on the substrate and rate control; or
kattekihi paksus põhimikul ja sadestuskiirus või
optical characteristics.
optilised omadused.
Note:2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.
Märkus:Punkt B005 ei hõlma keemilise aurustamise-sadestamise, katoodsadestuse, atomisatsioonsadestuse, ioonpindamise või ioonlegeerimise seadmeid, mis on spetsiaalselt kavandatud lõikamis- või tööriistade jaoks.
computer controlled or "numerically controlled" co-ordinate measuring machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of indication (MPEE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), tested according to ISO 10360-2 (2001);
arvutiga juhitavad või arvjuhitavad koordinaatmõõtemasinad (CMM), millel kolmemõõtmeline (ruumiline) lubatud piirviga (MPEE) on masina tööpiirkonna igas punktis (st telgede pikkuse ulatuses) võrdne või väiksem (parem) kui (1,7 + L/1000) μm (L on mõõdetud pikkus millimeetrites), mõõtes vastavalt ISO standardile 10360–2 (2001);
N.B.:SEE ALSO 2B206.
NB!VT KA PUNKTI B206.
linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
lineaarse ja nurknihke mõõtevahendid:
linear displacement measuring instruments having any of the following:
lineaarnihke mõõtevahendid, millel on mis tahes järgmised omadused:
For the purpose of 2B006.b.1. "linear displacement" means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
Punktis 2B006.b.1 tähendab lineaarnihe mõõtepea ja mõõdetava objekti vahelise kauguse muutust.
non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
mittekontakt-tüüpi mõõtesüsteemid, mille eraldusvõime on kuni 0,2 mm mõõtepiirkonnas 0,2 μm või vähem (parem);
linear voltage differential transformer systems having all of the following characteristics:
lineaarpinge diferentsiaaltransformaatorsüsteemid, millel on kõik järgmised omadused:
"linearity" equal to or less (better) than 0,1 % within a measuring range up to 5 mm; and
lineaarsus on 0,1 % või vähem (parem) kuni 5mm mõõtepiirkonnas ja
drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ±1 K; or
triiv on väiksem (parem) kui 0,1 % päevas või sellega võrdne kontrollruumi standardtemperatuuri kõikumisel ±1 K või
measuring systems having all of the following:
mõõtesüsteemid, millel on kõik järgmised omadused:
containing a "laser"; and
sisaldavad laseritja
maintaining, for at least 12 hours, over a temperature range of ±1 K around a standard temperature and at a standard pressure, all of the following:
säilitavad vähemalt 12 tunni jooksul standardtemperatuuri kõikumisel ±1 K ja standardrõhul kõik järgmised omadused:
a "resolution" over their full scale of 0,1 μm or less (better); and
eraldusvõime mõõteskaala täisulatuses 0,1 μm või vähem (parem) ja
a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (0,2 + L/2000) μm (L is the measured length in mm);
mõõtehälve on (0,2 + L/2000) μm (L on mõõdetud pikkus millimeetrites) või sellest väiksem (parem);
"electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
elektroonikasõlmed, mis on spetsiaalselt ette nähtud tagasiside andmiseks punktis 2B006.b.1.c nimetatud süsteemides;
Note:2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
Märkus:Punkt 2B006.b.1 ei hõlma interferomeetrilisi mõõtesüsteeme, millel on automaatkontrollsüsteem, mis ei kasuta tagasisidetehnoloogiat ja mis sisaldavad "laserit" tööpingi, mõõtekontrollimehhanismide või sarnaste seadmete nihkuri liikumise vigade mõõtmiseks.
angular displacement measuring instruments having an "angular position deviation" equal to or less (better) than 0,00025°;
nurknihke mõõtevahendid, mille mõõtehälve on 0,00025° või vähem (parem);
Note:2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g. laser light) to detect angular displacement of a mirror.
Märkus:Punkt 2B006.b.2 ei hõlma optilisi seadmeid, nagu autokollimaatorid, mis kasutavad kollimeeritud valgust (nt laservalgust) peegli nurknihke määramiseks.
equipment for measuring surface irregularities, by measuring optical scatter as a function of angle, with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
seadmed pinna ebakorrapärasuste mõõtmiseks, mis mõõdavad optilist hajumist nurga funktsioonina, tundlikkusega 0,5 nm või vähem (parem).
Note:machine tools which can be used as measuring machines are controlled if they meet or exceed the criteria specified for the machine tool function or the measuring machine function.
Märkus:Tööpingid, mida võib kasutada mõõtemehhanismidena, kuuluvad kontrolli alla, kui nad vastavad või ületavad tööpinkide või mõõtemehhanismide funktsioonidele kindlaksmääratud kriteeriume.
N.B.:SEE ALSO 2B207.
NB!VT KA PUNKTI B207.
capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional "scene analysis" to generate or modify "programmes" or to generate or modify numerical programme data;
on võimelised kolmemõõtmelise kujutise täielikuks töötluseks või vaadeldava ruumilise tööala koos objektidega (stseeni) täielikuks kolmemõõtmeliseks analüüsiks reaalajas, et genereerida või teisendada programme või et genereerida või teisendada programmi arvandmeid;
The "scene analysis" limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
Stseenianalüüsi piirang ei hõlma kolmanda mõõtme lähendusi, kui vaadatakse antud nurga all, või piiratud hallskaala tõlgendusi sügavuse või tekstuuri tajumiseks heakskiidetud ülesannete jaoks (2 1/2 D).
specially designed to comply with national safety standards applicable to explosive munitions environments;
on spetsiaalselt projekteeritud täitma siseriiklikke ohutusnorme, mida kohaldatakse plahvatusohtliku sõjamoona ümbruses;
specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
on spetsiaalselt projekteeritud või liigitatud kiirgustkestvana, võimelisena taluma suuremat kui 5 × 103 Gy (räni) summaarset kiirgusdoosi, ilma toimimisvõime languseta, või
specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
spetsiaalselt ette nähtud töötama kõrgemal kui 30000 m.
linear position feedback units (e.g., inductive type devices, graduated scales, infrared systems or "laser" systems) having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L × 10 –3)) nm (L equals the effective length in mm);
lineaarasendi tagasiside moodulid (nt induktiivanduriga seadmed, kalibreerimisskaalad, infrapuna- ja lasersüsteemid), mille üldine täpsus on väiksem (parem) kui (800 + (600 × L × 10 –3)) nm (L on võrdne efektiivpikkusega mm-s);
N.B.:For "laser" systems see also Note to 2B006.b.1.
NB!Lasersüsteemide kohta vaata ka märkust punktis 2B006.b.1.
rotary position feedback units (e.g., inductive type devices, graduated scales, infrared systems or "laser" systems) having an "accuracy" less (better) than 0,00025°;
pöördasendi tagasiside moodulid (nt induktiivanduriga seadmed, kalibreerimisskaalad, infrapuna- ja lasersüsteemid), mille täpsus on väiksem (parem) kui 0,00025°;
N.B.:for "laser" systems see also Note to 2B006.b.1.
NB!Lasersüsteemide kohta vaata ka märkust punktis 2B006.b.1.
"compound rotary tables" and "tilting spindles", capable of upgrading, according to the manufacturer's specifications, machine tools to or above the levels specified in 2B.
liitpöördlauad ja kallutatavad spindlid, mis võimaldavad metallilõikepinke vastavalt tootja spetsifikatsioonidele täiustada, saavutades või ületades punktis 2B kirjeldatud või kõrgema taseme.
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control and having all of the following:
Trugimis- ja tõukamispingid, mis vastavalt tootja tehnilisele kirjeldusele võivad olla varustatud arvjuhtimismooduliga või arvutijuhtimisega ja millel on kõik järgmised omadused:
N.B.:SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
NB!VT KA PUNKTE 2B109 JA 2B209.
two or more controlled axes of which at least two can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
kahe või enama juhitava teljega, millest vähemalt kaht on võimalik üheaegselt kontuurjuhtimiseks koordineerida, ja
a roller force more than 60 kN.
valtsimisjõud üle 60 kN.
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
Isostaatpressid, muud kui punktis 2B004 nimetatud, millel on kõik järgmised omadused:
N.B.:SEE ALSO 2B204.
NB!VT KA PUNKTI 2B204.
maximum working pressure of 69 MPa or greater;;
maksimaalne töörõhk 69 MPa või suurem;
designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
konstrueeritud reguleeritava soojusliku 873 K (600 °C) või kõrgema temperatuurilise keskkonna saavutamiseks ning säilitamiseks ja
possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
kambriõõnsuse siseläbimõõt on 254 mm või rohkem.
Flow-forming machines, other than those specified in 2B009, and specially designed components as follows:
Tõukamispingid, muud kui punktis 2B009 nimetatud, ja spetsiaalselt nende jaoks ettenähtud komponendid:
N.B.:SEE ALSO 2B209.
NB!VT KA PUNKTI 2B209.
flow-forming machines having all of the following:
tõukamispingid, millel on kõik järgmised omadused:
according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control, even when not equipped with such units; and
vastavalt tootja tehnilisele kirjeldusele võivad olla varustatud arvjuhtimismooduli või arvutijuhtimisega ka siis, kui nad seda algselt ei ole ja
with more than two axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control".
kahe või enama juhitava teljega, millest vähemalt kaht on võimalik üheaegselt kontuurjuhtimiseks koordineerida;
specially designed components for flow-forming machines specified in 2B009 or 2B109.a.
punktis 2B009 või 2B109.a nimetatud tõukamispinkide jaoks spetsiaalselt konstrueeritud komponendid.
Note:2B109 does not control machines that are not usable in the production of propulsion components and equipment (e.g. motor cases) for systems specified in 9A005, 9A007.a. or 9A105.a.
Märkus:Punkt 2B109 ei hõlma masinaid, mis ei ole kasutatavad tõukemootori komponentide ja seadmete (nt mootorikestad) tootmiseks punktis 9A005, 9A007.a või 9A105.a nimetatud süsteemidele.
Vibration test systems, equipment and components therefor, as follows:
Vibratsioonikatsetuste süsteemid, seadmed ja komponendid: