natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Chemická depozice z plynné fáze (CVD)
Deep-hole-drilling machines and turning machines modified for deep-hole-drilling, having a maximum depth-of-bore capability exceeding 5 m.
"Vysoce legované slitiny"
Numerically controlled optical finishing machine tools equipped for selective material removal to produce non-spherical optical surfaces having all of the following characteristics:
Aluminidy pro vnitřní průchody
a.
Keramika (19) a skla s nízkou roztažností (14)
Finishing the form to less (better) than 1,0 μm;
Silicidy
b.
Karbidy
Finishing to a roughness less (better) than 100 nm rms.
Dielektrické vrstvy (15)
c.
Diamant
Four or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Uhlík s vlastnostmi diamantu (17)
d.
"Kompozity" uhlík–uhlík, keramické a s kovovou "matricí"
Using any of the following processes:
Žáruvzdorné kovy
Magnetorheological finishing ('MRF');
jejich směsi (4)
Electrorheological finishing ('ERF');
Aluminidy
'Energetic particle beam finishing';
Legované aluminidy (2)
'Inflatable membrane tool finishing'; or
Nitrid boru
'Fluid jet finishing'.
Cementovaný karbid wolframu (16), Karbid křemíku (18)
For the purposes of 2B002:
Wolfram
'MRF' is a material removal process using an abrasive magnetic fluid whose viscosity is controlled by a magnetic field.
Molybden a slitiny molybdenu
'ERF' is a removal process using an abrasive fluid whose viscosity is controlled by an electric field.
Beryllium a slitiny beryllia
'Energetic particle beam finishing' uses Reactive Atom Plasmas (RAP) or ion-beams to selectively remove material.
Materiály pro okénka snímačů (9)
'Inflatable membrane tool finishing' is a process that uses a pressurized membrane that deforms to contact the workpiece over a small area.
Fyzikální depozice z plynné fáze s tepelným odpařováním (TE-PVD)
'Fluid jet finishing' makes use of a fluid stream for material removal.
Fyzikální depozice z plynné fáze (PVD): Elektronový svazek (EB-PVD)
"Numerically controlled" or manual machine tools, and specially designed components, controls and accessories therefor, specially designed for the shaving, finishing, grinding or honing of hardened (Rc = 40 or more) spur, helical and double-helical gears with a pitch diameter exceeding 1250 mm and a face width of 15 % of pitch diameter or larger finished to a quality of AGMA 14 or better (equivalent to ISO 1328 class 3).
Legované silicidy
Hot "isostatic presses" having all of the following, and specially designed components and accessories therefor:
Modifikovaný oxid zirkoničitý (12)
SEE ALSO 2B104 and 2B204.
Korozivzdorná ocel (7)
a.
Boridy
A controlled thermal environment within the closed cavity and a chamber cavity with an inside diameter of 406 mm or more; and
Slitiny titanu (13)
b.
Nitridy
Having any of the following:
Fyzikální depozice z plynné fáze s odporovým ohřevem za podpory iontů (PVD) (iontové pokovování)
A maximum working pressure exceeding 207 MPa;
Keramika (19) a skla s nízkou roztažností (14)
A controlled thermal environment exceeding 1773 K (1500 °C); or
Cementovaný karbid wolframu (16), Karbid křemíku
A facility for hydrocarbon impregnation and removal of resultant gaseous degradation products.
Fyzikální depozice z plynné fáze (PVD): odpařování "laserem"
The inside chamber dimension is that of the chamber in which both the working temperature and the working pressure are achieved and does not include fixtures.
Uhlík s vlastnostmi diamantu
That dimension will be the smaller of either the inside diameter of the pressure chamber or the inside diameter of the insulated furnace chamber, depending on which of the two chambers is located inside the other.
Fyzikální depozice z plynné fáze (PVD): katodickým obloukovým výbojem
For specially designed dies, moulds and tooling see 1B003, 9B009 and the Military Goods Controls.
Polymery (11) a "kompozity" s organickou "matricí"
Equipment specially designed for the deposition, processing and in-process control of inorganic overlays, coatings and surface modifications, as follows, for non-electronic substrates, by processes shown in the Table and associated Notes following 2E003.f., and specially designed automated handling, positioning, manipulation and control components therefor:
C.
a.
Cementování v prášku (viz A výše, kde je cementování neprováděné v prášku) (10)
Chemical vapour deposition (CVD) production equipment having all of the following:
Žáruvzdorné kovy a slitiny (8)
SEE ALSO 2B105.
Oxidy
A process modified for one of the following:
D.
a.
Obrusný nikl-grafit
b.
Obrusné materiály obsahující Ni-Cr-Al
Controlled nucleation thermal deposition (CNTD); or
Slitiny hliníku (6)
Plasma enhanced or plasma assisted CVD; and
E.
a.
Depozice řídké kaše
Incorporating high vacuum (equal to or less than 0,01 Pa) rotating seals; or
Tavené silicidy
b.
Tavené aluminidy s výjimkou aluminidů pro odporové topné prvky
Incorporating in situ coating thickness control;
Depozice naprašováním
Ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;
Platina
Electron beam physical vapour deposition (EB-PVD) production equipment incorporating power systems rated for over 80 kW and having any of the following:
Keramika (19) a skla s nízkou roztažností (14)
A liquid pool level "laser" control system which regulates precisely the ingots feed rate; or
Dielektrické vrstvy (15)
A computer controlled rate monitor operating on the principle of photo-luminescence of the ionised atoms in the evaporant stream to control the deposition rate of a coating containing two or more elements;
G.
d.
Iontová implantace
Plasma spraying production equipment having any of the following:
Ocele pro vysokoteplotní ložiska
Operating at reduced pressure controlled atmosphere (equal to or less than 10 kPa measured above and within 300 mm of the gun nozzle exit) in a vacuum chamber capable of evacuation down to 0,01 Pa prior to the spraying process; or
Přídavky chromu tantalu nebo niobu (kolumbia)
Incorporating in situ coating thickness control;
Cementovaný karbid wolframu (16)
e.
POZNÁMKY K TABULCE – TECHNIKY DEPOZICE
Sputter deposition production equipment capable of current densities of 0,1 mA/mm2 or higher at a deposition rate of 15 μm/h or more;
'Procesem depozice' se rozumí jak oprava a obnova povlaků, tak i nové povlaky.
f.
Povlaky z 'legovaných aluminidů' se rozumí povlaky připravené v jednom nebo více krocích, při nichž se před depozicí aluminidového povlaku nebo po něm nanáší jeden nebo více prvků, a to i v případě, že jsou tyto prvky nanášeny jiným procesem.
Cathodic arc deposition production equipment incorporating a grid of electromagnets for steering control of the arc spot on the cathode;
Nezahrnují však vícenásobné použití procesů cementování v prášku v jediném kroku pro získání legovaných aluminidů.
g.
Povlaky z 'aluminidů modifikovaných ušlechtilými kovy' se rozumí povlaky připravené ve více krocích, při nichž se se ušlechtilý kov nebo ušlechtilé kovy nanášejí před nanesením aluminidového povlaku jiným procesem depozice.
Ion plating production equipment capable of the in situ measurement of any of the following:
'Jejich směsmi' se rozumí infiltrovaný materiál, odstupňované kompozice, současně nanášené povlaky a vícevrstvé povlaky, které se získávají jedním nebo více procesy nanášení, jež jsou uvedeny v tabulce.
Coating thickness on the substrate and rate control; or
Výrazem 'MCrA1X' se rozumí povlaková slitina, kde M je kobalt, železo, nikl nebo jejich kombinace a X je hafnium, yttrium, křemík, tantal v jakémkoli množství nebo jiné záměrné přísady o obsahu vyšším než 0,01 % hmotnostních v různých podílech a kombinacích, kromě:
Optical characteristics.
CoCrAlY povlaků, které obsahují méně než 22 % hmotnostních chromu, méně než 7 % hmotnostních hliníku a méně než 2 % hmotnostní yttria;
Dimensional inspection or measuring systems, equipment and "electronic assemblies", as follows:
CoCrAlY povlaků, které obsahují 22 až 24 % hmotnostních chromu, 10 až 12 % hmotnostních hliníku a 0,5 až 0,7 % hmotnostních yttria; nebo
Computer controlled or "numerically controlled" Coordinate Measuring Machines (CMM), having a three dimensional (volumetric) maximum permissible error of length measurement (E0,MPE) at any point within the operating range of the machine (i.e., within the length of axes) equal to or less (better) than (1,7 + L/1000) μm (L is the measured length in mm), according to ISO 10360-2 (2009);
c.
The E0,MPE of the most accurate configuration of the CMM specified by the manufacturer (e.g., best of the following: probe, stylus length, motion parameters, environment) and with "all compensations available" shall be compared to the 1,7 + L/1000 μm threshold.
NiCrAlY povlaků, které obsahují 21 až 23 % hmotnostních chromu, 10 až 12 % hmotnostních hliníku a 0,9 až 1,1 % hmotnostních yttria.
SEE ALSO 2B206.
'Hliníkovými slitinami' se rozumějí slitiny, jejichž mez pevnosti v tahu měřená při 293 K (20 °C) je nejméně 190 MPa.
b.
'Korozivzdornou ocelí' se rozumí ocel řady 300 podle AISI (American Iron and Steel Institut) nebo ocel vyhovující odpovídajícím vnitrostátním normám.
Linear and angular displacement measuring instruments, as follows:
'Žáruvzdorné materiály a slitiny' zahrnují tyto kovy a jejich slitiny: niob (kolumbium), molybden, wolfram a tantal.
'Linear displacement' measuring instruments having any of the following:
'Materiály pro okénka snímačů': oxid hlinitý, křemík, germanium, sulfid zinečnatý, selenid zinečnatý, arsenid galia, diamant, fosfid galia, safír a tyto halogenidy kovů: materiály pro okénka snímačů o průměru větším než 40 mm v případě fluoridu zirkonia a fluoridu hafnia.
Interferometer and optical-encoder displacement measuring systems containing a "laser" are only controlled in 2B006.b.1.c. and 2B206.c.
"Technologie" pro jednostupňové cementování v prášku u pevných profilů křídel není do kategorie 2 zahrnuta.
For the purpose of 2B006.b.1.
'Polymery': polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonáty a polyuretany.
'linear displacement' means the change of distance between the measuring probe and the measured object.
Výrazem 'modifikovaný oxid zirkoničitý' se rozumí oxid zirkoničitý, k němuž byly přidány oxidy jiných kovů (např. vápník, hořčík, yttrium, hafnium, oxidy vzácných zemin) za účelem stabilizace některých krystalografických fází a fázových skladeb.
a.
Povlaky, které slouží jako tepelná bariéra a které jsou vyrobeny z oxidu zirkoničitého modifikovaného vápníkem nebo hořčíkem mísením nebo tavením, nejsou zahrnuty.
Non-contact type measuring systems with a "resolution" equal to or less (better) than 0,2 μm within a measuring range up to 0,2 mm;
'Slitinami titanu' se rozumějí pouze slitiny pro letectví a kosmonautiku, jejichž mez pevnosti v tahu, měřená při 293 K (20 °C), je 900 MPa nebo větší.
b.
'Skly s nízkou roztažností' se rozumějí skla, jejichž koeficient tepelné roztažnosti, měřený při 293 K (20 °C), je 1 × 10-7 K-1 nebo menší.
Linear Variable Differential Transformer (LVDT) systems having all of the following:
'Dielektrickými vrstvami' se rozumějí povlaky vytvořené z více vrstev izolačních materiálů, v nichž se pro odraz, prostup nebo absorpci různých vlnových pásem využívají interferenční vlastnosti systému složeného z materiálů o různém indexu lomu.
a.
Dielektrickými vrstvami se zde rozumějí více než čtyři dielektrické vrstvy nebo vrstvy dielektrického/kovového "kompozitu".
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to the 'full operating range', for LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm; or
'Cementovaný karbid wolframu' nezahrnuje materiály pro řezné a tvářecí nástroje z karbidu wolframu/(kobaltu, niklu), karbidu titanu/(kobaltu, niklu), karbidu chromu/nikl-chromu a karbidu chromu/niklu.
b.
"Technologie" speciálně vyvinutá pro nanášení uhlíku s vlastnostmi diamantu na některý z níže uvedených předmětů není zahrnuta:
"Linearity" equal to or less (better) than 0,1 % measured from 0 to 5 mm for LVDTs with a 'full operating range' greater than ± 5 mm; and
magnetické disky a hlavy, zařízení pro výrobu předmětů sloužících k jednorázovému použití, ventily pro kohoutky, akustické membrány pro reproduktory, součásti automobilových motorů, řezné nástroje, nástroje pro lisování a děrování, zařízení pro automatizaci kancelářských prací, mikrofony nebo lékařské přístroje nebo licí formy nebo formy pro plasty, vyrobené ze slitin obsahujících méně než 5 % beryllia.
Drift equal to or less (better) than 0,1 % per day at a standard ambient test room temperature ± 1 K;
'Karbid křemíku' nezahrnuje materiály pro řezné a tvarovací nástroje.
For the purposes of 2B006.b.1.b., 'full operating range' is half of the total possible linear displacement of the LVDT.
Keramickými substráty se ve smyslu této kategorie nerozumějí keramické materiály obsahující nejméně 5 % hmotnostních jílu nebo cementu, ať již samostatně nebo v kombinaci.
For example, LVDTs with a 'full operating range' up to and including ± 5 mm can measure a total possible linear displacement of 10 mm.
TECHNICKÁ POZNÁMKA K TABULCE – TECHNIKY DEPOZICE
c.
Procesy uvedené ve sloupci 1 tabulky jsou definovány takto:
Measuring systems having all of the following:
a. chemická depozice z plynné fáze (CVD) je proces nanášení povlaku nebo vytvoření povlaku modifikací povrchu, při kterém se na zahřátý substrát usazuje kov, slitina, "kompozit", dielektrikum nebo keramika.
Containing a "laser";
Plynné reaktanty se rozkládají nebo slučují v blízkosti substrátu, čímž dochází k nanesení žádaného materiálu ve formě prvku, slitiny nebo sloučeniny na substrát.
A "resolution" over their full scale of 0,200 nm or less (better); and
Energii pro tento proces rozkladu nebo chemické reakce lze získat teplem substrátu, plazmou doutnavého výboje nebo "laserovým" ozářením; Pozn.
Capable of achieving a "measurement uncertainty" equal to or less (better) than (1,6 + L/2000) nm (L is the measured length in mm) at any point within a measuring range, when compensated for the refractive index of air and measured over a period of 30 seconds at a temperature of 20 ± 0,01 °C; or
Mezi chemické depozice z plynné fáze (CVD) patří tyto procesy: depozice směrovaným proudem plynu mimo obal, pulsační chemická depozice z plynné fáze, řízená nukleační tepelná depozice (CNTD), plazmochemická depozice z plynné fáze.
d.
Pozn.
"Electronic assemblies" specially designed to provide feedback capability in systems specified in 2B006.b.1.c.;
Obalem se rozumí substrát ponořený do práškové směsi.
2B006.b.1. does not control measuring interferometer systems, with an automatic control system that is designed to use no feedback techniques, containing a "laser" to measure slide movement errors of machine-tools, dimensional inspection machines or similar equipment.
Pozn.
Angular displacement measuring instruments having an angular position "accuracy" equal to or less (better) than 0,00025°;
Plynné reaktanty používané v procesu mimo obal se získávají za použití stejných základních reakcí a parametrů jako v procesu cementování v prášku, avšak potahovaný substrát není v kontaktu s práškovou směsí.
2B006.b.2. does not control optical instruments, such as autocollimators, using collimated light (e.g., "laser" light) to detect angular displacement of a mirror.
b. fyzikální depozice z plynné fáze s tepelným odpařováním (TE-PVD) je proces nanášení povlaku ve vakuu při tlaku nižším než 0,1 Pa, při kterém je zdroj tepelné energie použit k odpařování nanášeného materiálu.
c.
Výsledkem tohoto procesu je kondenzace nebo ukládání odpařené látky na vhodně umístěné substráty.
Equipment for measuring surface roughness (including surface defects), by measuring optical scatter with a sensitivity of 0,5 nm or less (better).
Přidávání plynu do vakuové komory během procesu depozice za účelem syntézy sloučených vrstev je obvyklou variantou této techniky.
2B006 includes machine tools, other than those specified by 2B001, that can be used as measuring machines if they meet or exceed the criteria specified for the measuring machine function.
Běžnou variantou této techniky je též použití svazku iontových nebo elektronových svazků nebo plazmy za účelem vyvolání nebo podpory nanášení povlaku.
"Robots" having any of the following characteristics and specially designed controllers and "end-effectors" therefor:
Charakteristickým rysem těchto postupů může být použití monitorů pro účely provozního měření optických charakteristik a tloušťky povlaků.
SEE ALSO 2B207.
Specifickými TE-PVD procesy jsou:
a.
fyzikální depozice z plynné fáze elektronovým svazkem využívající k ohřevu a odpařování materiálu, který tvoří povlak, elektronový svazek;
Capable in real time of full three-dimensional image processing or full three-dimensional 'scene analysis' to generate or modify "programmes" or to generate or modify numerical programme data;
fyzikální depozice z plynné fáze s odporovým ohřevem za podpory iontů využívající k vytváření řízeného a jednotného toku odpařených povlakových materiálů elektrické odporové topné zdroje v kombinaci se soustředěnými iontovými paprsky;
The 'scene analysis' limitation does not include approximation of the third dimension by viewing at a given angle, or limited grey scale interpretation for the perception of depth or texture for the approved tasks (2 1/2 D).
"laserové" odpařování využívající k odpařování materiálu, který tvoří povlak, buď pulsní "laserové" paprsky, nebo "laserové" paprsky se spojitou vlnou;
b.
depozice katodickým obloukem využívající spotřebovatelnou katodu z materiálu, který tvoří povlak a má obloukový výboj vytvořený na povrchu mžikovým sepnutím uzemněného spouštěče.
Specially designed to comply with national safety standards applicable to potentially explosive munitions environments;
Řízeným pohybem hoření oblouku se eroduje povrch katody, čímž vzniká vysoce ionizované plazma.
2B007.b. does not control "robots" specially designed for paint-spraying booths.
Anodou může být buď kužel uchycený přes izolátor na obvodu katody, nebo komora.
c.
Pro nanášení mimo osu přímé viditelnosti se používá předpětí substrátu;
Specially designed or rated as radiation-hardened to withstand a total radiation dose greater than 5 × 103 Gy (silicon) without operational degradation; or
Tato definice nezahrnuje nanášení neřízeným katodickým obloukem na substráty bez předpětí.
The term Gy(silicon) refers to the energy in Joules per kilogram absorbed by an unshielded silicon sample when exposed to ionising radiation.
iontové pokovování je speciální modifikace obecného procesu TE-PVD, ve kterém se pro ionizaci nanášených látek používá plazma nebo jiný zdroj iontů, přičemž se na substrát přikládá záporné předpětí usnadňující vyloučení látek z plazmy.
d.
Zavádění reaktivních látek, odpařování tuhých látek v provozní komoře a použití monitorů pro provozní měření optických vlastností a tloušťky povlaků jsou obvyklými modifikacemi tohoto procesu;
Specially designed to operate at altitudes exceeding 30000 m.
c. cementování v prášku je proces vytvoření povlaku modifikací povrchu nebo proces nanášení povlaku, při kterém je substrát ponořován do práškové směsi (obalu) skládající se z těchto složek:
Assemblies or units, specially designed for machine tools, or dimensional inspection or measuring systems and equipment, as follows:
nanášené kovové prášky (obvykle hliník, chrom, křemík nebo jejich kombinace);
a.
aktivátor (obvykle halogenidová sůl); a
Linear position feedback units having an overall "accuracy" less (better) than (800 + (600 × L/1000)) nm (L equals the effective length in mm);
inertní prášek, nejčastěji oxid hliníku.
For "laser" systems see also 2B006.b.1.c., 2B006.b.1.d. and 2B206.c.
Substrát a prášková směs jsou uloženy v retortě, která je po dobu dostatečnou pro vytvoření povlaku vyhřívána na teplotu 1030 K (757 °C) až 1375 K (1102 °C);
b.
d. plazmové stříkání je proces nanášení povlaku, při němž plazmový hořák (stříkací pistole), který tvoří a reguluje plazmu, přijímá povlakový materiál ve formě prášku nebo drátu, taví a vrhá jej na substrát, na kterém se tak vytváří celistvě spojený povlak.
Rotary position feedback units having an "accuracy" less (better) than 0,00025°;
Plazmovým stříkáním se rozumí buď nízkotlaké plazmové stříkání, nebo vysokorychlostní plazmové stříkání; Pozn.
For "laser" systems see also Note to 2B006.b.2.
Výrazem nízkotlaký se rozumí, že tlak je nižší než okolní atmosférický tlak.
2B008.a. and 2B008.b. control units, which are designed to determine the positioning information for feedback control, such as inductive type devices, graduated scales, infrared systems or "laser" systems.
Výrazem vysokorychlostní se rozumí, že rychlost plynu na výstupu z trysky je při 293 K (20 °C) a 0,1 MPa vyšší než 750 m/s.
"Compound rotary tables" and "tilting spindles", capable of upgrading, according to the manufacturer's specifications, machine tools to or above the levels specified in 2B.
e. nanášení řídké kaše je proces vytvoření povlaku modifikací povrchu nebo nanášení povlaku, při němž kovový nebo keramický prášek s organickým pojivem suspenduje v kapalině a nanáší se na substrát buď stříkáním, ponořením nebo natíráním.
Spin-forming machines and flow-forming machines, which, according to the manufacturer's technical specification, can be equipped with "numerical control" units or a computer control and having all of the following:
Poté se suší na vzduchu nebo v peci a tepelně zpracovává tak, aby se docílilo požadovaného povlaku;
SEE ALSO 2B109 AND 2B209.
f. naprašování je proces vytvoření povlaku založený na přenosu pohybové energie, při němž se v elektrickém poli urychlují kladné ionty směrem k povrchu terče (povlakový materiál).
a.
Kinetická energie dopadajících iontů způsobuje, že se z povrchu terče uvolňují atomy, které se ukládají na vhodně nastavený substrát;
Three or more axes which can be coordinated simultaneously for "contouring control"; and
Tabulka se vztahuje pouze na proces triodového, magnetronového nebo reaktivního naprašování, které se používá pro zvýšení přilnavosti povlaku a rychlosti nanášení a na vysokofrekvenční (RF) naprašování používané za účelem odpařování nekovových povlakových materiálů.
b.
Pozn.
A roller force more than 60 kN.
Pro aktivaci nanášení lze používat iontové paprsky o nízké energii (méně než 5 keV).
For the purpose of 2B009, machines combining the function of spin-forming and flow-forming are regarded as flow-forming machines.
g. iontová implantace je proces vytvoření povlaku modifikací povrchu, při němž se prvek, který se má legovat, ionizuje, urychluje gradientem napětí a implantuje do povrchové vrstvy substrátu.
"Isostatic presses", other than those specified in 2B004, having all of the following:
Patří sem procesy, ve kterých se iontová implantace provádí fyzikální depozicí z plynné fáze elektronovým svazkem nebo naprašováním.
SEE ALSO 2B204.
KATEGORIE 3 – ELEKTRONIKA
a.
Kontrolní status zařízení a součástí popsaných v položkách 3A001 nebo 3A002, jiných než popsaných v položkách 3A001.a.3. až 3A001.a.10., 3A001.a.12. nebo 3A001.a.13, které jsou speciálně konstruované nebo které mají totožné funkční vlastnosti jako jiná zařízení, je určen kontrolním statusem těchto jiných zařízení.
Maximum working pressure of 69 MPa or greater;
Status integrovaných obvodů popsaných v položkách 3A001.a.3. až 3A001.a.9., 3A001.a.12. nebo 3A001.a.13, které jsou pevně naprogramovány nebo konstruovány pro specifickou funkci v jiných zařízeních, je určen statusem těchto jiných zařízení.
b.
Pokud výrobce nebo žadatel nemůže určit status jiného zařízení, řídí se status integrovaných obvodů položkami 3A001.a.3. až 3A001.a.9., 3A001.a.12 a 3A001.a.13.
Designed to achieve and maintain a controlled thermal environment of 873 K (600 °C) or greater; and
Elektronické zboží:
c.
a. integrované obvody pro všeobecné použití:
Possessing a chamber cavity with an inside diameter of 254 mm or greater.
Kontrolní status polovodičových destiček (dokončených nebo nedokončených) s určenou funkcí se hodnotí podle parametrů uvedených v položce 3A001.a.
Chemical vapour deposition (CVD) furnaces, other than those specified in 2B005.a., designed or modified for the densification of carbon-carbon composites.
Do integrovaných obvodů patří tyto typy:
Flow-forming machines, other than those specified in 2B009, and specially designed components as follows:
"monolitické integrované obvody",
SEE ALSO 2B209.
"hybridní integrované obvody",
a.