natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Fungi, whether natural, enhanced or modified, either in the form of "isolated live cultures" or as material which has been deliberately inoculated or contaminated with such cultures, as follows:
Seened, kas loomulikud, aktiveeritud või modifitseeritud, isoleeritud eluskultuuride või materjalide kujul, mis on teadlikult nakatatud (inokuleeritud) või saastatud järgmiste kultuuridega:
Toxic chemicals and toxic chemical precursors, as follows, and "chemical mixtures" containing one or more thereof:
Mürkkemikaalid ja nende lähteained ning üht või mitut nimetatud kemikaali sisaldavad keemilised segud: NB!
Toxic chemicals, as follows:
mürkkemikaalid:
Amiton: O,O-Diethyl S-[2-(diethylamino) ethyl] phosphorothiolate (78-53-5) and corresponding alkylated or protonated salts;
Amiton: O,O-dietüül-S-[2-(dietüülamino) etüül]fosforotiolaat (78-53-5) ja vastavad alküülitud või protoneeritud soolad;
PFIB: 1,1,3,3,3-Pentafluoro-2-(trifluoromethyl)-1-propene (382-21-8);
PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(trifluorometüül)-1-propeen (382-21-8);
SEE MILITARY GOODS CONTROLS FOR BZ: 3-Quinuclidinyl benzilate (6581-06-2);
VT SÕJALISE OTSTARBEGA KAUPADE NIMEKIRJAS BZ: 3-kinoklidinüülbensülaat (6581-06-2);
Phosgene: Carbonyl dichloride (75-44-5);
Fosgeen: karbonüüldikloriid (75-44-5);
Cyanogen chloride (506-77-4);
Tsüaankloriid (506-77-4);
Hydrogen cyanide (74-90-8);
Vesiniktsüaniid (74-90-8);
Chloropicrin: Trichloronitromethane (76-06-2);
Kloropikriin: trikloronitrometaan (76-06-2);
Note 1: For exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.a.1. and .a.2. in which no individually specified chemical constitutes more than 1 % by the weight of the mixture.
Märkus 1: Keemiarelvade konventsiooniga mitteühinenud riikidesse eksportimisel ei hõlma punkt 1C450 keemilisi segusid, mis sisaldavad üht või mitut punktides 1C450.a.1 ja 1C450.a.2 nimetatud kemikaali ning milles ükski üksik kemikaal ei moodusta kõnealusest segust üle 1 massi%.
Note 2: For exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.a.1. and .a.2. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Märkus 2: Keemiarelvade konventsiooniga ühinenud riikidesse eksportimisel ei hõlma punkt 1C450 keemilisi segusid, mis sisaldavad üht või mitut punktides 1C450.a.1 ja 1C450.a.2 nimetatud kemikaali ning milles ükski üksik kemikaal ei moodusta kõnealusest segust üle 30 massi%.
Note 3: 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.a.4., .a.5., .a.6. and .a.7. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Märkus 3: Punkt 1C450 ei hõlma keemilisi segusid, mis sisaldavad üht või mitut punktides 1C450.a.4, 1C450.a.5, 1C450.a.6 ja 1C450.a.7 nimetatud kemikaali ning milles ükski üksik kemikaal ei moodusta kõnealusest segust üle 30 massi%.
Toxic chemical precursors, as follows:
mürkkemikaalide lähteained:
Chemicals, other than those specified in the Military Goods Controls or in 1C350, containing a phosphorus atom to which is bonded one methyl, ethyl or propyl (normal or iso) group but not further carbon atoms;
kemikaalid, välja arvatud sõjalise otstarbega kaupade nimekirjas või punktis 1C350 nimetatud, mis sisaldavad fosforiaatomit, millega on seotud üks (normaal- või iso-) metüül-, etüül- või propüülrühm, kuid mitte enam süsinikuaatomeid;
Note: 1C450.b.1. does not control Fonofos: O-Ethyl S-phenyl ethylphosphonothiolothionate (944-22-9);
Märkus: Punkt 1C450.b.1 ei hõlma järgmist: Fonofos: O-etüül-S-fenüületüülfosfonotiolotionaat (944-22-9);
N,N-Dialkyl [methyl, ethyl or propyl (normal or iso)] phosphoramidic dihalides;
N,N-dialküül[metüül, etüül, n-propüül- või isopropüül-]-fosforamiidi dihalogeniidid;
Dialkyl [methyl, ethyl or propyl (normal or iso)] N,N-dialkyl [methyl, ethyl or propyl (normal or iso)]-phosphoramidates, other than Diethyl-N,N-dimethylphosphoramidate which is specified in 1C350;
dialküül[metüül, etüül, n-propüül või isopropüül]-N,N-dialküül[metüül, etüül, n-propüül või isopropüül]-fosforamidaadid, muud kui punktis 1C350 nimetatud dietüül-N,N-dimetüülfosforamidaat;
N,N-Dialkyl [methyl, ethyl or propyl (normal or iso)] aminoethyl-2-chlorides and corresponding protonated salts, other than N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethyl chloride or N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethyl chloride hydrochloride which are specified in 1C350;
N,N-dialküül[metüül, etüül, n-propüül või isopropüül]aminoetüül-2-kloriidid ja vastavad protoneeritud soolad, muud kui punktis 1C350 nimetatud N,N-diisopropüül-(beta)-aminoetüülkloriidhüdrokloriid;
N,N-Dialkyl [methyl, ethyl or propyl (normal or iso)] aminoethane-2-ols and corresponding protonated salts, other than N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethanol (96-80-0) and N,N-Diethylaminoethanol (100-37-8) which are specified in 1C350;
N,N-dialküül-[metüül, etüül, n-propüül või isopropüül]aminoetaan-2-oolid ja vastavad protoneeritud soolad, muud kui punktis 1C350 nimetatud N,N-diisopropüül-(beta)-aminoetanool (96-80-0) ja N,N-dietüülaminoetanool (100-37-8);
Note: 1C450.b.5. does not control the following:
Märkus: Punkt 1C450.b.5 ei hõlma järgmist:
N,N-Dimethylaminoethanol (108-01-0) and corresponding protonated salts;
N,N-dimetüülaminoetanool (108-01-0) ja vastavad protoneeritud soolad;
Protonated salts of N,N-Diethylaminoethanol (100-37-8);
N,N-dietüülaminoetanool ja vastavad protoneeritud soolad (100-37-8);
N,N-Dialkyl [methyl, ethyl or propyl (normal or iso)] aminoethane-2-thiols and corresponding protonated salts, other than N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethane thiol which is specified in 1C350;
N,N-dialküül-[metüül, etüül, n-propüül või isopropüül]aminoetaan-2-tioolid ja vastavad protoneeritud soolad, muud kui punktis 1C350 nimetatud N,N-diisopropüül-(beta)-aminoetaantiool;
Ethyldiethanolamine (139-87-7);
etüüldietanoolamiin (139-87-7);
Methyldiethanolamine (105-59-9).
metüüldietanoolamiin (105-59-9).
Note 1: For exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. and .b.6. in which no individually specified chemical constitutes more than 10 % by the weight of the mixture.
Märkus 1: Keemiarelvade konventsiooniga mitteühinenud riikidesse eksportimisel ei hõlma punkt 1C450 keemilisi segusid, mis sisaldavad üht või mitut punktides 1C450.b.1, 1C450.b.2, 1C450.b.3, 1C450.b.4, 1C450.b.5 ja 1C450.b.6 nimetatud kemikaali ning milles ükski üksik kemikaal ei moodusta kõnealusest segust üle 10 massi%.
Note 2: For exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. and .b.6. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Märkus 2: Keemiarelvade konventsiooniga ühinenud riikidesse eksportimisel ei hõlma punkt 1C450 keemilisi segusid, mis sisaldavad üht või mitut punktides 1C450.b.1, 1C450.b.2, 1C450.b.3, 1C450.b.4, 1C450.b.5 ja 1C450.b.6 nimetatud kemikaali ning milles ükski üksik kemikaal ei moodusta kõnealusest segust üle 30 massi%.
Note 3: 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.b.7., and .b.8. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Märkus 3: Punkt 1C450 ei hõlma keemilisi segusid, mis sisaldavad üht või mitut punktides 1C450.b.7 ja 1C450.b.8 nimetatud kemikaali ning milles ükski üksik kemikaal ei moodusta kõnealusest segust üle 30 massi%.
Note: 1C450 does not control products identified as consumer goods packaged for retail sale for personal use or packaged for individual use.
Märkus: Punkt 1C450 ei hõlma tarbekaupadena määratletavaid tooteid, mis on pakendatud jaemüügiks isiklikuks kasutamiseks või pakendatud üksikisikule kasutamiseks.
"Software" specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment specified in 1B001 to 1B003.
Tarkvara, mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktides 1B001–1B003 nimetatud seadmete arendamiseks, tootmiseks või kasutamiseks.
"Software" for the "development" of organic "matrix", metal "matrix" or carbon "matrix" laminates or "composites".
Tarkvara, mis on ette nähtud orgaaniliste ja metalliliste põhimasside, süsinikpõhimassilaminaatide või -komposiitide arendamiseks.
"Software" specially designed or modified for the "use" of goods specified in 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 or 1B119.
Tarkvara, mis on spetsiaalselt loodud või kohandatud punktis 1B101,1B102, 1B115, 1B117, 1B118 või 1B119 nimetatud kaupade kasutamiseks.
"Software" specially designed for analysis of reduced observables such as radar reflectivity, ultraviolet/infrared signatures and acoustic signatures.
Tarkvara, mis on spetsiaalselt ette nähtud selliste vähendatud märgatavusega signaalide analüüsiks nagu radarikiirte tagasipeegeldumine, ultraviolett-/infrapuna- või akustilised signaalid.
"Software" specially designed for the "use" of goods specified in 1B201.
Tarkvara, mis on spetsiaalselt ette nähtud punktis 1B201 nimetatud kaupade kasutamiseks.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" or "production" of equipment or materials specified in 1A001.b., 1A001.c., 1A002 to 1A005, 1B or 1C.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav tehnoloogia punktides 1A001.b, 1A001.c, 1A002–1A005, 1B või 1C nimetatud seadmete või materjalide arendamiseks ja tootmiseks.
Other "technology", as follows:
Muu tehnoloogia:
"Technology" for the "development" or "production" of polybenzothiazoles or polybenzoxazoles;
tehnoloogia polübensotiasoolide või polübensoksasoolide arendamiseks ja tootmiseks;
"Technology" for the "development" or "production" of fluoroelastomer compounds containing at least one vinylether monomer;
tehnoloogia selliste fluoroelastomeerühendite arendamiseks ja tootmiseks, mis sisaldavad vähemalt ühte vinüüleetermonomeeri;
"Technology" for the design or "production" of the following base materials or non-"composite" ceramic materials:
Tehnoloogia järgmiste lähtematerjalide või mittekomposiitsete keraamiliste materjalide tootmiseks:
Base materials having all of the following characteristics:
Lähtematerjalid, millel on kõik järgmised omadused:
Any of the following compositions:
üks järgmisest loetelust:
Single or complex oxides of zirconium and complex oxides of silicon or aluminium;
tsirkooniumi liht- või kompleksoksiidid ja räni või alumiiniumi kompleksoksiidid;
Single nitrides of boron (cubic crystalline forms);
boori lihtnitriidid (kuubilise võrega kristallide kujul);
Single or complex carbides of silicon or boron; or
räni või boori liht- või komplekskarbiidid; või
Single or complex nitrides of silicon;
räni liht- või kompleksnitriidid;
Total metallic impurities, excluding intentional additions, of less than:
summaarne metalliliste lisandite hulk, välja arvatud spetsiaalselt lisatavad, on väiksem kui:
1000 ppm for single oxides or carbides; or
1000 miljondikosa lihtoksiidide või karbiidide korral; või
5000 ppm for complex compounds or single nitrides; and
5000 miljondikosa kompleksühendite või lihtnitriidide korral; ja
Being any of the following:
mis tahes järgmiste omadustega:
Zirconia with an average particle size equal to or less than 1 μm and no more than 10 % of the particles larger than 5 μm;
tsirkooniumid, mille keskmine osakeste suurus ei ületa 1 μm ja kuni 10 % osakeste suurus ei ületa 5 μm;
Other base materials with an average particle size equal to or less than 5 μm and no more than 10 % of the particles larger than 10 μm; or
muud lähtematerjalid, mille keskmine osakeste suurus ei ületa 5 μm ja kuni 10 % osakeste suurus ei ületa 10 μm; või
Having all of the following:
millel on kõik järgmised omadused:
Platelets with a length to thickness ratio exceeding 5;
liistakud, mille pikkuse ja paksuse suhe ületab 5;
Whiskers with a length to diameter ratio exceeding 10 for diameters less than 2 μm; and
niitkristallid, mille pikkuse ja läbimõõdu suhe ületab 10 läbimõõtude korral, mis on väiksemad kui 2 μm; ja
Continuous or chopped fibres less than 10 μm in diameter;
pidev või tükeldatud kiud, mille läbimõõt on väiksem kui 10 μm;
Non-"composite" ceramic materials composed of the materials described in 1E002.c.1.;
mittekomposiitsed keraamilised materjalid, mis on valmistatud punktis 1E002.c.1 nimetatud materjalidest;
Note: 1E002.c.2. does not control "technology" for the design or production of abrasives.
Märkus: Punkt 1E002.c.2 ei hõlma tehnoloogiat abrasiivide kavandamiseks või tootmiseks.
"Technology" for the "production" of aromatic polyamide fibres;
tehnoloogia aromaatsete polüamiidkiudude tootmiseks;
"Technology" for the installation, maintenance or repair of materials specified in 1C001;
tehnoloogia punktis 1C001 nimetatud materjalide installeerimiseks, hooldamiseks või parandamiseks;
"Technology" for the repair of "composite" structures, laminates or materials specified in 1A002, 1C007.c. or 1C007.d.
tehnoloogia punktis 1A002, 1C007.c või 1C007.d nimetatud komposiitstruktuuride, -laminaatide või -materjalide parandamiseks.
Note: 1E002.f. does not control "technology" for the repair of "civil aircraft" structures using carbon "fibrous or filamentary materials" and epoxy resins, contained in aircraft manufacturers' manuals.
Märkus: Punkt 1E002.f ei hõlma tehnoloogiat, mis on vajalik tsiviilõhusõidukite tarindite remondiks, kasutades süsinikkiude ja -niitmaterjale ning epoksüvaike, mis sisalduvad õhusõidukivalmistaja käsiraamatus.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 to 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111 to 1C117, 1D101 or 1D103.
Tehnoloogia üldmärkustele vastav tehnoloogia punktis 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115–1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111–1C117, 1D101 või 1D103 nimetatud kaupade kasutamiseks.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of "software" specified in 1D001, 1D101 or 1D103.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav tehnoloogia punktis 1D001, 1D101 või 1D103 nimetatud tarkvara arendamiseks.
"Technology" for the regulation of temperature, pressure or atmosphere in autoclaves or hydroclaves, when used for the "production" of "composites" or partially processed "composites".
Tehnoloogia temperatuuri, rõhu või atmosfääri reguleerimiseks autoklaavides või hüdroklaavides komposiitide või osaliselt töödeldud komposiitide tootmisel.
"Technology" relating to the "production" of pyrolytically derived materials formed on a mould, mandrel or other substrate from precursor gases which decompose in the 1573 K (1300 °C) to 3173 K (2900 °C) temperature range at pressures of 130 Pa to 20 kPa.
Tehnoloogia pürolüütiliselt saadud materjalide tootmiseks, mis on moodustunud valuvormil, spindlil või muul alusel lähtegaasidest, mis lagunevad temperatuurivahemikus 1573 K (1300 °C) kuni 3173 K (2900 C), rõhkudel 130 Pa kuni 20 kPa.
Note: 1E104 includes "technology" for the composition of precursor gases, flow-rates and process control schedules and parameters.
Märkus: Punkt 1E104 hõlmab tehnoloogiat lähtegaaside koostise jaoks, voolukiirusi ja protsessi juhtimise programmi ning parameetreid.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 1A002, 1A202, 1A225 to 1A227, 1B201, 1B225 to 1B233, 1C002.a.2.c. or d., 1C010.b., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 to 1C240 or 1D201.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav tehnoloogia punktis 1A002, 1A202, 1A225–1A227, 1B201, 1B225–1B233, 1C002.a.2.c või 1C002.a.2.d, 1C010.b, 1C202, 1C210, 1C216, 1C225–1C240 või 1D201 nimetatud kaupade kasutamiseks.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" or "production" of goods specified in 1A202 or 1A225 to 1A227.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav tehnoloogia punktis 1A202 või 1A225–1A227 nimetatud kaupade arendamiseks või tootmiseks.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of "software" specified in 1D201.
Tehnoloogia üldmärkusele vastav tehnoloogia punktis 1D201 nimetatud tarkvara arendamiseks.
CATEGORY 2
KATEGOORIA
MATERIALS PROCESSING
MATERJALIDE TÖÖTLEMINE
N.B.: For quiet running bearings, see the Military Goods Controls
Müravabade laagrite kohta vaata sõjalise otstarbega kaupade nimekirja.
Anti-friction bearings and bearing systems, as follows, and components therefor:
Veerelaagrid ja laagrisüsteemid ning nende komponendid:
Note: 2A001 does not control balls with tolerances specified by the manufacturer in accordance with ISO 3290 as grade 5 or worse.
Märkus: Punkt 2A001 ei hõlma kuule, mille tootja poolt määratud tolerantsid ISO 3290 standardi kohaselt vastavad täpsusklassile 5 või on halvemad.
Ball bearings and solid roller bearings having all tolerances specified by the manufacturer in accordance with ISO 492 Tolerance Class 4 (or ANSI/ABMA Std 20 Tolerance Class ABEC-7 or RBEC-7, or other national equivalents), or better, and having both rings and rolling elements (ISO 5593) made from monel or beryllium;
kuullaagrid või tervikrull-laagrid, mille tootja määratletud tolerantsid vastavad ISO 492 täpsusklassile 4 (või ANSI/ABMA Std 20 täpsusklassile ABEC-7 või RBEC-7 või vastavatele siseriiklikele normidele) või on paremad ja mille veerevõrud ja -kehad on valmistatud monelmetallist või berülliumist;
Note: 2A001.a. does not control tapered roller bearings.
Märkus: Punkt 2A001 ei hõlma koonusrull-laagreid.
Other ball bearings and solid roller bearings having all tolerances specified by the manufacturer in accordance with ISO 492 Tolerance Class 2 (or ANSI/ABMA Std 20 Tolerance Class ABEC-9 or RBEC-9, or other national equivalents), or better;
muud kuullaagrid või tervikrull-laagrid, mille tootja määratletud tolerantsid vastavad ISO 492 täpsusklassile 2 (või ANSI/ABMA Std 20 täpsusklassile ABEC-9 või RBEC-9 või vastavatele siseriiklikele normidele) või on paremad;
Note: 2A001.b. does not control tapered roller bearings.
Märkus: Punkt 2A001.b ei hõlma koonusrull-laagreid.
Active magnetic bearing systems using any of the following:
aktiivsed magnetlaagrisüsteemid, mis kasutavad mõnda järgmistest:
Materials with flux densities of 2.0 T or greater and yield strengths greater than 414 MPa;
materjalid, mille magnetvootihedus on 2,0 T või suurem ja voolavuspiir on üle 414 MPa;
All-electromagnetic 3D homopolar bias designs for actuators; or
täiselektromagnetilised 3D homopolaarsed eelmagneetimiskonstruktsioonid ajamitele; või
High temperature (450 K (117 °C) and above) position sensors.
kõrgetemperatuurilised (450 K (117 °C ja kõrgem) asendiandurid.
Crucibles made of materials resistant to liquid actinide metals, as follows:
Tiiglid, mis on valmistatud vedelatele aktiniidmetallidele vastupidavatest materjalidest:
Crucibles having both of the following characteristics:
tiiglid, millel on mõlemad järgmised omadused:
A volume of between 150 cm3 and 8000 cm3; and
mahutavus 150–8000 cm3; ja
Made of or coated with any of the following materials, having a purity of 98 % or greater by weight:
valmistatud järgmistest materjalidest või kaetud mis tahes järgmiste materjalidega, mille puhtusaste on 98 massi% või rohkem:
Calcium fluoride (CaF2);
kaltsiumfluoriid (CaF2);
Calcium zirconate (metazirconate) (CaZrO3);
kaltsiumtsirkonaat (metatsirkonaat) (CaZrO3);
Cerium sulphide (Ce2S3);
tseeriumsulfiid (Ce2S3);
Erbium oxide (erbia) (Er2O3);
erbiumoksiid (Er2O3);
Hafnium oxide (hafnia) (HfO2);
hafniumoksiid (HfO2);
Magnesium oxide (MgO);
magneesiumoksiid (MgO);
Nitrided niobium-titanium-tungsten alloy (approximately 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);
nitriiditud nioobiumi-titaani-volframisulam, mis sisaldab ligikaudu 50 % Nb, 30 % Ti ja 20 % W;
Yttrium oxide (yttria) (Y2O3); or
ütriumoksiid (Y2O3); või
i. Zirconium oxide (zirconia) (ZrO2);
i. tsirkooniumoksiid (ZrO2);
A volume of between 50 cm3 and 2000 cm3; and
mahutavus 50–2000 cm3; ja
Made of or lined with tantalum, having a purity of 99,9 % or greater by weight;
valmistatud tantaalist või kaetud tantaaliga, mille puhtusaste on 99,9 massi% või rohkem;
Crucibles having all of the following characteristics:
tiiglid, millel on kõik järgmised omadused:
A volume of between 50 cm3 and 2000 cm3;
mahutavus 50–2000 cm3;
Made of or lined with tantalum, having a purity of 98 % or greater by weight; and
valmistatud tantaalist või kaetud tantaaliga, mille puhtusaste on 98 massi% või rohkem; ja
Coated with tantalum carbide, nitride, boride, or any combination thereof.
kaetud tantaalkarbiidi, -nitriidi või -boriidiga või nende kombinatsiooniga.
Valves having all of the following characteristics:
Klapid, millel on kõik järgmised omadused:
A 'nominal size' of 5 mm or greater;
nimisuurus 5 mm või rohkem;
Having a bellows seal; and
omab lõõtstihendit; ja
Wholly made of or lined with aluminium, aluminium alloy, nickel, or nickel alloy containing more than 60 % nickel by weight.
valmistatud või kaetud alumiiniumiga, alumiiniumisulamiga, nikliga või niklisulamiga, mis sisaldab 60 massi% või rohkem niklit.
For valves with different inlet and outlet diameters, the 'nominal size' in 2A226 refers to the smallest diameter.
Erinevate sisendava ja väljundava läbimõõtudega klappide korral tähistab punktis 2A226 nimimõõt väikseimat läbimõõtu.
Secondary parallel contouring axes, (e.g., the w-axis on horizontal boring mills or a secondary rotary axis the centre line of which is parallel to the primary rotary axis) are not counted in the total number of contouring axes.
Täiendavaid paralleelseid kontuurtelgesid (nt horisontaalsete karussellsisetreipinkide w-telg või teisene pöördtelg, mille pöörlemistelg on paralleelne põhitelje pöörlemisteljega) ei loeta kontuurtelgede koguhulka.
Rotary axes need not rotate over 360°.
Pöördteljed ei pea pöörlema üle 360°.
A rotary axis can be driven by a linear device (e.g. a screw or a rack-and-pinion).
Pöördtelge võib pöörlema panna lineaarseade (nt tigu- või hammaslattajam).
For the purposes of 2B, the number of axes which can be co-ordinated simultaneosly for "contouring control" is the number of axes which affect relative movement between any one workpiece and a tool, cutting head or grinding wheel which is cutting or removing material from the workpiece.
Nende telgede arv, mida võib samaaegselt koordineerida kontuurjuhtimiseks punkti 2B tähenduses, on telgede arv, mis mõjutavad mis tahes töödeldava detaili või tööriista, lõikepea või lihvimisketta, millega lõigatakse või eemaldatakse ainet töödeldavalt detaililt, omavahelist suhtelist liikumist.
This does not include any additional axes which affect other relative movement within the machine.
Sinna hulka ei loeta lisatelgi, mis mõjutavad muid suhtelisi liikumisi seadmes.
Such axes include:
Niisugused teljed hõlmavad:
Wheel-dressing systems in grinding machines;
lihvimisketaste rihtimissüsteemi lihvmasinaid;
Parallel rotary axes designed for mounting of separate workpieces;
paralleelseid pöördtelgesid, mis on kavandatud eraldi asuvate töödeldavate detailide paigaldamiseks;
Co-linear rotary axes designed for manipulating the same workpiece by holding it in a chuck from different ends.
kolineaarseid pöörlevaid abitelgesid, mis on kavandatud sama töödeldava detaili käsitsemiseks, hoides seda kinni erinevatest punktidest.
Axis nomenclature shall be in accordance with International Standard ISO 841, 'Numerical Control Machines — Axis and Motion Nomenclature'.
Telgede nimestik peab olema vastavuses rahvusvahelise standardiga ISO 841 Numerical Control Machines - Axis and Motion Nomenclature (numbrilised juhtimismasinad – telje ja liikumise nimestik).
For the purposes of 2B001 to 2B009 a "tilting spindle" is counted as a rotary axis.
Punktide 2B001–2B009 tähenduses loetakse kaldvõll pöördteljeks.