natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Μηχανές ειδικά σχεδιασμένες για τρόχισμα με περιτύπωμα που δεν έχουν άξονα «z» ή άξονα «w», με ακρίβεια τοποθέτησης με «όλες τις διαθέσιμες αντισταθμίσεις» μικρότερη (καλύτερη) από 4 μm σύμφωνα με το πρότυπο ISO 230/2 (1988) [3] Οι κατασκευαστές που υπολογίζουν την ακρίβεια τοποθέτησης σύμφωνα με το έγγραφο ISO 230/2 (1997) οφείλουν να συμβουλευθούν τις αρμόδιες αρχές του κράτους μέλους όπου είναι εγκατεστημένοι.
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a positioning accuracy with “all compensations available” less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [3] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
δ. Μηχανές ηλεκτρικής εκκένωσης (EDM) όχι του τύπου μηχανισμού πρόωσης σύρματος, με δύο ή περισσότερους άξονες που μπορούν να συνδυαστούν ταυτόχρονα για τον «έλεγχο της διαμόρφωσης περιγράμματος».
d. Electrical discharge machines (EDM) of the non-wire type which have two or more rotary axes which can be coordinated simultaneously for “contouring control”;
ε. Εργαλειομηχανές για την αφαίρεση μεταλλικών, κεραμικών ή «σύνθετων» υλικών με όλα τα παρακάτω:
e. Machine tools for removing metals, ceramics or “composites”, having all of the following:
α. Εκτόξευση ύδατος ή άλλων υγρών, συμπεριλαμβανομένων όσων περιέχουν λειαντικά πρόσθετα,
a. Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
β. Δέσμη ηλεκτρονίων, ή
b. Electron beam; or
γ. εξάτμιση με «λέιζερ» και
c. “Laser” beam; and
Δύο ή περισσότερους άξονες περιστροφής με όλα τα παρακάτω χαρακτηριστικά:
At least two rotary axes having all of the following:
α. Δυνατότητα ταυτόχρονου συντονισμού για «έλεγχο της διαμόρφωσης περιγράμματος»· και
a. Can be coordinated simultaneously for “contouring control”; and
β. Ακρίβεια τοποθέτησης μικρότερη (καλύτερη) από 0,003 °. στ.
b. A positioning accuracy of less (better) than 0,003 °;
Μηχανές για διάτρηση βαθειών οπών και μηχανές για τόρνευση τροποποιημένες για διάτρηση βαθειών οπών, με μέγιστη ικανότητα βάθους διάτρησης που υπερβαίνει 5 m και ειδικά σχεδιασμένα προς τούτο δομικά στοιχεία.
f. Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m and specially designed components therefor.
α. Φινίρισμα του προϊόντος σε λιγότερο (καλύτερο) από 1,0 μm,
a. Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
β. Φινίρισμα με τραχύτητα μικρότερη (καλύτερη) από 100 nm rms,
b. Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms;
γ. Τέσσερεις ή περισσότερους άξονες που μπορούν να συνδυαστούν ταυτόχρονα για τον «έλεγχο της διαμόρφωσης περιγράμματος», και
c. Four or more axes which can be coordinated simultaneously for “contouring control”; and
δ. Χρήση οποιασδήποτε από τις παρακάτω διεργασίες:
d. Using any of the following processes:
Μαγνητοροολογικό φινίρισμα («MRF»)
Magnetorheological finishing (‘MRF’);
Ηλεκτροροολογικό φινίρισμα («HRF»)
Electrorheological finishing (‘ERF’);
‘Φινίρισμα με δέσμες ενεργειακών σωματιδίων’
‘Energetic particle beam finishing’;
‘Φινίρισμα με εργαλείο διογκούμενης μεμβράνης’, ή
‘Inflatable membrane tool finishing’; or
‘Φινίρισμα με εκτόξευση υγρού’.
‘Fluid jet finishing’.
Μαγνητοροολογικό φινίρισμα είναι κάθε διεργασία αφαίρεσης υλικού που χρησιμοποιεί αποτριπτικό μαγνητικό ρευστό, το ιξώδες του οποίου ελέγχεται με μαγνητικό πεδίο.
‘MRF’ is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
Ηλεκτροροολογικό φινίρισμα είναι κάθε διεργασία αφαίρεσης που χρησιμοποιεί αποτριπτικό ρευστό, το ιξώδες του οποίου ελέγχεται με ηλεκτρικό πεδίο.
‘ERF’ is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
«Φινίρισμα με δέσμες ενεργειακών σωματιδίων» είναι η χρήση πλάσματος αντιδραστικών ατόμων (RAP) ή δεσμών ιόντων για την επιλεκτική αφαίρεση υλικού.
‘Energetic particle beam finishing’ uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Το ‘Φινίρισμα με εργαλείο διογκούμενης μεμβράνης’ είναι διαδικασία που χρησιμοποιεί μια μεμβράνη υπό πίεση η οποία παραμορφώνεται για να έρθει σε επαφή με το προς κατεργασία αντικείμενο σε μικρό χώρο.
‘Inflatable membrane tool finishing’ is a process that uses a pressurised membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Στο ‘φινίρισμα με εκτόξευση υγρού’ χρησιμοποιείται ροή υγρού για την αφαίρεση υλικού.
‘Fluid jet finishing’ makes use of a fluid stream for material removal.
Εργαλειομηχανές με «ψηφιακό έλεγχο» ή χειροκίνητες, και τα ειδικά σχεδιασμένα κατασκευαστικά στοιχεία, όργανα χειρισμού και εξαρτήματά τους, ειδικά σχεδιασμένες για πλάνισμα, την τελική επεξεργασία, το τρόχισμα ή τη λείανση σκληρωμένων (Rc = 40 ή περισσότερο) ακτινωτών, ελικοειδών και διπλών ελικοειδών οδοντωτών τροχών με διάμετρο βήματος μεγαλύτερη από 1250 mm και εύρος κεφαλής των οδόντων εντός των ορίων του 15 % της διαμέτρου βήματος ή μεγαλύτερο οι οποίοι έχουν υποστεί τελική επεξεργασία για την επίτευξη της ποιότητας που ορίζεται στο πρότυπο AGMA 14 (ισοδύναμο με το πρότυπο ISO 1328 κατηγορία 3) ή ανώτερης ποιότητας.
“Numerically controlled” or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc = 40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
«Ισοστατικές πρέσες» για κατεργασία εν θερμώ που έχουν όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά, καθώς και τα ειδικά γι’ αυτές σχεδιασμένα κατασκευαστικά μέρη και εξαρτήματα, ως εξής:
Hot “isostatic presses” having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Β104 και 2Β204.
SEE ALSO 2B104 AND 2B204.
α. Περιβάλλον ελεγχόμενης θερμοκρασίας στο κλειστό κοίλωμα και κοίλωμα θαλάμου εσωτερικής διαμέτρου 406 mm ή μεγαλύτερης και
a. A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
β. Οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:
b. Having any of the following:
Η διάσταση αυτή είναι η μικρότερη από τις εσωτερικές διαμέτρους είτε του θαλάμου πιέσεως είτε του μονωμένου θαλάμου του κλιβάνου, ανάλογα με το ποιος από τους δύο βρίσκεται μέσα στον άλλο.
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
Για ειδικά σχεδιασμένες μήτρες, τύπους και εργαλεία βλέπε σημεία 1B003, 9B009 και τους ελέγχους στρατιωτικών προϊόντων.
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Ειδικά σχεδιασμένος εξοπλισμός για την εναπόθεση, την επεξεργασία και τον κατά τη διεργασία έλεγχο ανοργάνων επιστρώσεων, επιχρίσεων και μετατροπών επιφανειών σε μη ηλεκτρονικά υποστρώματα, με τις τεχνικές που αναφέρονται στον πίνακα μετά το εδάφιο 2Ε003.στ. και στις σχετικές με αυτόν σημειώσεις, καθώς και τα ειδικά σχεδιασμένα συστατικά μέρη αυτόματου χειρισμού, τοποθέτησης, κατεργασίας και ελέγχου για τον εν λόγω εξοπλισμό, ως εξής:
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
α. Εξοπλισμός παραγωγής για εναπόθεση ατμού με χημικές μεθόδους (CVD), ο οποίος έχει όλα τα παρακάτω:
a. Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having both of the following:
ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Β105.
SEE ALSO 2B105.
α. Παλμική εναπόθεση ατμού με χημικές μεθόδους,
a. Pulsating CVD;
β. Θερμική εναπόθεση με ελεγχόμενο πυρήνα αντιδράσεως (CΝΤD), ή
b. Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
γ. Εναπόθεση ατμού με χημική μέθοδο βελτιωμένη με πλάσμα ή υποβοηθούμενη από πλάσμα, και
c. Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
Οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Having either of the following:
α. Περιστρεφόμενες στεγανοποιητικές διατάξεις υψηλού κενού (μικρότερου ή ίσου προς 0,01 Pa), ή
a. Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
β. Σύστημα ελέγχου του πάχους του επιχρίσματος επιτόπου.
b. Incorporating in situ coating thickness control;
β. Εξοπλισμός παραγωγής για εμφύτευση ιόντων, με ένταση ρεύματος δέσμης 5 mA ή μεγαλύτερη.
b. Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
γ. Εξοπλισμός παραγωγής για εναπόθεση ατμού με φυσική μέθοδο δέσμης ηλεκτρονίων (EB-PVD), ο οποίος φέρει ενσωματωμένα συστήματα τροφοδότησης ισχύος σχεδιασμένα για ισχύ μεγαλύτερη από 80 kW και έχει οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
c. Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having either of the following:
Σύστημα ελέγχου στάθμης υγρού με «λέιζερ», το οποίο ρυθμίζει με ακρίβεια την ταχύτητα προώσεως των τύπων, ή
A liquid pool level “laser” control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
δ. Εξοπλισμός παραγωγής για ψεκασμό πλάσματος, ο οποίος έχει οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
d. Plasma spraying production equipment having either of the following:
ε. Εξοπλισμός παραγωγής για εναπόθεση με καθοδική διασκόρπιση, ικανός να επιτυγχάνει πυκνότητα ρεύματος 0,1 mA/mm2 ή υψηλότερη, με ταχύτητα εναπόθεσης 15 μικρόμετρα/ώρα ή υψηλότερη, στ.
e. Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Εξοπλισμός παραγωγής για εναπόθεση καθοδικής εκκένωσης τόξου, ο οποίος φέρει ενσωματωμένο πλέγμα ηλεκτρομαγνητών για την καθοδήγηση της εστίασης του τόξου στην κάθοδο,
f. Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
ζ. Εξοπλισμός παραγωγής για ιοντική επιμετάλλωση, με ικανότητα επιτόπιας μέτρησης οποιουδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
g. Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of either of the following:
Στο σημείο 2Β005 δεν υπάγονται η εναπόθεση ατμού με χημικές μεθόδους, η καθοδική εκκένωση τόξου, η εναπόθεση με καθοδική διασκόρπιση, ο εξοπλισμός για ιοντική επιμετάλλωση ή εμφύτευση ιόντων ο ειδικά σχεδιασμένος για εργαλεία κοπής ή μηχανουργικής κατεργασίας.
005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
Συστήματα, εξοπλισμός και «ηλεκτρονικά συναρμολογήματα» ελέγχου ή μέτρησης διαστάσεων, ως εξής:
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and “electronic assemblies”, as follows:
α. Μηχανές μέτρησης συντεταγμένων (CMM) με έλεγχο από υπολογιστή ή «ψηφιακό έλεγχο», με τρισδιάστατο (ογκομετρικό) μέγιστο επιτρεπτό σφάλμα μέτρησης μήκους (E0, MPE) σε κάθε σημείο μέσα στην έκταση λειτουργίας της μηχανής (δηλαδή στο μήκος των αξόνων) ίσο ή μικρότερο (καλύτερη επίδοση) από (1,7 + L/1000) μm (L είναι το μετρούμενο μήκος σε mm), σύμφωνα με το ISΟ 10360-2(2009).
a. Computer controlled or “numerically controlled” Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0, MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e. within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
Με το όριο των (1,7 + L/1000) μmσυγκρίνεται το E0,MPE του ακριβέστερου διασχηματισμού της μηχανής που προσδιορίζεται από τον κατασκευαστή (με όλα δηλαδή τα παρακάτω ρυθμισμένα όσο το δυνατόν καλύτερα: μήλη, μήκος στύλου, παράμετροι κίνησης, περιβάλλον) και με «όλες τις διαθέσιμες αντισταθμίσεις».
The E0, MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g. best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with “all compensations available” shall be compared to the 1,7 + L/1000 μm threshold.
ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Β206.
SEE ALSO 2B206.
β. Όργανα μέτρησης της γραμμικής και γωνιακής μετατόπισης, ως εξής:
b. Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
Όργανα μέτρησης της ‘γραμμικής μετατόπισης’ με οποιοδήποτε από τα παρακάτω:
‘Linear displacement’ measuring instruments having any of the following:
α. Συστήματα μετρήσεων χωρίς απευθείας επαφή, με «διακριτική ικανότητα» ίση ή μικρότερη (καλύτερη επίδοση) από 0,2 μm για κλίμακες μετρήσεων έως 0,2 mm,
a. Non-contact type measuring systems with a “resolution” equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
β. Γραμμικούς διαφορικούς μετασχηματιστές τάσεως με αμφότερα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
b. Linear voltage differential transformer systems having both of the following:
«Γραμμικότητα» ίση ή μικρότερη (καλύτερη επίδοση) από 0,1 % για κλίμακες μετρήσεων έως 5 mm, και
“Linearity” equal to or less (better) than 0,1 % within a measuring range up to 5 mm; and
Έκπτωση ίση ή μικρότερη (καλύτερη επίδοση) από 0,1 % ημερησίως σε κανονική θερμοκρασία περιβάλλοντος στην αίθουσα δοκιμών ± 1 Κ,
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ± 1 K;
γ. Συστήματα μετρήσεων που έχουν όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
c. Measuring systems having all of the following:
Είναι εξοπλισμένα με «λέιζερ», και
Containing a “laser”; and
Μπορούν να διατηρούν, τουλάχιστον επί 12 ώρες σε θερμοκρασία 20 ± 1 °C, όλα τα παρακάτω:
Maintaining, for at least 12 hours, at a temperature of 20 ± 1 °C, all of the following:
α. «Διακριτική ικανότητα» στην πλήρη κλίμακα αναγνώσεώς τους 0,1 μm ή μικρότερη (καλύτερη επίδοση), και
a. A “resolution” over their full scale of 0,1 μm or less (better); and
β. Μπορούν να επιτυγχάνουν «αβεβαιότητα μέτρησης», όταν αντισταθμίζονται για τον δείκτη διαθλάσεως του αέρα, ίση ή μικρότερη (καλύτερη επίδοση) από (0,2 + L/2000) μm (όπου L είναι το μετρούμενο μήκος, σε mm), ή
b. Capable of achieving a “measurement uncertainty”, when compensated for the refractive index of air, equal to or less (better) than (0,2 + L/2000) μm (L is the measured length in mm); or
δ. «Ηλεκτρονικά συναρμολογήματα» ειδικά σχεδιασμένα για να παρέχουν δυνατότητα ανάδρασης στα συστήματα που ορίζονται στο σημείο 2Β006.β.1.γ.,
d. “Electronic assemblies” specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Στο σημείο 2Β006.β.1. δεν υπάγονται τα συστήματα μέτρησης συμβολομέτρων, με αυτόματο σύστημα ελέγχου σχεδιασμένο για να μη χρησιμοποιεί τεχνικές ανάδρασης, που περιλαμβάνουν «λέιζερ» για τη μέτρηση των εσφαλμένων κινήσεων ολίσθησης των εργαλειομηχανών, μηχανών ελέγχου διαστάσεων ή παρόμοιου εξοπλισμού.
b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a “laser” to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
Όργανα μετρήσεων γωνιακής μετατόπισης με «απόκλιση γωνιακής θέσεως» ίση ή μικρότερη (καλύτερη επίδοση) από 0,00025 °.
Angular displacement measuring instruments having an “angular position deviation” equal to or less (better) than 0,00025 °;
Στο εδάφιο 2Β006.β.2. δεν υπάγονται τα οπτικά όργανα, όπως οι αυτοδιοπτήρες, που χρησιμοποιούν παράλληλες ακτίνες φωτός (π.χ. «λέιζερ») για την ανίχνευση της γωνιακής μετατόπισης κατόπτρου.
b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g. laser light) to detect angular displacement of a mirror.
γ. Εξοπλισμός μέτρησης των ανωμαλιών των επιφανειών με μέτρηση της σκέδασης του φωτός συναρτήσει γωνίας, με ευαισθησία 0,5 nm ή λιγότερο (καλύτερη επίδοση).
c. Equipment for measuring surface irregularities, by measuring optical scatter as a function of angle, with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
Στο σημείο 2B006 υπάγονται οι εργαλειομηχανές, πλην των προσδιοριζόμενων στο σημείο 2B001, που μπορούν να χρησιμοποιηθούν ως μηχανές μετρήσεων, εφόσον πληρούν τα κριτήρια που καθορίζονται για τη μετρητική λειτουργία ή ανώτερα κριτήρια.
006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
«Ρομπότ» και τα ειδικά σχεδιασμένα όργανα αυτομάτου ελέγχου (αυτόματοι ρυθμιστές) και «επενεργητές πέρατος» αυτών, ως εξής:
“Robots” having any of the following characteristics and specially designed controllers and “end-effectors” therefor:
ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ ΠΑΡΑΓΡΑΦΟ 2Β207.
SEE ALSO 2B207.
α. Με ικανότητα πλήρους τρισδιάστατης επεξεργασίας εικόνων ή πλήρους τρισδιάστατης «ανάλυσης του πεδίου εικόνας» για τη δημιουργία ή τροποποίηση «προγραμμάτων» ή για τη δημιουργία ή τροποποίηση ψηφιακών δεδομένων προγράμματος.
a. Capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional ‘scene analysis’ to generate or modify “programmes” or to generate or modify numerical programme data;
Στον περιορισμό που αφορά την «ανάλυση πεδίου εικόνας» δεν συμπεριλαμβάνεται ο κατά προσέγγιση οπτικός προσδιορισμός της τρίτης διάστασης υπό δεδομένη γωνία ούτε η περιορισμένη ερμηνεία της χρωματικής κλίμακας του γκρι για την αντίληψη του βάθους ή της υφής στις εγκεκριμένες εργασίες (2 1/2 διαστάσεις).
The ‘scene analysis’ limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
β. Ειδικά σχεδιασμένα ώστε να πληρούν τα εθνικά πρότυπα ασφαλείας για τους περιβάλλοντες χώρους δυνάμει εκρηκτικού πολεμικού υλικού.
b. Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
Στο σημείο 2B007.β. δεν υπάγονται τα «ρομπότ» που είναι ειδικά σχεδιασμένα για θαλάμους βαφής με ψεκασμό.
b. does not control “robots” specially designed for paint-spraying booths.
γ. Ειδικά σχεδιασμένα ή με ειδική πρόβλεψη ως αυξημένης αντοχής στις ακτινοβολίες, ώστε ν’ αντέχουν σε συνολική δόση ακτινοβολίας μεγαλύτερη από 5 × 103 Gy (πυρίτιο) χωρίς υποβάθμιση της λειτουργίας τους· ή
c. Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
Ο όρος Gy (πυρίτιο) αναφέρεται στην ενέργεια, σε joule ανά kg, που απορροφάται από αθωράκιστο δείγμα πυριτίου όταν αυτό εκτίθεται σε ιοντίζουσα ακτινοβολία.
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
δ. Ειδικά σχεδιασμένα για να λειτουργούν σε υψόμετρα που υπερβαίνουν τα 30000 m.
d. Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
α. Μονάδες ανάδρασης γραμμικής θέσης (π.χ. επαγωγικές διατάξεις, βαθμολογημένες κλίμακες, συστ ήματα υπερύθρου ακτινοβολίας ή συστήματα «λέιζερ»), με γενική «ακρίβεια» μικρότερη (καλύτερη επίδοση) από [800 + (600 × L × 10–3)] nm (όπου L είναι το πραγματικό μήκος, σε nm).
a. Linear position feedback units (e.g. inductive type devices, graduated scales, infrared systems or “laser” systems) having an overall “accuracy” less (better) than (800 + (600 × L × 10–3)) nm (L equals the effective length in mm);
Για τα συστήματα «λέιζερ» βλέπε επίσης τη σημείωση για το σημείο 2Β006.β.1.γ. και δ.
For “laser” systems see also Note to 2B006.b.1.c. and d.
β. Μονάδες ανάδρασης γωνιακής θέσης, π.χ. επαγωγικές διατάξεις, βαθμολογημένες κλίμακες, συστήματα υπερύθρου ακτινοβολίας ή συστήματα «λέιζερ», με ακρίβεια μικρότερη (καλύτερη επίδοση) από 0,00025 °.
b. Rotary position feedback units (e.g. inductive type devices, graduated scales, infrared systems or “laser” systems) having an “accuracy” less (better) than 0,00025 °;
Για τα συστήματα «λέιζερ» βλέπε επίσης τη σημείωση για το σημείο 2Β006.β.2.
For “laser” systems see also Note to 2B006.b.2.
γ. «Τράπεζες σύνθετης περιστροφής» και «ανακλινόμενες άτρακτοι», που μπορούν να χρησιμοποιηθούν για την αναβάθμιση, σύμφωνα με τις προδιαγραφές του κατασκευαστή, εργαλειομηχανών στα καθοριζόμενα στο 2Β ή σε ανώτερα επίπεδα.
c. “Compound rotary tables” and “tilting spindles”, capable of upgrading, according to the manufacturer’s specifications, machine tools to or above the levels specified in 2B.
Μηχανές περιδινητικής μορφοποίησης και μηχανές υδραυλικής μορφοποίησης, οι οποίες, σύμφωνα με τις τεχνικές προδιαγραφές του κατασκευαστή, μπορούν να εφοδιαστούν με μονάδες «ψηφιακού ελέγχου», ή όργανα ελέγχου με υπολογιστή, και οι οποίες έχουν αμφότερα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer’s technical specification, can be equipped with “numerical control” units or a computer control and having both of the following:
ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Β109 ΚΑΙ 2Β209.
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
α. Δύο ή περισσότερους ελεγχόμενους άξονες από τους οποίους τουλάχιστον δύο μπορούν να συνδυαστούν ταυτόχρονα για «έλεγχο της διαμόρφωσης περιγράμματος», και
a. Two or more controlled axes of which at least two can be coordinated simultaneously for “contouring control”; and
β. Δύναμη κυλίνδρου άνω των 60 κΝ.
b. A roller force more than 60 kN.
«Ισοστατικές πρέσσες» εκτός από τις προσδιοριζόμενες στην παράγραφο 2Β004, με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
“Isostatic presses”, other than those specified in 2B004, having all of the following:
ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Β204.
SEE ALSO 2B204.
α. Μέγιστη πίεση εργασίας 69 ΜΡa ή μεγαλύτερη,
a. Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
β. Επίτευξη και διατήρηση περιβάλλοντος ελεγχόμενης θερμοκρασίας 873 K (600 °C) ή μεγαλύτερης, και
b. Designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
γ. Κοίλωμα θαλάμου εσωτερικής διαμέτρου 254 mm ή μεγαλύτερης.
c. Possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
Κάμινοι (CVD) χημικής εναπόθεσης ατμού, εκτός των προσδιοριζομένων στο 2Β005.α., που έχουν σχεδιαστεί ή τροποποιηθεί για την πύκνωση συνθέτων υλικών άνθρακα-άνθρακα.
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.
ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Β209.
SEE ALSO 2B209.
α. Μηχανές υδραυλικής μορφοποίησης με αμφότερα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
a. Flow-forming machines having both of the following:
Μπορούν να εφοδιαστούν, σύμφωνα με τις τεχνικές προδιαγραφές του κατασκευαστή, με μονάδες «ψηφιακού ελέγχου» ή όργανα ελέγχου με υπολογιστή, έστω και εάν δεν είναι εφοδιασμένες με τις μονάδες αυτές, και
According to the manufacturer’s technical specification, can be equipped with “numerical control” units or a computer control, even when not equipped with such units; and
Έχουν περισσότερους από δύο άξονες που μπορούν να συνδυαστούν ταυτόχρονα για «έλεγχο της διαμόρφωσης περιγράμματος».
With more than two axes which can be coordinated simultaneously for “contouring control”.
β. Ειδικά σχεδιασμένα συστατικά μέρη για μηχανές προσδιοριζόμενες στο 2Β009 ή 2Β109.α.
b. Specially designed components for flow-forming machines specified in 2B009 or 2B109.a.
Στο σημείο 2Β109 δεν υπάγονται μηχανές που δεν χρησιμοποιούνται στην παραγωγή κατασκευαστικών μερών και εξοπλισμού προώθησης (π.χ. περιβλήματα κινητήρων) για συστήματα που καθορίζονται στα σημεία 9Α005, 9Α007.α. ή 9Α105.α.
109 does not control machines that are not usable in the production of propulsion components and equipment (e.g. motor cases) for systems specified in 9A005, 9A007.a. or 9A105.a.