natgillin/translations-raw huggingface dataset:
Алуминиев оксид (двуалуминиев триоксид) с чистота от 99,9 % или повече в тегловно отношение;
Diamond-like carbon
Циркониев оксид (цирконий).
B.4.
„Номиналнният размер“ се определя като по-малкият от диаметрите при входа и изхода.
Physical Vapour Deposition (PVD): Cathodic Arc Discharge
h.
Polymers (11) and Organic "matrix" "composites"
Многостенни тръбопроводи, включващи детектори за установяване на течове, при които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания(те) или съхранявания(те) химикал(и), са изработени от някои от следните материали:
C. Pack cementation (see A above for out-of-pack cementation) (10)
i.
Refractory metals and alloys (8)
Многосалникови и безсалникови помпи, при които максималната пропускателна способност, специфицирана от производителя, е по-голяма от 0,6 m3/час, или вакуумни помпи с максимална пропускателна способност, специфицирана от производителя, над 5 m3/час (при стандартни температурни условия от (273 K (0 oC)) и налягане (101,3 kPa), различни от посочените в 2B233; и кутии (корпуси на помпи), заготовки на обшивки, лопатки, ротори или жигльори за тези помпи, при които всички повърхности, влизащи в пряко съприкосновение с преработвания/ите химикал/и, са изработени от някои от следните материали:
Oxides
Керамика;
D. Plasma spraying
Феросилиций (железни сплави с високо съдържание на силиций);
Abradable Nickel-Graphite
В 2B350.i. понятието „салник“ се отнася само за салниците, които влизат в пряко съприкосновение с преработвания(ите) (или предназначен(и) за преработване) химикал(и) и изпълняват уплътняваща функция, при която въртящият или задвижван с бутало вал преминава през корпус на помпа.
Abradable materials containing Ni-Cr-Al
j.
Abradable Al-Si-Polyester
Пещи за обезвреждане на химикали, проектирани да унищожават химикалите специфицирани в 1C350, снабдени със специално проектирани системи за подаване на отпадъци, специални обработващи устройства и средна температура на горивната камера, по-голяма от 1273 К (1000 °C), при които всички повърхности от системите за подаване на отпадъци, влизащи в пряко съприкосновение с отпадъците, са изработени от или покрити с някои от следните материали:
Aluminium alloys (6)
Керамика; или
E. Slurry Deposition
Никел или никелови „сплави“ с тегловно съдържание повече от 40 % никел.
Fused silicides
По смисъла на 2B350 материалите, използвани за уплътнения, циментация, салници, винтове, шайби или други материали, изпълняващи уплътняваща функция, не определя контролния статус, при условие че тези компоненти са проектирани да бъдат взаимозаменяеми.
Fused aluminides except for resistance heating elements
„Въглероден графит“ е съединение от аморфен въглерод и графит, в което съдържанието на графит е 8 % или повече тегловни процента.
F. Sputter Deposition
По отношение на изброените по-горе материали терминът „сплав“, когато не е посочена специфичната концентрация на елементите, се смята, че се отнася за сплави, които съдържат идентифицирания метал в по-високи тегловни проценти, отколкото всеки друг елемент.
Noble metal modified aluminides (3)
Системи за следене на токсични газове и специално предназначените им за откриване на отровни газове компоненти, различни от описаните в 1А004, както следва, както и детектори, сензорни устройства и сменяеми сензорни патрони за тях:
Platinum
a.
Ceramics and Low-expansion glasses (14)
Проектирани за непрекъснато действие и годни да откриват химически бойни отровни вещества или химикали, описани в 1C350, при концентрации по-ниски от 0,3 mg/m3; или
Dielectic layers (15)
b.
G. Ion Implantation
Проектирани за откриване на потискаща (инхибираща) холинистеразата активна дейност.
High temperature bearing steels
Оборудване, което може да се използва при обработка на биологически вещества, както следва:
Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium)
a.
Cemented tungsten carbide (16)
Окомплектовани съоръжения за биологическа херметизация при ниво на херметизация (съхранение) Р3, Р4;
TABLE — DEPOSITION TECHNIQUES — NOTES
Равнищата на херметизация (съхранение) Р3 или Р4 (BL3, BL4, L3, L4) са цитирани съгласно Наръчника на СЗО за биологична сигурност на лабораториите (3-то издание, Женева, 2004 г.).
The term 'coating process' includes coating repair and refurbishing as well as original coating.
b.
The term 'alloyed aluminide coating' includes single or multiple-step coatings in which an element or elements are deposited prior to or during application of the aluminide coating, even if these elements are deposited by another coating process.
Ферментатори и компоненти, както следва:
It does not, however, include the multiple use of single-step pack cementation processes to achieve alloyed aluminides.
Ферментатори с възможности за култивиране на патогенни „микроорганизми“ или живи клетки за производството на патогенни вируси и токсини, без аерозолно разпространение, с общ капацитет от 20 литра или по-голям;
The term 'noble metal modified aluminide' coating includes multiple-step coatings in which the noble metal or noble metals are laid down by some other coating process prior to application of the aluminide coating.
Компоненти, проектирани за ферментаторите, описани в 2B352.b.1., като следва:
The term 'mixtures thereof' includes infiltrated material, graded compositions, co-deposits and multilayer deposits and are obtained by one or more of the coating processes specified in the Table.
a.
'MCrAlX' refers to a coating alloy where M equals cobalt, iron, nickel or combinations thereof and X equals hafnium, yttrium, silicon, tantalum in any amount or other intentional additions over 0,01 % by weight in various proportions and combinations, except:
Култивационни камери, проектирани да бъдат стерилизирани или дезинфекцирани in situ;
a.
b.
CoCrAlY coatings which contain less than 22 % by weight of chromium, less than 7 % by weight of aluminium and less than 2 % by weight of yttrium;
Устройства за съхраняване на култивационни камери;
b.
c.
CoCrAlY coatings which contain 22 to 24 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,5 to 0,7 % by weight of yttrium; or
Устройства за контрол на процесите, способни да извършват едновременно наблюдение и контрол на два или повече системни параметъра за ферментация (напр. температура, pH, хранителни вещества, разклащане, разтворен кислород, приток на въздух, контрол на разпенването);
c.
По смисъл на 2B352.b. ферментаторите включват биореактори, биореактори за еднократна употреба (еднократни), хемостати и системи с непрекъсната проточност.
NiCrAlY coatings which contain 21 to 23 % by weight of chromium, 10 to 12 % by weight of aluminium and 0,9 to 1,1 % by weight of yttrium.
c.
The term 'aluminium alloys' refers to alloys having an ultimate tensile strength of 190 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Центрофужни сепаратори, с възможности за непрекъснато разделяне без аерозолно разпространение, имащи всички изброени характеристики:
The term 'corrosion resistant steel' refers to AISI (American Iron and Steel Institute) 300 series or equivalent national standard steels.
Дебит над 100 литра на час;
'Refractory metals and alloys' include the following metals and their alloys: niobium (columbium), molybdenum, tungsten and tantalum.
Компоненти от полирана неръждаема стомана или титан;
'Sensor window materials', as follows: alumina, silicon, germanium, zinc sulphide, zinc selenide, gallium arsenide, diamond, gallium phosphide, sapphire and the following metal halides: sensor window materials of more than 40 mm diameter for zirconium fluoride and hafnium fluoride.
Едно или повече паронепроницаеми уплътнени съединения в зоната на херметизация (съхранение); и
"Technology" for single-step pack cementation of solid airfoils is not controlled by Category 2.
Способни на стерилизация с пара in situ в затворено състояние;
'Polymers', as follows: polyimide, polyester, polysulphide, polycarbonates and polyurethanes.
Центрофужните сепаратори включват декантаторите.
'Modified zirconia' refers to additions of other metal oxides (e.g., calcia, magnesia, yttria, hafnia, rare earth oxides) to zirconia in order to stabilise certain crystallographic phases and phase compositions.
d.
Thermal barrier coatings made of zirconia, modified with calcia or magnesia by mixing or fusion, are not controlled.
Филтриращо оборудване за напречен (тангенциален) поток и компоненти, както следва:
'Titanium alloys' refers only to aerospace alloys having an ultimate tensile strength of 900 MPa or more measured at 293 K (20 °C).
Компоненти за филтриращо оборудване за напречен (тангенциален) поток за разделяне на патогенни микроорганизми, вируси, токсини или клетъчни култури, притежаващи всички изброени по-долу характеристики:
'Low-expansion glasses' refers to glasses which have a coefficient of thermal expansion of 1 × 10–7 K–1 or less measured at 293 K (20 °C).
a.
'Dielectric layers' are coatings constructed of multi-layers of insulator materials in which the interference properties of a design composed of materials of various refractive indices are used to reflect, transmit or absorb various wavelength bands.
Пълна филтрираща площ, равна на или по-голяма от 1 m2; и
Dielectric layers refers to more than four dielectric layers or dielectric/metal "composite" layers.
b.
'Cemented tungsten carbide' does not include cutting and forming tool materials consisting of tungsten carbide/(cobalt, nickel), titanium carbide/(cobalt, nickel), chromium carbide/nickel-chromium and chromium carbide/nickel.
Притежаващи някоя от следните характеристики:
"Technology" specially designed to deposit diamond-like carbon on any of the following is not controlled:
С възможност да бъде стерилизирана или дезинфектирана in situ; или
magnetic disk drives and heads, equipment for the manufacture of disposables, valves for faucets, acoustic diaphragms for speakers, engine parts for automobiles, cutting tools, punching-pressing dies, office automation equipment, microphones or medical devices or moulds, for casting or moulding of plastics, manufactured from alloys containing less than 5 % beryllium.
Използващо филтриращи компоненти за едонкратна или единична употреба;
'Silicon carbide' does not include cutting and forming tool materials.
В 2B352.d.1.b. стерилизиран означава отстраняването на всички жизнеспособни микроби от оборудването чрез използването на или физични (напр. пара) или химични агенти.
Ceramic substrates, as used in this entry, does not include ceramic materials containing 5 % by weight, or greater, clay or cement content, either as separate constituents or in combination.
Дезинфекциране означава унищожаването на потенциална микробна инфекциозна способност в оборудването чрез използването на химичн агенти с бактерициден ефект.
TABLE — DEPOSITION TECHNIQUES — TECHNICAL NOTE
Дезинфекция и стерилизация се различават от хигиенизиране, като последното се отнася до процедури на почистване с цел да понижи микробното замърсянане на оборудването, без да постига непремено отстраняването на цялата микробна заразност или жизненост.
Processes specified in Column 1 of the Table are defined as follows:
d. не контролира оборудване за обратна осмоза, както е определено от производителя.
a.
Компоненти за филтриращо оборудване за напречен (тангенциален) поток (например модули, елементи, касети, глави, единици или пластини) с филтрираща площ, равна на или по-голяма от 0,2 m2 за всеки компонент и проектирани за използване в оборудване за напречен (тангенциален) поток, описано в 2B352.d;
Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, "composite", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate.
Е.
Gaseous reactants are decomposed or combined in the vicinity of a substrate resulting in the deposition of the desired elemental, alloy or compound material on the substrate.
Оборудване за сушене чрез замразяване с възможност за стерилизация с пара, с капацитет на охлаждащия агрегат над 10 kg лед за 24 часа и по-малко от 1000 kg лед за 24 часа;
Energy for this decomposition or chemical reaction process may be provided by the heat of the substrate, a glow discharge plasma, or "laser" irradiation.
f.
N.B.
Защитно и изолиращо (херметизиращо) оборудване, както следва:
CVD includes the following processes: directed gas flow out-of-pack deposition, pulsating CVD, controlled nucleation thermal deposition (CNTD), plasma enhanced or plasma assisted CVD processes.
Цели защитни или от две части (полу) скафандри, или капаци (похлупаци), зависещи от приток на външен въздух и функциониращи под положително налягане;
N.B.
f.1. не контролира скафандри, проектирани за употреба с оборудване за самостоятелно дишане.
Pack denotes a substrate immersed in a powder mixture.
Камери или изолатори с биологическа защита клас III с аналогични експлоатационни стандарти;
N.B.
В 2B352.f.2. изолаторите включват гъвкави изолатори, поглъщатели, анаеробни камери, сухи камери и чадъри за ламинарен поток (затворени с вертикален поток).
The gaseous reactants used in the out-of-pack process are produced using the same basic reactions and parameters as the pack cementation process, except that the substrate to be coated is not in contact with the powder mixture.
Камери, проектирани за изпитания с аерозоли с „микроорганизми“, вируси или „токсини“ с капацитет от 1 m3 или по-голям;
Thermal Evaporation-Physical Vapour Deposition (TE-PVD) is an overlay coating process conducted in a vacuum with a pressure less than 0,1 Pa wherein a source of thermal energy is used to vaporize the coating material.
h.
This process results in the condensation, or deposition, of the evaporated species onto appropriately positioned substrates.
Оборудване за пулверизационно сушене, пригодени за сушене на токсини или патогенни микроорганизми, с всички изброени по-долу характеристики:
The addition of gases to the vacuum chamber during the coating process to synthesize compound coatings is an ordinary modification of the process.
Капацитет на изпаряване на вода ≥ 0,4 kg/h и ≤ 400 kg/h;
The use of ion or electron beams, or plasma, to activate or assist the coating's deposition is also a common modification in this technique.
Способност за генериране на продукт със среден размер на частиците ≤10 μm с наличните приспособления или с минимално модифициране на устройството за пулверизационно сушене посредством атомизиращи дюзи, които правят възможно генерирането на частиците с желания размер; и
The use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thickness of coatings can be a feature of these processes.
С възможност да бъде стерилизирана или дезинфектирана in situ.
Specific TE-PVD processes are as follows:
Няма
Electron Beam PVD uses an electron beam to heat and evaporate the material which forms the coating;
„Софтуер“, различен от определения в 2D002, както следва:
Ion Assisted Resistive Heating PVD employs electrically resistive heating sources in combination with impinging ion beam(s) to produce a controlled and uniform flux of evaporated coating species;
a. „Софтуер“, специално проектиран или модифициран за „разработване“ или „производство“ на оборудването, описано в 2A001 или 2B001
"Laser" Vaporization uses either pulsed or continuous wave "laser" beams to vaporize the material which forms the coating;
b. „Софтуер“, специално проектиран или модифициран за „използване“ на оборудването, определено в 2A001.c, 2B001 или 2B003 — 2B009.
Cathodic Arc Deposition employs a consumable cathode of the material which forms the coating and has an arc discharge established on the surface by a momentary contact of a ground trigger.
001 не контролира „софтуер“ за програмиране на части, генериращ кодове за „цифрово управление“ за обработка на различни елементи
Controlled motion of arcing erodes the cathode surface creating a highly ionized plasma.
„Софтуер“ за електронни устройства, дори и да се намират в електронно устройство или система, позволяващ на такива устройства или системи да работят като устройство за „цифрово управление“, способно на едновременно координиране на повече от четири оси за „контурно управление“.
The anode can be either a cone attached to the periphery of the cathode, through an insulator, or the chamber.
002 не контролира „софтуер“, специално проектиран или модифициран за експлоатация на изделия, които не са посочени в категория 2.
Substrate biasing is used for non line-of-sight deposition.
002 не контролира „софтуер“ за изделията, описани в 2B002.
This definition does not include random cathodic arc deposition with non-biased substrates.
Вж.
Ion Plating is a special modification of a general TE-PVD process in which a plasma or an ion source is used to ionize the species to be deposited, and a negative bias is applied to the substrate in order to facilitate the extraction of the species from the plasma.
2D001 и 2D003 за „софтуер“ за изделията, описани в 2B002.
The introduction of reactive species, evaporation of solids within the process chamber, and the use of monitors to provide in-process measurement of optical characteristics and thicknesses of coatings are ordinary modifications of the process.
002 не контролира „софтуер“, изнасян със, и необходимия минимум за функционирането на изделия, които не са описани в категория 2.
c.
„Софтуер“, проектиран или модифициран за експлоатация на оборудване, описано в 2B002, за превръщане на функции за оптичен дизайн, детайлни измервания и отнемане на материал в команди за „цифрово управление“, с цел постигане на желаната форма на детайла.
Pack Cementation is a surface modification coating or overlay coating process wherein a substrate is immersed in a powder mixture (a pack), that consists of:
„Софтуер“, специално проектиран или модифициран за „използване“ на оборудването, посочено в 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 или 2B119—2B122.
The metallic powders that are to be deposited (usually aluminium, chromium, silicon or combinations thereof);
ВЖ.
An activator (normally a halide salt); and
СЪЩО 9D004.
An inert powder, most frequently alumina.
„Софтуер“, специално проектиран за „използване“ на оборудването, посочено в 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 или 2B227.
The substrate and powder mixture is contained within a retort which is heated to between 1030 K (757 °C) and 1375 K (1,102 °C) for sufficient time to deposit the coating.
„Софтуер“, специално проектиран или модифициран за „разработване“, „производство“ или „използване“ на оборудването, описано в 2B201.
d.
202 не контролира „софтуер“, който генерира командни кодове за „цифрово управление“, но не позволява директно използване на оборудването за обработка на различни елементи.
Plasma Spraying is an overlay coating process wherein a gun (spray torch) which produces and controls a plasma accepts powder or wire coating materials, melts them and propels them towards a substrate, whereon an integrally bonded coating is formed.
„Софтуер“, различен от описания в 1D003, специално проектиран за „използване“ на оборудване, описано в 2В351.
Plasma spraying constitutes either low pressure plasma spraying or high velocity plasma spraying.
„Технологии“, съгласно Общата бележка за технологиите, за „разработване“ на оборудване или „софтуер“, описани в 2A, 2B или 2D.
N.B. 1
001 включва „технологии“ за интегриране на системи от сонди в машини за измерване на координати, описани в 2B006.a.
Low pressure means less than ambient atmospheric pressure.
„Технологии“, съгласно Общата бележка за технологиите, за „производство“ на оборудването, описано в 2A или 2В.
N.B.
Други „технологии“, както следва:
High velocity refers to nozzle-exit gas velocity exceeding 750 m/s calculated at 293 K (20 °C) at 0,1 MPa.
a. „Технологии“ за „разработване“ на интерактивни графики като интегрирана част от устройствата за „цифрово управление“, за изготвяне или модифициране на части от програми;
e.
b. „Технологии“ за металообработващи производствени процеси, както следва:
Slurry Deposition is a surface modification coating or overlay coating process wherein a metallic or ceramic powder with an organic binder is suspended in a liquid and is applied to a substrate by either spraying, dipping or painting, subsequent air or oven drying, and heat treatment to obtain the desired coating.
„Технологии“ за проектиране на инструменти, матрици или закрепващи устройства, специално предназначени за някой от изброените по-долу процеси:
f.
a. „Свръхпластично формоване“;
Sputter Deposition is an overlay coating process based on a momentum transfer phenomenon, wherein positive ions are accelerated by an electric field towards the surface of a target (coating material).
b. „Дифузионно свързване“; или
The kinetic energy of the impacting ions is sufficient to cause target surface atoms to be released and deposited on an appropriately positioned substrate.
c. „Хидравлично пресоване с непосредствено действие“;
N.B.
Технически данни, състоящи се от методи и параметри на процесите, както са описани по-долу, използвани за контрол на:
The Table refers only to triode, magnetron or reactive sputter deposition which is used to increase adhesion of the coating and rate of deposition and to radio frequency (RF) augmented sputter deposition used to permit vaporisation of non-metallic coating materials.
a. „Свръхпластично формоване“ на алуминиеви сплави, титанови сплави или „свръхсплави“:
N.B.
Подготовка на повърхностите;
Low-energy ion beams (less than 5 keV) can be used to activate the deposition.
Степен на деформация;
g.
Температура;
Ion Implantation is a surface modification coating process in which the element to be alloyed is ionized, accelerated through a potential gradient and implanted into the surface region of the substrate.
Налягане;
This includes processes in which ion implantation is performed simultaneously with electron beam physical vapour deposition or sputter deposition.
b. „Дифузионно свързване“ на „свръхсплави“ или титанови сплави:
CATEGORY 3 —
c. „Хидравлично пресоване с непосредствено действие“ на алуминиеви сплави или титанови сплави:
ELECTRONICS
Време на цикъла;
The control status of equipment and components described in 3A001 or 3A002, other than those described in 3A001.a.3. to 3A001.a.10., 3A001.a.12. or 3A001.a.13, which are specially designed for or which have the same functional characteristics as other equipment is determined by the control status of the other equipment.
d. „Горещо изостатично уплътняване“ на титанови сплави, алуминиеви сплави, или „свръхсплави“:
The control status of integrated circuits described in 3A001.a.3. to 3A001.a.9., 3A001.a.12. or 3A001.a.13 which are unalterably programmed or designed for a specific function for another equipment is determined by the control status of the other equipment.
c. „Технологии“ за „разработване“ или „производство“ на хидравлични машини за ротативно огъване и матрици за тях, за производство на корпусни конструкции за летателни апарати;
When the manufacturer or applicant cannot determine the control status of the other equipment, the control status of the integrated circuits is determined in 3A001.a.3. to 3A001.a.9., 3A001.a.12 and 3A001.a.13.
d. „Технологии“ за „разработване“ на генератори на команди за металообработващи машини (напр. части от програми) на базата на проектни данни, намиращи се вътре в устройствата за „цифрово управление“;
Electronic components and specially designed components therefor, as follows:
Е. „Технологии“ за „разработване“ на интегриращ „софтуер“ за включване на експертни системи за подпомагане на изпреварващите решения при цеховите операции в устройствата за „цифрово управление“;
a.
f. „Технологии“ за полагане на неорганични горни покрития или неорганични покрития, изменящи повърхността, (описани в колона 3 на следващата таблица) върху неелектронни подложки, (описани в колона 2 на следващата таблица), посредством процесите, описани в колона 1 на следващата таблица и дефинирани в Техническата бележка.
General purpose integrated circuits, as follows:
Таблицата и Техническата бележка са поместени след графа 2Е301.
The control status of wafers (finished or unfinished), in which the function has been determined, is to be evaluated against the parameters of 3A001.a.
Тази таблица следва да се използва за уточняване на технологията на конкретен процес на нанасяне на покритие само когато полученото покритие в колона 3 се намира в тази част от колоната, която се намира точно срещу съответния субстрат в колона 2.
Integrated circuits include the following types: