natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Σημείωση:Στο σημείο 1C236 δεν ελέγχεται προϊόν ή συσκευή περιέχουσα λιγότερο από 3,7 GΒq (100 millicuries) ενέργειας α.
Note:1C236 does not control a product or device containing less than 3,7 GBq (100 millicuries) of alpha activity.
Σημείωση:Στο σημείο 1C237 δεν υπάγονται τα εξής:
Note:1C237 does not control the following:
ΣΗΜ.:ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ ΕΛΕΓΧΟΥΣ ΣΤΡΑΣΤΙΩΤΙΚΩΝ ΠΡΟΪΟΝΤΩΝ ΚΑΙ 1C450.
N.B.:SEE ALSO MILITARY GOODS CONTROLS AND 1C450.
Θειοδιγλυκόλη (111488),
thiodiglycol (111-48-8);
Οξυχλωριούχος φώσφορος (10025873),
phosphorus oxychloride (10025-87-3);
Μεθυλοφωσφονικό διμεθύλιο (756796),
dimethyl methylphosphonate (756-79-6);
ΒΛΕΠΕ ΕΛΕΓΧΟΥΣ ΣΤΡΑΤΙΩΤΙΚΩΝ ΠΡΟΪΟΝΤΩΝ ΓΙΑ Διφθοριούχο μεθυλοφωσφινύλιο (676993),
SEE MILITARY GOODS CONTROLS FOR Methyl phosphonyl difluoride (676-99-3);
Φωσφονυλδιχλωριούχο μεθύλιο (676971),
methyl phosphonyl dichloride (676-97-1);
Φωσφορώδες διμεθύλιο (DΜΡ) (868859),
dimethyl phosphite (DMP) (868-85-9);
Οξυχλωριούχος φώσφορος (10025873)
phosphorus trichloride (7719-12-2);
Φωσφορώδες τριμεθύλιο (ΤΜΡ) (121459),
trimethyl phosphite (TMP) (121-45-9);
Χλωριούχο θειονύλιο (77197-5),
thionyl chloride (7719-09-7);
3-υδροξυ-1-μεθυλοπιπεριδίνη (3554743),
3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);
N,N-Διισοπροπυλ-β-αμινοαιθυλοχλωρίδιο (96797),
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethyl chloride (96-79-7);
3-Κινουοκλιδινόλη (1619-34-7),
3-Quinuclidinol (1619-34-7);
ΒΛΕΠΕ ΕΛΕΓΧΟΥΣ ΣΤΡΑΤΙΩΤΙΚΩΝ ΠΡΟΪΟΝΤΩΝ ΓΙΑ Διφθοριούχο αιθυλοφωσφονύλιο (753-98-0),
SEE MILITARY GOODS CONTROLS FOR Ethyl phosphonyl difluoride (753-98-0);
ΒΛΕΠΕ ΕΛΕΓΧΟΥΣ ΣΤΡΑΤΙΩΤΙΚΩΝ ΠΡΟΪΟΝΤΩΝ ΓΙΑ Μεθυλοφωσφονικό Ο-αιθυλ-2-διισοπροπυλαμινοαιθύλιο (QL) (57856-11-8),
SEE MILITARY GOODS CONTROLS FOR O-Ethyl-2-diisopropylaminoethyl methyl phosphonite (QL) (57856-11-8);
Μεθυλοφωσφονικό διαιθύλιο (683-08-9),
diethyl methylphosphonate (683-08-9);
Σημείωση 1:Για τις εξαγωγές στα "Κράτη που δεν είναι συμβαλλόμενα μέρη της Σύμβασης για τα Χημικά Όπλα", στο σημείο IC350 δεν υπάγονται τα "χημικά μείγματα" που περιέχουν μια ή περισσότερες από τις χημικές ενώσεις των σημείων IC350.1,.3,.5,.11,.2,.13,.17,.18,.21,.22,.26,.27,.28,.31,.32,.33,.34,.35,.36,.54,.55,.56,.57 και .63 και τα οποία καμία από τις επιμέρους οριζόμενες ουσίες δεν υπερβαίνει το 10 % κατά βάρος του μείγματος.
Note 1:for exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 and .63 in which no individually specified chemical constitutes more than 10 % by the weight of the mixture.
Σημείωση 2:Για τις εξαγωγές στα "Κράτη που είναι συμβαλλόμενα μέρη της Σύμβασης για τα Χημικά Όπλα", στο σημείο IC350 δεν υπάγονται τα "χημικά μείγματα" που περιέχουν μια ή περισσότερες από τις χημικές ενώσεις των σημείων IC350.1,.3,.5,.11,.2,.13,.17,.18,.21,.22,.26,.27,.28,.31,.32,.33,.34,.35,.36,.54,.55,.56,.57 και.63 και τα οποία καμία από τις επιμέρους οριζόμενες ουσίες δεν υπερβαίνει το 30 % κατά βάρος του μείγματος.
Note 2:for exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 and .63 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Σημείωση 3:Στο σημείο IC350 δεν υπάγονται τα "χημικά μείγματα" που περιέχουν μια ή περισσότερες από τις χημικές ουσίες των σημείων IC350.2,.6,.7,.8,.9,.10,.14,.15,.16,.19,.20,.24,.25,.30,.37,.38,.40,.41,.42,.43,.44,.45,.46,.47,.48,.49,.50,.51,.52,.53,.58,.59,.60,.61 και .62 και στα οποία καμία από τις επιμέρους οριζόμενες ουσίες δεν υπερβαίνει το 30 % κατά βάρος του μείγματος.
Note 3:1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61 and .62 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Ιός Nipah.
nipah virus;
Bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana),
bartonella quintana (Rochalimaea quintana, Rickettsia quintana);
Εντεροαιμορραγική Escherichia coli, οροτύπου Ο157 και άλλων που παράγουν βεροτοξίνες.
enterohaemorrhagic Escherichia coli, serotype O157 and other verotoxin producing serotypes;
Τοξίνες Botulinum,
botulinum toxins;
Ρικίνη,
ricin;
Τοξίνες Staphylococcus aureus,
staphylococcus aureus toxins;
Τοξίνη διακετοξυσκιρπενόλης,
diacetoxyscirpenol toxin;
Σημείωση:Το 1C351.δ.1. δεν θέτει υπό έλεγχο τις τοξίνες botulinum ή κωνοτοξίνες υπό μορφή προϊόντων που πληρούν όλα τα παρακάτω κριτήρια:
Note:1C351.d. does not control botulinum toxins or conotoxins in product form meeting all of the following criteria:
Μύκητες, φυσικοί, βελτιωμένοι ή τροποποιημένοι, είτε υπό μορφή "απομονωμένων ζωντανών καλλιεργειών" είτε ως υλικό περιέχον ζωντανό υλικό που έχει ηθελημένα ενοφθαλμιστεί ή μολυνθεί με τέτοιες καλλιέργειες ως εξής:
fungi, whether natural, enhanced or modified, either in the form of "isolated live cultures" or as material including living material which has been deliberately inoculated or contaminated with such cultures, as follows:
Σημείωση:Στο σημείο 1C351 δεν υπάγονται τα "εμβόλια" ή οι "ανοσοτοξίνες".
Note:1C351 does not control "vaccines" or "immunotoxins".
Μεταξύ αυτών που ορίζονται στο Παράρτημα Ι (2) της κοινοτικής οδηγίας 2005/94/ΕΚ (ΕΕ L 10 της 14.1.2006, σ. 16). ως εμφανίζοντες υψηλή παθογένεια, ως εξής:
defined in Annex I(2) to EC Directive 2005/94/EC (OJ L 10, 14.1.2006, p. 16) as having high pathogenicity, as follows:
σε ιούς του τύπου Α των υποτύπων H5 ή H7 με αλληλουχίες γονιδιώματος κωδικοποιημένες για πολλαπλά βασικά αμινοξέα στη θέση διάσπασης του μορίου της αιμοσυγκολλητίνης παρόμοιες με εκείνες που παρατηρούνται σε άλλους ιούς HPAI, το οποίο υποδεικνύει ότι το μόριο της αιμοσυγκολλητίνης μπορεί να διασπαστεί από μια πρωτεάση η οποία απαντά σε όλα τα μέρη του ξενιστή,
type A viruses of the subtypes H5 or H7 with genome sequences codified for multiple basic amino acids at the cleavage site of the haemagglutinin molecule similar to that observed for other HPAI viruses, indicating that the haemagglutinin molecule can be cleaved by a host ubiquitous protease;
Σημείωση:Στο σημείο 1C352 δεν υπάγονται τα "εμβόλια".
Note:1C352 does not control "vaccines".
ΒΛΕΠΕ ΕΛΕΓΧΟΥΣ ΣΤΡΑΤΙΩΤΙΚΩΝ ΠΡΟΪΟΝΤΩΝ ΓΙΑ BZ: 3 Κινουνκλιδινυλοβενζυλικές ενώσεις (6581-06-2),
SEE MILITARY GOODS CONTROLS FOR BZ: 3-Quinuclidinyl benzilate (6581-06-2);
Σημείωση 1:Για τις εξαγωγές στα "Κράτη που δεν είναι συμβαλλόμενα μέρη της Σύμβασης για τα Χημικά Όπλα", στο σημείο 1C450 δεν υπάγονται τα "χημικά μείγματα" που περιέχουν μια ή περισσότερες από τις χημικές ενώσεις των σημείων 1C450.a.1 και .α.2 και στα οποία καμία από τις επιμέρους οριζόμενες ουσίες δεν υπερβαίνει το 1 % κατά βάρος του μείγματος.
Note 1:for exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.a.1. and .a.2. in which no individually specified chemical constitutes more than 1 % by the weight of the mixture.
Σημείωση 2:Για τις εξαγωγές στα "Κράτη που είναι συμβαλλόμενα μέρη της Σύμβασης για τα Χημικά Όπλα", στο σημείο 1C450 δεν υπάγονται τα "χημικά μείγματα" που περιέχουν μια ή περισσότερες από τις χημικές ενώσεις των σημείων 1C450.α.1 και .α.2 και στα οποία καμία από τις επιμέρους οριζόμενες ουσίες δεν υπερβαίνει το 30 % κατά βάρος του μείγματος.
Note 2:for exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.a.1. and .a.2. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Σημείωση 3:Στο σημείο 1C450 δεν υπάγονται τα "χημικά μείγματα" που περιέχουν μια ή περισσότερες από τις χημικές ουσίες των σημείων 1C450.α.4, .α.5, .α.6 και .α.7 και στα οποία καμία από τις επιμέρους οριζόμενες ουσίες δεν υπερβαίνει το 30 % κατά βάρος του μείγματος.
Note 3:1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.a.4., .a.5., .a.6. and .a.7. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
Σημείωση:Στο σημείο 1C450.β.1 δεν ελέγχεται το Fonofos: Ο-αιθυλο S-φαινυλο αιθυλοφωσφονοθειολοθειονικές ενώσεις (944-22-9).
Note:1C450.b.1. does not control Fonofos: O-Ethyl S-phenyl ethylphosphonothiolothionate (944-22-9);
Σημείωση:Στο σημείο 1C450.b.5, δεν υπάγονται τα εξής:
Note:1C450.b.5. does not control the following:
Σημείωση 2:Για τις εξαγωγές στα "Κράτη που είναι συμβαλλόμενα μέρη της Σύμβασης για τα Χημικά Όπλα", στο σημείο 1C450 δεν υπάγονται τα "χημικά μείγματα" που περιέχουν μια ή περισσότερες από τις χημικές ενώσεις των σημείων 1C450.b.1, .b.2, .b.3, .b.4, .b.5 και .b.6 και οποία καμία από τις επιμέρους οριζόμενες ουσίες δεν υπερβαίνει το 30 % κατά βάρος του μείγματος.
Note 2:for exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C450 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. and .b.6. in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
"Λογισμικό" ειδικά σχεδιασμένο ή τροποποιημένο για να καθιστά δυνατή την εκτέλεση των λειτουργιών του εμπίπτοντος στο σημείο 1Α004.γ εξοπλισμού.
"Software" specially designed or modified to enable equipment to perform the functions of equipment specified in 1A004.c.
"Λογισμικό" ειδικώς σχεδιασμένο ή τροποποιημένο για τη "χρήση" των προδιαγραφόμενων στο 1B101 ειδών.
"Software" specially designed or modified for the "use" of goods specified in 1B101.
Τα βασικά υλικά έχουν όλα τα παρακάτω:
base materials having all of the following:
Οποιεσδήποτε από τις παρακάτω συνολικές μεταλλικές προσμείξεις (εκτός από εκούσιες προσθήκες):
any of the total metallic impurities (excluding intentional additions):
κατώτερες των 1000 ppm για τα απλά οξείδια ή καρβίδια, ή
less than 1000 ppm for single oxides or carbides; or
κατώτερες των 5000 ppm για τις σύμπλοκες ενώσεις ή τα απλά νιτρίδια, και
less than 5000 ppm for complex compounds or single nitrides; and
Όλα τα ακόλουθα:
having all of the following:
Μη "σύνθετα" κεραμικά υλικά αποτελούμενα από υλικά που ορίζονται στο σημείο 1Ε002.γ.1.·
Non-"composite" ceramic materials composed of the materials specified in 1E002.c.1.;
Σημείωση:Στο σημείο 1Ε002.γ.2. δεν υπάγεται η "τεχνολογία" για το σχεδιασμό ή την παραγωγή λειαντικών.
Note:1E002.c.2. does not control "technology" for the design or production of abrasives.
Σημείωση:Το σημείο 1Ε002.στ. δεν αφορά την "τεχνολογία" για την επιδιόρθωση κατασκευαστών που χρησιμοποιούνται στα "πολιτικά αεροσκάφη" με "ινώδη ή νηματώδη υλικά" και τις εποξειρητίνες που περιέχονται στα εγχειρίδια του κατασκευαστή.
Note:1E002.f. does not control "technology" for the repair of "civil aircraft" structures using carbon "fibrous or filamentary materials" and epoxy resins, contained in aircraft manufacturers' manuals.
"Βιβλιοθήκες (παραμετρικές τεχνικές βάσεις δεδομένων)" ειδικά σχεδιασμένες ή τροποποιημένες για να καθιστούν δυνατή την εκτέλεση των λειτουργιών εξοπλισμού εμπίπτοντος στο σημείο 1Α004.γ.
"libraries (parametric technical databases)" specially designed or modified to enable equipment to perform the functions of equipment specified in 1A004.c.
Στο σημείο 1Ε002.ζ., ως ’βιβλιοθήκη (παραμετρική τεχνική βάση δεδομένων)’ νοείται μια συλλογή πληροφοριών, η αναφορά στην οποία μπορεί να βελτιώσει τις επιδόσεις συναφών ειδών εξοπλισμού ή συστημάτων.
For the purpose of 1E002.g., the term "library (parametric technical database)" means a collection of technical information, reference to which may enhance the performance of relevant equipment or systems.
Σημείωση:Στο σημείο 1Ε104 περιλαμβάνεται η "τεχνολογία" για τη σύνθεση των προδρόμων αερίων, των προγραμμάτων και τις παραμέτρους για τη ρύθμιση των ροών και των διεργασιών.
Note:1E104 includes "technology" for the composition of precursor gases, flow-rates and process control schedules and parameters.
"Τεχνολογία" σύμφωνα με τις γενικές παρατηρήσεις τεχνολογίας για τη [Ν] "χρήση" προϊόντων που καθορίζονται στα σημεία 1Α002, 1A007, 1Α202, 1Α225 ως 1Α227, 1Β201, 1Β225 ως 1Β233, 1C002.β3. ή β4., 1C010.β., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 ως 1C240 ή 1D201.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 1A002, 1A007, 1A202, 1A225 to 1A227, 1B201, 1B225 to 1B233, 1C002.b.3. or .b.4., 1C010.b., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 to 1C240 or 1D201.
"Τεχνολογία" σύμφωνα με τις γενικές παρατηρήσεις τεχνολογίας για την "ανάπτυξη" ή την "παραγωγή" προϊόντων που καθορίζονται στα σημεία 1A007, 1Α202 ή 1Α225 ως 1Α227.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" or "production" of goods specified in 1A007, 1A202 or 1A225 to 1A227.
Υλικά με πυκνότητες ροής 2,0 Τ και άνω και αποδόσεις ισχύος άνω των 414 ΜΡa·
materials with flux densities of 2,0 T or greater and yield strengths greater than 414 MPa;
’ονομαστικό μέγεθος’ 5 mm και άνω,
a "nominal size" of 5 mm or greater;
Για τις βαλβίδες με διαφορετικές διαμέτρους εισαγωγής και εξαγωγής, το ’ονομαστικό μέγεθος’ για το οποίο γίνεται λόγος στο σημείο 2A226 αφορά τη μικρότερη διάμετρο.
For valves with different inlet and outlet diameters, the "nominal size" in 2A226 refers to the smallest diameter.
Η ονοματολογία των αξόνων είναι σύμφωνη προς το διεθνές πρότυπο ISO 841 ’Μηχανές με ψηφιακό έλεγχο — Ονοματολογία αξόνων και κινήσεων’.
Axis nomenclature shall be in accordance with International Standard ISO 841, "Numerical Control Machines — Axis and Motion Nomenclature".
Για κάθε μοντέλο εργαλειομηχανής μπορεί να χρησιμοποιείται ’δηλωμένη ακρίβεια τοποθέτησης’ συναγόμενη από μετρήσεις που έχουν γίνει σύμφωνα με το πρότυπο ISO 230/2 (1988) [1] ή με εθνικά ισοδύναμα ως εναλλακτικά των δοκιμών των επί μέρους μηχανών.
"Stated positioning accuracy" derived from measurements made according to ISO 230/2 (1988) [1] or national equivalents may be used for each machine tool model as an alternative to individual machine tests.
’Δηλωμένη ακρίβεια τοποθέτησης’ σημαίνει την τιμή ακρίβειας που γνωστοποιείται ως αντιπροσωπευτική της ακρίβειας ενός μοντέλου μηχανής στις αρμόδιες αρχές του κράτους μέλους όπου είναι εγκατεστημένος ο εξαγωγέας.
"Stated positioning accuracy" means the accuracy value provided to the competent authorities of the Member State in which the exporter is established as representative of the accuracy of a specific machine model.
Προσδιορισμός της ’δηλωμένης ακρίβειας τοποθέτησης’
Determination of "Stated Positioning Accuracy"
Σημείωση 2:Στο σημείο 2Β001 δεν υπάγονται οι εργαλειομηχανές ειδικών χρήσεων που προορίζονται μόνο για την κατασκευή ενός από τα ακόλουθα:
Note 2:2B001 does not control special purpose machine tools limited to the manufacture of any of the following:
Ατερμόνων κοχλιών διελαστήρων, ή
extruder worms; or
ΣΗΜ:Για τις εργαλειομηχανές οπτικού φινιρίσματος βλέπε σημείο 2Β002.
N.B.:For optical finishing machines, see 2B002.
Εργαλειομηχανές για τόρνευση έχουσες όλα τα ακόλουθα:
Machine tools for turning, having all of the following:
Ακρίβεια τοποθέτησης με "όλες τις διαθέσιμες αντισταθμίσεις" μικρότερη (καλύτερη) από ή ίση με 6 μm σύμφωνα με το πρότυπο ISO 230/2 (1988) [1] Οι κατασκευαστές που υπολογίζουν την ακρίβεια τοποθέτησης σύμφωνα με το έγγραφο ISO 230/2 (1997) οφείλουν να συμβουλευθούν τις αρμόδιες αρχές του κράτους μέλους όπου είναι εγκατεστημένοι.
positioning accuracy with "all compensations available" equal to or less (better) than 6 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
Σημείωση:Στο σημείο 2Β001.α. δεν υπάγονται οι μηχανές για τόρνευση, οι ειδικά σχεδιασμένες για την παραγωγή φακών επαφής, που έχουν όλα τα παρακάτω:
Note:2B001.a. does not control turning machines specially designed for the producing contact lenses having all of the following:
Εργαλειομηχανές για φραιζάρισμα, με οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:
machine tools for milling having any of the following:
Ακρίβεια τοποθέτησης για τις μηχανές διάτρησης με πρότυπο-οδηγό, με "όλες τις διαθέσιμες αντισταθμίσεις" μικρότερη (καλύτερη) από ή ίση με 4 μm σύμφωνα με το πρότυπο ISO 230/2 (1988) [1] Οι κατασκευαστές που υπολογίζουν την ακρίβεια τοποθέτησης σύμφωνα με το έγγραφο ISO 230/2 (1997) οφείλουν να συμβουλευθούν τις αρμόδιες αρχές του κράτους μέλους όπου είναι εγκατεστημένοι.
a positioning accuracy for jig boring machines, with all "compensations available", equal to or less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
με εθνικά ισοδύναμα κατά μήκος οποιουδήποτε γραμμικού άξονα, ή
or national equivalents along any linear axis; or
Κοπτικές μηχανές κινητού εργαλείου, με όλα τα παρακάτω:
fly cutting machines having all of the following:
Γωνιακή παρέκκλιση της κίνησης του κινητού μέρους (κατά τους τρεις άξονες των συντεταγμένων) κάτω των (καλύτερη από) 2″ TIR επί διαδρομή 300 mm.
angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel.;
Εργαλειομηχανές για φραιζάρισμα, με οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:
Machine tools for grinding having any of the following:
Ακρίβεια τοποθέτησης με "όλες τις διαθέσιμες αντισταθμίσεις" μικρότερη (καλύτερη) από ή ίση με 4 μm σύμφωνα με το πρότυπο ISO 230/2 (1988) [1] Οι κατασκευαστές που υπολογίζουν την ακρίβεια τοποθέτησης σύμφωνα με το έγγραφο ISO 230/2 (1997) οφείλουν να συμβουλευθούν τις αρμόδιες αρχές του κράτους μέλους όπου είναι εγκατεστημένοι.
positioning accuracy with "all compensations available" equal to or less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
Σημείωση:Στο σημείο 2Β001.γ. δεν υπάγονται οι μηχανές για τρόχισμα ως εξής:
Note:2B001.c. does not control grinding machine as follows:
Μηχανές για τρόχισμα κυλινδρικών εξωτερικών, εσωτερικών και εξωτερικών/εσωτερικών επιφανειών με όλα τα παρακάτω:
cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines having all the following characteristics:
Μηχανές ειδικά σχεδιασμένες για τρόχισμα με περιτύπωμα που δεν έχουν άξονα "z" ή άξονα "w", με ακρίβεια τοποθέτησης με "όλες τις διαθέσιμες αντισταθμίσεις" μικρότερη (καλύτερη) από 4 μm σύμφωνα με το πρότυπο ISO 230/2 (1988) [1] Οι κατασκευαστές που υπολογίζουν την ακρίβεια τοποθέτησης σύμφωνα με το έγγραφο ISO 230/2 (1997) οφείλουν να συμβουλευθούν τις αρμόδιες αρχές του κράτους μέλους όπου είναι εγκατεστημένοι.
machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a positioning accuracy with "all compensations available" less (better) than 4 μm according to ISO 230/2 (1988) [1] Manufacturers calculating positioning accuracy in accordance with ISO 230/2 (1997) should consult the competent authorities of the Member State in which they are established.
Εργαλειομηχανές για την αφαίρεση μεταλλικών, κεραμικών ή "σύνθετων" υλικών με όλα τα παρακάτω:
machine tools for removing metals, ceramics or "composites" having all of the following:
Εξάτμιση με "λέιζερ"και
"laser" beam; and
Που έχουν δύο ή περισσότερους άξονες περιστροφής και όλα τα παρακάτω:
having two or more rotary axes and all of the following:
Μπορούν να συνδυαστούν ταυτόχρονα για "έλεγχο της διαμόρφωσης περιγράμματος"· και
can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Με ακρίβεια τοποθέτησης μικρότερη (καλύτερη) από 0,003°. στ.
a positioning accuracy of less (better) than 0,003°;
Μηχανές για διάτρηση βαθειών οπών και μηχανές για τόρνευση τροποποιημένες για διάτρηση βαθειών οπών, με μέγιστη ικανότητα βάθους διάτρησης που υπερβαίνει 5 m και ειδικά σχεδιασμένα προς τούτο δομικά στοιχεία.
deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m and specially designed components therefor.
Εργαλειομηχανές οπτικού φινιρίσματος με ψηφιακό έλεγχο, εξοπλισμένες για επιλεκτική αφαίρεση υλικού για την παραγωγή μη σφαιρικών οπτικών επιφανειών με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Φινίρισμα του προϊόντος σε λιγότερο (καλύτερο) από 1,0 μm,
finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
Τέσσερις ή περισσότερους άξονες που μπορούν να συνδυαστούν ταυτόχρονα για τον "έλεγχο της διαμόρφωσης περιγράμματος", και
four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Μαγνητοροολογικό φινίρισμα ("MRF")
magnetorheological finishing (’MRF’);
Ηλεκτροροολογικό φινίρισμα ("HRF")
electrorheological finishing (’ERF’);
’Φινίρισμα με δέσμες ενεργειακών σωματιδίων’
’energetic particle beam finishing’;
’Φινίρισμα με εργαλείο διογκούμενης μεμβράνης’, ή
’inflatable membrane tool finishing’; or
’Φινίρισμα με εκτόξευση υγρού’.
’fluid jet finishing’.
Για τους σκοπούς του 2B002:
For the purposes of 2B002:
’Μαγνητοροολογικό φινίρισμα’ είναι κάθε διεργασία αφαίρεσης υλικού που χρησιμοποιεί αποτριπτικό μαγνητικό ρευστό, το ιξώδες του οποίου ελέγχεται με μαγνητικό πεδίο.
"MRF" is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
’Ηλεκτροροολογικό φινίρισμα’ είναι κάθε διεργασία αφαίρεσης που χρησιμοποιεί αποτριπτικό ρευστό, το ιξώδες του οποίου ελέγχεται με ηλεκτρικό πεδίο.
"ERF" is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
"Φινίρισμα με δέσμες ενεργειακών σωματιδίων" είναι η χρήση πλάσματος αντιδραστικών ατόμων (RAP) ή δεσμών ιόντων για την επιλεκτική αφαίρεση υλικού.
"Energetic particle beam finishing" uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Το ’Φινίρισμα με εργαλείο διογκούμενης μεμβράνης’ είναι διαδικασία που χρησιμοποιεί μια μεμβράνη υπό πίεση η οποία παραμορφώνεται για να έρθει σε επαφή με το προς κατεργασία αντικείμενο σε μικρό χώρο.
"Inflatable membrane tool finishing" is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Στο ’φινίρισμα με εκτόξευση υγρού’ χρησιμοποιείται ροή υγρού για την αφαίρεση υλικού.
"Fluid jet finishing" makes use of a fluid stream for material removal.
ΣΗΜ.:ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Β104 και 2Β204.
N.B.:SEE ALSO 2B104 and 2B204.
Οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:
having any of the following:
Μέγιστη πίεση εργασίας μεγαλύτερη από 207 MPa,
a maximum working pressure exceeding 207 MPa;
Περιβάλλον ελεγχόμενης θερμοκρασίας μεγαλύτερης από 1773 Κ (1500 °C), ή
a controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
Σημείωση:Για ειδικά σχεδιασμένες μήτρες, τύπους και εργαλεία βλ. σημεία 1B003, 9B009 και τους Ελέγχους των Στρατιωτικών Προϊόντων.
N.B.:For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Εξοπλισμός παραγωγής για εναπόθεση ατμού με χημικές μεθόδους (CΝD), ο οποίος έχει όλα ταπαρακάτω:
chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
ΣΗΜ.:ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Β105.
N.B.:SEE ALSO 2B105.
Έχει τροποποιηθεί για μια από τις ακόλουθες τεχνικές:
a process modified for one of the following:
Σύστημα ελέγχου του πάχους του επιχρίσματος επιτόπου.
incorporating in situ coating thickness control;