natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Pro účely položky 6A002.a.3.d. je význam pojmu ‚příčně na směr snímání‘ definován jako osa rovnoběžná s lineárním polem prvků detektoru a pojem ‚směr snímání‘ je definován jako osa kolmá k lineárnímu poli prvků detektoru.
b.
e. lineární (jednorozměrná) „ohnisková pole“, která nejsou „vhodná pro kosmické aplikace“, s jednotlivými prvky s maximální citlivostí v rozmezí vlnových délek nad 3000 nm, avšak nejvýše 30000 nm;
Operating at a frequency of 600 Hz or more; and
f. nelineární (dvourozměrná) infračervená „ohnisková pole“, která nejsou „vhodná pro kosmické aplikace“, na bázi ‚mikrobolometrového‘ materiálu s nefiltrovanou odezvou v rozsahu vlnových délek 8000 nm nebo vyšší, avšak nejvýše 14000 nm;
c.
Pro účely položky 6A002.a.3.f. je ‚mikrobolometr‘ definován jako tepelný zobrazovací detektor, který se používá pro generování využitelného signálu, jenž vzniká v důsledku teplotní změny v detektoru způsobené pohlcením infračerveného záření.
Frequency control better (less) than 0,2 %.
g. „ohnisková pole“, která nejsou „vhodná pro kosmické aplikace“ a mají všechny tyto vlastnosti:
3A225 does not control frequency changers or generators if they have hardware, "software" or "technology" constraints that limit the performance to less than that specified above, provided they meet any of the following:
jednotlivé detekční prvky s maximální citlivostí v rozmezí vlnových délek nad 400 nm, avšak nejvýše 900 nm;
They need to be returned to the original manufacturer to make the enhancements or release the constraints;
jsou speciálně navržená nebo upravená k dosažení ‚zesílení náboje‘ a jejich maximální „radiantová citlivost“ u vlnových délek nad 760 nm je vyšší než 10 mA/W; a
They require "software" as specified in 3D225 to enhance or release the performance to meet the characteristics of 3A225; or
mají více než 32 prvků;
They require "technology" in the form of keys or codes as specified in 3E225 to enhance or release the performance to meet the characteristics of 3A225.
b. „jednospektrální zobrazovací snímače“ a „vícespektrální zobrazovací snímače“ konstruované pro dálkové snímání, které mají některou z těchto vlastností:
Frequency changers in 3A225 are also known as converters or inverters.
okamžité zorné pole (IFOV) užší než 200 μrad; nebo
Frequency changers in 3A225 may be marketed as Generators, Electronic Test Equipment, AC Power Supplies, Variable Speed Motors Drives, Variable Speed Drives (VSDs), Variable Frequency Drives (VFDs), Adjustable Frequency Drives (AFDs), or Adjustable Speed Drives (ASDs).
jsou určeny pro provoz v rozsahu vlnových délek nad 400 nm, avšak nejvýše 30000 nm a mají všechny tyto vlastnosti:
High-power direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.6., having both of the following characteristics:
a. poskytují výstupní zobrazovací data v digitálním formátu; a
a.
jsou „vhodné pro kosmické aplikace“; nebo
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 100 V or greater with current output of 500 A or greater; and
jsou konstruovány pro letecký provoz, používají jiné než křemíkové detektory a mají okamžité zorné pole užší než 2,5 mrad.
b.
Položka 6A002.b.1. nezahrnuje „jednospektrální zobrazovací snímače“ s maximální citlivostí v rozmezí vlnových délek nad 300 nm, avšak nejvíce 900 nm, které obsahují pouze některý z těchto detektorů, které nejsou „vhodné pro kosmické aplikace“, nebo z těchto „ohniskových polí“, která nejsou „vhodná pro kosmické aplikace“:
Current or voltage stability better than 0,1 % over a time period of 8 hours.
zařízení s nábojovou vazbou (CCD), která nejsou konstruována ani upravena tak, aby dosáhla ‚násobení náboje‘; nebo
High-voltage direct current power supplies, other than those specified in 0B001.j.5., having both of the following characteristics:
zařízení typu CMOS (doplňující se kov-oxid-polovodič), která nejsou konstruována ani upravena tak, aby dosáhla ‚násobení náboje‘.
a.
c. zobrazovací zařízení k ‚přímému pozorování‘, která obsahují některý z těchto prvků:
Capable of continuously producing, over a time period of 8 hours, 20 kV or greater with current output of 1 A or greater; and
elektronkové zesilovače obrazu uvedené v položce 6A002.a.2.a. nebo 6A002.a.2.b.;
Switching devices, as follows:
„ohnisková pole“ uvedená v položce 6A002.a.3.; nebo
a.
detektory v pevné fázi uvedené v položce 6A002.a.1.;
Cold-cathode tubes, whether gas filled or not, operating similarly to a spark gap, having all of the following characteristics:
Zobrazovací zařízení k ‚přímému pozorování‘ je takové zařízení, které poskytuje pozorovateli vizuální obraz, aniž by byla nutná jeho přeměna na elektronický signál pro televizní zobrazení, a které nemůže obraz zaznamenat nebo uchovat fotograficky, elektronicky ani jinými prostředky.
Containing three or more electrodes;
Položka 6A002.c. nezahrnuje dále uvedená zařízení, která mají jiné než GaAs nebo GaInAs fotokatody:
Anode peak voltage rating of 2,5 kV or more;
průmyslové nebo civilní poplašné systémy proti nežádoucímu vniknutí, systémy pro řízení provozu nebo průmyslové přepravy nebo počítací systémy;
Anode peak current rating of 100 A or more; and
lékařská zařízení;
Anode delay time of 10 μs or less;
průmyslová zařízení používaná pro kontrolu, třídění nebo analýzu vlastností materiálů;
3A228 includes gas krytron tubes and vacuum sprytron tubes.
plamenové detektory pro průmyslové pece;
b.
zařízení speciálně konstruovaná pro laboratorní použití.
Triggered spark-gaps having both of the following characteristics:
d. speciální podpůrné součásti pro optické snímače:
An anode delay time of 15 μs or less; and
kryochladiče „vhodné pro kosmické aplikace“;
Rated for a peak current of 500 A or more;
kryochladiče, které nejsou „vhodné pro kosmické aplikace“, s chladícím zdrojem pro teploty pod 218 K (–55 °C):
c.
a. pracující v uzavřeném cyklu a jejichž střední doba provozu do poruchy (MTTF) nebo střední doba provozu mezi poruchami (MTBF) je delší než 2500 hodin;
Modules or assemblies with a fast switching function, other than those specified in 3A001.g. or 3A001.h., having all of the following characteristics:
b.
Anode peak voltage rating greater than 2 kV;
Joule-Thompsonovy (JT) samoregulační minichladiče s vnějším průměrem otvoru menším než 8 mm;
Anode peak current rating of 500 A or more; and
citlivá optická vlákna speciálně vyrobená buď kompozičně, nebo strukturně nebo upravená povlakem za účelem dosažení citlivosti vůči akustickému, tepelnému, inertnímu, elektromagnetickému nebo jadernému záření;
Turn-on time of 1 μs or less.
Položka 6A002.d.3. nezahrnuje zapouzdřená citlivá optická vlákna speciálně konstruovaná pro průzkumné vrtné aplikace.
High-current pulse generators as follows:
e. nevyužito.
a.
f. ‚Vyhodnocovací integrované obvody‘ (‚ROIC‘) speciálně konstruované pro „ohnisková pole“ uvedená v položce 6A002.a.3.
Detonator firing sets (initiator systems, firesets), including electronically-charged, explosively-driven and optically-driven firing sets, other than those specified in 1A007.a., designed to drive multiple controlled detonators specified in 1A007.b.;
Položka 6A002.f. nezahrnuje ‚vyhodnocovací integrované obvody‘ konstruované speciálně pro použití v civilních automobilech.
b.
‚Vyhodnocovací integrovaný obvod‘ (‚ROIC‘) je integrovaný obvod konstruovaný tak, aby tvořil základ pro „ohniskové pole“ nebo s ním byl spojen, a používá se k vyhodnocování (tj. extrakci a registraci) signálů produkovaných detektorovými prvky.
Modular electrical pulse generators (pulsers) having all of the following characteristics:
‚ROIC‘ odečítá minimálně náboj z detektorových prvků extrahováním náboje a použitím multiplexní funkce způsobem, který zachovává informace o relativní prostorové poloze a orientaci detektorových prvků pro zpracování uvnitř ‚ROIC‘ nebo mimo něj.
Designed for portable, mobile, or ruggedized-use;
Kamery, systémy nebo zařízení a jejich součásti:
Capable of delivering their energy in less than 15 μs into loads of less than 40 ohms;
VIZ TÉŽ 6A203.
Having an output greater than 100 A;
a. přístrojové kamery a jejich speciálně konstruované součásti:
No dimension greater than 30 cm;
Přístrojové kamery uvedené v položkách 6A003.a.3. až 6A003.a.5. s modulárními strukturami je třeba hodnotit podle jejich maximální schopnosti za použití výměnných karet, které jsou k dispozici podle specifikací výrobce kamer.
Weight less than 30 kg; and
elektronické zábleskové kamery schopné rozlišit čas 50 ns nebo méně;
Specified for use over an extended temperature range 223 K (– 50 °C) to 373 K (100 °C) or specified as suitable for aerospace applications.
elektronické snímkovací kamery, které pracují s rychlostí vyšší než 1000000 snímků za sekundu;
3A229.b. includes xenon flash-lamp drivers.
elektronické kamery, které mají všechny tyto vlastnosti:
c.
a. rychlost elektronické závěrky (dosažitelnost času osvitu) kratší než 1 μs na jeden úplný snímek; a
Micro-firing units having all of the following characteristics:
b. čtecí čas umožňující dosáhnout rychlosti snímkování větší než 125 úplných snímků za sekundu;
No dimension greater than 35 mm;
výměnné karty, které mají všechny tyto vlastnosti:
Voltage rating of equal to or greater than 1 kV; and
a. speciálně konstruované pro přístrojové kamery s modulární strukturou uvedené v položce 6A003.a.; a
Capacitance of equal to or greater than 100 nF.
b. umožňující kamerám splňovat vlastnosti uvedené v položkách 6A003.a.3., 6A003.a.4., nebo 6A003.a.5. v souladu se specifikacemi výrobce;
High-speed pulse generators, and 'pulse heads' therefor, having both of the following characteristics:
b. zobrazovací kamery:
a.
Položka 6A003.b. nezahrnuje televizní kamery nebo videokamery speciálně konstruované pro televizní vysílání.
Output voltage greater than 6 V into a resistive load of less than 55 ohms, and
videokamery, které mají polovodičové snímače s maximální citlivostí v rozmezí vlnových délek nad 10 nm, avšak nejvýše 30000 nm, a mají všechny tyto vlastnosti:
b.
a. mají některou z těchto vlastností:
'Pulse transition time' less than 500 ps.
více než 4 × 106„aktivních pixelů“ v jednom polovodičovém poli v případě monochromatických (černobílých) kamer;
In 3A230, 'pulse transition time' is defined as the time interval between 10 % and 90 % voltage amplitude.
více než 4 × 106„aktivních pixelů“ v jednom polovodičovém poli v případě barevných kamer obsahujících tři polovodičová pole; nebo
'Pulse heads' are impulse forming networks designed to accept a voltage step function and shape it into a variety of pulse forms that can include rectangular, triangular, step, impulse, exponential, or monocycle types.
více než 12 × 106„aktivních pixelů“ v jednom polovodičovém poli v případě barevných kamer obsahujících jedno polovodičové pole; a
'Pulse heads' can be an integral part of the pulse generator, they can be a plug-in module to the device or they can be an externally connected device.
optická zrcadla uvedená v položce 6A004.a.;
Neutron generator systems, including tubes, having both of the following characteristics:
optická kontrolní zařízení uvedená v položce 6A004.d.; nebo
a.
schopnost okomentovat interně generované ‚sledovací údaje kamery‘;
Designed for operation without an external vacuum system; and
Pro účely této položky by měly být digitální videokamery hodnoceny podle maximálního počtu „aktivních pixelů“ použitých pro zachycení filmových obrazů.
b.
Pro účely této položky se ‚sledovacími údaji kamery‘ rozumí informace nezbytné pro určení orientace linky hledáčku vůči zemi.
Utilizing any of the following:
To zahrnuje: 1) horizontální úhel, který linka hledáčku kamery tvoří vůči směru zemského magnetického pole a 2) vertikální úhel mezi linkou hledáčku kamery a zemským horizontem.
Electrostatic acceleration to induce a tritium-deuterium nuclear reaction; or
rastrovací kamery a systémy rastrovacích kamer, které mají všechny tyto vlastnosti:
Electrostatic acceleration to induce a deuterium-deuterium nuclear reaction and capable of an output of 3 × 109 neutrons/s or greater.
a. maximální citlivost v rozmezí vlnových délek nad 10 nm, avšak nejvýše 30000 nm;
Multipoint initiation systems, other than those specified in 1A007, as follows:
b. lineární detektorová pole s více než 8192 prvky v každém poli; a
See 1A007.b. for detonators.
c. mechanické řádkování v jednom směru;
b.
Položka 6A003.b.2. se nevztahuje na kontrolní rastrovací kamery a systémy rastrovacích kamer speciálně konstruované pro některé z těchto účelů:
Arrangements using single or multiple detonators designed to nearly simultaneously initiate an explosive surface over an area greater than 5000 mm2 from a single firing signal with an initiation timing spread over the surface of less than 2,5 μs.
průmyslové nebo civilní kopírovací stroje;
3A232 does not control detonators using only primary explosives, such as lead azide.
zobrazovací rastrovací kamery speciálně konstruované pro civilní, nepřenosné aplikace rastrování v bezprostřední blízkosti (např. reprodukce obrazu či nátisku v dokumentech, reprodukce uměleckých děl nebo fotografií apod.); nebo
Mass spectrometers, other than those specified in 0B002.g., capable of measuring ions of 230 u or greater and having a resolution of better than 2 parts in 230, as follows, and ion sources therefor:
zdravotnické přístroje.
a.
zobrazovací kamery obsahující elektronkové zesilovače obrazu uvedené v položce 6A002.a.2.a. nebo 6A002.a.2.b.;
Inductively coupled plasma mass spectrometers (ICP/MS);
zobrazovací kamery obsahující „ohnisková pole“ mající některou z těchto částí:
b.
a. „ohnisková pole“ uvedená v položkách 6A002.a.3.a. až 6A002.a.3.e.;
Glow discharge mass spectrometers (GDMS);
b. „ohnisková pole“ uvedená v položce 6A002.a.3.f.; nebo
c.
c. „ohnisková pole“ uvedená v položce 6A002.a.3.g.;
Thermal ionization mass spectrometers (TIMS);
Zobrazovací kamery uvedené v položce 6A003.b.4. zahrnují vedle integrovaného čtecího okruhu „ohnisková pole“ společně s dostatečnou elektronickou částí pro „zpracování signálu“ umožňující při napájení alespoň výstup analogového nebo digitálního signálu.
d.
Položka 6A003.b.4.a. nezahrnuje zobrazovací kamery obsahující lineární „ohnisková pole“ s nejvýše 12 prvky nebo méně, u nichž v prvku nedochází k časovému zpoždění a integraci a které jsou konstruované pro některý z těchto účelů:
Electron bombardment mass spectrometers having both of the following features:
průmyslová zařízení používaná pro kontrolu nebo sledování oběhu tepla v budovách, zařízeních nebo výrobních procesech;
A molecular beam inlet system that injects a collimated beam of analyte molecules into a region of the ion source where the molecules are ionized by an electron beam; and
zařízení speciálně konstruovaná pro laboratorní použití; nebo
One or more 'cold traps' that can be cooled to a temperature of 193 K (– 80 °C);
Položka 6A003.b.4.b. se nevztahuje na zobrazovací kamery, jež mají některou z těchto vlastností:
e.
maximální frekvence snímků je 9 Hz nebo méně;
Not used;
minimální horizontální nebo vertikální ‚okamžité zorné pole‘ (IFOV) nejméně 10 mrad (miliradiánů);
f.
čočka s pevnou ohniskovou vzdáleností, jež není konstruována jako odnímatelná;
Mass spectrometers equipped with a microfluorination ion source designed for actinides or actinide fluorides.
neobsahují displej s ‚přímým zobrazením‘; a
Electron bombardment mass spectrometers in 3A233.d. are also known as electron impact mass spectrometers or electron ionization mass spectrometers.
nemají žádné zařízení pro získání zobrazitelného obrázku zjištěného zorného pole; nebo
In 3A233.d.2., a 'cold trap' is a device that traps gas molecules by condensing or freezing them on cold surfaces.
kamera je konstruována pro jeden druh použití a tak, aby na ní uživatel nemohl provádět úpravy; nebo
For the purposes of 3A233.d.2., a closed-loop gaseous helium cryogenic vacuum pump is not a 'cold trap'.
kamera je speciálně konstruována pro montáž do civilního osobního pozemního vozidla a má všechny tyto vlastnosti:
Striplines to provide low inductance path to detonators with the following characteristics:
účelem umístění a konfigurace kamery ve vozidle je výhradně pomáhat řidiči při bezpečném provozu vozidla;
a.
je funkční, pouze je-li instalována:
Voltage rating greater than 2 kV; and
v civilním osobním pozemním vozidle, pro nějž byla určena, do hmotnosti 4500 kg (celková hmotnost vozidla); nebo
b Inductance of less than 20 nH.
obsahuje aktivní mechanismus, který kameru vyřadí z provozu, jakmile je vyjmuta z vozidla, pro které byla určena.
SEE ALSO 2B226
Okamžité zorné pole‘ (IFOV) uvedené v poznámce 3.b. položky 6A003.b.4. je nižší hodnota z ‚horizontálního IFOV‘ nebo ‚vertikálního IFOV‘.
a.
‚Horizontální IFOV‘ = horizontální zorné pole (FOV) / počet horizontálních detektorových prvků
Equipment designed for epitaxial growth as follows:
‚Vertikální IFOV‘ = vertikální zorné pole (FOV) / počet vertikálních detektorových prvků.
Equipment designed or modified to produce a layer of any material other than silicon with a thickness uniform to less than ± 2,5 % across a distance of 75 mm or more;
‚Přímé zobrazení‘ v poznámce 3.b. položky 6A003.b.4. se týká zobrazovací kamery pracující v infračerveném spektru, která poskytuje pozorovateli vizuální obraz za použití mikrodispleje pro přiblížení k oku, a obsahující jakýkoliv mechanismus snadného zabezpečení.
3B001.a.1. includes Atomic Layer Epitaxy (ALE) equipment.
Položka 6A003.b.4.c. se nevztahuje na zobrazovací kamery, jež mají některou z těchto vlastností:
Metal Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) reactors designed for compound semiconductor epitaxial growth of material having two or more of the following elements: aluminium, gallium, indium, arsenic, phosphorus, antimony, or nitrogen;
kamera je speciálně konstruována pro montáž jakožto nedílná součást systémů a zařízení pro vnitřní prostory, napájených z elektrického rozvodu, jejichž konstrukce je omezena na jediný druh použití, a to:
Molecular beam epitaxial growth equipment using gas or solid sources;
sledování průmyslového procesu, kontrola jakosti nebo rozbor vlastností jednotlivých materiálů;
b.
laboratorní vybavení speciálně konstruované pro vědecký výzkum;
Equipment designed for ion implantation and having any of the following:
zařízení určené k odhalování finančních podvodů; a
Being designed and optimized to operate at a beam energy of 20 keV or more and a beam current of 10 mA or more for hydrogen, deuterium or helium implant;
v systému (systémech) nebo zařízení, pro něž byla určena; nebo
Direct write capability;
ve speciálně navrženém schváleném zkušebním zařízení pro údržbu; a
A beam energy of 65 keV or more and a beam current of 45 mA or more for high energy oxygen implant into a heated semiconductor material "substrate"; or
obsahuje aktivní mechanismus, který kameru vyřadí z provozu, jakmile je vyjmuta ze systému (systémů) nebo zařízení, pro něž byla určena;
Being designed and optimized to operate at a beam energy of 20 keV or more and a beam current of 10 mA or more for silicon implant into a semiconductor material "substrate" heated to 600 °C or greater;
kamera je speciálně konstruována pro montáž do civilního osobního pozemního vozidla nebo do plavidla pro převoz osob či vozidel a má všechny tyto vlastnosti:
e.
účelem umístění a konfigurace kamery ve vozidle nebo plavidle je výhradně pomáhat řidiči nebo obsluze při bezpečném provozu vozidla nebo plavidla;
Automatic loading multi-chamber central wafer handling systems having all of the following:
v civilním osobním pozemním vozidle, pro něž byla určena, do hmotnosti 4500 kg (celková hmotnost vozidla);
Interfaces for wafer input and output, to which more than two functionally different 'semiconductor process tools' specified in 3B001.a.1., 3B001.a.2., 3B001.a.3 or 3B001.b. are designed to be connected; and
v plavidle pro převoz osob či vozidel, pro něž byla určena, o celkové délce (LOA) nejméně 65 m; nebo
Designed to form an integrated system in a vacuum environment for 'sequential multiple wafer processing';
ve speciálně navrženém schváleném zkušebním zařízení pro údržbu; a
3B001.e. does not control automatic robotic wafer handling systems specially designed for parallel wafer processing.
obsahuje aktivní mechanismus, který kameru vyřadí z provozu, jakmile je vyjmuta z vozidla, pro které byla určena;
For the purpose of 3B001.e., 'semiconductor process tools' refers to modular tools that provide physical processes for semiconductor production that are functionally different, such as deposition, implant or thermal processing.
kamera je konstrukčně omezena tak, aby její maximální „radiantová citlivost“ pro vlnové délky nad 760 nm byla nejvýše 10 mA/W, a má všechny tyto vlastnosti:
For the purpose of 3B001.e., 'sequential multiple wafer processing' means the capability to process each wafer in different 'semiconductor process tools', such as by transferring each wafer from one tool to a second tool and on to a third tool with the automatic loading multi-chamber central wafer handling systems.
obsahuje mechanismus omezující citlivost, který nelze odstranit ani upravit;
f.
obsahuje aktivní mechanismus, který kameru vyřadí z provozu, jakmile je odstraněn mechanismus omezující citlivost; a
Lithography equipment as follows:
není speciálně konstruovaná ani upravená pro užití pod vodou: nebo
Align and expose step and repeat (direct step on wafer) or step and scan (scanner) equipment for wafer processing using photo-optical or X-ray methods and having any of the following:
d. má všechny tyto vlastnosti:
a.
neobsahuje ‚přímé zobrazení‘ ani elektronické zobrazení;
A light source wavelength shorter than 193 nm; or
nemá žádné zařízení pro získání zobrazitelného obrázku zjištěného zorného pole;
b.
„ohniskové pole“ funguje pouze tehdy, je-li namontováno v kameře, pro niž je určeno; a
Capable of producing a pattern with a 'Minimum Resolvable Feature size' (MRF) of 45 nm or less;
„ohniskové pole“ obsahuje aktivní mechanismus, který zajišťuje, aby bylo trvale vyřazeno z provozu, jakmile je vyjmuto z kamery, pro niž je určeno.
The 'Minimum Resolvable Feature size' (MRF) is calculated by the following formula:
zobrazovací kamery obsahující detektory v pevné fázi uvedené v položce 6A002.a.1.
where the K factor = 0,35
Optická zařízení a součásti
Imprint lithography equipment capable of producing features of 45 nm or less;
a. optická zrcadla (reflektory):
3B001.f.2. includes:
Pro účely položky 6A004.a. se práh poškození laserem (LIDT) měří podle normy ISO 21254-1:2011.
Micro contact printing tools
Optická zrcadla zvlášť navržená pro litografické vybavení viz položka 3B001.
Hot embossing tools
‚deformovatelná zrcadla‘ s aktivní optickou aperturou větší než 10 mm, která mají některou z těchto vlastností, a pro ně speciálně konstruované součásti:
Nano-imprint lithography tools
a. mající všechny tyto vlastnosti:
Step and flash imprint lithography (S-FIL) tools
mechanickou rezonanční frekvenci nejméně 750 Hz; a
Equipment specially designed for mask making having all of the following:
více než 200 aktuátorů; nebo
a.
b. práh poškození laserem (LIDT), který má některý z těchto parametrů:
A deflected focussed electron beam, ion beam or "laser" beam; and
větší než 1 kW/cm2 při použití „CW laseru (kontinuálního laseru)“; nebo
A full-width half-maximum (FWHM) spot size smaller than 65 nm and an image placement less than 17 nm (mean + 3 sigma); or
větší než 2 J/cm2 při použití 20 ns „laserových“ pulsů s opakovací frekvencí 20 Hz;
A second-layer overlay error of less than 23 nm (mean + 3 sigma) on the mask;
‚Deformovatelná zrcadla‘ jsou zrcadla, která mají:
Equipment designed for device processing using direct writing methods, having all of the following:
jeden souvislý optický odrazný povrch, který je dynamicky deformován aplikací jednotlivých sil nebo silových dvojic tak, aby se vyrovnalo zkreslení optických vlnoploch dopadajících na zrcadlo; nebo
a.
více opticky odrazných prvků, které mohou být jednotlivě a dynamicky přemísťovány aplikací sil nebo silových dvojic tak, aby se vyrovnalo zkreslení optických vlnoploch dopadajících na zrcadlo.
A deflected focused electron beam; and
‚Deformovatelná zrcadla‘ se rovněž označují jako adaptivní optická zrcadla.
A minimum beam size equal to or smaller than 15 nm; or
lehká monolitická zrcadla s průměrnou „ekvivalentní hustotou“ menší než 30 kg/m2 a celkovou hmotností vyšší než 10 kg;
An overlay error less than 27 nm (mean + 3 sigma);