natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Λογισμικό" για ηλεκτρονικές διατάξεις, ακόμη και όταν ευρίσκεται σε ηλεκτρονική διάταξη ή σύστημα, που επιτρέπει σε τέτοιες διατάξεις ή συστήματα να λειτουργούν ως μονάδα "ψηφιακού ελέγχου" ικανή για ταυτόχρονο συνδυασμό περισσοτέρων των τεσσάρων αξόνων για τον "έλεγχο της διαμόρφωσης περιγράμματος".
"Software" for electronic devices, even when residing in an electronic device or system, enabling such devices or systems to function as a "numerical control" unit, capable of co-ordinating simultaneously more than four axes for "contouring control".
Σημείωση 1: Στο σημείο 2D002 δεν υπάγεται το "λογισμικό" που είναι ειδικά σχεδιασμένο ή τροποποιημένο για τη λειτουργία εργαλειομηχανών που δεν προσδιορίζονται στην κατηγορία 2.
Note 1: 2D002 does not control "software" specially designed or modified for the operation of machine tools not specified in Category 2.
Σημείωση 2: Στο σημείο 2D002 δεν υπάγεται το" λογισμικό" για είδη που προσδιορίζονται στο 2Β002.
Note 2: 2D002 does not control "software" for items specified in 2B002.
Για τον έλεγχο του "λογισμικού" για τα είδη του σημείου 2Β002, βλ. σημείο 2D001.
See 2D001 for control of "software" for items specified in 2B002.
"Λογισμικό", ειδικά σχεδιασμένο ή τροποποιημένο για τη "χρήση" του εξοπλισμού που προσδιορίζεται στις παραγράφους 2Β104, 2Β105, 2Β109, 2Β116, 2Β117 ή 2Β119 έως 2Β122.
"Software" specially designed or modified for the "use" of equipment specified in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 or 2B119 to 2B122.
ΣΗΜΕΙΩΣΗ: ΒΛΕΠΕ ΕΠΙΣΗΣ 9D004.
N.B.: SEE ALSO 9D004.
"Λογισμικό", ειδικά σχεδιασμένο για τη "χρήση" του εξοπλισμού που προσδιορίζεται στις παραγράφους 2Β204, 2Β206, 2Β207, 2Β209, 2Β219 ή 2Β227.
"Software" specially designed for the "use" of equipment specified in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 or 2B227.
"Λογισμικό" ειδικά σχεδιασμένο ή τροποποιημένο για την "ανάπτυξη", "παραγωγή" ή "χρήση" εξοπλισμού που προσδιορίζεται στη παράγραφο 2Β201.
"Software" specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment specified in 2B201.
"Τεχνολογία" κατά την έννοια των Παρατηρήσεων Γενικής Τεχνολογίας για την «ανάπτυξη» του εξοπλισμού ή "λογισμικού" που προσδιορίζεται [Μ] στις υποκατηγορίες 2Α, 2Β ή 2D.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of equipment or "software" specified in 2A, 2B or 2D.
"Τεχνολογία" κατά την έννοια των Παρατηρήσεων Γενικής Τεχνολογίας για την "παραγωγή" του εξοπλισμού που προσδιορίζεται στις υποκατηγορίες 2Α ή 2Β.
"Technology" according to the General Technology Note for the "production"of equipment specified in 2A or 2B.
"Τεχνολογία" για την ανάπτυξη διαλογικών γραφικών (υπολογιστή) ως αναπόσπαστου μέρους μονάδων "ψηφιακού ελέγχου" για την προετοιμασία ή την τροποποίηση υπορουτινών προγράμματος.
"Technology" for the "development" of interactive graphics as an integrated part in "numerical control" units for preparation or modification of part programmes;
"Τεχνολογία" για διεργασίες μεταλλουργικής βιομηχανικής παραγωγής, ως εξής:
"Technology" for metal-working manufacturing processes, as follows:
"Τεχνολογία" για το σχεδιασμό εργαλείων, μητρών ή διατάξεων συγκράτησης ειδικά για τις ακόλουθες διεργασίες:
"Technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
"Μορφοποίηση σε υπερπλαστική κατάσταση",
"Superplastic forming";
"Συγκόλληση με διάχυση", ή
"Diffusion bonding"; or
"Υδραυλική συμπίεση άμεσης επενέργειας".
"Direct-acting hydraulic pressing";
Τεχνικά δεδομένα, τα οποία συνίστανται από τις τεχνικές ή παραμέτρους διεργασίας που απαριθμούνται παρακάτω και χρησιμοποιούνται για τον έλεγχο:
Technical data consisting of process methods or parameters as listed below used to control:
Της "μορφοποίησης σε υπερπλαστική κατάσταση" κραμάτων αργιλίου, κραμάτων τιτανίου ή "υπερκραμάτων":
"Superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
Προετοιμασία επιφανειών,
Surface preparation;
Ταχύτητα παραμόρφωσης,
Strain rate;
Θερμοκρασία,
Temperature;
Πίεση,
Pressure;
Της "συγκόλλησης με διάχυση" κραμάτων τιτανίου ή "υπερκραμάτων":
"Diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
Της "υδραυλικής συμπίεσης άμεσης ενέργειας" κραμάτων αργιλίου ή κραμάτων τιτανίου:
"Direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
Χρόνος κύκλου.
Cycle time;
Της "ισοστατικής πύκνωσης εν θερμώ" κραμάτων τιτανίου, κραμάτων αργιλίου ή "υπερκραμάτων":
"Hot isostatic densification" of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
"Τεχνολογία" για την "ανάπτυξη" ή την "παραγωγή" υδραυλικών μηχανών μορφοποίησης με επιμήκυνση και μητρών για τις μηχανές αυτές για την κατασκευή δομών αεροσκαφών (αεροσκάφη χωρίς το προωθητικό σύστημα).
"Technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
"Τεχνολογία" για την "ανάπτυξη" γεννητριών εντολών για εργαλειομηχανές (π.χ. υπορουτίνες προγράμματος) από δεδομένα σχεδιασμού, εγκατεστημένων σε μονάδες "ψηφιακού ελέγχου".
"Technology" for the "development" of generators of machine tool instructions (e.g., part programmes) from design data residing inside "numerical control" units;
Τεχνολογία για την ανάπτυξη "λογισμικού" ολοκλήρωσης με σκοπό την ενσωμάτωση στις μονάδες "ψηφιακού ελέγχου" έμπειρων συστημάτων που εξασφαλίζουν προηγμένη υποστήριξη αποφάσεων για τις εργασίες της αίθουσας παραγωγής. στ.
"Technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
"Τεχνολογία" για την εφαρμογή των ανοργάνων επιχρισμάτων επίστρωσης ή ανοργάνων επιχρισμάτων μετατροπής επιφανειών που προσδιορίζονται στην τρίτη στήλη του παρακάτω πίνακα· στα μη ηλεκτρονικά υποστρώματα που προσδιορίζονται στη δεύτερη στήλη του παρακάτω πίνακα· με τις τεχνικές που αναφέρονται στην πρώτη στήλη του παρακάτω πίνακα και ορίζονται στην Τεχνική Σημείωση.
"Technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical Note.
Σημείωση: Ο πίνακας και η Τεχνική Σημείωση εμφανίζονται μετά το σημείο 2E301.
Note: The table and Technical Note appear after entry 2E301.
"Τεχνολογία", κατά την έννοια της Γενικής Σημείωσης περί Τεχνολογίας, για τη "χρήση" του εξοπλισμού ή του "λογισμικού" που προσδιορίζεται στις παραγράφους 2Β004, 2Β009, 2Β104, 2Β109, 2Β116, 2Β119 έως 2Β122 ή 2D101.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
"Τεχνολογία", κατά την έννοια της Γενικής Σημείωσης περί Τεχνολογίας, για τη "χρήση" του εξοπλισμού ή "λογισμικού" που προσδιορίζεται στις παραγράφους ή στα εδάφια 2Α225, 2Α226, 2Β001, 2Β006, 2Β007.β., 2Β007.γ., 2Β008, 2Β009, 2Β201, 2Β204, 2Β206, 2Β207, 2Β209, 2Β225 έως 2Β232, 2D201 ή 2D202.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or"software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B232, 2D201 or 2D202.
"Τεχνολογία", κατά την έννοια της Γενικής Σημείωσης περί Τεχνολογίας, για τη "χρήση" των προϊόντων που προσδιορίζονται στις παραγράφους 2Β350 έως 2Β352.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
Τεχνικές εναπόθεσης
deposition techniques
Μέθοδος επίχρισης (1) [2]
Coating Process (1) [2]
Υπόστρωμα
Substrate
Λαμβανόμενο επίχρισμα
Resultant Coating
Εναπόθεση ατμού με χημικές μεθόδους (CVD)
Chemical Vapour Deposition (CVD)
"Υπερκράματα"
"Superalloys"
Αργιλίδια για εσωτερικά αγωγών
Aluminides for internal passages
Κεραμικά υλικά (19) και γυαλί μικρής διαστολής (14)
Ceramics (19) and Low-expansion glasses (14)
Πυριτίδια
Silicides
Καρβίδια
Carbides
Διηλεκτρικά στρώματα (15)
Dielectric layers (15)
Αδάμας
Diamond
Αδαμαντοειδής άνθρακας (17)
Diamond-like carbon (17)
"Σύνθετα υλικά" με "βάση" άνθρακα-άνθρακα, κεραμικό υλικό και μέταλλο
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix""composites"
Πυρίμαχα μέταλλα
Refractory metals
Μίγματα αυτών (4)
Mixtures thereof (4)
Αργιλίδια
Aluminides
Κραματοποιημένα αργιλίδια (2)
Alloyed aluminides (2)
Νιτρίδιο βορίου
Boron nitride
Επιστοιχειωμένο (ενανθρακωμένο) καρβίδιο βολφραμίου (16), καρβίδιο πυριτίου (18)
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
Βολφράμιο
Tungsten
Μολυβδαίνιο και Κράματα μολυβδαινίου
Molybdenum and Molybdenum alloys
Βηρύλλιο και Κράματα βηρυλλίου
Beryllium and Beryllium alloys
Υλικά παραθύρων Αισθητήρων (9)
Sensor window materials (9)
Εναπόθεση ατμού με φυσικές μεθόδους θερμικής εξάτμισης (TE-PVD)
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
Εναπόθεση ατμού με φυσικές μεθόδους (PVD): Δέσμη ηλεκτρονίων (EB-PVD)
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
Κραματοποιημένα πυριτίδια
Alloyed silicides
Τροποποιημένη ζιρκονία (12)
Modified zirconia (12)
Κεραμικά υλικά (19) και γυαλί μικρής διαστολής (14)
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
Χάλυβας ανθεκτικός στη διάβρωση (7)
Corrosion resistant steel (7)
Βορίδια
Borides
Βηρύλλιο
Beryllium
Κράματα τιτανίου (13)
Titanium alloys (13)
Νιτρίδια
Nitrides
Εναπόθεση ατμού με φυσική μέθοδο θέρμανσης με ηλεκτρική αντίσταση, υποβοηθούμενη από ιόντα (PVD) (ιοντική επιμετάλλωση)
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
Επιστοιχειωμένο (ενανθρακωμένο) καρβίδιο βολφραμίου (16), καρβίδιο πυριτίου
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
Εναπόθεση ατμού με φυσικές μεθόδους (PVD): εξάτμιση με "λέιζερ"
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
Αδαμαντοειδής άνθρακας (17)
Diamond-like carbon
Εναπόθεση ατμού με φυσικές μεθόδους (PVD): καθοδική εκκένωση τόξου
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
Πολυμερή (11) και "σύνθετα υλικά" οργανικής "βάσης"
Polymers (11) and Organic"matrix""composites"
Επιστοιχείωση (ενανθράκωση) σε στήλη (για επιστοιχείωση εκτός στήλης, βλ. Α παραπάνω (10)
Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
Πυρίμαχα μέταλλα και κράματα (8)
Refractory metals and alloys (8)
Οξείδια
Oxides
Μίγματα αυτών (4) Λειάνσιμος νικελιο-γραφίτης Λειάνσιμα υλικά
Plasma spraying
Λειάνσιμος νικελιο-γραφίτης
Abradable Nickel-Graphite
Αργιλίδια Πυριτίδια
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
Καρβίδια
Abradable Al-Si-Polyester Alloyed aluminides (2)
Χάλυβας ανθεκτικός στη διάβρωση (7)
Aluminium alloys (6)
Λειάνσιμα υλικά
Abradable materials
περιέχοντα Νi-Cr-Al
containing Ni-Cr-Al
Λειάνσιμος Al-Si-πολυεστέρας
Abradable Al-Si-Polyester
Εναπόθεση πολτού
Slurry Deposition
Συντηγμένα πυριτίδια
Fused silicides
Συντηγμένα αργιλίδια εκτός από τα στοιχεία θερμαντικών ηλεκτρικών αντιστάσεων
Fused aluminides except for resistance heating elements
Εναπόθεση καθοδικής διασκόρπισης
Sputter Deposition
Αργιλίδια τροποποιημένα με ευγενή μέταλλα (3)
Noble metal modified aluminides (3)
Λευκόχρυσος
Platinum
Κεραμικά υλικά και γυαλί μικρής διαστολής (14)
Ceramics and Low-expansion glasses (14)
Διηλεκτρικά στρώματα (15)
Dielectic layers (15)
Εμφύτευση ιόντων
Ion Implantation
Χάλυβες ανθεκτικοί σε υψηλές θερμοκρασίες
High temperature bearing steels
Προσθήκες χρωμίου, τανταλίου ή νιοβίου (κολομβίου)
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
Επιστοιχειωμένο (ενανθρακωμένο) καρβίδιο βολφραμίου (16)
Cemented tungsten carbide (16)
Πίνακας — τεχνικές εναπόθεσης - σημειώσεις
Table — Deposition techniques — Notes
Η έννοια του όρου "μέθοδος επίχρισης" περιλαμβάνει τόσο την αρχική επίχριση όσο και την επιδιόρθωση και την ανανέωση των επιχρισμάτων.
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
Η έννοια του όρου "επίχρισμα κραματοποιημένου αργιλιδίου" περιλαμβάνει τις απλές ή πολλαπλές επιχρίσεις, κατά τις οποίες ένα ή περισσότερα χημικά στοιχεία εναποτίθενται πριν από την εφαρμογή του επιχρίσματος αργιλιδίου ή κατά τη διάρκειά της, έστω και αν για την εναπόθεση των στοιχείων αυτών χρησιμοποιείται άλλη μέθοδος επίχρισης.
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
Δεν συμπεριλαμβάνεται όμως η πολλαπλή εφαρμογή μεθόδων απλής επιστοιχείωσης (ενανθράκωσης) στήλης για την επίτευξη κραματοποιημένων αργιλιδίων.
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
Η έννοια του όρου "επίχριση αργιλιδίου τροποποιημένου με ευγενή μέταλλα" περιλαμβάνει τις πολλαπλές επιχρίσεις, κατά τις οποίες το ή τα ευγενή μέταλλα εναποτίθενται με άλλη μέθοδο επίχρισης πριν από την εφαρμογή του επιχρίσματος αργιλιδίου.
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
Η έννοια του όρου "μίγματα αυτών" περιλαμβάνει διείσδυση υλικών, κλιμακωτές συνθέσεις, συνεναποθέσεις και πολυστρωματικές εναποθέσεις και λαμβάνονται με μία ή περισσότερες από τις μεθόδους επίχρισης που περιλαμβάνονται στον πίνακα.
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
Ο τύπος "ΜcrΑlX" αναφέρεται σε κράματα επίχρισης, όπου Μ είναι κοβάλτιο, σίδηρος, νικέλιο ή συνδυασμός αυτών των μετάλλων και X είναι άφνιο, ύττριο, πυρίτιο, ταντάλιο σε οποιαδήποτε ποσότητα ή άλλες σκόπιμες προσθήκες σε ποσοστό μεγαλύτερο από 0,01 % κατά βάρος σε ποικίλες αναλογίες και ποικίλους συνδυασμούς, εκτός από:
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 weight percent in various proportions and combinations, except:
τα επιχρίσματα CoCrAlY με κατά βάρος περιεκτικότητα σε χρώμιο μικρότερη από 22 %, σε αργίλιο μικρότερη από 7 % και σε ύττριο μικρότερη από 2 %,
CoCrAlY coatings which contain less than 22 weight percent of chromium, less than 7 weight percent of aluminium and less than 2 weight percent of yttrium;
τα επιχρίσματα CoCrAlY με κατά βάρος περιεκτικότητα σε χρώμιο 22-24 %, σε αργίλιο 10-12 % και σε ύττριο 0,5-0,7 %, ή
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 weight percent of chromium, 10 to 12 weight percent of aluminium and 0,5 to 0,7 weight percent of yttrium; or
τα επιχρίσματα NiCrAlY με κατά βάρος περιεκτικότητα σε χρώμιο 21-23 %, σε αργίλιο 10-12 % και σε ύττριο 0,9-1,1 %.
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 weight percent of chromium, 10 to 12 weight percent of aluminium and 0,9 to 1.1 weight percent of yttrium.
Ο όρος "κράματα αργιλίου" αναφέρεται σε κράματα με αντοχή στον εφελκυσμό 190 ΜΡa ή μεγαλύτερη, μετρώμενη στους 293 Κ (20 °C).
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Ο όρος "χάλυβας ανθεκτικός στη διάβρωση" αναφέρεται σε χάλυβες που ανταποκρίνονται στο πρότυπο AISI (American Iron and Steel Institute/Αμερικανικό Ίδρυμα Σιδήρου και χάλυβα) σειρά 300 ή σε ισότιμο εθνικό πρότυπο.
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
Ο όρος "πυρίμαχα μέταλλα και κράματα" περιλαμβάνει τα ακόλουθα μέταλλα και τα κράματά τους: νιόβιο (κολόμβιο), μολυβδαίνιο, βολφράμιο και ταντάλιο.
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
"Υλικά παραθύρων αισθητήρων", ως εξής: αλουμίνα, πυρίτιο, γερμάνιο, θειούχος ψευδάργυρος, σεληνίδιο του ψευδαργύρου, αρσενίδιο του γαλλίου, αδάμας, φωσφίδιο γαλλίου, σάπφειρος και τα ακόλουθα αλογονίδια μετάλλων: υλικά παραθύρων αισθητήρων διαμέτρου άνω των 40 mm, προκειμένου για βρωμιούχο ζιρκόνιο και φθοριούχο άφνιο.
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
Η "τεχνολογία" για την απλή επιστοιχείωση (ενανθράκωση) σε στήλη συμπαγών αεροτομών δεν περιλαμβάνεται στην κατηγορία 2.
"Technology" for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
"Πολυμερή" ως εξής: πολυϊμίδια, πολυεστέρες, πολυσουλφίδια, πολυανθρακικά πολυμερή και πολυουρεθάνες.
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
Η "τροποποιημένη ζιρκονία" αναφέρεται στο προϊόν προσθήκης στη ζιρκονία άλλων οξειδίων μετάλλων, (π.χ. ασβέστου, μαγνησίας, υττρίας, αφνίας, οξειδίων των σπανίων γαιών κ.λπ.), για τη σταθεροποίηση ορισμένων κρυσταλλογραφικών φάσεων και συνθέσεων φάσεων.
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
Τα επιχρίσματα θερμικού φράγματος από ζιρκονία που τροποποιείται με ανάμιξη ή σύντηξη με άσβεστο ή μαγνησία, δεν υπόκεινται στον έλεγχο.
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
Τα "κράματα τιτανίου" αναφέρονται μόνον στα κράματα της αεροδιαστημικής τεχνολογίας με αντοχή στον εφελκυσμό 900 MPa ή μεγαλύτερη, μετρώμενη στους 293 Κ (20 °C).
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Το "γυαλί μικρής διαστολής" αναφέρεται σε γυαλί με συντελεστή θερμικής διαστολής 1 × 10– 7 Κ– 1 ή μικρότερο, μετρώμενο στους 293 Κ (20 °C).
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10 –7 K–1 or less measured at 293 K (20 °C).
Τα "διηλεκτρικά στρώματα" είναι επιχρίσματα που συγκροτούνται από πολλαπλές επιστρώσεις μονωτικών υλικών και στα οποία οι ιδιότητες συμβολής μιας διάταξης υλικών με διάφορους δείκτες διαθλάσεως, χρησιμοποιούνται για την ανάκλαση, τη μετάδοση ή την απορρόφηση διαφόρων ζωνών μήκους κύματος.
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
Τα διηλεκτρικά στρώματα αναφέρονται σε περισσότερες από τέσσερις διηλεκτρικές επιστρώσεις ή "σύνθετες" επιστρώσεις διηλεκτρικού υλικού/μετάλλου.
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
Στα "επιστοιχειωμένα καρβίδια του βολφραμίου" δεν περιλαμβάνονται τα υλικά κοπτικών εργαλείων και εργαλείων μορφοποίησης από καρβίδιο του βολφραμίου/(κοβάλτιο, νικέλιο), καρβίδιο του τιτανίου/(κοβάλτιο, νικέλιο), καρβίδιο του χρωμίου/νικελιο-χρώμιο και καρβίδιο του χρωμίου/νικέλιο.
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/ (cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
Δεν ελέγχεται η "τεχνολογία" που έχει ειδικά σχεδιαστεί για την εναπόθεση αδαμαντοειδούς άνθρακα στα ακόλουθα:
"Technology" specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
οδηγοί και κεφαλές μαγνητικών δίσκων, εξοπλισμός για την κατασκευή ειδών μιας χρήσης, εξοπλισμός αρτοποιίας, βαλβίδες στροφίγγων, ακουστικά διαφράγματα μεγαφώνων, εξαρτήματα κινητήρων αυτοκινήτων, κοπτικά εργαλεία, διατμητικές και κοιλαντικές μήτρες, εξοπλισμός πληρογραφικής, μικρόφωνα ή ιατροτεχνολογικά βοηθήματα, ή καλούπια, για τη χύτευση ή το καλούπωμα πλαστικών, κατασκευασμένα από κράματα με περιεκτικότητα σε βερύλλιο κάτω του 5 %.
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
Το "καρβίδιο του πυριτίου" δεν περιλαμβάνει τα υλικά κοπτικών εργαλείων και εργαλείων μορφοποίησης.
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
Ο όρος "κεραμικά υποστρώματα", όπως χρησιμοποιείται στο σημείο αυτό, δεν περιλαμβάνει τα κεραμικά υλικά με περιεκτικότητα τουλάχιστον 5 % σε άργιλο ή τσιμέντο, είτε χωριστά είτε σε συνδυασμό.
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
Οι ορισμοί των μεθόδων που καθορίζονται στη στήλη 1 του πίνακα είναι οι εξής:
Processes specified in Column 1 of the Table are defined as follows:
Εναπόθεση ατμού με χημικές μεθόδους (CVD) είναι τεχνική επίχρισης με επίστρωση ή με μετατροπή επιφανειών, κατά την οποία ένα μέταλλο, κράμα, "σύνθετο υλικό", διηλεκτρικό υλικό ή κεραμικό υλικό εναποτίθεται σε θερμαινόμενο υπόστρωμα.
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
Τα αέρια αντιδρώντα στρώματα διασπώνται ή ενώνονται κοντά στο υπόστρωμα, με αποτέλεσμα την εναπόθεση σ’ αυτό του επιθυμητού υλικού — χημικού στοιχείου, κράματος ή ένωσης.
Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate.
Η απαιτούμενη ενέργεια για την παραπάνω διεργασία διάσπασης ή χημικής αντίδρασης παρέχεται από τη θερμότητα του υποστρώματος, από πλάσμα εκκένωσης αίγλης ή με ακτινοβόληση με "λέιζερ".
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
Σημ. 1: Στην τεχνική CVD περιλαμβάνονται οι ακόλουθες μέθοδοι: εναπόθεση εκτός στήλης με κατευθυνόμενη ροή αερίου, παλμική CVD, θερμική εναπόθεση με ελεγχόμενο πυρήνα αντιδράσεως (CNTD), CVD βελτιωμένη ή υποβοηθούμενη από πλάσμα.
1 CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
Σημ. 2: Ο όρος "στήλη" σημαίνει ότι το υπόστρωμα είναι βυθισμένο σε μίγμα κόνεων.
2 Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
Σημ. 3: Τα αέρια αντιδρώντα σώματα που χρησιμοποιούνται στην τεχνική εκτός στήλης σχηματίζονται με τις ίδιες βασικές αντιδράσεις και παραμέτρους όπως και στην τεχνική επιστοιχείωσης (ενανθράκωσης) σε στήλη, εκτός από το ότι το προς επίχριση υπόστρωμα δεν έρχεται σε επαφή με το μίγμα κόνεων.
3 The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
Εναπόθεση ατμών με φυσικές μεθόδους θερμικής εξάτμισης (ΤΕ-PVD) είναι τεχνική επίχρισης με επίστρωση, η οποία πραγματοποιείται σε θάλαμο κενού με πίεση μικρότερη από 0,1 Pa και κατά την οποία χρησιμοποιείται πηγή θερμικής ενέργειας για την εξάτμιση του επιχριστικού υλικού.
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material.
Η διεργασία αυτή έχει ως αποτέλεσμα τη συμπύκνωση ή την εναπόθεση των εξατμισμένων σωματιδίων σε καταλλήλως τοποθετημένα υποστρώματα.
This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates.