natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Radial forskydning" og "aksial forskydning" af spindlen mindre (bedre) end 0,0004 mm total indikatorudslag (TIR) og
Calcium having both of the following characteristics:
b. Vinkelforskydning i slædebevægelsen (giring, hældning og rulning) mindre (bedre) end 2 buesekunder, total indikatorudslag (TIR) over 300 mm vandring
a.
c. Værktøjsmaskiner til fræsning med en eller flere af følgende:
Containing less than 1000 ppm by weight of metallic impurities other than magnesium; and
a.
Containing less than 10 ppm by weight of boron.
"Envejs positioneringsrepeterbarhed", som er lig med eller mindre (bedre) end 1,1 μm langs en eller flere lineære akser og
Magnesium having both of the following characteristics:
b. Tre eller fire akser, der kan koordineres samtidigt til "profilstyring" eller
a.
Fem eller flere akser, der kan koordineres samtidigt til "profilstyring" og har en eller flere af følgende egenskaber:
Containing less than 200 ppm by weight of metallic impurities other than calcium; and
"Envejs positioneringsrepeterbarhed", som er lig med eller mindre (bedre) end 1,1 μm langs en eller flere lineære akser med en vandringslængde på under 1 m
a.
c.
A purity of 99,99 % or greater by weight; and
"Envejs positioneringsrepeterbarhed", som er lig med eller mindre (bedre) end 6,0 μm langs en eller flere lineære akser med en vandringslængde lig med eller større end 4 m
b.
2B001.c lægger ikke eksportkontrol på følgende slibemaskiner:
Containing less than 10 ppm by weight of silver.
Cylindriske, udvendige, indvendige og udvendigt-indvendige slibemaskiner med samtlige følgende egenskaber:
Beryllium metal, alloys containing more than 50 % beryllium by weight, beryllium compounds, manufactures thereof, and waste or scrap of any of the foregoing, other than that specified in the Military Goods Controls.
Kun til cylindrisk slibning og
1C230 does not control the following:
Kun til en maksimal udvendig diameter eller længde af emnet på 150 mm
Metal windows for X-ray machines, or for bore-hole logging devices;
Maskiner, der er specielt konstrueret som koordinatslibemaskiner, der ikke har en z-akse eller en w-akse, med en "envejs positioneringsrepeterbarhed", som er mindre (bedre) end 1,1 μm
Oxide shapes in fabricated or semi-fabricated forms specially designed for electronic component parts or as substrates for electronic circuits;
Overfladeslibemaskiner.
Beryl (silicate of beryllium and aluminium) in the form of emeralds or aquamarines.
d. Elektriske udladningsmaskiner (EDM) af typen uden tråd, som har to eller flere omdrejningsakser, der kan koordineres samtidigt til "profilstyring"
Hafnium metal, alloys containing more than 60 % hafnium by weight, hafnium compounds containing more than 60 % hafnium by weight, manufactures thereof, and waste or scrap of any of the foregoing.
e. Værktøjsmaskiner til at fjerne metaller, keramiske materialer eller "kompositter" med samtlige følgende egenskaber:
Helium-3 (3He), mixtures containing helium-3, and products or devices containing any of the foregoing.
Fjerner materiale ved hjælp af en af følgende metoder:
1C232 does not control a product or device containing less than 1 g of helium-3.
a. Vand eller andre stråler af flydende materiale, inklusive anvendelse af slibende tilsætningsstoffer
Lithium enriched in the lithium-6 (6Li) isotope to greater than its natural isotopic abundance, and products or devices containing enriched lithium, as follows: elemental lithium, alloys, compounds, mixtures containing lithium, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing.
b. Elektronstråle eller
1C233 does not control thermoluminescent dosimeters.
c.
The natural isotopic abundance of lithium-6 is approximately 6,5 weight per cent (7,5 atom per cent).
"Laser"stråle og
Zirconium with a hafnium content of less than 1 part hafnium to 500 parts zirconium by weight, as follows: metal, alloys containing more than 50 % zirconium by weight, compounds, manufactures thereof, waste or scrap of any of the foregoing, other than those specified in 0A001.f.
Mindst to omdrejningsakser med samtlige følgende egenskaber:
1C234 does not control zirconium in the form of foil having a thickness of 0,10 mm or less.
a. Kan koordineres samtidigt til "profilstyring" og
Tritium, tritium compounds, mixtures containing tritium in which the ratio of tritium to hydrogen atoms exceeds 1 part in 1000, and products or devices containing any of the foregoing.
b. En "positioneringsnøjagtighed" på mindre (bedre) end 0,003o
1C235 does not control a product or device containing less than 1,48 × 103 GBq (40 Ci) of tritium.
f. Maskiner til dybdeboring og drejemaskiner, der er modificeret til dybdeboring med en maksimal boredybdekapacitet på mere end 5 m.
'Radionuclides' appropriate for making neutron sources based on alpha-n reaction, other than those specified in 0C001 and 1C012.a., in the following forms:
Numerisk styrede værktøjsmaskiner til optisk finbearbejdning, som er udstyret med henblik på selektiv materialeaftagning til fremstilling af ikkesfæriske optiske overflader, der har samtlige følgende kendetegn:
a.
a. De finbearbejder formen til mindre (bedre) end 1,0 μm
Elemental;
b. De finbearbejder til en ruhed, der er mindre (bedre) end 100 nm (rms)
b.
c. Fire eller flere akser, der kan koordineres samtidigt til "profilstyring" og
Compounds having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
d. De anvender en af følgende processer:
c.
Magnetreologisk finbearbejdning ('MRF')
Mixtures having a total activity of 37 GBq/kg (1 Ci/kg) or greater;
Elektroreologisk finbearbejdning ('ERF')
d.
'Finbearbejdning med energisk partikelstråle'
Products or devices containing any of the foregoing.
'Finbearbejdning med oppustelig membran' eller
1C236 does not control a product or device containing less than 3,7 GBq (100 millicuries) of activity.
'Finbearbejdning med væskestråle'.
In 1C236 'radionuclides' are any of the following:
I forbindelse med 2B002 er
Actinium-225 (225Ac)
'MRF' en materialeaftagningsproces, der anvender en slibende magnetisk væske, hvis viskositet styres af et magnetfelt.
Actinium-227 (227Ac)
'ERF' er en aftagningsproces, der anvender en slibende væske, hvis viskositet styres af et elektrisk felt.
Californium-253 (253Cf)
'Finbearbejdning med energisk partikelstråle' anvender reaktive atomplasmaer (RAP) eller ionstråler til selektiv aftagning af materiale.
Curium-240 (240Cm)
'Finbearbejdning med oppustelig membran' er en proces, hvor der anvendes en membran under tryk, der deformeres for at opnå kontakt med emnet i et lille område.
Curium-241 (241Cm)
'Finbearbejdning med væskestråle' anvender en stråle af væske med henblik på materialeaftagning.
Curium-242 (242Cm)
"Numerisk styrede" eller manuelle værktøjsmaskiner, samt specielt konstruerede komponenter, styringer og tilbehør hertil, der er specielt konstrueret til at høvle, færdigbehandle, slibe eller polere hærdede (Rc=40 eller mere) cylindriske, heliske og dobbelt heliske tandhjul med en delediameter på mere end 1250 mm og en tandbredde på 15 % eller mere af delediameteren, bearbejdet til en kvalitet som AGMA 14 eller bedre (svarende til ISO 1328 class 3).
Curium-243 (243Cm)
Varme "isostatiske presser" med samtlige af følgende egenskaber samt specielt konstruerede komponenter og tilbehør hertil:
Curium-244 (244Cm)
JF.
Einsteinium-253 (253Es)
LIGELEDES 2B104 og 2B204.
Einsteinium-254 (254Es)
a. Et styret termisk miljø inde i det lukkede kammer, og med et trykkammer med en indvendig diameter på mindst 406 mm og
Gadolinium-148 (148Gd)
b. En eller flere af følgende egenskaber:
Plutonium-236 (236Pu)
Maksimalt arbejdstryk på mere end 207 MPa
Plutonium-238 (238Pu)
Styret termisk miljø på mere end 1773 K (1500 °C) eller
Polonium-208 (208Po)
Indrettet til hydrocarbonimprægnering og fjernelse af de resulterende luftformige nedbrydningsprodukter.
Polonium-209 (209Po)
Den indvendige kammerdimension er dimensionen på det kammer, hvor både arbejdstemperaturen og arbejdstrykket opnås, og indbefatter ikke opspændingsmidler.
Polonium-210 (210Po)
Dimensionen skal være den mindste af enten trykkammerets indvendige diameter eller det isolerede ovnkammers indvendige diameter, afhængigt af hvilket af de to kamre der befinder sig inden i det andet.
Radium-223 (223Ra)
For så vidt angår specielt konstruerede matricer, forme og redskaber, se 1B003, 9B009 og kontrolbestemmelserne for produkter til militære formål.
Thorium-227 (227Th)
Følgende udstyr, der er specielt konstrueret til udfældning, behandling og styring under behandlingen af uorganiske belægninger, coatings og overflademodifikationer for substrater, der er specificeret i kolonne 2, ved processer, der er vist i kolonne 1 i tabellen efter 2E003.f, samt specielt konstruerede komponenter hertil til automatisk håndtering, anbringelse, manipulering og styring:
Thorium-228 (228Th)
a. Kemisk dampudfældnings-(CVD)-produktionsudstyr med samtlige følgende egenskaber:
Uranium-230 (230U)
JF.
Uranium-232 (232U)
LIGELEDES 2B105.
Radium-226 (226Ra), radium-226 alloys, radium-226 compounds, mixtures containing radium-226, manufactures thereof, and products or devices containing any of the foregoing.
En proces modificeret til en af følgende:
1C237 does not control the following:
a. Pulserende CVD
Medical applicators;
b. Styret nukleær, termisk nedbrydning (CNTD) eller
A product or device containing less than 0,37 GBq (10 millicuries) of radium-226.
c. Plasmaforstærket eller plasmaassisteret CVD og
Chlorine trifluoride (ClF3).
a. Omfattende højvakuum (højst 0,01 Pa), roterende pakninger eller
High explosives, other than those specified in the Military Goods Controls, or substances or mixtures containing more than 2 % by weight thereof, with a crystal density greater than 1,8 g/cm3 and having a detonation velocity greater than 8000 m/s.
b. Omfatter in situ-styring af belægningstykkelsen
Nickel powder and porous nickel metal, other than those specified in 0C005, as follows:
b. Ionimplanteringsproduktionsudstyr med strålestrømme på mindst 5 mA
a.
c. Produktionsudstyr med fysisk dampudfældning med elektronstråle (EB-PVD), med kraftforsyning med en ydelse på mere end 80 kW, og som har en af følgende:
Nickel powder having both of the following characteristics:
Et "laser"styresystem til det flydende bads niveau, som nøjagtigt regulerer tilførselshastigheden af barrer eller
A nickel purity content of 99,0 % or greater by weight; and
En computerstyret hastighedsovervågning, der virker ved princippet om de ioniserede atomers fotoluminans i den fordampende stråle til styring af udfældningshastigheden ved coating, der indeholder to eller flere grundstoffer
A mean particle size of less than 10 μm measured by American Society for Testing and Materials (ASTM) B330 standard;
d. Plasmasprøjtningsproduktionsudstyr med en af følgende egenskaber:
b.
Drift ved en atmosfære, der har begrænset tryk (højst 10 kPa målt over og inden for 300 mm fra pistolens dyseåbning) i et vakuumkammer, der er i stand til at sættes under et vakuum på ned til 0,01 Pa før sprøjteprocessen eller
Porous nickel metal produced from materials specified in 1C240.a.
Omfatter in situ-styring af belægningstykkelsen
1C240 does not control the following:
e. Sputter belægningsproduktionsudstyr, der kan operere med strømtætheder på mindst 0,1 mA/mm2 ved en belægningshastighed på mindst 15 μm/h
Filamentary nickel powders;
f. Produktionsudstyr til katodebuebelægning, der indbefatter et net af elektromagneter til styring af buepletten på katoden
Single porous nickel sheets with an area of 1000 cm2 per sheet or less.
g. Produktionsudstyr til ionplettering, der er i stand til at foretage in situ-måling af en af følgende egenskaber:
1C240.b. refers to porous metal formed by compacting and sintering the materials in 1C240.a. to form a metal material with fine pores interconnected throughout the structure.
Belægningstykkelsen på substratet og hastighedsstyring eller
Rhenium, and alloys containing 90 % by weight or more rhenium; and alloys of rhenium and tungsten containing 90 % by weight or more of any combination of rhenium and tungsten, other than those specified in 1C226, having both of the following characteristics:
Optiske egenskaber.
a.
2B005 lægger ikke eksportkontrol på udstyr til kemisk dampudfældning, katodebuebelægning, sputter belægning, ionplettering eller ionimplantering, der er specielt konstrueret til skære- eller værktøjsmaskiner.
In forms with a hollow cylindrical symmetry (including cylinder segments) with an inside diameter between 100 and 300 mm; and
Følgende dimensionsinspektions- eller målesystemer, udstyr, enheder med positionsfeedback og "elektroniske samlinger":
Chemicals, which may be used as precursors for toxic chemical agents, as follows, and "chemical mixtures" containing one or more thereof:
a. Computerstyrede eller "numerisk styrede" koordinatmålingsmaskiner (CMM) med en tredimensional (volumetrisk) maksimal fejlvisningsmargen ved længdemåling (E0,MPE) i et givet punkt inden for maskinens driftsområde (dvs. inden for aksernes længde) lig med eller mindre (bedre) end (1,7 + L/1 000) μm (L er den målte længde i mm) afprøvet efter ISO 10360-2:2009
SEE ALSO MILITARY GOODS CONTROLS AND 1C450.
E0,MPE for den mest nøjagtige opsætning af CMM som opgivet af producenten (dvs. det bedste af følgende: sonde, stiftlængde, bevægelsesparametre, omgivelser) og med "alle disponible kompensationer" sammenholdes med tærsklen på 1,7 + L/1 000 μm.
Thiodiglycol (111-48-8);
JF.
Phosphorus oxychloride (10025-87-3);
LIGELEDES 2B206.
Dimethyl methylphosphonate (756-79-6);
b. Følgende måleinstrumenter eller-systemer til lineær forskydning, enheder med lineær positionsfeedback og "elektroniske samlinger":
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Methyl phosphonyl difluoride (676-99-3);
Interferometersystemer og optiske enkodermålesystemer, som indeholder en "laser", er kun specificeret i 2B006.b.3 og 2B206.c.
Methyl phosphonyl dichloride (676-97-1);
'Kontaktfrie målesystemer' med en "opløsning", der er lig med eller mindre (bedre) end 0,2 μm med et måleområde op til 0,2 mm
Dimethyl phosphite (DMP) (868-85-9);
Med henblik på 2B006.b.1. er 'kontaktfrie målesystemer' konstrureret til at måle afstanden mellem proben og den målte genstand langs en enkelt vektor, hvor proben eller den målte genstand er i bevægelse.
Phosphorus trichloride (7719-12-2);
Enheder med lineær positionsfeedback, der er specielt konstrueret til værktøjsmaskiner og har en total "nøjagtighed" på mindre (bedre) end (800 + (600 × L/1000)) nm (L = den effektive længde i mm)
Trimethyl phosphite (TMP) (121-45-9);
Målesystemer med samtlige følgende egenskaber:
Thionyl chloride (7719-09-7);
a. Indeholder en "laser"
3-Hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);
b.
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethyl chloride (96-79-7);
"Opløsning" over deres fulde skala på 0,200 nm eller mindre (bedre) og
N,N-Diisopropyl-(beta)-aminoethane thiol (5842-07-9);
c. I stand til at opnå en "måleusikkerhed" - når der er taget højde for luftbrydningsindeks, og målingen er foretaget i 30 sekunder ved en temperatur på 20±0,01 °C - der er lig med eller mindre (bedre) end (1,6 + L/2 000) nm (L er den målte længde i mm) i et givet punkt inden for måleområdet eller
3-Quinuclidinol (1619-34-7);
"Elektroniske samlinger", der er specielt konstrueret til at give feedbackkapacitet i systemer specificeret i 2B006.b.3.
Potassium fluoride (7789-23-3);
c. Feedback-enheder til vinkelposition, der er specielt konstrueret til værktøjsmaskiner, eller instrumenter til måling af vinkelforskydning med en "vinkelstillingsnøjagtighed" lig med eller mindre (bedre) end 0,9 buesekunder
2-Chloroethanol (107-07-3);
2B006.c. lægger ikke eksportkontrol på måleinterferometersystemer, der har et automatisk kontrolsystem konstrueret til at anvende teknikker uden feedback, og som indeholder en "laser" til måling af værktøjsmaskiners, dimensionsinspektionsmaskiners eller lignende udstyrs slædebevægelsesfejl.
Dimethylamine (124-40-3);
d. Udstyr til måling af overfladeruhed (inklusive overfladefejl) ved måling af optisk spredning med en følsomhed på 0,5 nm eller mindre (bedre)
Diethyl ethylphosphonate (78-38-6);
2B006 omfatter værktøjsmaskiner ud over dem, der er specificeret i 2B001, som kan bruges som målemaskiner, hvis de opfylder eller overgår de kriterier, der er specificeret for målemaskinfunktionen.
Diethyl N,N-dimethylphosphoramidate (2404-03-7);
"Robotter" med en eller flere af følgende egenskaber samt specielt konstruerede styringer og "effektorer" hertil:
Diethyl phosphite (762-04-9);
JF.
Dimethylamine hydrochloride (506-59-2);
LIGELEDES 2B207.
Ethyl phosphinyl dichloride (1498-40-4);
b. Specielt konstrueret til at opfylde nationale sikkerhedsstandarder gældende for miljøer med potentielt eksplosivt materiel
Ethyl phosphonyl dichloride (1066-50-8);
2B007.b lægger ikke eksportkontrol på "robotter", der er specielt konstrueret til sprøjtemalingskabiner.
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for Ethyl phosphonyl difluoride (753-98-0);
c. Specielt konstrueret eller normeret som strålingshærdede til at modstå en samlet strålingsdosis på mere end 5 × 103 Gy (silicium) uden driftsforringelse eller
Hydrogen fluoride (7664-39-3);
Udtrykket Gy (silicium) betegner den mængde energi i joule pr. kilo, der absorberes af en uafskærmet siliciumprøve, når den udsættes for ioniserende stråling.
Methyl benzilate (76-89-1);
d. Specielt konstrueret til at arbejde i højder over 30000 m
Methyl phosphinyl dichloride (676-83-5);
Følgende 'kombinerede drejeborde' og "vippespindler", der er specielt konstrueret til værktøjsmaskiner:
N,N-Diisopropyl-(beta)-amino ethanol (96-80-0);
c.
Pinacolyl alcohol (464-07-3);
'Kombinerede drejeborde' med samtlige følgende egenskaber:
SEE MILITARY GOODS CONTROLS for O-Ethyl O-2-diisopropylaminoethyl methylphosphonite (QL) (57856-11-8);
Konstrueret til værktøjsmaskiner til drejning, fræsning og slibning og
Triethyl phosphite (122-52-1);
To omdrejningsakser, der er konstrueret til at koordineres samtidigt til "profilstyring"
Arsenic trichloride (7784-34-1);
Et 'kombineret drejebord' er et border, der gør det muligt at dreje og vippe arbejdsemnet om to ikke-parallelle akser
Benzilic acid (76-93-7);
d.
Diethyl methylphosphonite (15715-41-0);
"Vippespindler" med samtlige følgende egenskaber:
Dimethyl ethylphosphonate (6163-75-3);
Konstrueret til at koordineres samtidigt til "profilstyring".
Ethyl phosphinyl difluoride (430-78-4);
Maskiner til rotationsformning (spin forming) og flydeformning, som efter producentens tekniske specifikationer kan udstyres med "numeriske styrings"-enheder eller computerstyring med samtlige følgende egenskaber:
Methyl phosphinyl difluoride (753-59-3);
JF.
3-Quinuclidone (3731-38-2);
LIGELEDES 2B109 OG 2B209.
Phosphorus pentachloride (10026-13-8);
a. Tre eller flere akser, der kan koordineres samtidigt til "profilstyring" og
Pinacolone (75-97-8);
b. En valsekraft på mere end 60 kN.
Potassium cyanide (151-50-8);
For så vidt angår 2B009 anses maskiner, der har kombineret rotations- og flydeformningsfunktion, for at være flydeformningsmaskiner.
Potassium bifluoride (7789-29-9);
"Isostatiske presser" ud over dem, der er specificeret i 2B004, med samtlige følgende egenskaber:
Ammonium hydrogen fluoride or ammonium bifluoride (1341-49-7);
JF.
Sodium fluoride (7681-49-4);
LIGELEDES 2B204.
Sodium bifluoride (1333-83-1);
a. Maksimalt arbejdstryk på 69 MPa eller derover
Sodium cyanide (143-33-9);
b. Konstrueret til at opnå og vedligeholde et kontrolleret termisk miljø på 873 K (600 °C) eller derover og
Triethanolamine (102-71-6);
c. Har et kammer med en indvendig diameter på 254 mm eller derover.
Phosphorus pentasulphide (1314-80-3);
Ovne til kemisk dampudfældning (CVD) ud over dem, der er specificeret i 2B005.a, som er konstrueret eller modificeret til densifikation af carboncarbonkompositter.
Di-isopropylamine (108-18-9);
Flydeformningsmaskiner ud over dem, der er specificeret i eksportkontrol iflg. 2B009, som kan benyttes til produktion af fremdrivningskomponenter og udstyr (f.eks. motorhuse og mellemtrin) til "missiler", samt følgende specielt konstruerede komponenter:
Diethylaminoethanol (100-37-8);
JF.
Sodium sulphide (1313-82-2);
LIGELEDES 2B209.
Sulphur monochloride (10025-67-9);
a. Flydeformningsmaskiner med samtlige følgende egenskaber:
Sulphur dichloride (10545-99-0);
Udstyret med eller, følge producentens tekniske specifikation, mulig at udstyres med "numeriske styrings"-enheder eller computerstyring og
Triethanolamine hydrochloride (637-39-8);
Flere end 2 akser, som kan koordineres samtidigt til "profilstyring".
N,N-Diisopropyl-(Beta)-aminoethyl chloride hydrochloride (4261-68-1);
b. Specielt konstruerede komponenter til flydeformningsmaskiner, der er specificeret i 2B009 eller 2B109.a.
Methylphosphonic acid (993-13-5);
Maskiner, der har kombineret rotations- og flydeformningsfunktion, anses for så vidt angår 2B109 for at være flydeformningsmaskiner.
Diethyl methylphosphonate (683-08-9);
Følgende vibrationsprøvesystemer og udstyr og komponenter hertil:
N,N-Dimethylaminophosphoryl dichloride (677-43-0);
a. Vibrationsprøvesystemer, som bruger teknikker med feedback eller lukket sløjfe og indeholder en digital styreenhed, og som er i stand til at vibrere et system ved en acceleration lig med eller større end 10 g rms (eff.) mellem 20 Hz og 2 kHz, mens der afsættes kræfter lig med eller større end 50 kN, målt på 'tomt vibrationsbord'
Triisopropyl phosphite (116-17-6);
b. Digitale styreenheder, kombineret med specielt konstrueret vibrationsprøvesoftware, med en 'realtidsstyringsbåndbredde' på over 5 kHz og konstrueret til brug sammen med vibrationsprøvesystemer som specificeret i 2B116.a
Ethyldiethanolamine (139-87-7);
I 2B116.b forstås ved 'realtidsstyringsbåndbredde' det maksimale tempo, hvori en styreenhed kan gennemføre fuldstændige samplingcyklusser, hvor der behandles data og sendes kontrolsignaler.
O,O-Diethyl phosphorothioate (2465-65-8);
c. Vibrationsgeneratorer (rysteenheder) med eller uden forstærkere, som kan afsætte kræfter lig med eller større end 50 kN, målt på 'tomt vibrationsbord', og som kan bruges i vibrationsprøvesystemer som specificeret i 2B116.a
O,O-Diethyl phosphorodithioate (298-06-6);
d. Strukturer til opspænding af prøveemner og elektroniske enheder, som er konstrueret til at kombinere flere rysteenheder til et system, der kan yde en samlet effektiv kraft lig med eller større end 50 kN, målt på 'tomt vibrationsbord', og som kan bruges i vibrationsprøvesystemer som specificeret i 2B116.a.
Sodium hexafluorosilicate (16893-85-9);
I 2B116 forstås ved 'tomt vibrationsbord' et plant bord eller en plan flade uden nogen form for stativ eller beslag.
Methylphosphonothioic dichloride (676-98-2);
Udstyr og processtyring ud over det, der er specificeret i 2B004, 2B005.a., 2B104 eller 2B105, konstrueret eller modificeret til densifikation og pyrolyse af strukturelle, kompositte raketdyser og næser til reentry vehicles.
Diethylamine (109-89-7);
Følgende afbalanceringsmaskiner samt tilhørende udstyr:
N,N-Diisopropylaminoethanethiol hydrochloride (41480-75-5).
JF.
For exports to "States not Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57, 63 and .65 in which no individually specified chemical constitutes more than 10 % by the weight of the mixture.
LIGELEDES 2B219.
For exports to "States Party to the Chemical Weapons Convention", 1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57, .63 and .65 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.
a. Afbalanceringsmaskiner, der har samtlige følgende egenskaber:
1C350 does not control "chemical mixtures" containing one or more of the chemicals specified in entries 1C350 .2, .6, .7, .8, .9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61, .62 and .64 in which no individually specified chemical constitutes more than 30 % by the weight of the mixture.