natgillin/translations-raw huggingface dataset:
‚Přímočinné hydraulické lisovaní‘: tvářecí proces využívající tekutinou naplněný pružný vak, který je v přímém kontaktu s obrobkem.
b.
‚Izostatické zhutňování za tepla‘: proces, při kterém je odlitek při teplotách vyšších než 375 K (102 °C) vystaven prostřednictvím různých médií (plyn, kapalina, pevné částice atd.) v uzavřené dutině tlaku tak, aby se ve všech směrech vytvořila stejná síla za účelem zmenšení nebo odstranění pórovitosti odlitku.
Angular deviation of slide movement (yaw, pitch and roll) less (better) than 2 seconds of arc, TIR over 300 mm of travel;
c. „technologie“ pro „vývoj“ nebo „výrobu“ hydraulických přetahovacích strojů a jejich forem pro výrobu konstrukcí draků letadel;
c.
e. „technologie“ pro „vývoj“ integračního „softwaru“ pro začlenění expertních systémů pro vyspělou podporu rozhodování o dílenských operacích do jednotek „číslicového řízení“;
Machine tools for grinding having any of the following:
f. „technologie“ depozice anorganických krycích povlaků nebo povlaků pro úpravu anorganického povrchu (uvedené ve sloupci 3 následující tabulky) na podkladové substráty, jiné než elektronické, (uvedené ve sloupci 2 následující tabulky) prostřednictvím procesů uvedených ve sloupci 1 následující tabulky a definovaných v technické poznámce.
Having all of the following:
Tabulka a technická poznámka jsou uvedeny za položkou 2E301.
a.
Tuto tabulku je třeba vykládat tak, že v ní je stanovena „technologie“ konkrétního procesu nanášení pouze v případě, že se výsledný povlak uvedený ve sloupci 3 nachází v odstavci umístěném na stejné úrovni, jako odpovídající substrát uvedený ve sloupci 2.
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis; and
Například technické údaje týkající se procesu nanášení chemické depozice z plynné fáze (CVD) se vztahují k použití silicidů na substráty z „kompozitů“ uhlík–uhlík, keramických „kompozitů“ a „kompozitů“ s kovovou „matricí“, avšak nikoli k použití silicidů na substráty z ‚cementovaného karbidu wolframu‘ (16) a ‚karbidu křemíku‘ (18).
b.
V druhém případě výsledný povlak není uveden v odstavci sloupce 3 na stejné úrovni jako odstavec sloupce 2 obsahujícímu ‚cementovaný karbid wolframu‘ (16) a ‚karbid křemíku‘ (18).
Three or four axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; or
„Technologie“ ve smyslu všeobecné poznámky k technologii pro „užití“ zařízení nebo „softwaru“ uvedených v položkách 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 až 2B122 nebo 2D101.
Five or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control" having any of the following:
„Technologie“ ve smyslu všeobecné poznámky k technologii pro „užití“ zařízení nebo „softwaru“ uvedených v položkách 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 až 2B233, 2D201 nebo 2D202.
a.
„Technologie“ ve smyslu všeobecné poznámky k technologii pro „užití“ zboží uvedeného v položkách 2B350 až 2B352.
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 1,1 μm along one or more linear axis with a travel length less than 1 m;
Tabulka
c.
Techniky depozice
"Unidirectional positioning repeatability" equal to or less (better) than 6,0 μm along one or more linear axis with a travel length equal to or greater than 4 m.
Proces nanášení (1)
2B001.c. does not control grinding machine as follows:
Substrát
Cylindrical external, internal, and external-internal grinding machines, having all of the following:
Výsledný povlak
Limited to cylindrical grinding; and
A.
Limited to a maximum workpiece capacity of 150 mm outside diameter or length.
Chemická depozice z plynné fáze (CVD)
Machines designed specifically as jig grinders that do not have a z-axis or a w-axis, with a "unidirectional positioning repeatability" less (better) than 1,1 μm
„Vysoce legované slitiny“
Surface grinders.
Silicidy
e.
Karbidy
Machine tools for removing metals, ceramics or "composites", having all of the following:
Dielektrické vrstvy (15)
Removing material by means of any of the following:
Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
Water or other liquid jets, including those employing abrasive additives;
Žáruvzdorné kovy
Electron beam; or
Aluminidy
"Laser" beam; and
Legované aluminidy (2)
At least two rotary axes having all of the following:
Nitrid boru
a.
Cementovaný karbid wolframu (16), Karbid křemíku (18)
Can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Wolfram
b.
Molybden a slitiny molybdenu
A positioning "accuracy" of less (better) than 0,003°;
Beryllium a slitiny beryllia
f.
Materiály pro okénka snímačů (9)
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5m.
Fyzikální depozice z plynné fáze s tepelným odpařováním (TE-PVD)
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Fyzikální depozice z plynné fáze (PVD): Elektronový svazek (EB-PVD)
a.
Legované silicidy
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
Modifikovaný oxid zirkoničitý (12)
b.
Korozivzdorná ocel (7)
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
Boridy
c.
Slitiny titanu (13)
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Nitridy
d.
Fyzikální depozice z plynné fáze s odporovým ohřevem za podpory iontů (PVD) (iontové pokovování)
Using any of the following processes:
Keramika (19) a skla s nízkou roztažností
Magnetorheological finishing ('MRF');
Cementovaný karbid wolframu (16), Karbid křemíku
Electrorheological finishing ('ERF');
Fyzikální depozice z plynné fáze (PVD): odpařování „laserem“
'Energetic particle beam finishing';
Fyzikální depozice z plynné fáze (PVD): katodickým obloukovým výbojem
'Inflatable membrane tool finishing'; or
Polymery (11) a „kompozity“ s organickou „matricí“
'Fluid jet finishing'.
C.
For the purposes of 2B002:
Cementování v prášku (viz A výše, kde je cementování neprováděné v prášku) (10)
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
Žáruvzdorné kovy a slitiny (8)
'ERF' is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
Oxidy
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
D.
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Plazmové stříkání
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
Obrusný nikl-grafit
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc=40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
Obrusné materiály obsahující Ni-Cr-Al
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
Obrusný Al-Si-polyester
SEE ALSO 2B104 and 2B204.
Slitiny hliníku (6)
a.
E.
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Depozice řídké kaše
b.
Tavené silicidy
Having any of the following:
Tavené aluminidy s výjimkou aluminidů pro odporové topné prvky
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
F.
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
Depozice naprašováním
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Aluminidy modifikované ušlechtilými kovy (3)
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Platina
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
Keramika a skla s nízkou roztažností (14)
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Dielektrické vrstvy (15)
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for substrates specified in column 2, by processes shown in column 1 in the Table following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
G.
a.
Iontová implantace
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Ocele pro vysokoteplotní ložiska
SEE ALSO 2B105.
Přídavky chromu tantalu nebo niobu (kolumbia)
A process modified for one of the following:
Cementovaný karbid wolframu (16)
a.
‚Procesem depozice‘ se rozumí jak oprava a obnova povlaků, tak i nové povlaky.
b.
Povlaky z ‚legovaných aluminidů‘ se rozumí povlaky připravené v jednom nebo více krocích, při nichž se před depozicí aluminidového povlaku nebo po něm nanáší jeden nebo více prvků, a to i v případě, že jsou tyto prvky nanášeny jiným procesem.
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Nezahrnují však vícenásobné použití procesů cementování v prášku v jediném kroku pro získání legovaných aluminidů.
c.
Povlaky z ‚aluminidů modifikovaných ušlechtilými kovy‘ se rozumí povlaky připravené ve více krocích, při nichž se se ušlechtilý kov nebo ušlechtilé kovy nanášejí před nanesením aluminidového povlaku jiným procesem depozice.
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
‚Jejich směsmi‘ se rozumí infiltrovaný materiál, odstupňované kompozice, současně nanášené povlaky a vícevrstvé povlaky, které se získávají jedním nebo více procesy nanášení, jež jsou uvedeny v tabulce.
a.
Výrazem ‚MCrAlX‘ se rozumí povlaková slitina, kde M je kobalt, železo, nikl nebo jejich kombinace a X je hafnium, yttrium, křemík, tantal v jakémkoli množství nebo jiné záměrné přísady o obsahu vyšším než 0,01 % hmotnostních v různých podílech a kombinacích, kromě:
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
a. povlaků CoCrAlY, které obsahují méně než 22 % hmotnostních chromu, méně než 7 % hmotnostních hliníku a méně než 2 % hmotnostní yttria;
b.
b. povlaků CoCrAlY, které obsahují 22 až 24 % hmotnostních chromu, 10 až 12 % hmotnostních hliníku a 0,5 až 0,7 % hmotnostních yttria; nebo
Incorporating in situ coating thickness control;
c. povlaků NiCrAlY, které obsahují 21 až 23 % hmotnostních chromu, 10 až 12 % hmotnostních hliníku a 0,9 až 1,1 % hmotnostních yttria.
b.
‚Hliníkovými slitinami‘ se rozumějí slitiny, jejichž mez pevnosti v tahu měřená při 293 K (20 °C) je nejméně 190 MPa.
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
‚Korozivzdornou ocelí‘ se rozumí ocel řady 300 podle AISI (American Iron and Steel Institut) nebo ocel vyhovující odpovídajícím vnitrostátním normám.
c.
‚Žáruvzdorné materiály a slitiny‘ zahrnují tyto kovy a jejich slitiny: niob (kolumbium), molybden, wolfram a tantal.
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
‚Materiály pro okénka snímačů‘: oxid hlinitý, křemík, germanium, sulfid zinečnatý, selenid zinečnatý, arsenid galia, diamant, fosfid galia, safír a tyto halogenidy kovů: materiály pro okénka snímačů o průměru větším než 40 mm v případě fluoridu zirkonia a fluoridu hafnia.
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
Kategorie 2 nezahrnuje „technologii“ pro jednostupňové cementování prášků u pevných profilů křídel.
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
‚Polymery‘: polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonáty a polyuretany.
d.
Výrazem ‚modifikovaný oxid zirkoničitý‘ se rozumí oxid zirkoničitý, k němuž byly přidány oxidy jiných kovů (např. vápník, hořčík, yttrium, hafnium, oxidy vzácných zemin) za účelem stabilizace některých krystalografických fází a fázových skladeb.
Plasma spraying production equipment having any of the following:
Povlaky, které slouží jako tepelná bariéra a které jsou vyrobeny z oxidu zirkoničitého modifikovaného vápníkem nebo hořčíkem mísením nebo tavením, nejsou zahrnuty.
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
‚Slitinami titanu‘ se rozumějí pouze slitiny pro letectví a kosmonautiku, jejichž mez pevnosti v tahu, měřená při 293 K (20 °C), je 900 MPa nebo větší.
Incorporating in situ coating thickness control;
‚Skly s nízkou roztažností‘ se rozumějí skla, jejichž koeficient tepelné roztažnosti, měřený při 293 K (20 °C), je 1 × 10–7 K–1 nebo menší.
e.
‚Dielektrickými vrstvami‘ se rozumějí povlaky vytvořené z více vrstev izolačních materiálů, v nichž se pro odraz, prostup nebo absorpci různých vlnových pásem využívají interferenční vlastnosti systému složeného z materiálů o různém indexu lomu.
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
Dielektrickými vrstvami se zde rozumějí více než čtyři dielektrické vrstvy nebo vrstvy dielektrického/kovového „kompozitu“.
f.
‚Cementovaný karbid wolframu‘ nezahrnuje materiály pro řezné a tvářecí nástroje z karbidu wolframu/(kobaltu, niklu), karbidu titanu/(kobaltu, niklu), karbidu chromu/nikl-chromu a karbidu chromu/niklu.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
„Technologie“ pro nanášení uhlíku s vlastnostmi diamantu na některý z níže uvedených předmětů není zahrnuta:
g.
magnetické disky a hlavy, zařízení pro výrobu předmětů sloužících k jednorázovému použití, ventily pro kohoutky, akustické membrány pro reproduktory, součásti automobilových motorů, řezné nástroje, nástroje pro lisování a děrování, zařízení pro automatizaci kancelářských prací, mikrofony nebo lékařské přístroje nebo licí formy nebo formy pro plasty, vyrobené ze slitin obsahujících méně než 5 % beryllia.
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
‚Karbid křemíku‘ nezahrnuje materiály pro řezné a tvarovací nástroje.
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Keramickými substráty se ve smyslu této kategorie nerozumějí keramické materiály obsahující nejméně 5 % hmotnostních jílu nebo cementu, ať již samostatně nebo v kombinaci.
Optical characteristics.
TECHNICKÁ POZNÁMKA K TABULCE – TECHNIKY DEPOZICE
2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.
Procesy uvedené ve sloupci 1 tabulky jsou definovány takto:
Dimensional inspection or measuring systems, equipment, position feedback units and "electronic assemblies", as follows:
a. chemická depozice z plynné fáze (CVD) je proces nanášení povlaku nebo vytvoření povlaku modifikací povrchu, při kterém se na zahřátý substrát usazuje kov, slitina, „kompozit“, dielektrikum nebo keramika.
a.
Plynné reaktanty se rozkládají nebo slučují v blízkosti substrátu, čímž dochází k nanesení žádaného materiálu ve formě prvku, slitiny nebo sloučeniny na substrát.
Computer controlled or "numerical controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1 000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2:2009;
Energii pro tento proces rozkladu nebo chemické reakce lze získat teplem substrátu, plazmou doutnavého výboje nebo „laserovým“ ozářením;
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7+L/1 000 μm threshold.
Mezi chemické depozice z plynné fáze (CVD) patří tyto procesy: depozice směrovaným proudem plynu mimo obal, pulsační chemická depozice z plynné fáze, řízená nukleační tepelná depozice (CNTD), plazmochemická depozice z plynné fáze.
SEE ALSO 2B206.
Obalem se rozumí substrát ponořený do práškové směsi.
b.
Plynné reaktanty používané v procesu mimo obal se získávají za použití stejných základních reakcí a parametrů jako v procesu cementování v prášku, avšak potahovaný substrát není v kontaktu s práškovou směsí.
Linear displacement measuring instruments or systems, linear position feedback units, and "electronic assemblies", as follows:
b. fyzikální depozice z plynné fáze s tepelným odpařováním (TE-PVD) je proces nanášení povlaku ve vakuu při tlaku nižším než 0,1 Pa, při kterém je zdroj tepelné energie použit k odpařování nanášeného materiálu.
Interferometer and optical-encoder measuring systems containing a "laser" are only specified in 2B006.b.3 and 2B206.c.
Výsledkem tohoto procesu je kondenzace nebo ukládání odpařené látky na vhodně umístěné substráty.
'Non-contact type measuring systems' with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
Přidávání plynu do vakuové komory během procesu depozice za účelem syntézy sloučených vrstev je obvyklou variantou této techniky.
For the purposes of 2B006.b.1. 'non-contact type measuring systems' are designed to measure the distance between the probe and measured object along a single vector, where the probe or measured object is in motion.
Běžnou variantou této techniky je též použití svazku iontových nebo elektronových svazků nebo plazmy za účelem vyvolání nebo podpory nanášení povlaku.
Linear position feedback units specially designed for machine tools and having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1000)) nm (L equals effective length in mm);
Charakteristickým rysem těchto postupů může být použití monitorů pro účely provozního měření optických charakteristik a tloušťky povlaků.
Measuring systems having all of the following:
fyzikální depozice z plynné fáze s odporovým ohřevem za podpory iontů využívající k vytváření řízeného a jednotného toku odpařených povlakových materiálů elektrické odporové topné zdroje v kombinaci se soustředěnými iontovými paprsky;
b.
„laserové“ odpařování využívající k odpařování materiálu, který tvoří povlak, buď pulsní „laserové“ paprsky, nebo „laserové“ paprsky se spojitou vlnou;
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
depozice katodickým obloukem využívající spotřebovatelnou katodu z materiálu, který tvoří povlak a má obloukový výboj vytvořený na povrchu mžikovým sepnutím uzemněného spouštěče.
c.
Řízeným pohybem hoření oblouku se eroduje povrch katody, čímž vzniká vysoce ionizované plazma.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2 000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20± 0,01 °C; or
Anodou může být buď kužel uchycený přes izolátor na obvodu katody, nebo komora.
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.3.;
Pro nanášení mimo osu přímé viditelnosti se používá předpětí substrátu;
c.
Tato definice nezahrnuje nanášení neřízeným katodickým obloukem na substráty bez předpětí.
Rotary position feedback units specially designed for machine tools or angular displacement measuring instruments, having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,9 second of arc;
iontové pokovování je speciální modifikace obecného procesu TE-PVD, ve kterém se pro ionizaci nanášených látek používá plazma nebo jiný zdroj iontů, přičemž se na substrát přikládá záporné předpětí usnadňující vyloučení látek z plazmy.
2B006.c. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g. "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
Zavádění reaktivních látek, odpařování tuhých látek v provozní komoře a použití monitorů pro provozní měření optických vlastností a tloušťky povlaků jsou obvyklými modifikacemi tohoto procesu;
d.
c. cementování v prášku je proces vytvoření povlaku modifikací povrchu nebo proces nanášení povlaku, při kterém je substrát ponořován do práškové směsi (obalu) skládající se z těchto složek:
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
nanášené kovové prášky (obvykle hliník, chrom, křemík nebo jejich kombinace);
2B006 includes machine tools, other than those specified in 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
aktivátor (obvykle halogenidová sůl); a
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
inertní prášek, nejčastěji oxid hlinitý.
SEE ALSO 2B207.
Substrát a prášková směs jsou uloženy v retortě, která je po dobu dostatečnou pro vytvoření povlaku vyhřívána na teplotu 1030 K (757 °C) až 1375 K (1102 °C);
b.
d. plazmové stříkání je proces nanášení povlaku, při němž plazmový hořák (stříkací pistole), který tvoří a reguluje plazmu, přijímá povlakový materiál ve formě prášku nebo drátu, taví a vrhá jej na substrát, na kterém se tak vytváří celistvě spojený povlak.
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
Plazmovým stříkáním se rozumí buď nízkotlaké plazmové stříkání, nebo vysokorychlostní plazmové stříkání;
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
Výrazem nízkotlaký se rozumí, že tlak je nižší než okolní atmosférický tlak.
c.
Výrazem vysokorychlostní se rozumí, že rychlost plynu na výstupu z trysky je při 293 K (20 °C) a 0,1 MPa vyšší než 750 m/s.
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
e. nanášení řídké kaše je proces vytvoření povlaku modifikací povrchu nebo nanášení povlaku, při němž kovový nebo keramický prášek s organickým pojivem suspenduje v kapalině a nanáší se na substrát buď stříkáním, ponořením nebo natíráním.
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
Poté se suší na vzduchu nebo v peci a tepelně zpracovává tak, aby se docílilo požadovaného povlaku;
d.
f. naprašování je proces vytvoření povlaku založený na přenosu pohybové energie, při němž se v elektrickém poli urychlují kladné ionty směrem k povrchu terče (povlakový materiál).
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
Kinetická energie dopadajících iontů způsobuje, že se z povrchu terče uvolňují atomy, které se ukládají na vhodně nastavený substrát;
'Compound rotary tables' and "tilting spindles", specially designed for machine tools, as follows:
Tabulka se vztahuje pouze na proces triodového, magnetronového nebo reaktivního naprašování, které se používá pro zvýšení přilnavosti povlaku a rychlosti nanášení a na vysokofrekvenční (RF) naprašování používané za účelem odpařování nekovových povlakových materiálů.
c.
Pro aktivaci nanášení lze používat iontové paprsky o nízké energii (méně než 5 keV).
'Compound rotary tables' having all of the following:
g. iontová implantace je proces vytvoření povlaku modifikací povrchu, při němž se prvek, který se má legovat, ionizuje, urychluje gradientem napětí a implantuje do povrchové vrstvy substrátu.
Designed for machine tools for turning, milling or grinding; and