natgillin/translations-raw huggingface dataset:
b. Elektroniske streakkameraer med tidsopløsning bedre end 50 ns
'Peak power' = (peak potential in volts) × (peak beam current in amperes).
Elektroniske billedkameraer med en hastighed på mere end 1000000 billeder i sekundet
In machines based on microwave accelerating cavities, the time duration of the beam pulse is the lesser of 1 μs or the duration of the bunched beam packet resulting from one microwave modulator pulse.
Elektroniske kameraer med samtlige følgende egenskaber:
In machines based on microwave accelerating cavities, the peak beam current is the average current in the time duration of a bunched beam packet.
a. Elektronisk lukkerhastighed (gatingfunktion) på mindre end 1 mikrosekund pr. hele billede og
Frequency changers or generators, other than those specified in 0B001.b.13., usable as a variable or fixed frequency motor drive, having all of the following characteristics:
b. Udlæsningstid, der tillader en billedhastighed på mere end 125 hele billeder i sekundet.
"Software" specially designed to enhance or release the performance of a frequency changer or generator to meet the characteristics of 3A225 is specified in 3D225.
Plugins med samtlige følgende egenskaber:
"Technology" in the form of codes or keys to enhance or release the performance of a frequency changer or generator to meet the characteristics of 3A225 is specified in 3E225.
a. Specielt konstrueret til instrumenteringskameraer med modulær opbygning, der er specificeret i 6A003.a og
a.
b. Sætter disse kameraer i stand til at opfylde de egenskaber, der er specificeret i 6A003.a.3., 6A003.a.4. eller 6A003.a.5., i henhold til producentens specifikationer
Multiphase output providing a power of 40 VA or greater;
b. Billedkameraer som følger:
b.
6A003.b lægger ikke eksportkontrol på fjernsyns- eller videokameraer, der er specielt konstruerede til fjernsynsudsendelser.
Operating at a frequency of 600 Hz or more; and
Videokameraer, der omfatter faststofsensorer med spidsrespons i bølgelængdeområdet på mere end 10 nm, dog højst 30000 nm og med samtlige følgende egenskaber:
c.
a. En eller flere af følgende:
Frequency control better (less) than 0,2 %.
Mere end 4 × 106 "aktive pixler" pr. faststofsystem for monokrome (sort-hvide) kameraer
3A225 does not control frequency changers or generators if they have hardware, "software" or "technology" constraints that limit the performance to less than that specified above, provided they meet any of the following:
Mere end 4 × 106 "aktive pixler" pr. faststofsystem for farvekameraer med tre faststofsystemer eller
They need to be returned to the original manufacturer to make the enhancements or release the constraints;
Mere end 12 × 106 "aktive pixler" pr. faststofsystem for farvekameraer med et faststofsystem og
They require "software" as specified in 3D225 to enhance or release the performance to meet the characteristics of 3A225; or
Optiske spejle, der er specificeret i 6A004.a
They require "technology" in the form of keys or codes as specified in 3E225 to enhance or release the performance to meet the characteristics of 3A225.
Optisk kontroludstyr, der er specificeret i 6A004.d eller
Frequency changers in 3A225 are also known as converters or inverters.
Kan annotere internt frembragte 'kamerasporingsdata'
Frequency changers in 3A225 may be marketed as Generators, Electronic Test Equipment, AC Power Supplies, Variable Speed Motors Drives, Variable Speed Drives (VSDs), Variable Frequency Drives (VFDs), Adjustable Frequency Drives (AFDs), or Adjustable Speed Drives (ASDs).
I dette punkt bør digitale videokameraer vurderes ud fra det maksimale antal "aktive pixler", der bruges til at fastholde bevægelige billeder.
High-power direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.6., having both of the following characteristics:
I dette punkt forstås ved 'kamerasporingsdata' de oplysninger, der er nødvendige for at kunne fastslå kameraets sigteretning i forhold til jorden.
a.
Dette omfatter: 1) kameraets horisontale vinkel i sigteretningen i forhold til retningen af jordens magnetfelt og 2) kameraets vertikale vinkel i sigteretningen i forhold til jordens horisont.
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 100 V or greater with current output of 500 A or greater; and
Skanningkameraer og skanningkamerasystemer med samtlige følgende egenskaber:
b.
a. Spidsrespons i bølgelængdeområdet på mere end 10 nm, men ikke over 30000 nm
Current or voltage stability better than 0,1 % over a time period of 8 hours.
b. Lineære detektorsystemer med mere end 8192 elementer pr. system og
High-voltage direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.5., having both of the following characteristics:
c. Mekanisk skanning i én retning
a.
6A003.b.2. lægger ikke eksportkontrol på skanningkameraer og skanningkamerasystemer, der er specielt konstrueret til et eller flere af følgende:
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 20 kV or greater with current output of 1 A or greater; and
Industrielle eller civile fotokopieringsmaskiner
Switching devices, as follows:
Billedskannere, der er specielt konstrueret til civile, stationære applikationer til skanning på kort afstand (f.eks. gengivelse af billeder eller tekst i dokumenter, billedmateriale eller fotografier) eller
a.
Medicinsk udstyr.
Cold-cathode tubes, whether gas filled or not, operating similarly to a spark gap, having all of the following characteristics:
Billedkameraer med billedforstærkerør, der er specificeret i 6A002.a.2.a. eller 6A002.a.2.b.
Containing three or more electrodes;
Billedkameraer med "billedplansystemer", som har en eller flere af følgende egenskaber:
Anode peak voltage rating of 2,5 kV or more;
a. Omfatter "billedplansystemer", der er specificeret i 6A002.a.3.a-6A002.a.3.e.
Anode peak current rating of 100 A or more; and
b. Omfatter "billedplansystemer", der er specificeret i 6A002.a.3.f eller
Anode delay time of 10 μs or less;
c. Omfatter "billedplansystemer", der er specificeret i 6A002.a.3.g
3A228 includes gas krytron tubes and vacuum sprytron tubes.
Billedkameraer, der er specificeret i 6A003.b.4, omfatter "billedplansystemer" kombineret med tilstrækkelig "signalbehandlingselektronik", ud over det integrerede udlæsningskredsløb, til at der som et minimum kan opnås et analogt eller digitalt signaloutput, når strømmen tilsluttes.
b.
6A003.b.4.a. lægger ikke eksportkontrol på kameraer med lineært "billedplansystem" med 12 elementer eller derunder, der ikke anvender tidsforsinkelse og integration i det enkelte element, og som er konstrueret til:
Triggered spark-gaps having both of the following characteristics:
Industrielt udstyr til brug ved inspektion eller overvågning af varmestrømme i bygninger, udstyr eller industriprocesser
An anode delay time of 15 μs or less; and
Udstyr specielt konstrueret til laboratoriebrug eller
Rated for a peak current of 500 A or more;
6A003.b.4.c. lægger ikke eksportkontrol på billedkameraer med en eller flere af følgende egenskaber:
c.
En maksimal billedhastighed på 9 Hz eller derunder
Modules or assemblies with a fast switching function, other than those specified in 3A001.g. or 3A001.h., having all of the following characteristics:
Et mindste horisontalt eller vertikalt 'instantaneous-field-of-view (IFOV)' på mindst 10 mrad/pixel (milliradianer/pixel)
Anode peak voltage rating greater than 2 kV;
En linse med fast fokallængde, der ikke er konstrueret til at kunne fjernes
Anode peak current rating of 500 A or more; and
Uden display til 'direkte betragtning' og
Turn-on time of 1 μs or less.
Ikke indrettet til at vise et synligt billede af det detekterede field-of-view
High-current pulse generators as follows:
Kameraet er konstrueret til én applikationstype og til ikke at kunne modificeres af brugeren eller
a.
Kameraet er specielt konstrueret til installation i et civilt passagerkøretøj og har alle følgende egenskaber:
Detonator firing sets (initiator systems, firesets), including electronically-charged, explosively-driven and optically-driven firing sets, other than those specified in 1A007.a., designed to drive multiple controlled detonators specified in 1A007.b.;
Kameraets placering og opsætning i køretøjet har udelukkende til formål at bistå føreren med at manøvrere køretøjet sikkert
b.
Det kan kun betjenes, hvis det er installeret et af følgende steder:
Modular electrical pulse generators (pulsers) having all of the following characteristics:
Det civile passagerkøretøj, som det er beregnet til; og køretøjet vejer under 4500 kg (køretøjets bruttovægt) eller
Designed for portable, mobile, or ruggedized-use;
Et specielt konstrueret, godkendt anlæg til afprøvning af vedligeholdelse og
Capable of delivering their energy in less than 15 μs into loads of less than 40 ohms;
Det omfatter en aktiv mekanisme, der forhindrer kameraet i at fungere, når det fjernes fra det køretøj, det var beregnet til.
Having an output greater than 100 A;
'Horisontal IFOV' = horisontal field-of-view (FOV)/antallet af horisontale detektorelementer.
No dimension greater than 30 cm;
'Vertikal IFOV' = vertikal field-of-view (FOV)/antallet af vertikale detektorelementer.
Weight less than 30 kg; and
6A003.b.4.c. lægger ikke eksportkontrol på billedkameraer med en eller flere af følgende egenskaber:
Specified for use over an extended temperature range 223 K (– 50 °C) to 373 K (100 °C) or specified as suitable for aerospace applications.
Kameraet er specielt konstrueret til installation som en integrerende komponent i netsystemer eller -udstyr, der benyttes indendørs, og i kraft af sin konstruktion begrænset til en enkelt applikation, som følger:
3A229.b. includes xenon flash-lamp drivers.
Overvågning af industrielle processer, kvalitetskontrol eller analyse af materialers egenskaber
c.
Laboratorieudstyr, der er specielt konstrueret til videnskabelig forskning
Micro-firing units having all of the following characteristics:
Udstyr til opsporing af finanssvig og
No dimension greater than 35 mm;
System(er) eller udstyr, som det er bestemt til, eller
Voltage rating of equal to or greater than 1 kV; and
Et specielt konstrueret, autoriseret vedligeholdelsesanlæg, og
Capacitance of equal to or greater than 100 nF.
En aktiv mekanisme, der forhindrer kameraet i at fungere, når det fjernes fra det system/de systemer eller det udstyr, det var beregnet til
High-speed pulse generators, and 'pulse heads' therefor, having both of the following characteristics:
Kameraets placering og opsætning i køretøjet eller færgen har udelukkende til formål at bistå føreren eller operatøren med at manøvrere køretøjet eller færgen sikkert
Output voltage greater than 6 V into a resistive load of less than 55 ohms, and
Det civile passagerkøretøj, som det er beregnet til; og køretøjet vejer under 4500 kg (køretøjets bruttovægt)
b.
Den passager- og bilfærge, som det er beregnet til; og færgen har en længe overalt på 65 m eller derover eller
'Pulse transition time' less than 500 ps.
Et specielt konstrueret, godkendt anlæg til afprøvning af vedligeholdelse og
In 3A230, 'pulse transition time' is defined as the time interval between 10 % and 90 % voltage amplitude.
Det omfatter en aktiv mekanisme, der forhindrer kameraet i at fungere, når det fjernes fra det køretøj, det er beregnet til.
'Pulse heads' are impulse forming networks designed to accept a voltage step function and shape it into a variety of pulse forms that can include rectangular, triangular, step, impulse, exponential, or monocycle types.
Kameraet er konstruktionsmæssigt begrænset til en maksimal "strålingsfølsomhed" på højst 10 mA/W for bølgelængder på over 760 nm med alle følgende egenskaber:
'Pulse heads' can be an integral part of the pulse generator, they can be a plug-in module to the device or they can be an externally connected device.
En responsbegrænsende mekanisme konstrueret til ikke at fjernes eller modificeres
Neutron generator systems, including tubes, having both of the following characteristics:
En aktiv mekanisme, der forhindrer kameraet i at fungere, når den responsbegrænsende mekanisme fjernes, og
a.
Ikke er specielt konstrueret eller modificeret til undervandsbrug eller
Designed for operation without an external vacuum system; and
Uden display til 'direkte betragtning' eller elektronisk billeddisplay
b.
Ikke indrettet til at vise et synligt billede af det detekterede synsfelt
Utilizing any of the following:
"Billedplansystemet" fungerer kun, når det er installeret i det kamera, det er beregnet til, og
Electrostatic acceleration to induce a tritium-deuterium nuclear reaction; or
"Billedplansystemet" omfatter en aktiv mekanisme, der gør det definitivt ubrugeligt, når det fjernes fra det kamera, det er beregnet til
Electrostatic acceleration to induce a deuterium-deuterium nuclear reaction and capable of an output of 3 × 109 neutrons/s or greater.
Billedkameraer indeholdende faststofdetektorer som specificeret i 6A002.a.1.
Multipoint initiation systems, other than those specified in 1A007, as follows:
Optisk udstyr og komponenter som følger:
See 1A007.b. for detonators.
a. Optiske spejle (reflektorer) som følger:
b.
I 6A004.a. måles tærsklen for laserinduceret skade (Laser Induced Damage Threshold — LIDT) i overensstemmelse med ISO 21254-1:2011.
Arrangements using single or multiple detonators designed to nearly simultaneously initiate an explosive surface over an area greater than 5000 mm2 from a single firing signal with an initiation timing spread over the surface of less than 2,5 μs.
For optiske spejle, der er specielt beregnet til litografisk udstyr, se 3B001.
3A232 does not control detonators using only primary explosives, such as lead azide.
"Deformerbare spejle" med en aktiv apertur på over 10 mm og en eller flere af følgende egenskaber og specielt konstruerede komponenter hertil
Mass spectrometers, other than those specified in 0B002.g., capable of measuring ions of 230 atomic mass units or greater and having a resolution of better than 2 parts in 230, as follows, and ion sources therefor:
a. Som har samtlige følgende egenskaber:
a.
Mekanisk resonansfrekvens på 750 Hz eller derover og
Inductively coupled plasma mass spectrometers (ICP/MS);
Over 200 aktuatorer eller
b.
b. En tærskel for laserinduceret skade på et af følgende niveauer:
Glow discharge mass spectrometers (GDMS);
Over 1 kW/ cm2 ved brug af "CW-laser" eller
c.
Over 2 J/cm2 ved brug af "laser"impulser på 20 ns med gentagelseshastighed på 20 Hz
Thermal ionization mass spectrometers (TIMS);
Lette monolitiske spejle med middel "ækvivalent massefylde" på mindre end 30 kg/m2 og totalvægt på mere end 10 kg
d.
6A004.a.2. lægger ikke eksportkontrol på spejle, der er specialudformet til styring af solstråling til jordbaserede heliostatinstallationer.
Electron bombardment mass spectrometers having both of the following features:
Lette "kompositte" eller skumspejlkonstruktioner med middel "ækvivalent massefylde" på mindre end 30 kg/m2 og totalvægt på mere end 2 kg
A molecular beam inlet system that injects a collimated beam of analyte molecules into a region of the ion source where the molecules are ionized by an electron beam; and
6A004.a.3. lægger ikke eksportkontrol på spejle, der er specialudformet til styring af solstråling til jordbaserede heliostatinstallationer.
One or more 'cold traps' that can be cooled to a temperature of 193 K (– 80 °C);
Spejle, som er specielt konstrueret til borde til strålestyringsspejle som specificeret i 6A004.d.2.a., med en planhed på λ/10 eller bedre (λ = 633 nm) og med en af følgende:
e.
a. Diameter eller storakselængde på 100 mm eller derover eller
Not used;
b. Med samtlige følgende:
f.
Diameter eller storakselængde på over 50 mm, men under 100 mm og
Mass spectrometers equipped with a microfluorination ion source designed for actinides or actinide fluorides.
En tærskel for laserinduceret skade på et af følgende niveauer:
Electron bombardment mass spectrometers in 3A233.d. are also known as electron impact mass spectrometers or electron ionization mass spectrometers.
a. Over 10 kW/ cm2 ved brug af "CW-laser" eller
In 3A233.d.2., a 'cold trap' is a device that traps gas molecules by condensing or freezing them on cold surfaces.
b. Over 20 J/cm2 ved brug af "laser"impulser på 20 ns med gentagelseshastighed på 20 Hz
For the purposes of 3A233.d.2., a closed-loop gaseous helium cryogenic vacuum pump is not a 'cold trap'.
b. Optiske komponenter fremstillet af zinkselenid (ZnSe) eller zinksulfid (ZnS) med transmission i bølgelængdeområdet på mere end 3000 nm, men ikke over 25000 nm og en eller flere af følgende egenskaber:
Striplines to provide low inductance path to detonators with the following characteristics:
Over 100 cm3 volumen eller
a.
Over 80 mm i diameter eller storakse og 20 mm tykkelse (dybde)
Voltage rating greater than 2 kV; and
c.
b Inductance of less than 20 nH.
"Rumkvalificerede" komponenter til optiske systemer som følger:
Equipment for the manufacturing of semiconductor devices or materials, as follows and specially designed components and accessories therefor:
Komponenter, der er gjort lette til mindre end 20 % "ækvivalent massefylde" sammenlignet med en massiv blanket med samme blænde og tykkelse
a.
Ubehandlede substrater, substrater med overfladebelægninger (enkeltlag eller multilag, metalliske eller dielektriske, ledende, halvledende eller isolerende) eller med beskyttelsesfilm
Equipment designed for epitaxial growth as follows:
Segmenter eller samlinger af spejle konstrueret til samling i rummet til et optisk system med en samlet blænde svarende til eller større end en enkelt linse af 1 meter i diameter
Equipment capable of producing a layer of any material other than silicon with a thickness uniform to less than ± 2,5 % across a distance of 75 mm or more;
Komponenter, der er fremstillet af "kompositte" materialer med lineær termisk udvidelseskoefficient lig med eller mindre end 5 × 10– 6 i en hvilken som helst koordinatretning
3B001.a.1. includes Atomic Layer Epitaxy (ALE) equipment.
d. Optisk kontroludstyr som følger:
Metal Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) reactors designed for compound semiconductor epitaxial growth of material having two or more of the following elements: aluminium, gallium, indium, arsenic, phosphorus, antimony, or nitrogen;
Udstyr, der er specielt konstrueret til at holde overfladeværdi eller orientering af "rumkvalificerede" komponenter, som er specificeret i 6A004.c.1 eller 6A004.c.3
Molecular beam epitaxial growth equipment using gas or solid sources;
Styrings-, sporings-, stabiliserings- og resonatorindstillingsudstyr som følger:
b.
a. Borde til strålestyringsspejle konstrueret til at bære spejle med en diameter eller storakselængde på over 50 mm og med alle følgende egenskaber og specielt konstrueret elektronisk kontroludstyr hertil:
Equipment designed for ion implantation and having any of the following:
Maksimal vinkelbevægelse på ±26 mrad eller derover
Being designed and optimized to operate at a beam energy of 20 keV or more and a beam current of 10 mA or more for hydrogen, deuterium or helium implant;
Mekanisk resonansfrekvens på 500 Hz eller derover og
Direct write capability;
Vinkel"præcision" på 10 mikroradianer eller derunder (bedre)
A beam energy of 65 keV or more and a beam current of 45 mA or more for high energy oxygen implant into a heated semiconductor material "substrate"; or
b. Resonatorindstillingsudstyr med båndbredder på 100 Hz eller derover og "præcision" på 10 mikroradianer eller derunder (bedre)
Being designed and optimized to operate at a beam energy of 20 keV or more and a beam current of 10 mA or more for silicon implant into a semiconductor material "substrate" heated to 600 °C or greater;
Kardanophæng med samtlige følgende egenskaber:
d.
a. Maksimal drejning på mere end 5°
Not used;
b. Båndbredde på mindst 100 Hz
e.
c. Vinkelsigtefejl på højst 200 mikroradianer og
Automatic loading multi-chamber central wafer handling systems having all of the following:
d. En eller flere af følgende:
Interfaces for wafer input and output, to which more than two functionally different 'semiconductor process tools' specified in 3B001.a.1., 3B001.a.2., 3B001.a.3 or 3B001.b. are designed to be connected; and
Mere end 0,15 m men ikke over 1 m i diameter eller storakselængde og i stand til vinkelaccelerationer på mere end 2 radianer/s2 eller
Designed to form an integrated system in a vacuum environment for 'sequential multiple wafer processing';
Mere end 1 m i diameter eller storakselængde og i stand til vinkelaccelerationer på mere end 0,5 radian/s2
3B001.e. does not control automatic robotic wafer handling systems specially designed for parallel wafer processing.
e.
For the purpose of 3B001.e., 'semiconductor process tools' refers to modular tools that provide physical processes for semiconductor production that are functionally different, such as deposition, implant or thermal processing.
'Asfæriske optiske elementer', der har samtlige følgende egenskaber:
For the purpose of 3B001.e., 'sequential multiple wafer processing' means the capability to process each wafer in different 'semiconductor process tools', such as by transferring each wafer from one tool to a second tool and on to a third tool with the automatic loading multi-chamber central wafer handling systems.
Største optiske blændedimension større end 400 mm
f.
Overfladeujævnhed på mindre end 1 nm (rms) for samplinglængder, der er lig med eller større end 1 mm og
Lithography equipment as follows:
Den lineære termiske udvidelseskoefficients absolutte størrelse mindre end 3 × 10– 6/K ved 25 °C.
Align and expose step and repeat (direct step on wafer) or step and scan (scanner) equipment for wafer processing using photo-optical or X-ray methods and having any of the following:
Et 'asfærisk optisk element' er et hvilket som helst element, der anvendes i et optisk system, hvis billeddannelsesoverflade eller -overflader er konstrueret til at afvige fra den ideelle sfæres form.
a.
Producenter skal ikke måle overfladeujævnheden som nævnt i 6A004.e.2., medmindre det optiske element er konstrueret eller fremstillet med sigte på at overholde eller overstige kontrolparameteren.
A light source wavelength shorter than 193 nm; or
6A004.e lægger ikke eksportkontrol på 'asfæriske optiske elementer' med en eller flere af følgende egenskaber:
b.
Største optiske blændedimension på mindre end 1 m og et fokalt længde/blænde-forhold, der er lig med eller større end 4,5:1
Capable of producing a pattern with a 'Minimum Resolvable Feature size' (MRF) of 45 nm or less;
Største optiske blændedimension, der er lig med eller større end 1 m og et fokalt længde/blænde-forhold, der er lig med eller større end 7:1
The 'Minimum Resolvable Feature size' (MRF) is calculated by the following formula:
Konstrueret som Fresnel-, flueøje-, stribe-, prisme- eller diffraktive optiske elementer
an exposure light source wavelength in nm
Fremstillet af borsilikatglas med lineær termisk udvidelseskoefficient større end 2,5 × 10– 6/K ved 25 °C eller
K factor
Et optisk element til røntgen med indre spejlingskapacitet (f.eks. spejle af rørtypen).
numerical aperture
For så vidt angår 'asfæriske optiske elementer', der er specielt konstrueret til litografisk udstyr, jf. 3B001.
where the K factor = 0,35
JF.
3B001.f.2. includes:
LIGELEDES 6A205.
Micro contact printing tools
Excimer-, halvleder-, kemiske, CO-, CO2-, og 'ikkerepetitive pulserende' Nd: glass-"lasere" er kun specificeret i 6A005.d.
Nano-imprint lithography tools
'Ikkerepetitive pulserende' henviser til "lasere", der producerer enten en enkelt udgangsimpuls eller som har et tidsinterval mellem impulserne på mere end et minut.
Step and flash imprint lithography (S-FIL) tools
6A005 omfatter fiber-"lasere".
Equipment specially designed for mask making having all of the following:
Kontrolstatussen for "lasere" med frekvenskonvertering (dvs. bølgelængdeændring) på andre måder end ved at en "laser" pumper en anden "laser", fastsættes ved at anvende kontrolparametrene for både kilde "laserens" output og det frekvenskonverterede optiske output.
a.
6A005 lægger ikke eksportkontrol på "lasere" som følger:
A deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam; and
Rubin med en udgangsenergi på mindre end 20 J
A full-width half-maximum (FWHM) spot size smaller than 65 nm and an image placement less than 17 nm (mean + 3 sigma); or
Nitrogen
A second-layer overlay error of less than 23 nm (mean + 3 sigma) on the mask;