natgillin/translations-raw huggingface dataset:
skladovací zásobníky, kontejnery nebo nádrže s celkovým vnitřním (geometrickým) objemem větším než 0,1 m3 (100 litrů), jež mají všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, vyrobeny z některého z těchto materiálů:
Storage tanks, containers or receivers with a total internal (geometric) volume greater than 0,1 m3 (100 litres) where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
grafit nebo ‚uhlíkový grafit‘,
graphite or "carbon graphite";
karbid titanu nebo
titanium carbide; or
destilační nebo absorpční kolony o vnitřním průměru větším než 0,1 m, rozdělovače kapaliny, rozdělovače par nebo sběrače kapalin konstruované pro takové destilační nebo absorpční kolony, jež mají všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, vyrobeny z některého z těchto materiálů:
distillation or absorption columns of internal diameter greater than 0,1 m; and liquid distributors, vapour distributors or liquid collectors designed for such distillation or absorbtion columns, where all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
dálkově ovládaná plnicí zařízení, jež mají všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, vyrobeny z některého z těchto materiálů:
remotely operated filling equipment in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
ventily s nominálním rozměrem větším než 10 mm a pouzdra (kostry ventilů) nebo předlisované podložky plášťů konstruované pro takové ventily, jež mají všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, vyrobeny z některého z těchto materiálů:
valves with nominal sizes greater than 10 mm and casings (valve bodies) or preformed casing liners designed for such valves, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
vícevrstvé chráněné potrubí vybavené vývodem pro detekci úniku, jež mají všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, vyrobeny z některého z těchto materiálů:
multi-walled piping incorporating a leak detection port, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed or contained are made from any of the following materials:
i. vícenásobně těsněné vývěvy a vývěvy bez těsnění s maximálním průtokem udávaným výrobcem vyšším než 0,6 m3/h nebo vakuové vývěvy s maximálním výrobcem udávaným průtokem vyšším než 5 m3/h (za standardních podmínek (teplota (273 K (0 °C) a tlak 101,30 kPa)), dále pouzdra (kostry čerpadel), předlisované podložky plášťů, oběžná kola, rotory nebo trysky proudových čerpadel navržené pro taková čerpadla, jež mají všechny povrchy, které přicházejí do přímého styku se zpracovávanými nebo uchovávanými chemikáliemi, vyrobeny z některého z těchto materiálů:
i. multiple-seal, and seal-less pumps, with manufacturer's specified maximum flow-rate greater than 0,6 m3/hour, or vacuum pumps with manufacturer's specified maximum flow-rate greater than 5 m3/hour (under standard temperature (273 K (0 °C)) and pressure (101,3 kPa) conditions); and casings (pump bodies), preformed casing liners, impellers, rotors or jet pump nozzles designed for such pumps, in which all surfaces that come in direct contact with the chemical(s) being processed are made from any of the following materials:
‚Uhlíkový grafit‘ je směs amorfního uhlíku a grafitu, kde obsah grafitu činí nejméně 8 % hmotnostních.
"Carbon graphite" is a composition consisting of amorphous carbon and graphite, in which the graphite content is eight percent or more by weight.
konstruované pro nepřetržitý provoz a použitelné pro zjišťování bojových chemických látek nebo chemikálií uvedených v položce 1C350 při koncentracích nižších než 0,3 mg/m3 nebo
designed for continuous operation and usable for the detection of chemical warfare agents or chemicals specified in 1C350, at concentrations of less than 0,3 mg/m3; or
Ženeva 2004).
or P4 (BL3, BL4, L3, L4) containment levels are as specified in the WHO Laboratory Biosafety manual (3rd edition, Geneva 2004).
fermentory vhodné pro kultivaci patogenních „mikroorganismů“, virů nebo tvorbu toxinů bez úniku aerosolů, jejichž celková kapacita je 20 litrů nebo větší;
fermenters capable of cultivation of pathogenic "micro-organisms", viruses or capable of toxin production, without the propagation of aerosols, and having a total capacity of 20 litres or more;
celková filtrační plocha je nejméně 1 m2 a
a total filtration area equal to or greater than 1 m2; and
Komory určené k aerosolovým imunologickým testům s „mikroorganismy“, viry nebo „toxiny“, o kapacitě 1 m3 nebo větší.
chambers designed for aerosol challenge testing with "micro-organisms", viruses or "toxins", and having a capacity of 1 m3 or greater.
„Software“, jiný než uvedený v položce 2D002, speciálně konstruovaný nebo upravený pro „vývoj“, „výrobu“ nebo „užití“ zařízení uvedeného v položkách 2A001 nebo 2B001 až 2B009.
"Software", other than that specified in 2D002, specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment specified in 2A001 or 2B001 to 2B009.
„Software“ pro elektronická zařízení, též je-li součástí elektronického zařízení nebo systému, umožňující elektronickému zařízení nebo systému vykonávat funkce jednotky „číslicového řízení“, schopný koordinovat současně více než 4 osy za účelem „interpolace tvaru“.
"Software" for electronic devices, even when residing in an electronic device or system, enabling such devices or systems to function as a "numerical control" unit, capable of co-ordinating simultaneously more than four axes for "contouring control".
Viz 2D001 pro „software“ pro položky uvedené v 2B002.
See 2D001 for "software" for items specified in 2B002.
„Software“ speciálně konstruovaný nebo upravený pro „užití“ zařízení uvedených v položce 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 nebo 2B119 až 2B122.
"Software" specially designed or modified for the "use" of equipment specified in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 or 2B119 to 2B122.
„Software“ speciálně konstruovaný nebo upravený pro „užití“ zařízení uvedeného v položkách 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 nebo 2B227.
"Software" specially designed for the "use" of equipment specified in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 or 2B227.
„Software“ speciálně konstruovaný nebo upravený pro „vývoj“, „výrobu“ nebo „užití“ zařízení uvedeného v položce 2B201.
"Software" specially designed or modified for the "development", "production" or "use" of equipment specified in 2B201.
„Technologie“ ve smyslu všeobecné poznámky k technologii pro „vývoj“ zařízení nebo „softwaru“ uvedeného v položce 2A, 2B nebo 2D.
"Technology" according to the General Technology Note for the "development" of equipment or "software" specified in 2A, 2B or 2D.
„Technologie“ ve smyslu všeobecné poznámky k technologii pro „výrobu“ zařízení uvedených v položkách 2A nebo 2B.
"Technology" according to the General Technology Note for the "production"of equipment specified in 2A or 2B.
„technologie“ pro „vývoj“ interaktivní grafiky jako nedílné součásti jednotek „číslicového řízení“ pro přípravu nebo úpravu součástkových programů;
"technology" for the "development" of interactive graphics as an integrated part in "numerical control" units for preparation or modification of part programmes;
„technologie“pro kovozpracující výrobní procesy:
"technology" for metal-working manufacturing processes, as follows:
„technologie“ pro navrhování nářadí, lisovacích nástrojů nebo upínacích přípravků speciálně určených pro některý z těchto procesů:
"technology" for the design of tools, dies or fixtures specially designed for any of the following processes:
„superplastické tváření“,
"superplastic forming";
„difuzní spojování“ nebo
"diffusion bonding"; or
„přímočinné hydraulické lisování“;
"direct-acting hydraulic pressing";
„superplastické tváření“ slitin hliníku, slitin titanu nebo „vysoce legovaných slitin“:
"superplastic forming" of aluminium alloys, titanium alloys or "superalloys":
„difuzní spojování“„vysoce legovaných slitin“ nebo slitin titanu:
"diffusion bonding" of "superalloys" or titanium alloys:
„přímočinné hydraulické lisování“ slitin hliníku nebo titanu:
"direct-acting hydraulic pressing" of aluminium alloys or titanium alloys:
„izostatické zhutňování za tepla“ slitin titanu, slitin hliníku nebo „vysoce legovaných slitin“:
"hot isostatic densification" of titanium alloys, aluminium alloys or "superalloys":
„technologie“ pro „vývoj“ nebo „výrobu“ hydraulických přetahovacích strojů a jejich forem pro výrobu konstrukcí draků letadel;
"technology" for the "development" or "production" of hydraulic stretch-forming machines and dies therefor, for the manufacture of airframe structures;
„technologie“ pro „vývoj“ zařízení pro generování strojních obráběcích instrukcí (tj. součástkových programů) z konstrukčních dat uložených v jednotkách „číslicového řízení“;
"technology" for the "development" of generators of machine tool instructions (e.g., part programmes) from design data residing inside "numerical control" units;
„technologie“ pro „vývoj“ integračního „softwaru“ pro začlenění expertních systémů pro vyspělou podporu rozhodování o dílenských operacích do jednotek „číslicového řízení“;
"technology" for the "development" of integration "software" for incorporation of expert systems for advanced decision support of shop floor operations into "numerical control" units;
„technologie“ depozice anorganických krycích povlaků nebo povlaků pro úpravu anorganického povrchu (uvedené ve sloupci 3 následující tabulky) na podkladové substráty, jiné než elektronické, (uvedené ve sloupci 2 následující tabulky) prostřednictvím procesů uvedených ve sloupci 1 následující tabulky a definovaných v technické poznámce.
"technology" for the application of inorganic overlay coatings or inorganic surface modification coatings (specified in column 3 of the following table) to non-electronic substrates (specified in column 2 of the following table), by processes specified in column 1 of the following table and defined in the Technical note.
„Technologie“ ve smyslu všeobecné poznámky k technologii pro „užití“ zařízení nebo „softwaru“ uvedených v položkách 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 až 2B122 nebo 2D101.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or "software" specified in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 to 2B122 or 2D101.
„Technologie“ ve smyslu všeobecné poznámky k technologii pro „užití“ zařízení nebo „softwaru“ uvedených v položkách 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 až 2B232, 2D201 nebo 2D202.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of equipment or"software" specified in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 to 2B232, 2D201 or 2D202.
„Technologie“ ve smyslu všeobecné poznámky k technologii pro „užití“ zboží uvedeného v položkách 2B350 až 2B352.
"Technology" according to the General Technology Note for the "use" of goods specified in 2B350 to 2B352.
„Vysoce legované slitiny“
"Superalloys"
„Kompozity“ uhlík-uhlík, keramické a s „kovovou matricí“
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix""composites"
Korozivzdorná ocel (7)
Corrosion resistant steel (7)
Fyzikální depozice v parní fázi (PVD): odpařování „laserem“
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporisation
Fyzikální depozice v parní fázi (PVD): katodickým obloukovým výbojem
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
Polymery (11) a „kompozity“ s organickou „matricí“
Polymers (11) and Organic"matrix""composites"
Obrusné materiály obsahující Ni-Cr-Al
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
Ocele pro vysokoteplotní ložiska
High temperature bearing steels
‚Procesem depozice‘ se rozumí jak oprava a obnova povlaků, tak i nové povlaky.
The term "coating process" includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
Povlaky z ‚legovaných aluminidů‘ se rozumějí povlaky připravené v jednom nebo více krocích, při nichž se před depozicí aluminidového povlaku nebo po něm nanáší jeden nebo více prvků, a to i v případě, že jsou tyto prvky nanášeny jiným procesem.
The term "alloyed aluminide coating" includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
Povlaky z ‚aluminidů modifikovaných ušlechtilými kovy‘ se rozumějí povlaky připravené ve více krocích, při nichž se se ušlechtilý kov nebo ušlechtilé kovy nanášejí před nanesením aluminidového povlaku jiným procesem depozice.
The term "noble metal modified aluminide" coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
‚Jejich směsmi‘ se rozumí infiltrovaný materiál, odstupňované kompozice, současně nanášené povlaky a vícevrsté povlaky, které se získávají jedním nebo více procesy nanášení, jež jsou uvedeny v tabulce.
The term "mixtures thereof" includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
Výrazem ‚MCrA1X‘ se rozumí povlaková slitina, kde M je kobalt, železo, nikl nebo jejich kombinace a X je hafnium, yttrium, křemík, tantal v jakémkoli množství nebo jiné záměrné přísady o obsahu vyšším než 0,01 % hmotnostních v různých podílech a kombinacích, kromě:
"MCrAlX" refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
povlaků, které obsahují méně než 22 % hmotnostních chromu, méně než 7 % hmotnostních hliníku a méně než 2 % hmotnostní yttria;
CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
CoCrAlY povlaků, které obsahují 22 až 24 % hmotnostních chromu, 10 až 12 % hmotnostních hliníku a 0,5 až 0,7 % hmotnostních yttria nebo
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight percent of yttrium; or
povlaků, které obsahují 21 až 23 % hmotnostních chromu, 10 až 12 % hmotnostních hliníku a 0,9 až 1,1 % hmotnostních yttria.
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
‚Hliníkovými slitinami‘ se rozumějí slitiny, jejichž mez pevnosti v tahu měřená při 293 K (20 °C) je nejméně 190 MPa.
The term "aluminium alloys" refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
‚Korozivzdornou ocelí‘ se rozumí ocel řady 300 podle AISI (American Iron and Steel Institut) nebo ocel vyhovující odpovídajícím národním normám.
The term "corrosion resistant steel" refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
‚Žáruvzdornými materiály a slitinami‘ se rozumějí tyto kovy a jejich slitiny: niob (kolumbium), molybden, wolfram a tantal.
"Refractory metals and alloys" include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
‚Materiály pro okénka snímačů‘ se rozumí: oxid hlinitý, křemík, germanium, sulfid zinečnatý, selenid zinečnatý, arsenid galia, diamant, fosfid galia, safír a tyto halogenidy kovů: materiály okének snímačů o průměru větším než 40 mm v případě fluoridu zirkonia a fluoridu hafnia.
"Sensor window materials", as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
„Technologie“ pro jednostupňové cementování v prášku u pevných profilů křídel není do kategorie 2 zahrnuta.
"Technology" for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
‚Polymery‘: polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonáty a polyurethany.
"Polymers", as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
Výrazem ‚modifikovaný oxidem zirkoničitým‘ se rozumí oxid zirkoničitý, k němuž byly přidány oxidy jiných kovů (např. vápník, hořčík, yttrium, hafnium, oxidy vzácných zemin) za účelem stabilizace některých krystalografických fází a fázových skladeb.
"Modified zirconia" refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
‚Slitinami titanu‘ se rozumějí pouze slitiny pro letectví a kosmonautiku, jejichž mez pevnosti v tahu, měřená při 293 K (20 °C), je 900 MPa nebo větší.
"Titanium alloys" refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
‚Skly s nízkou roztažností‘ se rozumějí skla, jejichž koeficient tepelné roztažnosti, měřený při 293 K (20 °C), je 1 × 10 –7 K–1 nebo menší.
"Low-expansion glasses" refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10–7 K–1 or less measured at 293 K (20 °C).
‚Dielektrickými vrstvami‘ se rozumějí povlaky vytvořené z více vrstev izolačních materiálů, v nichž se pro odraz, prostup nebo absorpci různých vlnových pásem využívají interferenční vlastnosti systému složeného z materiálů o různém indexu lomu.
"Dielectric layers" are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
Dielektrickými vrstvami se zde rozumějí více než čtyři dielektrické vrstvy nebo vrstvy dielektrického/kovového „kompozitu“.
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
‚Cementovaný karbid wolframu‘ nezahrnuje materiály pro řezné a tvářecí nástroje z karbidu wolframu/(kobaltu, niklu), karbidu titanu/(kobaltu, niklu), karbidu chromu/nikl-chromu a karbidu chromu/niklu.
"Cemented tungsten carbide" does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
„Technologie“ speciálně vyvinutá pro nanášení uhlíku s vlastnostmi diamantu na některý z níže uvedených předmětů není zahrnuta:
"Technology" specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
‚Karbid křemíku‘ nezahrnuje materiály pro řezné a tvarovací nástroje.
"Silicon carbide" does not include cutting and forming tool materials.
Keramickými substráty se ve smyslu této kategorie nerozumějí keramické materiály obsahující nejméně 5 % hmotnostních jílu nebo cementu, ať již samostatně nebo v kombinaci.
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination. Table — Deposition techniques — Technical note
Chemická depozice v parní fázi (CVD) je proces nanášení povlaku nebo vytvoření povlaku modifikací povrchu, při kterém se na zahřátý substrát usazuje kov, slitina, „kompozit“, dielektrikum nebo keramika.
chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
Energii pro tento proces rozkladu nebo chemické reakce lze získat teplem substrátu, plazmou doutnavého výboje nebo „laserovým“ ozářením. POZN.
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
fyzikální depozice v parní fázi elektronovým svazkem využívající k ohřevu a odpařování materiálu, který tvoří povlak, elektronový svazek,
electron Beam PVD uses an electron beam to heat and evaporate the material which forms the coating;
fyzikální depozice v parní fázi s odporovým ohřevem za podpory iontů využívající k vytváření řízeného a jednotného toku odpařených povlakových materiálů elektrické odporové topné zdroje v kombinaci se soustředěnými iontovými paprsky,
ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
„laserové“ odpařování využívající k odpařování materiálu, který tvoří povlak, buď pulsní „laserové“ paprsky, nebo „laserové“ paprsky se spojitou vlnou,
"laser" Vaporization uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporize the material which forms the coating;
Pro nanášení mimo osu přímé viditelnosti se používá předpětí substrátu,
Substrate biasing is used for non line-of-sight deposition.
Poznámka 1:Kontrolní status zařízení a součástí popsaných v položkách 3A001 nebo 3A002, jiných než popsaných v položkách 3A001.a.3. až 3A001.a.10. nebo 3A001.a.12., které jsou speciálně konstruované nebo které mají totožné funkční vlastnosti jako jiná zařízení, je určen kontrolním statusem těchto jiných zařízení.
Note 1:the control status of equipment and components described in 3A001 or 3A002, other than those described in 3A001.a.3. to 3A001.a.10. or 3A001.a.12., which are specially designed for or which have the same functional characteristics as other equipment is determined by the control status of the other equipment.
Je-li integrovaný obvod na křemíkové podložce „mikropočítačovým mikroobvodem“ nebo mikroregulátorovým mikroobvodem popsaným v položce 3A001.a.3. a má-li délku slova operandů (dat) 8 bitů nebo méně, je status integrovaného obvodu určen položkou 3A001.a.3.
If the integrated circuit is a silicon-based "microcomputer microcircuit" or microcontroller microcircuit described in 3A001.a.3. having an operand (data) word length of 8 bit or less, the control status of the integrated circuit is determined in 3A001.a.3.
Elektronické součásti a speciálně pro ně konstruované součásti:
Electronic components and specially designed components therefor, as follows:
Poznámka 1:Kontrolní status polovodičových destiček (dokončených nebo nedokončených) s určenou funkcí se hodnotí podle parametrů uvedených v položce 3A001.a.
Note 1:the control status of wafers (finished or unfinished), in which the function has been determined, is to be evaluated against the parameters of 3A001.a.
„monolitické integrované obvody“,
"Monolithic integrated circuits";
„hybridní integrované obvody“,
"Hybrid integrated circuits";
„vícečipové integrované obvody“,
"Multichip integrated circuits";
„integrované obvody vrstvového typu“, včetně křemíkových obvodů na safírové podložce,
"Film type integrated circuits", including silicon-on-sapphire integrated circuits;
„optické integrované obvody“.
"Optical integrated circuits".
celkovou dávku radiace 5 × 103 Gy (křemík) nebo vyšší;
a total dose of 5 × 103 Gy (silicon) or higher;