natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Εμβέλεια τουλάχιστον 30 km με ανάλυση απόστασης καλύτερη από 10 m rms,
range of 30 km or greater with a range resolution better than 10 m rms;
Ανάλυση ταχύτητας καλύτερη από 3 m/s.
velocity resolution better than 3 m/s.
Τεχνική παρατήρηση:
Technical note: In 6A108.b.
Στο σημείο 6Α108.β., ως "βλήματα" νοούνται τα πλήρη πυραυλικά συστήματα και τα συστήματα μη επανδρωμένων οχημάτων αέρος με βεληνεκές άνω των 300 km.
’missile’ means complete rocket systems and unmanned aerial vehicle systems capable of a range exceeding 300 km.
Επιφάνεια φωτοκαθόδου μεγαλύτερη από 20 cm2, και
photocathode area of greater than 20 cm2; and
Χρόνο ανόδου του παλμού της ανόδου μικρότερο από 1 ns.
anode pulse rise time of less than 1 ns.
Κινηματογραφικές μηχανές μηχανικώς περιστρεφόμενου κατόπτρου και ειδικώς σχεδιασμένα δομικά μέρη τους, ως εξής:
mechanical rotating mirror cameras, as follows, and specially designed components therefor:
Μηχανές μηχανικής αποτύπωσης εικόνων με ταχύτητες λήψης μεγαλύτερες των 225000 εικόνων ανά δευτερόλεπτο,
framing cameras with recording rates greater than 225000 frames per second;
Μηχανές συνεχούς φιλμ με ταχύτητες γραφής μεγαλύτερες από 0,5 mm ανά ms.
streak cameras with writing speeds greater than 0,5 mm per microsecond;
Σημείωση:Στο σημείο 6Α203.α., τα δομικά μέρη τέτοιων κινηματογραφικών μηχανών περιλαμβάνουν τις ηλεκτρονικές μονάδες συντονισμού τους και τα συγκροτήματα δρομέα τους που αποτελούνται από στροβίλους, κάτοπτρα και έδρανα.
Note:in 6A203.a. components of such cameras include their synchronizing electronics units and rotor assemblies consisting of turbines, mirrors and bearings.
Μηχανές λήψης με συνεχές φιλμ, ηλεκτρονικές μηχανές αποτύπωσης εικόνων, λυχνίες και συσκευές, ως εξής:
electronic streak cameras, electronic framing cameras, tubes and devices, as follows:
Ηλεκτρονικές μηχανές λήψης με συνεχές φιλμ, ικανές για ανάλυση χρόνου 50 ns και κάτω,
electronic streak cameras capable of 50 ns or less time resolution;
Λυχνίες συνεχούς φιλμ για μηχανές λήψης προσδιοριζόμενες στο σημείο 6A203.β.1.,
streak tubes for cameras specified in 6A203.b.1.;
Ηλεκτρονικές (ή ηλεκτρονικού πετάσματος) μηχανές αποτύπωσης εικόνων ικανές για διάρκεια ανοικτού πετάσματος το πολύ 50 ns,
electronic (or electronically shuttered) framing cameras capable of 50 ns or less frame exposure time;
Λυχνίες αποτύπωσης εικόνων και συσκευές απεικόνισης στερεάς κατάστασης για χρήση με κινηματογραφικές μηχανές προδιαγραφόμενες στο σημείο 6Α203.β.3., ως εξής:
framing tubes and solid-state imaging devices for use with cameras specified in 6A203.b.3., as follows:
Λυχνίες ενίσχυσης εικόνων εστιαζόμενων εκ του σύνεγγυς, έχουσες τη φωτοκάθοδο εναποτεθειμένη σε διαφανή αγώγιμη επικάλυψη για τη μείωση της αντίστασης του φύλλου φωτοκαθόδου,
proximity focused image intensifier tubes having the photocathode deposited on a transparent conductive coating to decrease photocathode sheet resistance;
Λυχνίες videcon πύλης πυριτίου για ενίσχυση στόχων (SIT), όπου ένα ταχύ σύστημα επιτρέπει τη δίοδο των φωτοηλεκτρονίων από την πύλη της φωτοκαθόδου πριν να προσκρούσουν στην πλάκα SIT,
gate silicon intensifier target (SIT) videcon tubes, where a fast system allows gating the photoelectrons from the photocathode before they impinge on the SIT plate;
Άλλου τύπου λυχνίες αποτύπωσης εικόνων και συσκευές απεικόνισης στερεάς κατάστασης με χρόνους διόδου από την πύλη ταχέως λαμβανόμενων εικόνων μικρότερους από 50 ns, ειδικώς σχεδιασμένες για τις προδιαγραφόμενες στο σημείο 6Α203.β.3. μηχανές κινηματογράφησης.
other framing tubes and solid-state imaging devices having a fast-image gating time of less than 50 ns specially designed for cameras specified in 6A203.b.3.;
Μηχανές τηλεοπτικής λήψης ανθεκτικές στις ακτινοβολίες ειδικώς σχεδιασμένες ή βαθμολογημένες για να αντέχουν ολική δόση ακτινοβολίας μεγαλύτερη από 50 × 103 Gy (πυρίτιο) [5 × 106 rad (πυρίτιο)] χωρίς υποβάθμιση της λειτουργίας.
radiation-hardened TV cameras, or lenses therefor, specially designed or rated as radiation hardened to withstand a total radiation dose greater than 50 × 103 Gy(silicon) (5 × 106 rad (silicon)) without operational degradation.
"Λέιζερ" ιόντων αργού με τα δύο ακόλουθα χαρακτηριστικά:
argon ion "lasers" having both of the following characteristics:
Λειτουργία σε μήκη κύματος μεταξύ 400 nm και 515 nm, και
operating at wavelengths between 400 nm and 515 nm; and
Μέση ισχύ εξόδου μεγαλύτερη από 40 W,
an average output power greater than 40 W;
Συντονίσιμοι παλμικοί μονότροποι ταλαντωτές λέιζερ χρωστικής ουσίας με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
tunable pulsed single-mode dye laser oscillators having all of the following characteristics:
Λειτουργία σε μήκος κύματος μεταξύ 300 nm και 800 nm,
operating at wavelengths between 300 nm and 800 nm;
Μέση ισχύ εξόδου άνω του 1 W,
an average output power greater than 1 W;
Ρυθμό επανάληψης μεγαλύτερο του 1 kHz, και
a repetition rate greater than 1 kHz; and
Πλάτος παλμού μικρότερο από 100 ns.
pulse width less than 100 ns;
Συντονίσιμοι παλμικοί ενισχυτές και ταλαντωτές με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
tunable pulsed dye laser amplifiers and oscillators, having all of the following characteristics:
Μέση ισχύ εξόδου άνω των 30 W,
an average output power greater than 30 W;
Σημείωση:Στο σημείο 6A205.γ. δεν υπάγονται οι μονότροποι ταλαντωτές.
Note:6A205.c. does not control single mode oscillators;
Παλμικά "λέιζερ" διοξειδίου του άνθρακα με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
pulsed carbon dioxide "lasers" having all of the following characteristics:
Λειτουργία σε μήκος κύματος μεταξύ 9000 nm και 11000 nm,
operating at wavelengths between 9000 nm and 11000 nm;
Ρυθμό επανάληψης μεγαλύτερο των 250 kHz,
a repetition rate greater than 250 Hz;
Μέση ισχύ εξόδου άνω των 500 W, και
an average output power greater than 500 W; and
Πλάτος παλμού μικρότερο από 200 ns.
pulse width of less than 200 ns;
Μετατοπιστές παρα-υδρογόνου κατά Raman, σχεδιασμένοι να λειτουργούν σε μήκος κύματος εξόδου 16 μm και με ρυθμό επανάληψης άνω των 250 Hz. στ.
para-hydrogen Raman shifters designed to operate at 16 micrometre output wavelength and at a repetition rate greater than 250 Hz;
"Λέιζερ" με προσμίξεις νεοδυμίου (όχι γυαλιού/νεοδυμίου) με μήκος κύματος εξόδου μεταξύ 1000 και 1100 nm, μιας από τις εξής δύο κατηγορίες:
neodymium-doped (other than glass) "lasers" with an output wavelength between 1000 and 1100 nm having either of the following:
Διεγειρόμενα με παλμούς και με μεταγωγή Q, με διάρκεια παλμών τουλάχιστον 1ης, και
pulse-excited and Q-switched with a pulse duration equal to or more than 1 ns, and having either of the following:
είτε έξοδο απλού-εγκάρσιου τρόπου λειτουργίας με μέση ισχύ εξόδου άνω των 40 W,
a single-transverse mode output with an average output power greater than 40 W; or
είτε έξοδο πολλαπλού-εγκάρσιου τρόπου λειτουργίας με μέση ισχύ άνω των 50W, ή
a multiple-transverse mode output having an average power greater than 50 W; or
Με ενσωματωμένο διπλασιασμό συχνότητας ώστε να έχουν μήκος κύματος εξόδου μεταξύ 500 και 550 nm με μέση ισχύ εξόδου άνω των 40 W.
incorporating frequency doubling to give an output wavelength between 500 and 550 nm with an average output power of more than 40 W.
Σημείωση:Το σημείο 6A225 περιλαμβάνει συμβολόμετρα ταχύτητας όπως τα VISAR (συστήματα συμβολομέτρων ταχύτητας για κάθε ανακλαστήρα) και τα DLI (συμβολόμετρα λέιζερ με φαινόμενο Doppler).
Note:6A225 includes velocity interferometers such as VISARs (Velocity interferometer systems for any reflector) and DLIs (Doppler laser interferometers).
Δείκτες μαγγανίνης για πιέσεις μεγαλύτερες από 10 GPa,
manganin gauges for pressures greater than 10 GPa;
Μορφοτροπείς πίεσης με χαλαζία για πιέσεις μεγαλύτερες από 10 GPa.
quartz pressure transducers for pressures greater than 10 GPa.
Εξοπλισμός για τη μέτρηση της απόλυτης ανάκλασης με ακρίβεια ±0,1 % της τιμής της ανάκλασης.
equipment for measuring absolute reflectance to an accuracy of ±0,1 % of the reflectance value;
Εξοπλισμός εκτός του εξοπλισμού μέτρησης της επιφανειακής σκέδασης, με ενεργό άνοιγμα διαφράγματος άνω των 10 cm, ειδικά μελετημένος για οπτικές μετρήσεις εξ αποστάσεως ενός σχήματος επί μιας μη επίπεδης οπτικής επιφάνειας (προφίλ), με ακρίβεια 2 nm ή μεγαλύτερη σε σύγκριση με το απαιτούμενο προφίλ.
equipment other than optical surface scattering measurement equipment, having an unobscured aperture of more than 10 cm, specially designed for the non-contact optical measurement of a non-planar optical surface figure (profile) to an "accuracy" of 2 nm or less (better) against the required profile.
Σημείωση:Στο σημείο 6Β004 δεν υπάγονται τα μικροσκόπια.
Note:6B004 does not control microscopes.
ΣΗΜΕΙΩΣΗ:ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 6Β108.
N.B.:SEE ALSO 6B108.
Συστήματα, εκτός των καθοριζομένων στο 6Β008, ειδικώς σχεδιασμένα για μέτρηση διατομής σε ραδιοεντοπιστή, χρησιμοποιήσιμα για "βλήματα" και υποσυστήματα αυτών.
Systems, other than those specified in 6B008, specially designed for radar cross section measurement usable for ’missiles’ and their subsystems.
Στο σημείο 6Β108, ως "βλήματα" νοούνται τα πλήρη πυραυλικά συστήματα και τα μη επανδρωμένα συστήματα εναέριων οχημάτων με ακτίνα δράσης άνω των 300 km.
In 6B108 ’missile’ means complete rocket systems and unmanned aerial vehicle systems capable of a range exceeding 300 km.
Στοιχειακό τελλούριο (Te) επιπέδων καθαρότητας ίσων ή ανώτερων του 99,9995 %,
elemental tellurium (Te) of purity levels of 99,9995 % or more;
Μονοκρύσταλλοι (συμπεριλαμβανομένων των επιταξιακών δισκίων) οποιουδήποτε από τα εξής:
single crystals (including epitaxial wafers) of any of the following:
Τελλουριούχου καδμίου-ψευδαργύρου (CdZnTe), με περιεκτικότητα σε ψευδάργυρο κάτω του 6 % κατά "γραμμομοριακό κλάσμα",
cadmium zinc telluride (CdZnTe), with zinc content of less than 6 % by ’mole fraction’;
Τελλουριούχου καδμίου (CdTe) ή οποιουδήποτε επιπέδου καθαρότητας, ή
cadmium telluride (CdTe) of any purity level; or
Τελλουριούχου υδραργύρου-καδμίου (HgCdTe) οποιουδήποτε επιπέδου καθαρότητας.
mercury cadmium telluride (HgCdTe) of any purity level.
Το "γραμμομοριακό κλάσμα" ορίζεται ως ο λόγος γραμμομορίων ZnTe προς το άθροισμα των γραμμομορίων CdTe και ZnTe που υπάρχουν στον κρύσταλλο.
’Mole fraction’ is defined as the ratio of moles of ZnTe to the sum of moles of CdTe and ZnTe present in the crystal.
"Ακατέργαστα υποστρώματα" σεληνιούχου ψευδαργύρου (ZnSe) και θειούχου ψευδαργύρου (ZnS) παραγόμενα με τη χημική διεργασία εναπόθεσης ατμών, που παρουσιάζουν οιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
zinc selenide (ZnSe) and zinc sulphide (ZnS) "substrate blanks" produced by the chemical vapour deposition process, having any of the following:
Όγκο μεγαλύτερο από 100 cm3, ή
a volume greater than 100 cm3; or
Διάμετρο μεγαλύτερη από 80 mm με πάχος τουλάχιστον ίσο προς 20 mm,
a diameter greater than 80 mm having a thickness of 20 mm or more;
Συνθετικοί κρύσταλλοι από τα ακόλουθα ηλεκτροοπτικά υλικά:
boules of the following electro-optic materials:
Αρσενικικό καλιοτιτανύλιο (KTA),
potassium titanyl arsenate (KTA);
Σεληνιούχο αργυρογάλλιο (AgGaSe2),
silver gallium selenide (AgGaSe2);
Σεληνιούχο θαλιοαρσενικό (Tl3AsSe3, γνωστό επίσης ως TAS),
thallium arsenic selenide (Tl3AsSe3, also known as TAS);
Μη γραμμικά οπτικά υλικά που έχουν όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
non-linear optical materials, having all of the following:
Επιδεκτικότητα τρίτης τάξης (chi 3) ίση με 10–6 m2/V2 ή μεγαλύτερη, και
third order susceptibility (chi 3) of 10–6 m2/V2 or more; and
Χρόνο απόκρισης μικρότερο από 1 ms,
a response time of less than 1 ms;
Ύαλος, περιλαμβανομένων τηγμένου διοξειδίου του πυριτίου, φωσφορικής υάλου, φθοριο-φωσφορικής υάλου, φθοριούχου ζιρκονίου (ZrF4) και φθοριούχου αφνίου (HfF 4) με όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
glass, including fused silica, phosphate glass, fluorophosphate glass, zirconium fluoride (ZrF4) and hafnium fluoride (HfF4), having all of the following:
Συγκέντρωση ιόντων υδροξυλίου (ΟΗ-) μικρότερη από 5 ppm,
a hydroxyl ion (OH-) concentration of less than 5 ppm;
Ενοποιημένα επίπεδα μεταλλικής καθαρότητας κάτω του 1 ppm, και
integrated metallic purity levels of less than 1 ppm; and
Υψηλή ομοιογένεια (δείκτης διαθλαστικής διακύμανσης) κάτω των 5 × 10–6, στ.
high homogeneity (index of refraction variance) less than 5 × 10–6;
Υλικό συνθετικώς παραγόμενων αδαμάντων με απορρόφηση κάτω του 10–5 cm–1 για μήκη κύματος άνω των 200 nm και μέχρι 14000 nm,
synthetically produced diamond material with an absorption of less than 10–5 cm–1 for wavelengths exceeding 200 nm but not exceeding 14000 nm.
Σάπφειροι με προσμείξεις τιτανίου,
titanium doped sapphire;
Αλεξανδρίτης.
alexandrite.
"Λογισμικό" ειδικώς σχεδιασμένο για διαμόρφωση ηχητικών δεσμών για την επεξεργασία σε κλίμακα "πραγματικού χρόνου" ηχητικών δεδομένων για παθητική λήψη με τη χρήση ρυμουλκούμενων συστοιχιών υδροφώνων,
"software" specially designed for acoustic beam forming for the "real time processing" of acoustic data for passive reception using towed hydrophone arrays;
"Κώδικας πηγής" για την "επεξεργασία σε κλίμακα πραγματικού χρόνου" ηχητικών δεδομένων για παθητική λήψη που χρησιμοποιεί ρυμουλκούμενες συστοιχίες υδροφώνων,
"source code" for the "real time processing" of acoustic data for passive reception using towed hydrophone arrays;
"Λογισμικό" ειδικώς σχεδιασμένο για διαμόρφωση ηχητικών δεσμών για την επεξεργασία σε κλίμακα "πραγματικού χρόνου" ηχητικών δεδομένων για παθητική λήψη με τη χρήση συστήματος καλωδίων βυθού ή κόλπων,
"software" specially designed for acoustic beam forming for "real time processing" of acoustic data for passive reception using bottom or bay cable systems;
"Κώδικας πηγής" για την "επεξεργασία σε κλίμακα πραγματικού χρόνου" ηχητικών δεδομένων για παθητική λήψη με τη χρήση συστήματος καλωδίων βυθού ή κόλπων.
"source code" for "real time processing" of acoustic data for passive reception using bottom or bay cable systems;
"Λογισμικό" ειδικώς σχεδιασμένο για "συστήματα αντιστάθμισης" μαγνητικού και αντιστάθμισης ηλεκτρικού πεδίου για μαγνητικούς αισθητήρες μελετημένους ώστε να λειτουργούν σε κινητές εξέδρες,
"software" specially designed for magnetic and electric field "compensation systems" for magnetic sensors designed to operate on mobile platforms;
"Λογισμικό" ειδικώς σχεδιασμένο για ανίχνευση μαγνητικών ανωμαλιών και ανωμαλιών ηλεκτρικού πεδίου σε κινητές εξέδρες.
"software" specially designed for magnetic and electric field anomaly detection on mobile platforms;
"Λογισμικό" ειδικώς σχεδιασμένο για τη διόρθωση κινησιακών επιδράσεων βαρυτομέτρων ή βαρυτικών κλισιμέτρων.
"software" specially designed to correct motional influences of gravity meters or gravity gradiometers;
"Προγράμματα" εφαρμογών "λογισμικού" ελέγχου εναερίου κυκλοφορίας, φιλοξενούμενα σε ηλεκτρονικούς υπολογιστές γενικής χρήσης και ευρισκόμενα σε κέντρα ελέγχου εναέριας κυκλοφορίας (ΑΤC) και ικανά για οιοδήποτε από τα ακόλουθα:
air Traffic Control "software" application "programmes" hosted on general purpose computers located at Air Traffic Control centres and capable of any of the following:
Να επεξεργάζονται και να προβάλλουν σε οθόνη άνω των 150 ταυτοχρόνων "ιχνών συστήματος", ή
processing and displaying more than 150 simultaneous "system tracks"; or
Να δέχονται δεδομένα στόχων ραδιοεντοπισμού από άνω των τεσσάρων πρωτεύοντες ραδιοεντοπιστές,
accepting radar target data from more than four primary radars;
"Λογισμικό" για τη μελέτη ή "παραγωγή" θόλων τοποθέτησης κεραιών οι οποίοι:
"software" for the design or "production" of radomes which:
Έχουν μελετηθεί ειδικώς για να προστατεύουν τις "ηλεκτρονικώς οδηγούμενες φασικώς συγχρονισμένες συστοιχιοκεραίες" που προδιαγράφονται στο σημείο 6Α008.ε., και
are specially designed to protect the "electronically steerable phased array antennae" specified in 6A008.e.; and
Καταλήγουν σε διάγραμμα κεραίας με μέση στάθμη του πλευρικού λωβού άνω των 40 dB κάτω από την κορυφή της στάθμης της κύριας δέσμης.
result in an antenna pattern having an ’average side lobe level’ more than 40 dB below the peak of the main beam level.
Η "μέση στάθμη του πλευρικού λωβού" μετράται επί ολόκληρης της συστοιχίας εκτός της γωνίας της κύριας δέσμης και των πρώτων δύο πλευρικών λωβών εκατέρωθεν της κύριας δέσμης.
’Average side lobe level’ in 6D003.d.2.b. is measured over the entire array excluding the angular extent of the main beam and the first two side lobes on either side of the main beam.
"Λογισμικό" που επεξεργάζεται καταγεγραμμένα δεδομένα μετά την πτήση, επιτρέπει δε τον προσδιορισμό της θέσης οχημάτων σε όλη την τροχιά πτήσεώς τους, ειδικώς σχεδιασμένο ή τροποποιημένο για "βλήματα".
"Software" which processes post-flight, recorded data, enabling determination of vehicle position throughout its flight path, specially designed or modified for ’missiles’.
Στο σημείο 6D103, ως "βλήματα" νοούνται τα πλήρη πυραυλικά συστήματα και τα συστήματα μη επανδρωμένων οχημάτων αέρος με βεληνεκές άνω των 300 km.
In 6D103 ’missile’ means complete rocket systems and unmanned aerial vehicle systems capable of a range exceeding 300 km.
"Τεχνολογία" επικάλυψης και κατεργασίας οπτικών επιφανειών, απαιτούμενη για την επίτευξη ομοιομορφίας βαθμού 99,5 % ή καλύτερου για οπτικές επικαλύψεις διαμέτρου ή μήκους μείζονος άξονος άνω των 500 mm και με συνολική απώλεια (λόγω απορρόφησης και σκέδασης) κάτω των 5 × 10–3·
optical surface coating and treatment "technology""required" to achieve uniformity of 99,5 % or better for optical coatings 500 mm or more in diameter or major axis length and with a total loss (absorption and scatter) of less than 5 × 10–3;
ΣΗΜΕΙΩΣΗ:ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 2Ε003.στ.
N.B.:SEE ALSO 2E003.f.
Τεχνολογίες οπτικών κατασκευών, που χρησιμοποιούν: Τεχνικές τόρνευσης με μονοσημειακό αδάμαντα που παράγουν ακρίβειες φινιρισμένης επιφάνειας καλύτερες από 10 nm rms σε μη επίπεδες επιφάνειες άνω των 0,5 m2,
optical fabrication "technology" using single point diamond turning techniques to produce surface finish accuracies of better than 10 nm rms on non-planar surfaces exceeding 0,5 m2;
"Τεχνολογία""απαιτούμενη" για την "ανάπτυξη", "παραγωγή" ή "χρήση" ειδικώς σχεδιασμένων οργάνων διάγνωσης ή στόχων σε εγκαταστάσεις δοκιμών "laser υπερυψηλής ισχύος" (SHPL) ή για τη δοκιμή ή αξιολόγηση υλικών ακτινοβολημένων με δέσμες SHPL,
"technology""required" for the "development", "production" or "use" of specially designed diagnostic instruments or targets in test facilities for "SHPL" testing or testing or evaluation of materials irradiated by "SHPL" beams;
Σημείωση:Στο 6Ε101 προδιαγράφεται μόνο "τεχνολογία" για εξοπλισμό προδιαγραφόμενο στο 6Α008, όταν ο τελευταίος έχει μελετηθεί για αεροφερόμενες εφαρμογές και είναι χρησιμοποιήσιμος σε "βλήματα".
Note:6E101 only specifies "technology" for equipment specified in 6A008 when it is designed for airborne applications and is usable in "missiles".
ΠΛΟΗΓΗΣΗ ΚΑΙ ΑΕΡΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ
NAVIGATION AND AVIONICS
ΣΗΜ.:Για αυτόματους πιλότους υποβρυχίων οχημάτων, βλέπε kατηγορία 8.
N.B.:for automatic pilots for underwater vehicles, see Category 8.
Επιταχυνσίμετρα ως εξής, καθώς και τα ειδικά σχεδιασμένα συστατικά μέρη τους:
Accelerometers, as follows, and specially designed components therefor:
ΣΗΜ.:ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 7A101.
N.B.:SEE ALSO 7A101.
Γραμμικά επιταχυνσίμετρα με οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
linear accelerometers having any of the following:
Προδιαγεγραμμένα ώστε να λειτουργούν σε επίπεδα γραμμικής επιτάχυνσης μέχρι και 15 g, και έχοντα οποιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
Specified to function at linear acceleration levels less than or equal to 15 g, and having any of the following:
"Σταθερότητα""εγγενούς απόκλισης" μικρότερη (καλύτερη) από 130 micro g ως προς σταθερή τιμή διακρίβωσης επί χρονικό διάστημα ενός έτους, ή
a "bias""stability" of less (better) than 130 micro g with respect to a fixed calibration value over a period of one year; or
"Σταθερότητα""συντελεστή κλίμακας" μικρότερη (καλύτερη) από 130 ppm ως προς σταθερή τιμή διακρίβωσης επί χρονικό διάστημα ενός έτους.
a "scale factor""stability" of less (better) than 130 ppm with respect to a fixed calibration value over a period of one year;
Προδιαγεγραμμένα ώστε να λειτουργούν σε επίπεδα γραμμικής επιτάχυνσης άνω των 15 g, και έχοντα όλα τα ακόλουθα χαρακτηριστικά:
specified to function at linear acceleration levels exceeding 15 g, and having all of the following:
"Επαναληψιμότητα""εγγενούς απόκλισης" μικρότερη (καλύτερη) από 5000 micro g επί χρονικό διάστημα ενός έτους, και
a "bias""repeatability" of less (better) than 5000 micro g over a period of one year; and
"Επαναληψιμότητα""συντελεστή κλίμακας" μικρότερη (καλύτερη) από 2500 ppm επί χρονικό διάστημα ενός έτους, ή
a "scale factor""repeatability" of less (better) than 2500 ppm over a period of one year; or
Σχεδιασμένα προς χρήση σε συστήματα αδρανειακής πλοήγησης ή καθοδήγησης και προδιαγεγραμμένα ώστε να λειτουργούν σε επίπεδα γραμμικής επιτάχυνσης άνω των 100 g.
designed for use in inertial navigation or guidance systems and specified to function at linear acceleration levels exceeding 100 g;
Γωνιακά ή περιστροφικά επιταχυνσίμετρα προδιαγεγραμμένα ώστε να λειτουργούν σε επίπεδα γραμμικής επιτάχυνσης άνω των 100 g.
angular or rotational accelerometers specified to function at linear acceleration levels exceeding 100 g.
Γυροσκόπια και αισθητήρες γωνιακής ταχύτητας που παρουσιάζουν οιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά, καθώς και ειδικά σχεδιασμένα συστατικά μέρη τους:
Gyros, and angular rate sensors, having any of the following characteristics, and specially designed components therefor:
ΣΗΜ.:ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 7A102.
N.B.:SEE ALSO 7A102.
ΣΗΜ.:Για τα γωνιακά ή περιστροφικά επιταχυνσίμετρα, βλ. 7Α001.β.
N.B.:for angular or rotational accelerometers, see 7A001.b.
"Σταθερότητα""ρυθμού εκτροπής" ένδειξης που μετράται σε περιβάλλον 1 g για περίοδο ενός μηνός και ως προς σταθερή τιμή διακρίβωσης οργάνου μικρότερη (καλύτερη) από 0,5 μοίρες ανά ώρα όταν προορίζεται να λειτουργήσει σε γραμμική επιτάχυνση μέχρι και 100 g, ή
a "drift rate""stability", when measured in a 1 g environment over a period of one month, and with respect to a fixed calibration value of less (better) than 0,5 degree per hour when specified to function at linear acceleration levels up to and including 100 g;
"Γωνιακή τυχαία όδευση" μικρότερη (καλύτερη) ή ίση με 0,0035 μοίρες ανά τετραγωνική ρίζα ώρας, ή
an "angle random walk" of less (better) than or equal to 0,0035 degree per square root hour; or
Σημείωση:Στο σημείο 7Α002.β δεν υπάγονται τα γυροσκόπια περιστρεφόμενης μάζας (τα γυροσκόπια περιστρεφόμενης μάζας είναι γυροσκόπια τα οποία χρησιμοποιούν μια συνεχώς περιστρεφόμενη μάζα για να αισθάνονται τη γωνιακή κίνηση).
Note:7A002.b. does not control spinning mass gyros (spinning mass gyros are gyros which use a continually rotating mass to sense angular motion).
Εύρος ταχυτήτων τουλάχιστον 500 μοιρών ανά δευτερόλεπτο και οποιοδήποτε από τα ακόλουθα:
a rate range greater than or equal to 500 degrees per second and having any of the following:
"Σταθερότητα ρυθμού εκτροπής" ένδειξης που μετράται σε περιβάλλον 1 g για περίοδο τριών λεπτών και ως προς σταθερή τιμή διακρίβωσης οργάνου μικρότερη (καλύτερη) από 40 μοίρες ανά ώρα, ή
a "drift rate""stability", when measured in a 1 g environment over a period of three minutes and with respect to a fixed calibration value of less (better) than 40 degrees per hour; or
"Γωνιακή τυχαία όδευση" μικρότερη (καλύτερη) ή ίση με 0,2 μοίρες ανά τετραγωνική ρίζα ώρας, ή
an "angle random walk" of less (better) than or equal to 0,2 degree per square root hour; or
Προδιαγεγραμμένα ώστε να λειτουργούν σε μεγέθη γραμμικής επιτάχυνσης άνω των 100 g.
specified to function at linear acceleration levels exceeding 100 g.
ΣΗΜ.:ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 7A103.
N.B.:SEE ALSO 7A103.
Συστήματα αδρανειακής πλοήγησης (INS) (με καρδανική ανάρτηση ή συνδέσμους = strapdown) καθώς και αδρανειακός εξοπλισμός σχεδιασμένα για "αεροσκάφη", επίγεια οχήματα, σκάφη (επιφανείας ή υποβρύχια), ή "διαστημικά οχήματα", για τον προσανατολισμό, την καθοδήγηση, τον χειρισμό, που παρουσιάζουν οιοδήποτε από τα ακόλουθα χαρακτηριστικά, καθώς και ειδικά σχεδιασμένα δομικά στοιχεία τους:
Inertial Navigation Systems (INS) (gimballed or strapdown) and inertial equipment designed for "aircraft", land vehicle, vessels (surface or underwater) or "spacecraft" for attitude, guidance or control, having any of the following characteristics, and specially designed components therefor: