natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Μολυβδαίνιο και κράματα μολυβδαινίου, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 1C117, υπό μορφή ομοιόμορφων σφαιρικών ή κονιορτοποιημένων σωματιδίων με διάμετρο ίση με 500 μm ή μικρότερη, με κατά βάρος περιεκτικότητα σε βολφράμιο 97 % ή μεγαλύτερη,
Molybdenum and molybdenum alloys, other than those specified in 1C117, in the form of uniform spherical or atomized particles of 500 μm diameter or less with a molybdenum content of 97 % by weight or more;
Υλικά βολφραμίου υπό μορφή στερεού σώματος, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στα σημεία 1C226, αποτελούμενα από τα ακόλουθα υλικά:
Tungsten materials in the solid form, other than those specified in 1C226 having material compositions as follows:
Βολφράμιο και κράματα βολφραμίου, με κατά βάρος περιεκτικότητα σε βολφράμιο 97 % ή περισσότερο,
Tungsten and alloys containing 97 % by weight or more of tungsten;
Βολφράμιο στο οποίο έχει διεισδύσει χαλκός, με κατά βάρος περιεκτικότητα σε βολφράμιο 80 % ή περισσότερο, ή
Copper infiltrated tungsten containing 80 % by weight or more of tungsten; or
Βολφράμιο στο οποίο έχει διεισδύσει χαλκός με κατά βάρος περιεκτικότητα σε βολφράμιο 80 % ή περισσότερο.
Silver infiltrated tungsten containing 80 % by weight or more of tungsten.
Μαλακά μαγνητικά κράματα, εκτός εκείνων που προσδιορίζονταιστο σημείο 1C003, με την ακόλουθη χημική σύνθεση:
Soft magnetic alloys, other than those specified in 1C003, having a chemical composition as follows:
με περιεκτικότητα σε σίδηρο μεταξύ 30 % και 60 %, και
Iron content between 30 % and 60 %; and
Γραφίτης, εκτός εκείνου που προσδιορίζεται στο σημείο 0C004 ή στο σημείο 1C107.α., που προορίζεται, βάσει σχεδιασμού ή προδιαγραφών, για χρήση σε μηχανήματα μορφοποίησης με ηλεκτρική εκκένωση (EDM).
Graphite, other than that specified in 0C004 or 1C107.a., designed or specified for use in Electrical Discharge Machining (EDM) machines.
Συστήματα δονητικών δοκιμών με τεχνικές ανάδρασης ή κλειστού βρόχου, που περιέχουν μονάδα ψηφιακού ελέγχου ικανά να δονούν συστήματα με επιτάχυνση τουλάχιστον 0,1 g rms σε συχνότητα μεταξύ 0,1 Hz και 2 kHz και να ασκούν δυνάμεις τουλάχιστον 50 kN, μετρούμενες “επί ελευθέρου πάγκου”,
Vibration test systems employing feedback or closed loop techniques and incorporating a digital controller, capable of vibrating a system at an acceleration equal to or greater than 0,1 g rms between 0,1 Hz and 2 kHz and imparting forces equal to or greater than 50 kN, measured “bare table”;
Μονάδες ψηφιακού ελέγχου, σε συνδυασμό με ειδικά σχεδιασμένο λογισμικό δονητικών δοκιμών, με εύρος ζώνης πραγματικού χρόνου άνω των 5 kHz, σχεδιασμένοι για χρήση με τα συστήματα δονητικών δοκιμών που καθορίζονται στο σημείο α.,
Digital controllers, combined with specially designed vibration test “software”, with a “real-time control bandwidth” greater than 5 kHz designed for use with vibration test systems specified in a.;
Ως “εύρος ζώνης πραγματικού χρόνου” νοείται ο ανώτατος ρυθμός με τον οποίο η μονάδα ελέγχου μπορεί να εκτελέσει πλήρεις κύκλους δειγματοληψίας, επεξεργασίας δεδομένων και διαβίβασης σημάτων ελέγχου.
“Real-time control bandwidth” is defined as the maximum rate at which a controller can execute complete cycles of sampling, processing data and transmitting control signals.
Δονητές (μονάδες ταλάντωσης), με ή χωρίς συνδεδεμένο ενισχυτή, ικανοί να εξασκούν δυνάμεις τουλάχιστον 50 kN, μετρούμενες επί “ελευθέρου πάγκου”, και χρησιμοποιούμενοι σε συστήματα δονητικών δοκιμών που προσδιορίζονται στο στοιχείο α.·
Vibration thrusters (shaker units), with or without associated amplifiers, capable of imparting a force equal to or greater than 50 kN, measured “bare table”, and usable in vibration test systems specified in a.;
Βοηθητικές κατασκευές διατάξεων δοκιμής και ηλεκτρονικές μονάδες, σχεδιασμένες να συνδυάζουν πολλαπλούς δονητές, σε σύστημα ικανό να εξασκεί πραγματική συνδυασμένη δύναμη τουλάχιστον 50 kN, μετρούμενη επί “ελευθέρου πάγκου”, που χρησιμοποιούνται σε συστήματα δονητικών δοκιμών που καθορίζονται στο στοιχείο α.
Test piece support structures and electronic units designed to combine multiple shaker units in a system capable of providing an effective combined force equal to or greater than 50 kN, measured “bare table”, and usable in vibration systems specified in a.
Εργαλειομηχανές για τρόχισμα, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 2B001.γ. ή στο σημείο 2B201.β., που έχουν ακρίβεια τοποθέτησης με “διαθέσιμες όλες τις αντισταθμίσεις” ίση με 15 μm ή μικρότερη (καλύτερη επίδοση) σύμφωνα με το πρότυπο ISO 230/2 (1988) [2] ή με εθνικά ισοδύναμα κατά μήκος οποιουδήποτε γραμμικού άξονα.
Machine tools, other than those specified in 2B001.c. or 2B201.b., for grinding having positioning accuracies with “all compensations available” equal to or less (better) than 15 μm according to ISO 230/2 (1988) [2] or national equivalents along any linear axis.
Δομικά μέρη και διατάξεις για ψηφιακό έλεγχο, ειδικά κατασκευασμένα για τις εργαλειομηχανές που προσδιορίζονται στα σημεία 2B001, 2B201 ή I.A2.002 ανωτέρω.
Components and numerical controls, specially designed for machine tools specified in 2B001, 2B201 or I.A2.002 above.
Ικανότητα να διαπερνούν τοιχώματα θερμών (θωρακισμένων) θαλάμων πάχους 0,3 m ή μεγαλύτερου (εργασία δια μέσου του τοιχώματος), ή
A capability of penetrating a hot cell wall of 0,3 m or more (through the wall operation); or
Ικανότητα να υπερπηδούν τοιχώματα θερμών (θωρακισμένων) θαλάμων πάχους 0,3 m ή μεγαλύτερου (εργασία πάνω από το τοίχωμα).
A capability of bridging over the top of a hot cell wall with a thickness of 0,3 m or more (over the wall operation).
Πρέπει να είναι του τύπου κύριος/υπηρέτης (master/slaνe) ή να ελέγχονται μέσω χειριστηρίου ή πληκτρολογίου.
They may be of master/slave type or operated by joystick or keypad.
Κάμινοι θερμικής κατεργασίας ελεγχόμενης ατμόσφαιρας ή κάμινοι οξείδωσης με ικανότητα λειτουργίας σε θερμοκρασίες άνω των 400 °C.
Controlled atmosphere heat treatment furnaces or oxidation furnaces capable of operation at temperatures above 400 °C.
Ο κωδικός αυτός δεν καλύπτει τις καμίνους σήραγγας με μεταφορά κυλίνδρων ή αμαξιδίων, τις καμίνους σήραγγας με ιμάντα μεταφοράς, τις ωστικές ή παλινδρομικές καμίνους που είναι ειδικά σχεδιασμένες για την παραγωγή υάλου, επιτραπέζιων κεραμικών σκευών ή δομικών κεραμικών υλικών.
This item does not cover tunnel kilns with roller or car conveyance, tunnel kilns with conveyor belt, pusher type kilns or shuttle kilns, specially designed for the production of glass, tableware ceramics or structural ceramics.
ευαίσθητα στοιχεία κατασκευασμένα ή προστατευόμενα με επίστρωση ή κάλυψη από “υλικά που αντέχουν στο εξαχλωριούχο ουράνιο (UF6)”· και
Pressure sensing elements made of or protected by “Materials resistant to corrosion by uranium hexafluoride (UF6)”; and
Πλήρη κλίμακα κάτω των 200 kPa και “ακρίβεια” μεγαλύτερη από ± 1 % της πλήρους κλίμακας, ή
A full scale of less than 200 kPa and an “accuracy” of better than ± 1 % of full scale; or
Πλήρη κλίμακα 200 kPa ή μεγαλύτερη και “ακρίβεια” μεγαλύτερη από 2 kPa.
A full scale of 200 kPa or greater and an “accuracy” of better than 2 kPa.
Για τους σκοπούς του σημείου 2Β230, η “ακρίβεια” περιλαμβάνει τη μη γραμμικότητα, την υστέρηση και την επαναληψιμότητα σε θερμοκρασία περιβάλλοντος χώρου.
For the purposes of 2B230 “accuracy” includes non-linearity, hysteresis and repeatability at ambient temperature.
Κλειστός εξοπλισμός υγρού-υγρού (εκχυλιστές αναμεικτικού τύπου, παλμικές στήλες, φυγοκεντρικοί εκχυλιστές), και διανομείς υγρών, διανομείς ατμών ή συλλεκτήρες υγρών προς χρήση σε αυτές τις στήλες απόσταξης ή απορρόφησης, όπου όλες οι επιφάνειες που έρχονται σε άμεση επαφή με την (τις) υπό επεξεργασία ουσία(-ες) είναι κατασκευασμένες από οποιοδήποτε από τα ακόλουθα υλικά:
Liquid-liquid contacting equipment (mixer-settlers, pulsed columns, plate columns, centrifugal contactors); and liquid distributors, vapour distributors or liquid collectors designed for such equipment, where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
κράματα περιεκτικότητας άνω του 25 % σε νικέλιο και 20 % σε χρώμιο κατά βάρος,
Alloys with more than 25 % nickel and 20 % chromium by weight;
στ) γραφίτη ή “ανθρακογραφίτη”,
Graphite or “carbon graphite”;
στ) τιτάνιο ή κράματα τιτανίου,
Titanium or titanium alloys;
ζιρκόνιο ή κράματα ζιρκονίου, ή
Zirconium or zirconium alloys; or
Ανοξείδωτο χάλυβα.
i. Stainless steel.
Βιομηχανικός εξοπλισμός και δομικά μέρη, διαφορετικά από τα προδιαγραφόμενα στο σημείο 2Β350.δ., ως εξής:
Industrial equipment and components, other than those specified in 2B350.d., as follows:
ια) ανοξείδωτο χάλυβα.
Stainless steel.
Το παρόν σημείο δεν καλύπτει τα ψυγεία οχημάτων.
This item does not cover vehicle radiators.
Αντλίες πολλαπλής στεγανότητας, και χωρίς σφραγίδες στεγανότητας, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 2B350.θ, κατάλληλες για διαβρωτικά υγρά ή αντλίες κενού και περιβλήματα (σώματα αντλιών), προσχηματισμένα χιτώνια περιβλημάτων, πτερωτές, ρότορες ή ακροφύσια αντλιών εκτόξευσης προς χρήση στις αντλίες αυτές, όπου όλες οι επιφάνειες που έρχονται σε άμεση επαφή με την (τις) υπό επεξεργασία (-ες) χημική(-ες) ουσία(-ες) είναι κατασκευασμένες από οποιοδήποτε από τα ακόλουθα υλικά:
Multiple-seal, and seal-less pumps, other than those specified in 2B350.i, suitable for corrosive fluids, or vacuum pumps and casings (pump bodies), preformed casing liners, impellers, rotors or jet pump nozzles designed for such pumps, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
ιβ) ανοξείδωτο χάλυβα,
Stainless steel;
ιγ) κράματα αργιλίου, ή
Aluminium alloys; or
ιδ) καουτσούκ.
Rubber.
Τα υλικά που χρησιμοποιούνται για τα παρεμβύσματα και τους στεγανωτικούς συνδέσμους (φλάντζες) και για άλλες λειτουργίες στεγανοποίησης δεν καθορίζουν το καθεστώς ελέγχου της αντλίας.
The materials used for gaskets and seals and other implementations of sealing functions do not determine the status of control of the pump.
Ο όρος “καουτσούκ” περιλαμβάνει όλα τα είδη φυσικού και συνθετικού καουτσούκ.
The term “rubber” encompasses all kinds of natural and synthetic rubbers.
“Φυγοκεντρικοί διαχωριστές”, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 2B352.γ., με ικανότητα συνεχούς διαχωρισμού χωρίς διασπορά αερολυμάτων που είναι κατασκευασμένοι από:
“Centrifugal separators”, other than those specified in 2B352.c., capable of continuous separation without the propagation of aerosols and manufactured from:
στ) τιτάνιο ή κράματα τιτανίου, ή
Titanium or titanium alloys; or
ζιρκόνιο ή κράματα ζιρκονίου.
Zirconium or zirconium alloys.
Στους “φυγοκεντρικούς διαχωριστές” συμπεριλαμβάνονται τα δοχεία ή δεξαμενές απόχυσης.
“Centrifugal separators” include decanters.
Φίλτρα από πυροσυσσωματωμένο μέταλλο, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 2B352.δ., από νικέλιο ή κράματα περιεκτικότητας άνω του 40 % κατά βάρος σε νικέλιο.
Sintered metal filters, other than those specified in 2B352.d., made of nickel or nickel alloy with more than 40 % nickel by weight.
Μηχανές περιδινητικής και υδραυλικής μορφοποίησης, εκτός από εκείνες που προσδιορίζονται στα σημεία 2B009, 2B109 ή 2B209 και ειδικά σχεδιασμένα συστατικά μέρη αυτών.
Spin-forming machines and flow-forming machines, other than those specified by 2B009, 2B109 or 2B209 and specially designed components therefor.
Για τους σκοπούς αυτού του είδους, οι μηχανές που συνδυάζουν τις λειτουργίες περιδινητικής και υδραυλικής μορφοποίησης θεωρούνται ως μηχανές υδραυλικής μορφοποίησης.
For the purpose of this item, machines combining the functions of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
Όργανα και αντιδραστήρια, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 2Β350 ή στο σημείο 2B352, ως εξής:
Equipment and reagents, other than those specified in 2B350 or 2B352, as follows:
αντιδραστήρες ζύμωσης κατάλληλοι για την καλλιέργεια παθογενών οργανισμών ή ιών ή για την παραγωγή τοξινών χωρίς την έκλυση αερολυμάτων συνολικής χωρητικότητας 10 λίτρων τουλάχιστον,
Fermenters capable of cultivation of pathogenic “micro-organisms” or viruses, or capable of toxin production, without the propagation of aerosols, and having a total capacity of 10 l or more;
αναδευτήρες για αντιδραστήρες ζύμωσης όπως αναφέρονται στο σημείο α. ανωτέρω,
Agitators for fermenters as mentioned in a.above;
Τεχνική σημείωση:
Technical Note:
Στους ζυμωτήρες περιλαμβάνονται βιοαντιδραστήρες, χημειοστάτες και συστήματα συνεχούς ροής.
Fermenters include bioreactors, chemostats and continuous-flow systems.
εργαστηριακός εξοπλισμός ως εξής:
Laboratory equipment as follows:
εξοπλισμός αλυσιδωτής αντίδρασης πολυμεράσης (PCR),
Polymerase chain reaction (PCR)-equipment
εξοπλισμός γενετικής αλληλουχίας,
Genetic sequencing equipment;
γενετικοί συνθετητές,
Genetic synthesizers;
εξοπλισμός ηλεκτρομετασχηματισμού,
Electroporation equipment;
ειδικά αντιδραστήρια που συνδυάζονται με τον εξοπλισμό στο σημείο I.A2.014.γ. αριθμοί 1. έως 4. ανωτέρω,
Specific reagents associated with the equipment in I.A2.014.c. numbers 1. to 4. above;
φίλτρα, μικρο-φίλτρα, νανοφίλτρα ή φίλτρα “ultra” που μπορούν να χρησιμοποιηθούν στη βιομηχανική βιολογία ή στην βιολογία εργαστηρίου για συνεχή διήθηση, εκτός από τα φίλτρα που έχουν σχεδιασθεί ή τροποποιηθεί ειδικά για ιατρικούς σκοπούς ή για την παραγωγή καθαρού ύδατος, καθώς και για να χρησιμοποιηθούν στο πλαίσιο έργων που υποστηρίζουν επισήμως η ΕΕ ή τα Ηνωμένα Έθνη,
Filters, micro-filters, nano-filters or ultra-filters usable in industrial or laboratory biology for continuous filtering, except filters specially designed or modified for medical or clear water production purposes and to be used in the framework of EU or UN officially supported projects;
μεγάλες φυγοκεντρικές μηχανές, ρότορες και προσαρμογείς για τέτοιες μηχανές,
Ultracentrifuges, rotors and adaptors for ultracentrifuges;
στ. εξοπλισμός λυοφιλίωσης.
Freeze drying equipment.
Εξοπλισμός, εκτός εκείνου που προσδιορίζεται στα σημεία 2B005, 2B105 ή 3B001.δ., για την εναπόθεση δομικών συνθέτων, ως εξής, και ειδικά σχεδιασμένων κατασκευαστικών μερών και εξαρτημάτων γι’ αυτόν:
Equipment, other than that specified in 2B005, 2B105 or 3B001.d., for the deposition of metallic overlays as follows, and specially designed components and accessories therefor:
εξοπλισμός χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD),
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment;
εξοπλισμός φυσικής εναπόθεσης ατμών (PVD),
Physical vapour deposition (PVD) production equipment;
εξοπλισμός εναπόθεσης μέσω θέρμανσης με επαγωγή ή ωμική αντίσταση.
Production equipment for deposition by means of inductive or resistance heating.
3B001.δ.
3B001.d.
Ανοικτές δεξαμενές ή περιέκτες με ή χωρίς αναδευτήρες, συνολικού εσωτερικού (γεωμετρικού) όγκου άνω των 0,5 m3 (500 Lt), όπου όλες οι επιφάνειες που έρχονται σε άμεση επαφή με την(τις) υπό επεξεργασία ή περιεχόμενη(ες) χημική(ες) ουσία(ες) είναι κατασκευασμένες από οποιοδήποτε από τα ακόλουθα υλικά:
Open tanks or containers, with or without agitators, with a total internal (geometric) volume greater than 0.5 m3 (500 litres), where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
ανοξείδωτο χάλυβα,
i. Stainless steel;
ξύλο, ή
Wood; or
Τροφοδοτικά συνεχούς ρεύματος υψηλής τάσης, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 0B001.ι.5. ή στο σημείο 3A227, που έχουν και τα δύο ακόλουθα χαρακτηριστικά:
High voltage direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.5. or 3A227, having both of the following characteristics:
μπορούν να παράγουν συνεχώς, σε χρονική περίοδο οχτώ ωρών, 10 kV ή παραπάνω με ρεύμα εξόδου 5 kW ή παραπάνω, με ή χωρίς σάρωση, και
Capable of continuously producing, over a time period of eight hours, 10 kV or more, with output power of 5 kW or more with or without sweeping; and
εμφανίζουν σταθερότητα τάσης ή ρεύματος καλύτερη από 0,1 % σε χρονική περίοδο τεσσάρων ωρών.
Current or voltage stability better than 0,1 % over a time period of four hours.
Φασματογράφοι μάζας εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στα σημεία 0B002.ζ. ή 3A233, που μπορούν να μετρήσουν ιόντα μεγέθους 200 ατομικών μονάδων μάζας ή παραπάνω και οι οποίοι έχουν διακριτική ικανότητα καλύτερη από 2 μέρη στα 200, ως εξής, καθώς επίσης και πηγές ιόντων για τους φασματογράφους αυτούς:
Mass spectrometers, other than those specified in 0B002.g. or 3A233, capable of measuring ions of 200 atomic mass units or more and having a resolution of better than 2 parts in 200, as follows, and ion sources therefor:
Επαγωγικά συζευγμένοι φασματογράφοι μάζας πλάσματος (ICP/ΜS)·
Inductively coupled plasma mass spectrometers (ICP/MS);
Φασματογράφοι μάζας εκκένωσης με διαύγεια (GDMS)·
Glow discharge mass spectrometers (GDMS);
Φασματογράφοι μάζας με θερμικό ιονισμό (TIMS)·
Thermal ionisation mass spectrometers (TIMS);
Φασματογράφοι μάζας με βομβαρδισμό ηλεκτρονίων που έχουν θάλαμο πηγής κατασκευασμένο από, με επίστρωση, ή κάλυψη από “υλικά που αντέχουν στη διάβρωση από εξαχλωριούχο ουράνιο UF6”,
Electron bombardment mass spectrometers which have a source chamber constructed from, lined with or plated with “materials resistant to corrosion by uranium hexafluoride UF6”;
Φασματογράφοι μάζας δέσμης μορίων, με ένα από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Molecular beam mass spectrometers having either of the following characteristics:
θάλαμο πηγής κατασκευασμένο από, με επίστρωση ή με κάλυψη από, ανοξείδωτο χάλυβα ή μολυβδαίνιο και εξοπλισμοί με ψυχρή παγίδα που μπορεί να ψυχθεί σε θερμοκρασία 193 K (- 80 °C) ή χαμηλότερη· ή
A source chamber constructed from, lined with or plated with stainless steel or molybdenum and equipped with a cold trap capable of cooling to 193 K (– 80 °C) or less; or
θάλαμο πηγής κατασκευασμένο από, με επίστρωση ή με κάλυψη από υλικά που αντέχουν στο UF6,
A source chamber constructed from, lined with or plated with materials resistant to UF6;
στ) Φασματογράφοι μάζας εξοπλισμένοι με πηγή ιόντων μικροφθορίωσης που έχουν σχεδιασθεί για ακτινίδες ή φθοριούχες ακτινίδες.
Mass spectrometers equipped with a micro-fluorination ion source designed for actinides or actinide fluorides.
0B002.ζ.
0B002.g.
Εναλλάκτες συχνότητας ή γεννήτριες, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στα σημεία 0B001.β.13. ή 3A225, καθώς και τα κατασκευαστικά στοιχεία και λογισμικά που έχουν κατασκευαστεί ειδικά για τους μετατροπείς αυτούς, με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Frequency changers or generators, other than those specified by 0B001.b.13. or 3A225, having all of the following characteristics, and specially designed components and software therefor:
με ικανότητα λειτουργίας σε φάσμα συχνοτήτων μεταξύ 600 και 2000 Hz, και
Capable of operating in the frequency range between 600 and 2000 Hz; and
Η λειτουργία που προσδιορίζεται στο παρόν σημείο μπορεί να επιτευχθεί χάρη σε συγκεκριμένο εξοπλισμό που διατίθεται ως: ηλεκτρονικός εξοπλισμός δοκιμής, πηγή ισχύος εναλλασσόμενου ρεύματος, μετάδοση κίνησης μεταβλητής ταχύτητας ή συχνότητας.
The functionality specified in this item may be met by certain equipment marketed as: electronic test equipment, AC power supplies, variable speed motor drives or variable frequency drives.
Οπτικός εξοπλισμός και δομικά μέρη, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 6A002 ή στο σημείο 6A004.β., ως εξής:
Optical equipment and components, other than those specified in 6A002 or 6A004.b. as follows:
Υπέρυθρα οπτικά συστήματα με μήκος κύματος μεταξύ 9 μm και 17 μm και δομικά μέρη αυτών, συμπεριλαμβανομένων των δομικών μερών από τελλουριούχο κάδμιο (CdTe).
Infrared optics in the wavelength range 9 μm– 17 μm and components thereof, including cadmium telluride (CdTe) components.
Συστήματα διόρθωσης μετώπου κύματος, εκτός από τα οπτικά κάτοπτρα που προσδιορίζονται στα σημεία 6A004.α., 6A005.ε. ή 6A005.στ., για χρήση με ακτίνα λέιζερ διαμέτρου άνω των 4 mm και ειδικά σχεδιασμένα δομικά μέρη τους, μεταξύ αυτών συστήματα ελέγχου, αισθητήρες μετώπου φάσης για “παραμορφώσιμα κάτοπτρα” συμπεριλαμβανομένων των δίμορφων κατόπτρων.
Wave front corrector systems, other than mirrors specified in 6A004.a., 6A005.e. or 6A005.f., for use with a laser beam having a diameter exceeding 4 mm, and specially designed components thereof, including control systems, phase front sensors and “deformable mirrors” including bimorph mirrors.
“Λέιζερ” ιόντων αργού, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στα σημεία 0B001.ζ.5., 6A005.α.6. και/ή 6A205.α., με μέση ισχύ εξόδου μεγαλύτερη από 5 W.
Argon ion “lasers”, other than those specified in 0B001.g.5., 6A005.a.6. and/or 6A205.a., having an average output power equal to or greater than 5 W.
“Λέιζερ” ημιαγωγών και δομικά στοιχεία, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στα σημεία 0B001.ζ.5., 0B001.η.6. ή 6A005.β., ως εξής:
Semiconductor “lasers”, other than those specified in 0B001.g.5., 0B001.h.6. or 6A005.b., and components thereof, as follows:
Δίκτυα “λέιζερ” ημιαγωγών με ισχύ εξόδου άνω των 20 W. Σημειώσεις:
Semiconductor “laser” arrays having an output power greater than 20 W.
Συντονίσιμα “λέιζερ” ημιαγωγών και συντονίσιμες συστοιχίες “λέιζερ” ημιαγωγών, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στα σημεία 0B001.η.6. ή 6A005.β., μήκους κύματος μεταξύ 9 μm και 17 μm, καθώς και σειρές συστοιχιών “λέιζερ” ημιαγωγών με τουλάχιστον μια συντονίσιμη συστοιχία “λέιζερ” τέτοιου μήκους κύματος.
Tunable semiconductor “lasers” and tunable semiconductor “laser” arrays, other than those specified in 0B001.h.6. or 6A005.b., of a wavelength between 9 μm and 17 μm, as well as array stacks of semiconductor “lasers” containing at least one tunable semiconductor “laser” array of such wavelength.
“Συντονίσιμα”“λέιζερ” στερεάς κατάστασης, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στα σημεία 0B001.ζ.5., 0B001.η.6. ή 6A005.γ.1., και ειδικά σχεδιασμένα δομικά μέρη τους, ως εξής:
Solid state “tunable”“lasers”, other than those specified in 0B001.g.5., 0B001.h.6. or 6A005.c.1., and specially designed components thereof, as follows:
“Λέιζερ” με προσμείξεις νεοδυμίου (διαφορετικά από υάλου), εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 6A005.γ.2.β., που έχουν μήκος κύματος εξόδου άνω των 1,0 μm και μέχρι 1,1 μm, και ενέργεια εξόδου άνω των 10 J ανά παλμό.
Neodymium-doped (other than glass) “lasers”, other than those specified in 6A005.c.2.b., having an output wavelength greater than 1,0 μm but not exceeding 1,1 μm and output energy exceeding 10 J per pulse.
λυχνίες αποτύπωσης εικόνων και συσκευές απεικόνισης στερεάς κατάστασης με ρυθμό επανάληψης ίσο ή ανώτερο από 1 kHz,
Framing tubes and solid-state imaging devices having a recurrence frequency equal to or exceeding 1 kHz;
Μηχανές λήψης ανθεκτικές στις ακτινοβολίες, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στο σημείο 6A203.γ., ειδικώς σχεδιασμένες ή βαθμολογημένες για να αντέχουν ολική δόση ακτινοβολίας μεγαλύτερη από 5 × 103 Gy (πυρίτιο) [5 × 106 rad (πυρίτιο)] χωρίς υποβάθμιση της λειτουργίας.
Radiation-hardened cameras, or lenses thereof, other than those specified in 6A203.c., specially designed, or rated as radiation-hardened, to withstand a total radiation dose greater than 50 × 103 Gy (silicon) (5 × 106 rad (silicon)) without operational degradation.
Ο όρος Gy (πυρίτιο) αναφέρεται στην ενέργεια, σε joule ανά χιλιόγραμμο, που απορροφάται από αθωράκιστο δείγμα πυριτίου όταν αυτό εκτίθεται σε ιοντίζουσα ακτινοβολία.
The term Gy (silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
Συντονίσιμοι ενισχυτές και ταλαντωτές παλμικού λέιζερ χρωστικής ουσίας, εκτός εκείνων που προσδιορίζονται στα σημεία 0B001.ζ.5., 6A005 και/ή 6A205.γ., με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Tunable pulsed dye laser amplifiers and oscillators, other than those specified in 0B001.g.5., 6A005 and or 6A205.c., having all of the following characteristics:
Μέση ισχύ εξόδου άνω των 10 W αλλά που δεν υπερβαίνει τα 30 W·
An average output power greater than 10 W but not exceeding 30 W;
Ρυθμό επανάληψης μεγαλύτερο των 1 kHz· και
A repetition rate greater than 1 kHz; and
Σ’ αυτό το σημείο δεν υπάγονται οι μονότροποι ταλαντωτές.
This item does not cover single mode oscillators.