mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
Werkwijze voor het met steenstrips beplakken van een paneel, welke 15 werkwijze de stappen omvat: het op een horizontaal transportvlak positioneren van een paneel; het tenminste op een deel van het oppervlak van het paneel aanbrengen van een lijmlaag; het naast het paneel in een buffer verschaffen van een rij steenstrips; 20 - het oppakken van de gehele rij steenstrips en het in de lijmlaag op het paneel plaatsen van de rij steenstrips; het herhalen van de stappen van het verschaffen van een rij steenstrips en het oppakken en op het paneel plaatsen daarvan, ten einde een deel of het gehele oppervlak van het paneel te bekleden met steenstrips.
Method as claimed in claim 13, wherein during the adjustment of the joint width of the brick slips occurs in the buffer zone or during the transporting of the row to a position above the panel.
Werkwijze volgens conclusie 10, waarbij het paneel een plaat van een isolatieschuim is.
Method as claimed in claim 13, wherein the joint widths of the brick slips in the row are substantially the same upon placement on the panel, or wherein the centre-to-centre distances of the brick slips in the row are substantially the same upon placement on the panel.
Met inspuiting van vloeistof in de gasreinigingsinrichting waren de concentraties N02 en S02 niet detecteerbaar.
When injecting liquid into the gas cleaning compartment the concentrations of NO2 and SO2 were not detectable.
De pH van de vloeistof na de behandeling was aanzienlijk verlaagd van pH 7 tot pH <5.
The liquid's pH was substantially lower after having performed the test experiment, from pH 7 to pH<5.
Test II: Concentraties van N02 en S02 werden verlaagd tot onder de meetgrens van de meetapparatuur.
Concentrations of NO2 and SO2 were reduced to below the.
De hoeveelheid van in het gas aanwezige vaste deeltjes werd op het oog sterk verminderd na be handeling van het gas met de vloeistof niet meer zichtbaar en derhalve alle opgenomen door het water.
The amount of solid particles present in the gas were reduced substantially on the eye, after treatment of the gas with the liquid and were not visible anymore, thus the solid particles were removed by the water.
Zonder toevoer van vloeistof in de gasreinigingsinrichting bedroeg de concentratie N02 57 ppm en S02 250 ppm.
Without addition of any liquid into the gas cleaning compartment the concentration amounted to NO2 57 ppm and SO2 250 ppm.
Met inspuiting van vloeistof met CaC03 in de gasreinigingsinrichting waren de concentraties N02 en S02 eveneens niet detecteerbaar.
When injecting a liquid comprising CaCO3 into the gas cleaning compartment the concentrations of NO2 and SO2 were not detectable.
De pH van de vloeistof na de behandeling was aanzienlijk verlaagd van pH 9 tot circa pH 7.
The pH of the liquid after the treatment was substantially reduced from pH 9 to about pH 7.
De toevoeging van CaC03 aan de vloeistof had geen meetbare invloed op de verwijdering van schadelijke stoffen maar leverde een vloeistofstroom op die zonder verdere behandeling kan worden afgevoerd.
The addition of CaCO3 to the liquid had no noticeably influence on the removal of harmful substances but yielded a liquid flow that could be disposed of without any further processing.
Test III: Een verdere uitvoeringsvorm van de uitvinding voorziet in een combinatie van de uitvinding met een additionele brander op een positie vóór de gasreinigingsinrichting 4.
A further embodiment of the invention provides for a combination of the invention with an additional burner at a position upstream the gas cleaning compartment 4.
Bij voorkeur wordt een brander op basis van HHO gebruikt.
Preferably, a burner using HHO is used.
Het is gebleken dat een dergelijke HHO brander een positieve invloed heeft op het verwijderen van met name de vaste deeltjes in het gas.
It has shown that such HHO burner has a positive influence on the removal of solid particles in the gas.
De in het gas aanwezige vaste deeltjes werden op het oog volledig verwijderd na behandeling van het gas met de HHO brander en met de vloeistof en derhalve volledig verwijderd.
On the eye, the solid particles that are present in the gas are completely removed after treatment of the gas with the HHO burner and the liquid and are thus fully removed.
In de test werden drie brandermonden gebruikt van het type Delavan Siphon nr. 4, met toevoer van HHO van 10 1/min.
In the test three nozzle burners were used of the kind Delavan Siphon nr. 4 (trademark), with the addition of HHO in an amount of 10 l/min.
De branders verhoogden de concentratie aan NOx in het te reinigen gas, maar dit werd tot beneden de detecteerbare grens uit het gas verwijderd door de vloeistofbehandeling.
The burners increased the amount of NOx in the gas to be cleaned, but this was removed from the gas by means of the liquid treatment according to the invention to a value less than detectable.
De inrichting volgens de uitvinding kan zeer geschikt worden gebruikt voor reiniging van gassen die grote hoeveelheden vaste stoffen bevatten.
The device according to the present invention can be used suitably for cleaning gasses that comprise a large amount of solid particles.
Voorbeelden hiervan zijn rookgassen uit dieselmotoren, in het bijzonder scheepsdieselmotoren.
Examples thereof are flue gasses from diesel engines, especially ships diesel engines.
Ook de reiniging van rookgassen uit elektriciteitscentrales, waaronder gascentrales en kolencentrales, en afvalverbrandingsinstallaties kan zeer geschikt met de inrichting volgens de uitvinding worden uitgevoerd.
Also, cleaning of flue gasses from power plants, amongst which coal fired and gas fired power plants, and municipal waste incinerators can be performed suitably with the device according to the present invention.
Alle vaste deeltjes, zoals vliegas, worden effectief met de in richting en werkwijze volgens de uitvinding verwijderd.
All solid particles, like fly ash, are removed efficiently and effectively with the device and method according to the present invention.
Ook in water oplosbare stoffen, zoals zwaveloxiden, worden effectief verwijderd.
Furthermore, water soluble substances like sulfur oxides are affectively removed.
De behandelde gassen kunnen hierdoor rechtstreeks in de omgeving worden afgelaten zonder verdere nabehandeling.
Thus, the treated gasses can be discharge into the environment directly without any after treatment thereof.
De uitvinding is niet beperkt tot de hiervoor beschreven en in de figuren getoonde uitvoeringsvormen.
The invention is not limited to the embodiments as described above and as shown in the drawing.
De uitvinding wordt slechts beperkt door de bijgevoegde conclusies.
The invention is limited only by the appending claims.
De uitvinding strekt zich tevens uit over elke combinatie van 10 maatregelen die hiervoor onafhankelijk van elkaar zijn beschreven.
The invention also covers all combinations of features and measures that are described in this text independently of each other.
Werkwijze voor het reinigen van een gas, omvattende het door een leiding laten stromen van het te reinigen gas en het in contact brengen van het gas met een vloeistof, met het kenmerk, dat de werkwijze de stap omvat van het onder druk in de gasstroom inspuiten van de vloeistof over een geheel doorstroomd oppervlak van de leiding.
The entire disclosures of all references, applications, patents, and publications cited above are hereby incorporated by reference.
Werkwijze volgens conclusie 1, omvattende het door een spieetvormige spuitmond inspuiten van de vloeistof.
The method according to claim 1, comprising the step of injecting the liquid through a slit-shaped nozzle.
Werkwijze volgens conclusie 1 of 2, omvattende het inspuiten van de vloeistof door ten minste twee spuitmonden.
The method according to claim 1, comprising the step of injecting the liquid through at least two nozzles that are divided along the circumference of the peripheral wall of the gas cleaning compartment.
Werkwijze volgens conclusie 1, 2 of 3, omvattende het in ten minste twee lagen inspuiten van de vloeistof welke elk het doorstroomd oppervlak in hoofdzaak volledig afdekken.
The method according to claim 1, comprising the step of injecting the liquid in at least two layers that substantially completely cover the complete flow area of the gas cleaning compartment.
Werkwijze volgens conclusie 4, waarbij elke laag ten minste een spuitmond, bij voorkeur ten minste twee spuitmonden, met meer voorkeur ten minste drie spuitmonden omvat.
The method according to claim 4, wherein each layer comprises at least one nozzle.
Werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, waarbij de vloeistof water omvat.
The method according to claim 1, wherein the liquid comprises water.
Werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, waarbij de leiding is gevormd van een gastoevoerleiding met een eerste diameter voor het toevoeren van het te reinigen gas, welke gastoevoerleiding uitmondt in een gasreinigingsruimte die is voorzien van een spuitorgaan voor het in de gasreinigingsruimte spuiten van vloeistof, welke gasreinigingsruimte een wand heeft die zich ten minste radiaal buiten de gastoevoerleiding uitstrekt.
The method according to claim 1, wherein the gas supply line has a first diameter and the gas cleaning compartment has a second diameter, wherein the second diameter is larger than the first diameter.
Werkwijze volgens conclusie 7, omvattende het in een vertikale richting opwaarts toevoeren van het te reinigen gas door de gas toevoerleiding en het in de gasreinigingsruimte inspuiten van de vloeistof voor het in contact brengen van de gasstroom met de vloeistof en het via de wand van de gasreinigingsinrichting afvoeren van de vloeistof.
The method according to claim 1, comprising the step of vertically in an upward direction feeding the gas to be cleaned through the gas cleaning compartment.
Werkwijze volgens conclusie 7, omvattende het in een van een vertikale richting afwijkende richting toevoeren van het te reinigen gas door de gastoevoerleiding en het in de gasreinigingsruimte inspuiten van de vloeistof voor het in contact brengen van de gasstroom met de vloeistof en het via de wand van de gasreinigingsinrichting afvoeren van de vloeistof.
The method according to claim 1, comprising the step of feeding the gas to be cleaned through the gas supply line in a direction other than a vertical direction and injecting the liquid into the gas cleaning compartment for contacting the gas flow with the liquid and discharging the liquid via the peripheral wall of the gas cleaning compartment.
Werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, waarbij de vloeistof tegen een wand van de gasreinigingsruimte wordt gespoten.
The method according to claim 1, wherein part of the gas supply line that is positioned inside the gas cleaning compartment as well as the gas cleaning compartment itself are coaxial tubular shapes, wherein the liquid is discharged via an interstitial space between said coaxial tubular shapes.
Inrichting voor het uitvoeren van een werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, omvattende een gasleiding voor het toevoeren van een te reinigen gas, welke gasleiding uitmondt in een gasreinigingsruimte welke is voorzien van ten minste een spuitmond voor het in de gasreinigingsinrichting spuiten van een vloeistof voor het in contact brengen van het gas met de vloeistof.
A device for performing a method according to claim 1, comprising a gas cleaning compartment with a gas supply line for feeding a gas to be cleaned into the gas cleaning compartment, said gas cleaning compartment being provided with at least one nozzle for injecting into the gas cleaning compartment a liquid for contacting the gas to be cleaned with the liquid, wherein the device further comprises a discharge for discharging the injected liquid.
Inrichting volgens conclusie 11, waarbij de gastoevoerleiding voor het toevoeren van het te reinigen gas een eerste diameter omvat, welke gastoevoerleiding uitmondt in een gasreinigingsruimte die is voorzien van een spuitorgaan voor het in de gasreinigingsruimte spuiten van vloeistof, welke gasreinigingsruimte een wand heeft die zich ten minste radiaal buiten de gastoevoerleiding uitstrekt.
A device according to claim 11, wherein the gas supply line for feeding the gas to be cleaned has a first diameter, said gas supply line debouching into a gas cleaning compartment with a second diameter, said second diameter being larger than the first diameter, and wherein the device is provided with a nozzle for injecting into the gas cleaning compartment a liquid, wherein the gas cleaning compartment has a wall that extends at least radially outside the gas supply line.
Elke richtkoppelaar op microstrip bestaat uit een ingangspoort 80, een uitgangspoort 82, een gekoppelde poort 84 en een geïsoleerde poort 86.
Each microstrip directional coupler consists of an input port 80, an output port 82, a coupled port 84and an isolated port 86.
Elke richtkoppelaar op microstrip is verbonden met het downstream of hogere frequentiepad 70 onder gebruikmaking van richtkoppelaar op microstrip ingangspoort 80 en is verbonden met één uitgang van versterker 50 door middel van gekoppelde poort 84.
Each microstrip directional coupler is connected to the downstream or higher frequency path 70using microstrip directional coupler input port 80and is connected to one output of amplifier 50by coupled port 84.
De afzonderlijke richtkoppelaars op microstrip die met elke uitgang 16, 18, 20 en 22 zijn verbonden, zijn tezamen verbonden door middel van het verbinden van elke richtkoppelaar op microstrip uitgangspoort 82 naar de aangrenzende richtkoppelaar op microstrip ingangspoort 80.
The individual microstrip directional couplers associated with each output 16, 18, 20, 22are connected together by connecting each microstrip directional coupler output port 82to the adjacent microstrip directional coupler input port 80.
Op deze wijze wordt een cascade van verbonden richtkoppelaars op microstrip verschaft, waarbij de laatste richtkoppelaar op microstrip 60 in deze reeks door middel van weerstand 90 wordt afgesloten.
In this way, a cascade of connected microstrip directional couplers is provided, with the last microstrip directional coupler 60in this series being terminated by resistor 90.
Hoewel versterker 52 met vier uitgangen, of uitgangspoorten, wordt weergegeven, kan deze elk aantal uitgangspoorten hebben.
While amplifier 52is shown with four outputs, or output ports, it may have any number of output ports.
Geïsoleerde poort 86 van elke richtkoppelaar op microstrip staat in elektrische verbinding met upstream signaalpad 72, verbonden met dit upstream pad onder gebruikmaking van weerstanden en combinatietransformatoren 62 en 68.
Isolated port 86of each microstrip directional coupler is in electrical communication with upstream signal path 72, connected to this upstream path using resistors and combining transformers 62, 68.
Op deze wijze wordt downstream route 92, of hogere frequentiesignaalroute, langs pad 70 verschaft, met het downstreamsignaal waarbij elke uitgang door middel van afzonderlijke richtkoppelaars op microstrip wordt bereikt.
In this way, downstream route 92, or higher frequency signal route, is provided along path 70, with the downstream signal reaching each output by way of individual microstrip directional couplers.
Upstreamroute 94 wordt uit elke uitgang verschaft door middel van de respectieve richtkoppelaar op microstrip ervan en gekoppelde combinatietransformatoren.
Upstream route 94is provided from each output through its respective microstrip directional coupler through resistors and associated combining transformers.
Condensator 74 is verbonden met een cascade van richtkoppelaars op microstrip 54, 56, 58 en 60.
Capacitor 74is connected to a cascade of microstrip directional couplers 54, 56, 5860.
Elke richtkoppelaar op microstrip koppelt een deel van het hoge frequentiesignaal met de respectieve uitgangen 16, 18, 20 en 22.
Each microstrip directional coupler couples a part of the high frequency signal to the respective outputs 16, 18, 20, 22.
Aangezien de koppeling van een richtkoppelaar op microstrip frequentieafhankelijk is, wordt de frequentiekarakteristiek gekanteld met het hoogste signaalniveau op de hoogste frequentie.
Since the coupling of a microstrip directional coupler is frequency dependent, the frequency characteristic will be tilted with the highest signal level on the highest frequency.
Dit neutraliseert de kabel- en netwerkverliezen die met de respectieveuitgangen 16, 18, 20 en 22 zijn verbonden.
This counteracts the cable and network losses connected to the respective outputs 16, 18, 20, 22.
Richtkoppelaars op microstrip 54, 56, 58 en 60 zijn op een zodanige wijze gerangschikt, dat uitgang 16 de hoogste versterking en voorkeur heeft en uitgang 22 de laagste versterking en voorkeur heeft, waarbij wordt gegarandeerd dat verschillende kabellengtes kunnen worden aangepast en geneutraliseerd zodat het resultaat bij het eind van de lijn een vlakke frequentiekarakteristiek zal zijn.
Microstrip directional couplers 54, 56, 58, 60are arranged in such a way that output 16has the highest gain and tilt and output 22the lowest gain and tilt ensuring that different cable lengths can be accommodated and counteracted so that the result at the end of the line will be a flat frequency characteristic.
De koppeling van een richtkoppelaar op microstrip bij lage frequenties is zeer laag als zij een hoge verzwakking heeft.
The coupling of a microstrip directional coupler at low frequencies is very low as it has a high attenuation.
Upstream signalen met lage frequentie uit uitgangen 16, 18, 20 en 22 worden bijgevolg niet beïnvloed door de richtkoppelaars op microstrip.
Low frequency upstream signals from outputs 16, 18, 20, 22are therefore not influenced by the microstrip directional couplers.
De upstream signalen met lage frequentie gaan door R1 en R2 en worden via de weerstanden R3, R4, R5 en R6 bij combinatietransformator 62 gecombineerd.
The low frequency upstream signals route through R1and R2and are combined at combining transformers 62via resistors R3, R4, R5and R6.
De waarden van de weerstanden R1 tot R6 worden zodanig gekozen, dat richtkoppelaar op microstrip 60 bij de isolatiepoort correct (tussen 50 tot 120 Ohm, afhankelijk van het ontwerp) wordt afgesloten en de verzwakking van de upstreamsignalen door de multipoort hybride combinatorverdeler is zoals is vereist voor de multipoort versterker 50.
The values of the resistors R1to R6are chosen such that microstrip directional coupler 60is terminated at the isolation port correctly (between 50 to 120 Ohm, depending on the design) and the attenuation of the upstream signals by the multiport hybrid combiner-divider is as required for the multiport amplifier 50.
Een karakteristieke waarde voor R1 is 12 Ohm, een kenmerkende waarde voor R2 is 100 Ohm, kenmerkende waarden voor R4, R5, R6 en R7 zijn respectievelijk 33 Ohm, 39 Ohm, 47 Ohm en 56 Ohm.
A typical value for R1is 12 Ohm, a typical value for R2is 100 Ohm, and typical values for R4, R5, R6and R7are 33 Ohm, 39 Ohm, 47 Ohm and 56 Ohm, respectively.
Combinatietransformator 62 heeft een windingverhouding van 1:1, waarbij de weerstanden R7 en R8 als vereffeningsweerstanden fungeren.
Combining transformer 62has a turn ratio of 1:1 with resistors R7and R8acting as balancing resistors.
De waarden van R7 en R8 worden voor de beste isolatie tussen uitgangspoorten gekozen.
The values of R7and R8are chosen for best isolation between output ports.
Een kenmerkende waarde voor R7 is 240 Ohm, en een kenmerkende waarde voor R8 is 120 Ohm.
A typical value for R7is 240 Ohm, and a typical value for R8is 120 Ohm.
Deze rangschikking garandeert een zeer hoge isolatie van uitgangspoort naar uitgangspoort zowel bij lage frequenties vanwege de combinatietransformatoren als hoge frequenties vanwege de richtkoppelaars op microstrip.
This arrangement ensures a very high output port to output port isolation both at low frequencies because of the combining transformers and high frequencies because of the microstrip directional couplers.
Transformator 68 is een fase-omkerende transformator enverdubbelt als een impedantietransformator met een kenmerkende windingverhouding van 5:3.
Transformer 68is a phase inverting transformer and doubles as an impedance transformer with a typical turn ratio of 5:3.
Figuur 3 geeft route 92 weer van de downstreamsignalen naar de uitgangen 16 en 18 en de upstream route 94 voor uitgang 16.
FIG. 3shows route 92of the downstream signals to outputs 16and 18and the upstream route 94for output 16.
De equivalente paden zijn van toepassing op de andere uitgangen.
The equivalent paths apply to the other outputs.
Aangezien de hybride combinator-verdeler eenbidirectionele structuur is, wordt de keuze van de upstream-downstreamfrequenties alleen door middel van defrequentiescheiders 24 en 24' ingesteld.
Since the hybrid combiner-divider is a bi-directional structure, the choice of the upstream-downstream frequencies is set by diplexers 24and 24′ only.
Wanneer het frequentiebereik gewijzigd dient te worden, kunnen diplexfilters gemakkelijk worden verwisseld om de signaalkarakteristieken te verbeteren zonder de noodzaak een van de andere componenten te wijzigen.
When the frequency range needs to be altered, diplex filters can be easily changed to upgrade the signal characteristics without the need to modify any of the other components.
De waarde van condensator 74 en inductor 76 wordt zodanig gekozen, dat de frequentierespons een geleidelijke kromme is.
The value of capacitor 74and inductor 76is chosen so that the frequency response is a gradual curve.
Indien de upstream- en downstreamsignalen zodanig zijn,dat de downstreamsignalen reeds bij een lage frequentie zijn, bijvoorbeeld 85 MHz, dan volgen deze upstreamsignalen met lage frequentie upstream route 94 maar natuurlijk in de andere richting, dus van inductor 76 naar de respectieve uitgangspoort.
If the upstream and downstream signals are such that the downstream signals are already at a low frequency, for example, 85 MHz, then these low frequency upstream signals follow upstream route 94but of course in the other direction, so from inductor 76to the respective output port.
Figuur 4 geeft een mogelijke prestatie van een versterker met vier uitgangen weer, die is geoptimaliseerd voor RG59 kabellengtes tussen 25 tot 1 meter van 5 tot 2000 MHz.
FIG. 4shows a possible performance of a four output port amplifier optimised for RG59 cable lengths between 25 to 1 meter from 5 to 2000 MHz.
Voor de duidelijkheid, het geeft alleen de prestatie weer van de hybride combinator-verdeler.
For clarity reasons, it shows the performance of the hybrid combiner-divider only.
Een andere mogelijke uitvoeringsvorm van versterker 50 is zonder het gebruik van combinatietransformatoren 62 en weerstanden R7 en R8.
Another possible embodiment of amplifier 50is without the use of combining transformers 62and resistors R7and R8.
In plaats van deze worden de upstreamsignalen met weerstanden gecombineerd.
Instead of these, the upstream signals are combined with resistors.
Faseomkerende transformator 68 zou echter nog steeds nodig zijn.
Phase inverting transformer 68would however still be needed.
Deze rangschikking zou minder effectief zijn aangezien zij een groter verlies van upstreamsignaal zou ondervinden en de isolatie van de versterkeruitgang naar de uitgang, d.w.z., de isolatie tussen uitgangspoorten van de versterker zelf, wordt bij lagere frequenties verminderd.
This arrangement would be less effective as it would experience greater upstream signal loss and the amplifier output to output isolation, i.e., the isolation between output ports of the amplifier itself, at lower frequencies is reduced.
Gemakkelijk te produceren voor prestaties bij zeer hoge frequenties, terwijl mulitpoortversterkers uit de stand der techniek worstelen om aan een prestatie van maximaal 1220 MHz te voldoen, de voorgestelde architectuur presteert gemakkelijk tot 2000 MHz en hoger.
The multiport amplifier 50has the following advantages: Easy to produce for performance at very high frequencies, while former art multiport amplifiers struggle to meet performance up to 1220 MHz, the proposed architecture easily performs to 2000 MHz and above.