natgillin/translations-raw huggingface dataset:
remotely operated filling equipment in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
kaugjuhitav tankimisaparatuur, mille töödeldava(te) kemikaali(de)ga otseselt kokkupuutuvad tööpinnad on valmistatud mis tahes järgmistest materjalidest:
alloys with more than 25 % nickel and 20 % chromium by weight; or
sulamid, milles on üle 25 massiprotsendi niklit ja üle 20 massiprotsendi kroomi; või
valves with nominal sizes greater than 10 mm and casings (valve bodies) or preformed casing liners designed for such valves, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
ventiilid nimimõõtmetega üle 10 mm ja korpused (ventiilikorpused) või selliste ventiilide jaoks valmistatud korpuse eelvormitud voodrid, mille töödeldava(te) või seda läbiva(te) kemikaali(de)ga otseselt kokkupuutuvad tööpinnad on valmistatud mis tahes järgmistest materjalidest:
multi-walled piping incorporating a leak detection port, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
mitmeseinalised torud lekkeavastamise avaga, mille töödeldava(te) või säilitatava(te) kemikaali(de)ga otseselt kokkupuutuvad tööpinnad on valmistatud mis tahes järgmistest materjalidest:
graphite or "carbon graphite";
grafiit või süsinikgrafiit;
i. multiple-seal, and seal-less pumps, with manufacturer's specified maximum flow-rate greater than 0,6 m3/hour, or vacuum pumps with manufacturer's specified maximum flow-rate greater than 5 m3/hour (under standard temperature (273 K (0 °C)) and pressure (101,3 kPa) conditions); and casings (pump bodies), preformed casing liners, impellers, rotors or jet pump nozzles designed for such pumps, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
i. mitmetihendilised ja tihendita pumbad tootja poolt spetsifitseeritud maksimaalse voolukiirusega üle 0,6 m3/h või vaakumpumbad tootja poolt spetsifitseeritud maksimaalse voolukiirusega üle 5 m3/h (standardtingimustel: temperatuuril 273 K (0 °C) ja rõhul 101,3 kPa); ja selliste pumpade korpused (pumbakered), eelvormitud kerevooderdused, tiivikud, rootorid või jugapumbapihustid, mille otseselt töödeldava(te) kemikaali(de)ga kokkupuutuvad tööpinnad on valmistatud mis tahes järgmistest materjalidest:
ceramics;
keraamika;
ferrosilicon;
ferrosiliitsium;
incinerators designed to destroy chemicals specified in entry 1C350, having specially designed waste supply systems, special handling facilities and an average combustion chamber temperature greater than 1273 K (1000 °C), in which all surfaces in the waste supply system that come into direct contact with the waste products are made from or lined with any of the following materials:
punktis 1C350 nimetatud kemikaalide hävitamiseks ettenähtud põletusseadmed, mis on varustatud spetsiaalselt kavandatud jäätmete etteandesüsteemiga, spetsiaalsete käsitsemisseadmetega ning põletuskambri keskmise temperatuuriga üle 1273 K (+1000 °C), mille jäätmete etteandesüsteemi kemikaalidega otseselt kokkupuutuvad tööpinnad on valmistatud mis tahes järgmistest materjalidest:
ceramics; or
keraamika või
nickel or alloys with more than 40 % nickel by weight.
nikkel või sulamid, milles on üle 40 massiprotsendi niklit.
’Carbon graphite’ is a composition consisting of amorphous carbon and graphite, in which the graphite content is eight percent or more by weight.
Süsinikgrafiit on amorfse süsiniku ja grafiidi segu, milles grafiidisisaldus on 8 massiprotsenti või rohkem.
designed for continuous operation and usable for the detection of chemical warfare agents or chemicals specified in 1C350, at concentrations of less than 0,3 mg/m3; or
kavandatud pidevaks toimimiseks ja kasutatavad keemiliste ründeainete ja punktis 1C350 nimetatud kemikaalide avastamiseks kontsentratsioonidel alla 0,3 mg/m3või
designed for the detection of cholinesterase-inhibiting activity.
ainete avastamiseks, millel on koliinesteraasi inhibeeriv mõju.
complete biological containment facilities at P3, P4 containment level;
komplektsed isolaatorid, mis vastavad ohutustasemetele P3 või P4;
fermenters capable of cultivation of pathogenic "micro-organisms", viruses or capable of toxin production, without the propagation of aerosols, and having a total capacity of 20 litres or more;
fermentaatorid, mida on ilma aerosoolide keskkonda sattumise riskita võimalik kasutada patogeensete mikroorganismide ja viiruste kultiveerimiseks või toksiinide valmistamiseks, üldmahuga 20 liitrit või enam;
centrifugal separators, capable of continuous separation without the propagation of aerosols, having all the following characteristics:
tsentrifugaalseparaatorid, mis ilma aerosoolide keskkonda sattumise riskita võimaldavad pidevat separeerimist ning millel on kõik järgmised omadused:
flow rate exceeding 100 litres per hour;
läbivoolukiirus üle 100 liitri tunnis;
components of polished stainless steel or titanium;
komponendid on valmistatud poleeritud roostevabast terasest või titaanist;
one or more sealing joints within the steam containment area; and
ühe- või mitmekordse tihendusega ühendused auru sisaldavas keskkonnas ja
capable of in-situ steam sterilisation in a closed state;
auruga kohapeal (in situ) steriliseeritav, ilma seadme eelneva demontaažita;
cross (tangential) flow filtration equipment and components as follows:
ristvoolu filtratsiooniaparatuur ja järgmised komponendid:
cross (tangential) flow filtration equipment capable of separation of pathogenic micro-organisms, viruses, toxins or cell cultures, without the propagation of aerosols, having both of the following characteristics:
ristvoolu filtratsiooniaparatuur, mis ilma aerosoolide keskkonda sattumise riskita võimaldavad patogeensete mikroorganismide, viiruste, toksiinide või rakukultuuride separeerimist ning millel on mõlemad järgmised omadused:
a total filtration area equal to or greater than 1 m2; and
filtri kogupindala 1 m2 või rohkem ja
capable of being sterilised or disinfected in-situ;
kohapeal (in situ) steriliseeritav või desinfitseeritav;
cross (tangential) flow filtration components (e.g. modules, elements, cassettes, cartridges, units or plates) with filtration area equal to or greater than 0,2 m2 for each component and designed for use in cross (tangential) flow filtration equipment specified in 2B352.d.;
ristvoolu filtratsiooniaparatuuri osad (nt moodulid, elemendid, kassetid, padrunid, plokid või plaadid), mille filtripindala on iga osa puhul vähemalt 0,2 m2 ja mis on kavandatud kasutamiseks punktis 2B352.d määratletud ristvoolu filtratsiooniaparatuuris;
Note:2B352.d. does not control reverse osmosis equipment, as specified by the manufacturer.
Märkus:Punkt 2B352.d ei hõlma pöördosmoosseadmeid, nagu on kindlaks määratud tootja poolt.
steam sterilisable freeze drying equipment with a condenser capacity exceeding 10 kg of ice in 24 hours and less than 1000 kg of ice in 24 hours;
auruga steriliseeritav vaakumsublimatsioonkuivatamise seade kondensaatori suutlikkusega 10–1000 kg jääd 24 tunni jooksul;
protective and containment equipment, as follows:
järgmised kaitsevahendid:
protective full or half suits, or hoods dependent upon a tethered external air supply and operating under positive pressure;
pool- või täiskaitseülikonnad või mütsid, mis sõltuvad nende külge kinnitatud välisest õhuvarustussüsteemist ja töötavad ülerõhul;
Note:2B352.f.1. does not control suits designed to be worn with self-contained breathing apparatus.
Märkus:Punkt 2B352.f.1 ei hõlma ülikondi, mis on ette nähtud kasutamiseks koos kompaktse hingamisseadmega.
Note:in 2B352.f.2., isolators include flexible isolators, dry boxes, anaerobic chambers, glove boxes and laminar flow hoods (closed with vertical flow).
Märkus:Punktis 2B352.f.2 hõlmavad isolaatorid painduvaid isolaatoreid, eksikaatoreid, anaeroobseid kambreid, kinnasbokse ja laminaarse voolu kardinaid (suletud vertikaalse vooluga).
chambers designed for aerosol challenge testing with "micro-organisms", viruses or "toxins", and having a capacity of 1 m3 or greater.
aerosoolide inhalatsioonikambrid, mis on konstrueeritud katseteks mikroorganismide, viiruste või toksiinide aerosoolidega, mahuga 1 m3 või rohkem.
"Software" for electronic devices, even when residing in an electronic device or system, enabling such devices or systems to function as a "numerical control" unit, capable of co-ordinating simultaneously more than four axes for "contouring control".
Tarkvara elektroonsetele seadmetele, ka siis, kui see on elektroonsesse seadmesse või süsteemi pidevalt paigaldatud, mis võimaldab selliseid seadmeid või süsteeme toimida arvjuhitavate moodulitena ja mis suudab koordineerida üheaegselt enam kui nelja telje liikumist kontuurjuhtimiseks.
Note 1:2D002 does not control "software" specially designed or modified for the operation of machine tools not specified in Category 2.
Märkus 1:Punkt 2D002 ei hõlma "tarkvara", mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud 2. kategoorias nimetamata tööpinkide kasutamiseks.
Note 2:2D002 does not control "software" for items specified in 2B002.
Märkus 2:Punkt 2D002 ei hõlma "tarkvara" punktis 2B002 määratletud kaupadele.
"Software" specially designed or modified for the "use" of equipment specified in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 or 2B119 to 2B122.
Tarkvara, mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktides 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 või 2B119–2B122 nimetatud seadmete kasutamiseks.
N.B.:SEE ALSO 9D004.
NB!VT KA PUNKTI 9D004.
"Technology" according to the General Technology Note for the "production"of equipment specified in 2A or 2B.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav tehnoloogia, mis on ette nähtud punktis 2A või 2B nimetatud seadmete tootmiseks.
"technology" for the "development" of interactive graphics as an integrated part in "numerical control" units for preparation or modification of part programmes;
tehnoloogia töötlemisprogrammide ettevalmistamiseks või muutmiseks vajaliku interaktiivgraafika arendamiseks arvjuhtimismoodulite integreeritud osana;
"technology" for metal-working manufacturing processes, as follows:
metallitöötlemise tootmisprotsesside tehnoloogia:
"technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
spetsiaalselt järgnevalt loetletud protsesside jaoks loodud tööriistade, matriitside ja rakiste konstrueerimise tehnoloogia:
"superplastic forming";
üliplastne vormimine;
"diffusion bonding"; or
difusioonkeevitusvõi
"direct-acting hydraulic pressing";
otsetoimehüdropressimine;
technical data consisting of process methods or parameters as listed below used to control:
tehnilised andmed protsessi meetodite või parameetrite kohta, millega juhitakse järgmist:
"superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
alumiiniumi-, titaani- või supersulamite üliplastne vormimine:
surface preparation;
pinna ettevalmistus;
strain rate;
deformatsiooni kiirus;
temperature;
temperatuur;
pressure;
rõhk;
"diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
titaani- või supersulamite difusioonkeevitus:
"direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
alumiiniumi- või titaanisulamite otsetoimehüdropressimine:
cycle time;
protsessi kestus;
"hot isostatic densification" of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
titaani-, alumiiniumi- või supersulamite kuumisostaattihendamine:
"technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
õhusõidukite tarindite tootmiseks hüdraulilise venitamisega vormimismasinate ja nende juurde kuuluvate matriitside arendamise või tootmise tehnoloogia;
"technology" for the "development" of generators of machine tool instructions (e.g., part programmes) from design data residing inside "numerical control" units;
tööpingi arvjuhtimismoodulis olevatest projekteerimisandmetest juhtimiskäskude moodustamise generaatori (nt töötlemisprogrammid) arendamise tehnoloogia;
"technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
tehnoloogia integratsioonitarkvara arendamiseks ekspertsüsteemide sisseviimiseks arvjuhitavatesse moodulitesse, tootmispindadel toiminguotsuste edendatud toetamiseks;
"technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical note.
tehnoloogia mitteelektroonsete põhimike (substraatide) (määratletud alljärgneva tabeli 2. veerus) anorgaaniliste pinnakatetega või anorgaaniliste muundatud pinnakatetega (määratletud alljärgneva tabeli 3. veerus) katmiseks protsessides, mis on määratletud alljärgneva tabeli 1. veerus ning on defineeritud tehnilises märkuses.
Note:the table and Technical note appear after entry 2E301.
Märkus:Tabel ning tehniline märkus on esitatud punkti 2E301 järel.
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix""composites"
Süsinik-süsinik, keraamiliste ja metall põhiainete komposiidid
Polymers (11) and Organic"matrix""composites"
Polümeerid (11) ja orgaaniliste põhiainete komposiidid
Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
Tahke tsementiitimine (vt A ülal pulberkontaktita (out-of-pack) tsementiitimine) (10)
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
Kulutatavad materjalid, mis sisaldavad Ni-Cr-Al
Abradable Al-Si-Polyester Alloyed aluminides (2)
Kulutatav Al-Si-polüester Legeeritud aluminiidid (2)
Aluminium alloys (6)
Alumiiniumsulamid (6)
Table — Deposition techniques — Notes
Tabel — pinnakatmise tehnikad — märkused
The term ’coating process’ includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
Mõiste pindamismenetlus hõlmab nii pinnakatte parandamist ja uuendamist kui ka originaalpinnakatmist.
The term ’alloyed aluminide coating’ includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
Mõiste legeeritud aluminiidkate sisaldab ühe- või mitmeastmelise katmise, mille kestel element või elemendid on sadestatud enne või ka samaaegselt aluminiidiga, ka siis, kui need elemendid sadestatakse erineva pindamismenetluse abil.
The term ’noble metal modified aluminide’ coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
Mõiste väärismetallidega muundatud aluminiidkate hõlmab mitmeastmelisi kihte, milles väärismetall või väärismetallid on kantud põhimikule enne aluminiidiga katmist mõne muu pindamismenetluse abil.
The term ’mixtures thereof’ includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
Mõiste nende segud sisaldab infiltreeritud aineid, nende astmelisi segusid, samaegseid kaassadestamisi ja mitmekihilisi sadestamisi ning on saadud ühe või enama tabelis nimetatud pindamismenetluse teel.
’MCrAlX’ refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 weight percent in various proportions and combinations, except:
MCrAlX tähistab pindamissulamit, kus "M" tähistab koobaltit, rauda, niklit või nende kombinatsioone ning "X" tähistab hafniumit, ütriumit, räni, tantaali mis tahes koguses või teisi tahtlikke lisandeid üle 0,01 massiprotsendi mitmesugustes kombinatsioonides ning suhetes, välja arvatud:
The term ’aluminium alloys’ refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Mõiste alumiiniumisulam tähendab sulameid, mille tõmbetugevus on 190 MPa või rohkem, mõõdetuna temperatuuril 293 K (20 °C).
The term ’corrosion resistant steel’ refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
Mõiste korrosioonikindel teras tähendab AISI (American Iron and Steel Institute (Ameerika Raua ja Terase Instituut) 300 seeria või vastavale siseriiklikule standardile vastavaid terasesorte.
’Refractory metals and alloys’ include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
Rasksulavad metallid ja sulamid hõlmavad järgmisi metalle ja nende sulameid: nioobium (kolumbium), molübdeen, volfram ja tantaal.
’Sensor window materials’, as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
Andur-aknamaterjalid on järgmised: alumiiniumoksiid, räni, germaanium, tsinksulfiid, tsinkseleniid, galliumarseniid, teemant, galliumfosfiid, safiir ning järgmiste metallide halogeniidid: tsirkooniumfluoriididst ja hafniumfluoriidist koosnevad andur-aknamaterjalid, mille läbimõõt on üle 40 mm.
’Polymers’, as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
Järgmised polümeerid: polüimiid, polüester, polüsulfiid, polükarbonaadid ja polüuretaanid.
’Modified zirconia’ refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
Muundatud tsirkooniumoksiid tähendab, et tsirkooniumis on lisandina muude metallide oksiide (nt kaltsiumoksiid, magneesiumoksiid, ütriumoksiid, hafniumoksiid, haruldaste muldmetallide oksiidid), et stabiliseerida kindlaid kristallograafilisi faase ja faaside ühendeid.
’Titanium alloys’ refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Titaanisulamid tähendavad ainult kosmoselendude jaoks kasutatavaid sulameid, mille temperatuuril 293 K (20 °C) mõõdetud tõmbetugevus on 900 MPa või rohkem.
’Low-expansion glasses’ refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10–7 K–1 or less measured at 293 K (20 °C).
Vähepaisuvad klaasid tähendavad klaase, mille temperatuuril 293 K (20 °C) mõõdetud soojusliku paisumise tegur on 1 × 10–7 K–1 või vähem.
’Dielectric layers’ are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
Dielektrilised kihid on pinnakatted, mis koosnevad paljudest dielektrilise materjali kihtidest, mille erinevate murdumisnäitajatega ainete kombinatsioonide planeeritud interferentsiomadused on kasutatud erinevate lainepikkusvahemike peegeldamiseks, ülekandmiseks või neelamiseks.
’Cemented tungsten carbide’ does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
Kõvasulamvolframkarbiid ei hõlma lõike- ja vormimisinstrumentide materjale, mis koosnevad volframkarbiidist/(koobalt, nikkel), titaankarbiidist/(koobalt, nikkel), kroomkarbiidist/nikkel-kroom ja kroomkarbiidist/nikkel.
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
magnetketta ajurid ja magnetpead, ühekordse kasutusega kaupade tootmisseadmed, kraanide klapid, valjuhääldite akustilised membraanid, autode mootoriosad, lõiketerad, stantsimise-pressimise matriitsid, kontorite automatiseerimisseadmed, mikrofonid ning meditsiinitehnika või vormid vähem kui 5 % berülliumi sisaldusega sulamitest toodetud plastide valamiseks või vormimiseks.
’Silicon carbide’ does not include cutting and forming tool materials.
Ränikarbiid ei hõlma lõike- ning vormimisinstrumentide materjale.
chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
keemiline aurustamine-sadestamine (CVD) on pinnakatmise või pinna muundamise protsess, mille kestel metall, sulam, dielektriline või keraamiline komposiit, sadestatakse kuumutatud põhimikule.
1:CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
NB 1!CVD sisaldab järgmisi menetlusi: sadestamine suunatud gaasivoo abil, ilma otsese põhimiku pulberkontaktita (out-of-pack), CVD-katmine pulseeriva rõhu juures, kontrollitud idustamisega termiline sadestamine (CNTD), plasmaaktiveeritud või plasma osalusel CVD menetlused.
2:Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
NB 2!Pulberkontakt tähendab, et põhimik on pulbrisegusse uputatud.
3:The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
NB 3!Gaasilisi reageerivaid aineid, mida kasutatakse pulberkontaktita menetlustes, toodetakse samu põhireaktsioone ja parameetreid kasutades nagu tahke tsementiitimise protsessiski, välja arvatud see, et kaetav põhimik pole otseses kokkupuutes pulbriseguga;
thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material.
termoaurustamine — füüsikaline aurustamine-sadestamine (TE-PVD) on pinnakatmise menetlus, mis viiakse läbi vaakumis rõhul vähem kui 0,1 Pa ja milles kasutatakse kattematerjali aurustamiseks soojusallikat.
electron Beam PVD uses an electron beam to heat and evaporate the material which forms the coating;
elektronkiire abil toimuval aurustamisel-sadestamisel (PVD) kasutatakse elektronkiirt katet moodustava aine soojendamiseks ning aurustamiseks;
ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
ioonide abil toimuva takistusliku kuumutamisega tekitatud aurustamisel-sadestamisel kasutatakse takistuslikke elektrilisi soojusallikaid kombinatsioonis põrkuvate ioonkiirtega, et saavutada reguleeritud ühtlast aurustatud katteaine voogu;
"laser" Vaporization uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporize the material which forms the coating;
laseraurustamisel kasutatakse kas impulss- või pidevlaine laserkiiri katet moodustava aine aurustamiseks;
cathodic Arc Deposition employs a consumable cathode of the material which forms the coating and has an arc discharge established on the surface by a momentary contact of a ground trigger.
katoodsadestamisel kasutatakse pinnakatet moodustavast ainest kuluvat katoodi ja kaarlahendust, mis süüdatakse hetkelisel katoodi ja pinna kokkupuutel.
N.B.:This definition does not include random cathodic arc deposition with non-biased substrates.
NB!See definitsioon ei hõlma juhuslikku katoodsadestamist eelpingestamata põhimikele;
ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionize the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma.
ioonpindamine on üks erijuht üldisest termoaurustamise — füüsikalise aurustamise-sadestamise (TE-PVD) menetlusest, mille käigus kasutatakse plasmat või iooniallikat sadestatava aine ioniseerimiseks ning sadestatava aine eraldamiseks plasmast rakendatakse põhimikule negatiivset eelpinget.