natgillin/translations-raw huggingface dataset:
"Teknologi" i henhold til "den generelle teknologinote" til "brug" af udstyr eller "software", der er nævnt i 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119-2B122 eller 2D101.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
"Teknologi" i henhold til "den generelle teknologinote" til "brug" af udstyr eller "software", der er nævnt i 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225-2B232, 2D201 eller 2D202.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or"software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B232, 2D201 or 2D202.
"Teknologi" i henhold til den generelle teknologinote vedrørende "brug" af varer, der er nævnt i 2B350-2B352.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
Skema
Table
Udfældningsteknik
deposition techniques
Belægningsproces (1) [2]
Coating Process (1) [2]
Resulterende belægning
Resultant Coating
Kemisk dampudfældning (CVD)
Chemical Vapour Deposition (CVD)
"Superlegeringer"
"Superalloys"
Aluminider til indvendige overflader
Aluminides for internal passages
Keramiske materialer (19) og glasarter med lav udvidelseskoefficient (14)
Ceramics (19) and Low-expansion glasses (14)
Silicider
Silicides
Carbider
Carbides
Dielektriske lag (15)
Dielectric layers (15)
Diamantlignende carbon (17)
Diamond-like carbon (17)
Carbon-carbon, keramiske og metal-"matrix""kompositter"
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix""composites"
Tungtsmeltelige metaller
Refractory metals
Blandinger heraf (4)
Mixtures thereof (4)
Aluminider
Aluminides
Legerede aluminider (2)
Alloyed aluminides (2)
Bornitrid
Boron nitride
Cementeret wolfram-carbid (16) Siliciumcarbid (18)
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
Molybdæn og molybdænlegeringer
Molybdenum and Molybdenum alloys
Beryllium og berylliumlegeringer
Beryllium and Beryllium alloys
Materialer til følervinduer (9)
Sensor window materials (9)
Fysisk dampudfældning ved termisk fordampning (TE-PVD)
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
Fysisk dampudfældning (PVD): Elektronstråle (EB-PVD)
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
Legerede silicider
Alloyed silicides
Modificeret zirconiumoxid (12)
Modified zirconia (12)
Keramiske materialer (19) og glasarter med lav udvidelseskoefficient (14)
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
Korrosionsbestandigt stål (7)
Corrosion resistant steel (7)
Borider
Borides
Titanlegeringer (13)
Titanium alloys (13)
Nitrider
Nitrides
Ion-assisteret modstandsopvarmning Fysisk dampudfældning (PVD) (Ionplettering)
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
Cementeret wolframcarbid (16) Siliciumcarbid
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
Fysisk dampudfældning (PVD): "laser"-fordampning
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
Diamantlignende carbon
Diamond-like carbon
Fysisk dampudfældning (PVD): katodebueudladning
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
Polymerer (11) og organiske "matrix""kompositter«
Polymers (11) and Organic"matrix""composites"
Pakcementering (se A ovenfor om cementering uden for pakke) (10)
Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
Tungtsmeltelige metaller og legeringer (8)
Refractory metals and alloys (8)
Oxider
Oxides
Plasmasprøjtning
Plasma spraying
Afslideligt nikkel-grafit
Abradable Nickel-Graphite
Afslidelige materialer, der indeholder Ni-Cr-Al
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
Afslideligt Al-Si-polyester Legerede aluminider (2)
Abradable Al-Si-Polyester Alloyed aluminides (2)
Aluminiumlegeringer (6)
Aluminium alloys (6)
Afslideligt Al-Si-polyester
Abradable Al-Si-Polyester
Slurry-belægning
Slurry Deposition
Smeltede silicider
Fused silicides
Smeltede aluminider undtagen til modstandsvarmeelementer
Fused aluminides except for resistance heating elements
Sputter-belægning
Sputter Deposition
Aluminider modificeret med ædle metaller (3)
Noble metal modified aluminides (3)
Keramiske materialer og glasarter med lav udvidelseskoefficient (14)
Ceramics and Low-expansion glasses (14)
Dielektriske lag (15)
Dielectic layers (15)
Ion-implantering
Ion Implantation
Lejestål til høje temperaturer
High temperature bearing steels
Tilsætninger af chrom, tantal eller niobium (columbium)
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
Cementeret wolfram-carbid (16)
Cemented tungsten carbide (16)
Noter
Table — Deposition techniques — Notes
"Belægningsprocessen" omfatter reparation og fornyelse af belægningen såvel som oprindelig belægning.
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
Udtrykket "legeret aluminid"-belægning omfatter éttrins eller flertrinsbelægninger, i hvilke et eller flere grundstoffer pålægges før eller under opføring af aluminidbelægningen, selv om disse grundstoffer pålægges ved en anden belægningsproces.
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
Det omfatter imidlertid ikke gentagen anvendelse af éttrins pakcementerings-processer for at opnå legerede aluminider.
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
Udtrykket belægning med "aluminid modificeret med ædle metaller" omfatter flertrinsbelægninger, ved hvilke det eller de ædle metaller pålægges ved en anden belægningsproces før pålægningen af aluminidbelægningen.
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
Udtrykket "blandinger heraf" omfatter infiltreret materiale, graderede sammensætninger, samudfældninger og flerlags-udfældninger fremstillet ved en eller flere af de i dette skema specificerede processer.
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
"MCrAlX" referer til en belægningslegering, hvor M er cobalt, jern, nikkel eller sammensætninger heraf, og X er hafnium, yttrium, silicium, tantal i enhver mængde eller andre tilsigtede tilsætninger over 0,01 vægtprocent i forskellige forhold og kombinationer undtagen:
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 weight percent in various proportions and combinations, except:
CoCrAlY-belægninger, som indeholder mindre end 22 vægtprocent chrom, mindre end 7 vægtprocent aluminium, og mindre end 2 vægtprocent yttrium.
CoCrAlY coatings which contain less than 22 weight percent of chromium, less than 7 weight percent of aluminium and less than 2 weight percent of yttrium;
CoCrAlY-belægninger, som indeholder 22 til 24 vægtprocent chrom, 10 til 12 vægtprocent aluminium og 0,5 til 0,7 vægtprocent yttrium, eller
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 weight percent of chromium, 10 to 12 weight percent of aluminium and 0,5 to 0,7 weight percent of yttrium; or
NiCrAlY-belægninger, som indeholder 21 til 23 vægtprocent chrom, 10 til 12 vægtprocent aluminium og 0,9 til 1,1 vægtprocent yttrium.
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 weight percent of chromium, 10 to 12 weight percent of aluminium and 0,9 to 1.1 weight percent of yttrium.
"Aluminiumslegeringer" er legeringer, der har en trækbrudstyrke på mindst 190 MPa målt ved 293 K (20 °C).
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
"Korrosionsbestandigt" stål er stål if. AISI (American Iron and Steel Institute) 300-rækken eller tilsvarende nationale standarder.
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
"Tungtsmeltelige metaller og legeringer" omfatter følgende metaller og deres legeringer: niobium (columbium), molybdæn, wolfram og tantal.
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
"Materialer til følervinduer" som følger: aluminiumoxid, silicium, germanium, zinksulphid, zinkselenid, galliumarsenid, diamant, galliumfosfid, safir og følgende metalhalider: følervinduematerialer med en større diameter end 40 mm for zirconiumfluorid og hafniumfluorid.
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
"Teknologi" til éntrins pakcementering af faste planprofiler pålægges ikke eksportkontrol if. kategori 2.
"Technology" for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
"Polymerer" som følger: polyimid, polyester, polysulfid, polycarbonater og polyurethaner.
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
"Modificerede zirconiumoxider" er tilsætning af andre metaloxider, f.eks. calcium-, magnesium-, yttrium- og hafnium-oxider, oxider af sjældne jordarter, osv. til zirconiumoxider for at stabilisere visse krystallografiske faser og fasesammensætninger.
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
Termiske spærrebelægninger fremstillet af zirconiumoxid modificeret med calcium- eller magnesiumoxider ved blanding eller fusion pålægges ikke eksportkontrol.
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
"Titanlegeringer" er udelukkende rumfartslegeringer med en trækbrudstyrke på mindst 900 MPa målt ved 293 K (20 °C).
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
"Glasarter med lav udvidelseskoefficient" refererer til glasarter, som har en termisk udvidelseskoefficient på højst 1 × 10-7 K-1 målt ved 293 K (20 °C).
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10 –7 K–1 or less measured at 293 K (20 °C).
"Dielektriske lag" er belægninger, der er konstrueret af flere lag af isolerende materialer, i hvilket interferensegenskaberne ved en konstruktion, der er sammensat af materialer med forskelligt refraktivt indeks, bruges til at reflektere, transmittere eller absorbere forskellige bølgelængdebånd.
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
Dielektriske lag refererer til mere end fire dielektriske lag eller "sammensatte" lag af dielektrika-metal.
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
"Cementeret wolframcarbid" omfatter ikke skære- og formeværktøjsmaterialer bestående af wolframcarbid/(cobalt, nikkel), titancarbid/(cobalt, nikkel), chromcarbid/nikkel-chrom og chrom carbid/nikkel.
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/ (cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
"Teknologi", der specielt er beregnet på udfældning af diamantlignende carbon på følgende pålægges ikke eksportkontrol:
"Technology" specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
magnetpladedrev og magnethoveder, udstyr til fremstilling af engangsemballager, ventiler til haner, højttalermembraner, motordele til motorkøretøjer, skære-, lokke- og presseværktøj, kontorautomationsudstyr, mikrofoner eller medicinsk udstyr eller forme til støbning af plast, fremstillet af legeringer indeholdende mindre end 5 % beryllium.
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
"Siliciumcarbid" omfatter ikke materialer til fremstilling af skære- og formværktøj.
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
Keramiske substrater som omhandlet under dette punkt omfatter ikke keramiske materialer med et indhold af ler eller cement på 5 vægtprocent eller derover enten som separate bestanddele eller i kombination.
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
Processer, der er specificeret i kolonne 1 i skemaet, defineres som følger:
Processes specified in Column 1 of the Table are defined as follows:
Kemisk dampudfældning (CVD) er en overfladebelægnings- eller overflademodificeringsproces, hvorved et metal, en legering, "komposit", dielektrikum eller keramisk materiale udfældes på et opvarmet substrat.
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
Luftformige reaktanter spaltes eller indgår forbindelse i nærheden af substratet, således af der sker en udfældning af det ønskede grundstof, legering eller forbindelse på substratet.
Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate.
Energien til denne spaltnings- eller kemiske reaktionsproces kan bringes til veje ved substratets varme, en glødeudladningsplasma, eller ved "laser"-stråling.
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
NB: 1 CVD omfatter følgende processer: udfældning ved en ledet gasstrøm uden pakning, pulserende CVD, styret nuklear termisk udfældning (CNTD), plasmaforstærkede eller plasmaassisterede CVD-processer.
1 CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
2"Pakket" betyder, at et substrat er nedlagt i en pulverblanding.
2 Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
N.B: 3 De gasformige reaktanter, der anvendes i en ikke-pakket proces, frembringes ved brug af de samme grundreaktioner og parametre som i pakkecementeringsprocessen, med undtagelse af, at det substrat, der skal belægges, ikke er i kontakt med pulverblandingen.
3 The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
Termisk fordampning-fysisk dampudfældning (TE-PVD) er en "overlay"-belægningsproces, der foregår i et vakuum med et tryk på mindre end 0,1 Pa, i hvilket der bruges en termisk energikilde til at fordampe belægningsmaterialet.
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material.
Denne proces resulterer i kondensering eller deponering af det fordampede materiale på passende anbragte substrater.
This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates.
Tilførsel af gasser til vakuumkammeret under belægningsprocessen til syntetisering af sammensatte belægninger er en normal modificering af processen.
The addition of gases to the vacuum chamber during the coating process to synthesize compound coatings is an ordinary modification of the process.
Brugen af ion- eller elektronstråler eller plasma for at aktivere eller assistere belægningens deponering er også en almindelig modifikation i denne teknik.
The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.
Brugen af monitorer til opnåelse af måling af optiske egenskaber og tykkelse under processen kan være en del af disse processer.
The use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thickness of coatings can be a feature of these processes.
Specifikke TE-PVD-processer er følgende:
Specific TE-PVD processes are as follows:
Elektronstråle-PVD bruger en elektronstråle til opvarmning og fordampning af det materiale, der danne belægningen.
Electron Beam PVD uses an electron beam to heat and evaporate the material which forms the coating;
PVD med ion-støttet modstandsopvarmning bruger elektriske resistive varmekilder i kombination med aktiverende ionstråler, så der frembringes et styret og ensartet flux af fordampede belægningsmaterialer.
Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
"Laser"-fordampning bruger enten pulserende eller kontinuert-bølge "laser"-stråler til fordamping af det materiale, der danner belægningen.
"Laser" Vaporization uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporize the material which forms the coating;
Katodebuebelægning bruger en smelteelektrode af det materiale, der danner belægningen, og som etablerer en lysbue på overfladen ved en kortvarig kontakt til jord ved en igangsætter.
Cathodic Arc Deposition employs a consumable cathode of the material which forms the coating and has an arc discharge established on the surface by a momentary contact of a ground trigger.
Styret bevægelse af buen eroderer katodeoverfladen og skaber en høj-ioniseret plasma.
Controlled motion of arcing erodes the cathode surface creating a highly ionized plasma.
Anoden kan enten være en kegle, der er fastgjort til katodens omkreds ved hjælp af en isolator, eller kammeret.
The anode can be either a cone attached to the periphery of the cathode, through an insulator, or the chamber.
"Biasing" af substrater bruges ved belægning uden for sigtelinje.
Substrate biasing is used for non line-of-sight deposition.
Denne definition omfatter ikke tilfældig katodelysbuebelægning med substrater, der ikke er "biased".
This definition does not include random cathodic arc deposition with non-biased substrates.
Ion-plettering er en speciel modificering af en generel TE-PVD-proces, hvorved en plasma- eller ionkilde bruges til at ionisere de materialer, der skal danne belægningen, og substratet gives negativ "bias" for at lette udstrækningen fra plasmaen af det materiale, der skal pålægges.
Ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionize the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma.
Indføringen af reaktive materialer, fordampning af faststoffer i proceskammeret og brugen af monitorer til opnåelse af måling af belægningers optiske egenskaber og tykkelser under processen er normale modifikationer af processen.
The introduction of reactive species, evaporation of solids within the process chamber, and the use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thicknesses of coatings are ordinary modifications of the process.
Pakcementering er en overflademodifikationsbelægning eller "overlay"-belægningsproces, hvor substratet nedlægges i en pulverblanding (en pakning), som består af:
Pack Cementation is a surface modification coating or overlay coating process wherein a substrate is immersed in a powder mixture (a pack), that consists of:
De metalliske pulvere, der skal danne belægningen (normalt aluminium, chrom, silicium eller kombinationer af disse).
The metallic powders that are to be deposited (usually aluminium, chromium, silicon or combinations thereof);
En aktivator (normalt et halidsalt), og
An activator (normally a halide salt); and
Et inaktivt pulver, hyppigst aluminiumoxid.
An inert powder, most frequently alumina.
Substratet og pulverblandingen indeholdes i en retort, som opvarmes til mellem 1030 K (757 °C) og 1375 K (1102 °C) i tilstrækkelig lang tid til udfældning af belægningen.
The substrate and powder mixture is contained within a retort which is heated to between 1030 K (757 °C) and 1375 K (1,102 °C) for sufficient time to deposit the coating.
Plasmasprøjtning er en "overlay"-belægningsproces, hvor en pistol (sprøjtebrænder), som frembringer og styrer en plasma, modtager pulver- eller trådbelægningsmaterialer, smelter dem og slynger dem mod et substrat, hvor der dannes en integreret, bonded belægning.
Plasma Spraying is an overlay coating process wherein a gun (spray torch) which produces and controls a plasma accepts powder or wire coating materials, melts them and propels them towards a substrate, whereon an integrally bonded coating is formed.
Plasmasprøjtning kan være enten lavtryks-plasmasprøjtning eller højhastigheds-plasmasprøjtning.
Plasma spraying constitutes either low pressure plasma spraying or high velocity plasma spraying.
N.B: 1 Lavtryk betyder mindre end det omgivende atmosfæriske tryk.
1 Low pressure means less than ambient atmospheric pressure.
N.B: 2 Høj hastighed refererer til, at gassens udgangshastighed ved dysens munding overstiger 750 m/s udregnet ved 293 K (20 °C) ved 0,1 MPa.
2 High velocity refers to nozzle-exit gas velocity exceeding 750 m/s calculated at 293 K (20 °C) at 0,1 MPa.
"Slurry"-belægning er en overflademodifikationsbelægnings- eller "overlay"-belægningsproces, hvor et metallisk eller keramisk pulver med et organisk bindemiddel opslemmes i en væske og påføres et substrat enten ved sprøjtning, dypning eller maling, hvorefter det luft- eller ovntørres og varmebehandles for at opnå den ønskede belægning.
Slurry Deposition is a surface modification coating or overlay coating process wherein a metallic or ceramic powder with an organic binder is suspended in a liquid and is applied to a substrate by either spraying, dipping or painting, subsequent air or oven drying, and heat treatment to obtain the desired coating.
"Sputter"-belægning er en "overlay"-belægningsproces, der er baseret på et momentoverførselsfænomen, hvor positive ioner accelereres af et elektrisk felt med målets (belægningsmaterialets) overflade.
Sputter Deposition is an overlay coating process based on a momentum transfer phenomenon, wherein positive ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material).
Når ionerne rammer overfladen, er den kinetiske energi tilstrækkelig til at frigøre overfladeatomer på målet og aflejre dem på det passende anbragte substrat.
The kinetic energy of the impacting ions is sufficient to cause target surface atoms to be released and deposited on an appropriately positioned substrate.
1 Skemaet refererer kun til triode-, magnetron- eller reaktiv "sputter"-belægning, som bruges til at forbedre belægningens vedhængskraft og belægningsprocessens hastighed, og til radiofrekvens (RF)-forbedret "sputter"-belægning, der bruges til at frembringe fordampning af umetalliske belægningsmaterialer.
1 The Table refers only to triode, magnetron or reactive sputter deposition which is used to increase adhesion of the coating and rate of deposition and to radio frequency (RF) augmented sputter deposition used to permit vaporisation of non-metallic coating materials.