natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Салници, ако има такива, от първостепенно значение за уплътняване на датчиците, отчитащи налягане, и намиращи се в пряко съприкосновение със средата на процеса, изработени от или покрити с алуминий, алуминиева сплав, алуминиев оксид (двуалуминиев триоксид или сапфир), никел, никелова сплав с повече от 60 % никел в тегловно отношение или напълно флуорирани въглеводородни полимери); и
Coating Process (1) [3]
c.
Substrate
Притежаващи някоя от следните характеристики:
Resultant Coating
Пълна скала под 13 kPa и "точност", по-добра от ± 1 % от пълната скала; или
A. Chemical Vapour Deposition (CVD)
Пълна скала от 13 kPa или повече и "точност", по-добра от ± 130 Pa при измерване на налягане от 13 kPa.
"Superalloys"
В 2B230 "датчици за налягане" означава устройства, които превръщат измерените данни за налягането в електрически сигнал.
Aluminides for internal passages
По смисъла на 2B230 "точност" включва нелинейност, хистерезис и повторяемост в температурата на средата.
Ceramics (19) and Low expansion glasses (14)
Вакуумни помпи, притежаващи всички изброени по-долу характеристики:
Silicides
a.
Carbides
Сечение на входния отвор, равно или по-голямо от 380 mm;
Dielectric layers (15)
b.
Diamond
Скорост на нагнетяване, равна на или по-голяма от 15 m3/s; и
Diamond-like carbon (17)
c.
Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix""composites"
Способност за постигане на максимален вакуум повече от 13 mРа.
Refractory metals
Скоростта на нагнетяване се определя в точката на измерване с азот или въздух.
Mixtures thereof (4)
Максималният вакуум се определя на входа на помпата, като същият бъде изцяло блокиран.
Aluminides
Високоскоростни системи горелки (от бобинен, електромагнитен и електротермичен вид и други модерни системи), способни да ускоряват снаряди до скорости от 1,5 km/s или по-големи.
Alloyed aluminides (2)
ВЖ.
Boron nitride
СЪЩО МЕРКИ ЗА КОНТРОЛ НА ВОЕННИ СТОКИ
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide (18)
Скрол компресори и скрол вакуумни помпи със силфонни уплътнения с всички изброени по-долу характеристики:
Tungsten
ВЖ.
Molybdenum and Molybdenum alloys
СЪЩО 2B350.i.
Beryllium and Beryllium alloys
a.
Sensor window materials (9)
Способни да постигат обемен дебит на входа от 50 m3/h или повече;
Thermal-Evaporation Physical Vapour Deposition (TE-PVD)
b.
Physical Vapour Deposition (PVD): Electron-Beam (EB-PVD)
Способни да постигат налягане в съотношение 2:1 или повече; и
Alloyed silicides
c.
Modified zirconia (12)
При които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания газ, са изработени от някой от следните материали:
Corrosion resistant steel (7)
Алуминий или алуминиеви сплави;
Borides
Алуминиев оксид
Beryllium
Неръждаема стомана;
Titanium alloys (13)
Никел или никелови сплави;
Nitrides
Фосфорен бронз; или
B.2.
Флуорополимери.
Ion assisted resistive heating Physical Vapour Deposition (PVD) (Ion Plating)
Химически производствени инсталации, оборудване и компоненти, както следва:
Ceramics (19) and Low-expansion glasses
a.
Cemented tungsten carbide (16), Silicon carbide
Реакторни съдове или реактори, със или без бъркалки, с общ вътрешен (геометричен) обем, по-голям от 0,1 m3 (100 литра) и по-малък от 20 m3 (20000 литра), при които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания(ите) или съхранявания(ите) химикал(и), са изработени от някои от следните материали:
Physical Vapour Deposition (PVD): "Laser" Vaporization
"Сплави" с тегловно съдържание на повече от 25 % никел и 20 % хром;
Diamond-like carbon
Флуорополимери (полимерни или еластомерни материали с над 35 % съдържание на флуор в тегловно отношение);
B.4.
Стъкло (включително преминали в стъкловидно състояние или емайлирани покрития или стъклени облицовки);
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
Никел или никелови "сплави" с тегловно съдържание повече от 40 % никел;
Polymers (11) and Organic "matrix""composites"
Тантал или танталови "сплави";
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
Титан или титанови "сплави";
Refractory metals and alloys (8)
Цирконий или циркониеви "сплави"; или
Oxides
Ниобий (колумбий) или ниобиеви "сплави";
D. Plasma spraying
b.
Abradable Nickel-Graphite
Бъркалки за използване в реакторни съдове или реактори, описани в 2B350.а.; и ротори, витла или оси, изработени за такива бъркалки, при които всички повърхности на смесителя, които влизат в пряко съприкосновение с преработвания(ите) или съхранявания(ите) химикал(и), са изработени от някои от изброените по-долу материали:
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
Стъкло (включително преминали в стъкловидно състояние или емайлирани покрития или стъклени облицовки);
Abradable Al-Si-Polyester
c.
Aluminium alloys (6)
Резервоари за съхранение, контейнери или колектори с общ вътрешен (геометричен) обем, по-голям от 0,1 m3 (100 литра), при които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания(те) или съхранявания(те) химикал(и), са изработени от някои от следните материали:
E. Slurry Deposition
d.
Fused silicides
Топлообменници или кондензатори с топлоотдаваща площ, по-голяма от 0,15 m2 и по-малка от 20 m2; и тръби, плочи, серпентини или блокове (сърцевини), изработени за тези топлообменници, или кондензатори, при които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания(ите) химикал(и), са изработени от някои от следните материали:
Fused aluminides except for resistance heating elements
Графит и "въглероден графит";
F. Sputter Deposition
Цирконий или циркониеви "сплави";
Noble metal modified aluminides (3)
Силициев карбид;
Platinum
Титанов карбид; или
Ceramics and Low- expansion glasses (14)
e.
Dielectic layers (15)
Дестилационни или абсорбционни колони с вътрешен диаметър, по-голям от 0,1 m; и разпределители на течност, разпределители на пара или колектори на течност, предназначени за тези дистилационни и абсорбционни колони, при които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания/ите химикал/и са изработени от някои от следните материали:
G. Ion Implantation
f.
High temperature bearing steels
Дозиращи устройства с дистанционно управление, при което всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания(ите) химикал(и), са изработени от някои от следните материали:
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
"Сплави" с тегловно съдържание на повече от 25 % никел и 20 % хром; или
Cemented tungsten carbide (16)
g.
TABLE — DEPOSITION TECHNIQUES — NOTES
Клапи и компоненти, както следва:
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
Клапи, притежаващи и двете изброени по-долу характеристики:
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
a.
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
"Номинален размер" по-голям от 10 mm (3/8″); и
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
b.
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
Всички повърхности на смесителя, които влизат в пряко съприкосновение с произвеждания(ите), преработвания(ите) или съхранявания(ите) химикал(и), са изработени от някои от "устойчиви на корозия материали"';
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
Клапи, различни от описаните в 2B350.g.1., притежаващи всички изброени по-долу характеристики;
a.
a.
CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
"Номинален размер" равен на или по-голям от 25,4 mm (1″) и равен на или по-малък от 101,6 mm (4″);
b.
b.
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight of yttrium; or
Кожуси (корпуси на клапани) или заготовки на обшивки;
c.
c.
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
Затварящ елемент, проектиран така, че да бъде взаимозаменяем; и
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
d.
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
Всички повърхности на кожуха (корпуса на клапана) или заготовката на обшивката, които влизат в пряко съприкосновение с произвеждания(ите), преработвания(ите) или съхранявания(ите) химикал(и), са изработени от "устойчиви на корозия материали"';
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
Компоненти, проектирани за клапи, посочени в 2B350.g.1. или 2B350.g.2., при които всички повърхности, които влизат в пряко съприкосновение с произвеждания(те), преработвания(те) или съхранявания(те) химикал(и), са изработени от "материали, устойчиви на корозия", както следва:
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
a.
"Technology" for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
Кожуси (корпуси на клапани);
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
b.
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
Заготовки на обшивки;
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
По смисъла на 2B350.g. "устойчиви на корозия материали" означава някой от следните материали:
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Никел или никелови "сплави" с тегловно съдържание повече от 40 % никел;
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10– 7 K– 1 or less measured at 293 K (20 °C).
"Сплави" с тегловно съдържание на повече от 25 % никел и 20 % хром;
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
Стъкло (включително преминали в стъкловидно състояние или емайлирани покрития или стъклени облицовки);
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
Тантал или танталови "сплави";
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
Титан или титанови "сплави";
"Technology" specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
Цирконий или циркониеви "сплави";
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
Ниобий (колумбий) или ниобиеви "сплави"; или
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
Керамични материали, както следва:
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
Силициев карбид с чистота от 80 % или повече в тегловно отношение;
TABLE — DEPOSITION TECHNIQUES — TECHNICAL NOTE
Алуминиев оксид (двуалуминиев триоксид) с чистота от 99,9 % или повече в тегловно отношение;
Processes specified in Column 1 of the Table are defined as follows:
Циркониев оксид (цирконий).
a.
"Номиналният размер" се определя като по-малкият от диаметрите при входа и изхода.
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
h.
Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate.
Многостенни тръбопроводи, включващи детектори за установяване на течове, при които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания(те) или съхранявания(те) химикал(и), са изработени от някои от следните материали:
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
i.
CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
Многосалникови и безсалникови помпи, при които максималната пропускателна способност, специфицирана от производителя, е по-голяма от 0,6 m3/час, или вакуумни помпи с максимална пропускателна способност, специфицирана от производителя, над 5 m3/час (при стандартни температурни условия от (273 K (0 °C)) и налягане (101,3 kPa), различни от посочените в 2B233; и кутии (корпуси на помпи), заготовки на обшивки, лопатки, ротори или жигльори за тези помпи, при които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания/ите химикал/и, са изработени от някои от следните материали:
Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
Керамика;
The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
Феросилиций (железни сплави с високо съдържание на силиций);
b.
В 2B350.i. понятието "салник" се отнася само за салниците, които влизат в пряко съприкосновение с преработвания(ите) (или предназначен(и) за преработване) химикал(и) и изпълняват уплътняваща функция, при която въртящият или задвижван с бутало вал преминава през корпус на помпа.
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material.
j.
This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates.
Пещи за обезвреждане на химикали, проектирани да унищожават химикалите специфицирани в 1C350, снабдени със специално проектирани системи за подаване на отпадъци, специални обработващи устройства и средна температура на горивната камера, по-голяма от 1273 К (1000 °C), при които всички повърхности от системите за подаване на отпадъци, влизащи в пряко съприкосновение с отпадъците, са изработени от или покрити с някои от следните материали:
The addition of gases to the vacuum chamber during the coating process to synthesize compound coatings is an ordinary modification of the process.
Керамика; или
The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.
Никел или никелови "сплави" с тегловно съдържание повече от 40 % никел.
The use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thickness of coatings can be a feature of these processes.
По смисъла на 2B350 материалите, използвани за уплътнения, циментация, салници, винтове, шайби или други материали, изпълняващи уплътняваща функция, не предопределя контролния статус, при условие че тези компоненти са проектирани да бъдат взаимозаменяеми.
Specific TE-PVD processes are as follows:
"Въглероден графит" е съединение от аморфен въглерод и графит, в което съдържанието на графит е 8 % или повече тегловни процента.
Electron Beam PVD uses an electron beam to heat and evaporate the material which forms the coating;
По отношение на изброените по-горе материали терминът "сплав", когато не е посочена специфичната концентрация на елементите, се смята, че се отнася за сплави, които съдържат идентифицирания метал в по-високи тегловни проценти, отколкото всеки друг елемент.
Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
Системи за следене на токсични газове и специално предназначените им за откриване на отровни газове компоненти, различни от описаните в 1А004, както следва, както и детектори, сензорни устройства и сменяеми сензорни патрони за тях:
"Laser" Vaporization uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporize the material which forms the coating;
a.
Cathodic Arc Deposition employs a consumable cathode of the material which forms the coating and has an arc discharge established on the surface by a momentary contact of a ground trigger.
Проектирани за непрекъснато действие и годни да откриват химически бойни отровни вещества или химикали, описани в 1C350, при концентрации по-ниски от 0,3 mg/m3; или
Controlled motion of arcing erodes the cathode surface creating a highly ionized plasma.
b.
The anode can be either a cone attached to the periphery of the cathode, through an insulator, or the chamber.
Проектирани за откриване на дейност, потискаща (инхибираща) холинистеразната активност.
Substrate biasing is used for non line-of-sight deposition.
Оборудване, което може да се използва при обработка на биологически вещества, както следва:
This definition does not include random cathodic arc deposition with non-biased substrates.
a.
Ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionize the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma.
Окомплектовани съоръжения за биологическа херметизация при ниво на херметизация (съхранение) Р3, Р4;
The introduction of reactive species, evaporation of solids within the process chamber, and the use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thicknesses of coatings are ordinary modifications of the process.
Равнищата на херметизация (съхранение) Р3 или Р4 (BL3, BL4, L3, L4) са цитирани съгласно Наръчника на СЗО за биологична сигурност на лабораториите (3-то издание, Женева, 2004 г.).
c.
b.
Pack Cementation is a surface modification coating or overlay coating process wherein a substrate is immersed in a powder mixture (a pack), that consists of:
Ферментатори и компоненти, както следва:
The metallic powders that are to be deposited (usually aluminium, chromium, silicon or combinations thereof);
Ферментатори с възможности за култивиране на патогенни "микроорганизми" или живи клетки за производството на патогенни вируси и токсини, без аерозолно разпространение, с общ капацитет от 20 литра или по-голям;
An activator (normally a halide salt); and
Компоненти, проектирани за ферментаторите, описани в 2B352.b.1., като следва:
An inert powder, most frequently alumina.
a.
The substrate and powder mixture is contained within a retort which is heated to between 1030 K (757 °C) and 1375 K (1102 °C) for sufficient time to deposit the coating.
Култивационни камери, проектирани да бъдат стерилизирани или дезинфекцирани in situ;
d.
b.
Plasma Spraying is an overlay coating process wherein a gun (spray torch) which produces and controls a plasma accepts powder or wire coating materials, melts them and propels them towards a substrate, whereon an integrally bonded coating is formed.
Устройства за съхраняване на култивационни камери;
Plasma spraying constitutes either low pressure plasma spraying or high velocity plasma spraying.
c.
Low pressure means less than ambient atmospheric pressure.
Устройства за контрол на процесите, способни да извършват едновременно наблюдение и контрол на два или повече системни параметъра за ферментация (напр. температура, pH, хранителни вещества, разклащане, разтворен кислород, приток на въздух, контрол на разпенването);
High velocity refers to nozzle-exit gas velocity exceeding 750 m/s calculated at 293 K (20 °C) at 0,1 MPa.
По смисъл на 2B352.b. ферментаторите включват биореактори, биореактори за еднократна употреба (еднократни), хемостати и системи с непрекъсната проточност.
e.
c.
Slurry Deposition is a surface modification coating or overlay coating process wherein a metallic or ceramic powder with an organic binder is suspended in a liquid and is applied to a substrate by either spraying, dipping or painting, subsequent air or oven drying, and heat treatment to obtain the desired coating.
Центрофужни сепаратори, с възможности за непрекъснато разделяне без аерозолно разпространение, имащи всички изброени характеристики:
f.
Дебит над 100 литра на час;
Sputter Deposition is an overlay coating process based on a momentum transfer phenomenon, wherein positive ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material).
Компоненти от полирана неръждаема стомана или титан;
The kinetic energy of the impacting ions is sufficient to cause target surface atoms to be released and deposited on an appropriately positioned substrate.
Едно или повече паронепроницаеми уплътнени съединения в зоната на херметизация (съхранение); и
The Table refers only to triode, magnetron or reactive sputter deposition which is used to increase adhesion of the coating and rate of deposition and to radio frequency (RF) augmented sputter deposition used to permit vaporisation of non-metallic coating materials.
Способни на стерилизация с пара in situ в затворено състояние;
Low-energy ion beams (less than 5 keV) can be used to activate the deposition.
Центрофужните сепаратори включват декантаторите.
g.
d.
Ion Implantation is a surface modification coating process in which the element to be alloyed is ionized, accelerated through a potential gradient and implanted into the surface region of the substrate.
Филтриращо оборудване за напречен (тангенциален) поток, способно да разделя патогенни микроорганизми, вируси, токсини или клетъчни култури, притежаващи всички изброени по-долу характеристики:
This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
Компоненти за филтриращо оборудване за напречен (тангенциален) поток за разделяне на патогенни микроорганизми, вируси, токсини или клетъчни култури, притежаващи всички изброени по-долу характеристики:
CATEGORY 3 — ELECTRONICS
a.
The control status of equipment and components described in 3A001 or 3A002, other than those described in 3A001.a.3. to 3A001.a.10., 3A001.a.12. or 3A001.a.13, which are specially designed for or which have the same functional characteristics as other equipment is determined by the control status of the other equipment.
Пълна филтрираща площ, равна на или по-голяма от 1 m2; и
The control status of integrated circuits described in 3A001.a.3. to 3A001.a.9., 3A001.a.12. or 3A001.a.13 which are unalterably programmed or designed for a specific function for another equipment is determined by the control status of the other equipment.