mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
Een in de eerste deelt j esstraalkolom of in de positionering van het substraat ten opzichte van de eerste deeltjesstraalkolom optredende verschuiving leidt ertoe, dat de straalafbuigingen, die geproduceerd dienen te worden, opdat de eerste deeltjesstraal gewenste plaatsen van het object treft, dienen te worden gecorrigeerd, om de verschuiving te compenseren.
A drift occurring in the first particle beam column or the positioning of the substrate relative to the first particle beam column makes it desirable to the correct beam deflections, which are to be produced so that the first particle beam is incident on the desired sites of the object, in order to compensate for the drift.
Dergelijke correcties van reeds bepaalde gewenste straalafbuigingen of direct bepaalde straalafbuigingen kunnen met inachtneming van de vastgestelde posities van de markeringen worden bepaald, om bijvoorbeeld verschuivingen te compenseren.
Such corrections of already determined desired beam deflections or directly determined beam deflections can be determined by taking into account the captured positions of the markings to compensate drifts, for example.
Volgens als voorbeeld dienende uitvoeringsvormen heeft de gewenste doel-structuur een driedimensionalestructuur.
According to exemplary embodiments, the desired target structure has a three-dimensional structure.
Dit betekent, dat de doelstructuur zich niet alleen tweedimensionaal in een vlak, maar in de driedimensionale ruimte uitstrekt.
That means that the target structure does not extend merely two-dimensionally in a surface but in three-dimensional space.
Volgens als voorbeeld dienende uitvoeringsvormen heeft de gewenste doelstructuur twee oppervlakgebieden, waarvan de oppervlaknormalen oriëntaties hebben, die met meer dan 5°, in het bijzonder met meer dan 10° en in het bijzonder met meer dan 15° van elkaar verschillen.
According to exemplary embodiments, the desired target structure herein has two surface regions, the surface normals of which have orientations which differ by more than 5°, in particular by more than 10° and in particular by more than 15°.
Volgens als voorbeeld dienende uitvoeringsvormen omvat de werkwijze voorts het produceren van een markering op het substraat voor aanvang van het produceren van de gewenste doelstructuur.
According to exemplary embodiments, the method furthermore includes producing a marking on the substrate before the start of the production of the desired target structure.
Hierdoor kunnen verschuivingen, die tussen het begin van het produceren van de gewenste doelstructuur en de eerste keer onderbreken van het produceren van de gewenste doelstructuur en het produceren van de markering op het substraat optreden, worden vastgesteld.
Drifts which occur between the start of the production of the desired target structure and the first interruption of the production of the desired target structure and the production of the marking on the substrate can hereby be captured.
Volgens als voorbeeld dienende uitvoeringsvormen worden de markeringen in een oppervlakgebied van het substraat naast elkaar geproduceerd, waarbij oriëntaties van oppervlaknormalen van dit oppervlakgebied met minder dan 5°, in het bijzonder met minder dan 1° en in het bijzonder met minder dan 0,1° van elkaar verschillen.
According to exemplary embodiments, the markings are produced in a surface region of the substrate in neighboring fashion, wherein orientations of surface normals of this surface region differ by less than 5°, in particular less than 1° and in particular less than 0.1°.
Dit betekent, dat de markeringen als geheel op het substraat een tweedimensionale structuur hebben, zodanig dat afstanden tussen afzonderlijke markeringen en daardoor hun posities door de tweede deeltjesstraal met relatief grote nauwkeurigheid kunnen worden bepaald, zelfs wanneer deze deeltjesstraal het substraat onder een hoek treft, die verschilt van de hoek, waaronder de eerste deeltjesstraal het substraat treft.
That means that the markings on the substrate as a whole have a two-dimensional structure, with the result that distances between individual markings and thus their positions can be determined using the second particle beam with relatively great accuracy, even if the beam is incident on the substrate at an angle that differs from the angle at which the first particle beam is incident on the substrate.
Volgens als voorbeeld dienende uitvoeringsvormen omvat de werkwijze voorts het afscheiden van een metaallaag in een oppervlakgebied van het substraat, waarbij de markeringen in de metaallaag worden geproduceerd.
According to exemplary embodiments, the method furthermore includes depositing a metallic layer in a surface region of the substrate, wherein the markings are produced in the metallic layer.
Een in het bijzonder dunne metaallaag kan door de eerste deeltjesstraal snel worden verwijderd, om de markering te produceren, die dan een hoog contrast bij het vaststellen van de positie daarvan met de tweede deeltjesstraalkolom verschaft.
An in particular thin metallic layer can be removed quickly by the first particle beam to produce such markings, which then provides great contrast during the capturing of the position thereof using the second particle beam column.
Volgens als voorbeeld dienende uitvoeringsvormen omvatten de markeringen elk een rechte lijn of twee elkaar snijdende rechte lijnen.
According to exemplary embodiments, the markings each include one straight line or two intersecting straight lines.
Hierdoor is het mogelijk om afstanden tussen verschillende markeringen door middel van het aftasten daarvan met de tweede deeltjesstraal eenvoudig vast te stellen.
It is thus possible to simply capture distances between different markings by way of scanning them with the second particle beam.
Volgens als voorbeeld dienende uitvoeringsvormen zijn een hoofdas van het eerste deeltjesstraaltoestel en een hoofdas van het tweede deeltjesstraaltoestel met meer dan 10°, in het bijzonder meer dan 20° en in het bijzonder meer dan 30° ten opzichte van elkaar georiënteerd.
According to exemplary embodiments, a main axis of the first particle beam device and a main axis of the second particle beam device are oriented with respect to one another by more than 10°, in particular more than 20°, and in particular more than 30°.
De eerste deeltjesstraal kan een ionenstraal, in het bijzonder een gallium-ionenstraal, zijn en de tweededeeltjesstraal kan een elektronenstraal zijn, waarbij de tweede deeltjesstraalkolom de deeltjesstraalkolom van een elektronen-microscoop kan zijn.
The first particle beam can be an ion beam, in particular a gallium ion beam, and the second particle beam can be an electron beam, wherein the second particle beam column can be the particle beam column of an electron microscope.
Volgens als voorbeeld dienende uitvoeringsvormen omvat de werkwijze voorts het vaststellen van een momentane vorm van de zich in productie bevindende doelstructuur door middel van het richten van de tweede deeltjesstraal op een gebied van het substraat, waarin de doelstructuur wordt geproduceerd, en het detecteren van deeltjes of straling, die daarbij door de tweede deeltjesstraal op het substraat worden/wordt geproduceerd, waarbij de door de eerste deeltjesstraalkolom te produceren straalafbuigingen van de eerste deeltjesstraal voorts zodanig in afhankelijkheid van de vastgestelde momentane vorm van de zich in productie bevindende doelstructuur worden bepaald, dat de eerste deeltjesstraal op de veelheid van plaatsen van het substraat wordt gericht.
According to exemplary embodiments, the method furthermore includes capturing an instantaneous shape of the target structure being produced by way of directing the second particle beam onto a region of the substrate in which the target structure is being produced, and detecting particles or radiation which are produced in the process by the second particle beam on the substrate, wherein the beam deflections of the first particle beam, which are to be produced by the first particle beam column and are such that the first particle beam is directed onto the multiplicity of sites of the substrate, are furthermore determined in dependence on the captured instantaneous shape of the target structure being produced.
Hierdoor is het mogelijk om het ontstaan van de gewenste doelstructuur te bewaken en bijvoorbeeld verschuivingen in de snelheid, waarmee het materiaal op het substraat wordt afgescheiden, of de snelheid, waarmee het materiaal van het substraat wordt verwijderd, te compenseren, die bijvoorbeeld door een verandering van de straalstroom van de eerste deeltjesstraal of een verandering van de druk van een gebruikt procesgas veroorzaakt kunnen zijn.
It is thus possible to monitor the formation of the desired target structure and to compensate, for example, for drifts in the rate at which the material is deposited on the substrate or in the rate at which material is removed from the substrate, which can be caused for example by a change in the beam current of the first particle beam or a change in the pressure of a process gas used.
Hierbij toont: Figuur 1 een deeltjesstraalsysteem met twee deeltj esstraalkolommen; Figuur 2 een toestand van een substraat tijdens het produceren van een gewenste doelstructuur van het substraat voor het toelichten van een uitvoeringsvorm van een werkwijze voor het structureren van een object; en Figuur 3 een aanbrenging van markeringen, die bij een uitvoeringsvorm van de werkwijze voor het structureren van het object kan worden toegepast.
Embodiments of the disclosure are explained below on the basis of figures, in which: FIG. 1shows a particle beam system having two particle beam columns; FIG. 2shows a state of a substrate during the production of a desired target structure on the substrate for illustrating an embodiment of a method for structuring an object; and FIG. 3shows an arrangement of markings which can be employed in an embodiment of the method for structuring the object.
Figuur 1 toont in een perspectivische en schematisch vereenvoudigde weergave een deeltjesstraalsysteem 1 met twee deeltjesstraalkolommen, waarbij een eerste deeltjesstraalkolom 7 de deeltjesstraalkolom van een ionenstraalsysteem met een hoofdas 9 is en een tweede deeltjesstraalkolom 3 de deeltjesstraalkolom van een elektronenmicroscopiesysteem met een hoofdas 5 is.
In a perspective and schematically simplified illustration, FIG. 1shows a particle beam system 1having two particle beam columns, wherein a first particle beam column 7is the particle beam column of an ion beam system having a main axis 9, and a second particle beam column 3is the particle beam column of an electron microscopy system having a main axis 5.
De hoofdassen 5 en 9 van het elektronenmicroscopiesysteem 3 resp. van het ionenstraalsysteem 7 snijden elkaar op een plaats 11 in een gemeenschappelijk werkgebied van de beide deeltjesstraalkolommen 3, 7 onder een hoek a, die waarden vanaf bijvoorbeeld 45° tot 55° kan hebben, zodat een te structureren object 13 met een oppervlak 15 in een gebied van de plaats 11 zowel met een langs de hoofdas 9 van het ionenstraalsysteem 7 uitgezonden ionenstraal 17 kan worden bewerkt alsook met een langs de hoofdas 5 van het elektronenmicroscopiesysteem 3 uitgezonden elektronenstraal 19 kan worden onderzocht.
The main axes 5and 9of the electron microscopy system 3or of the ion beam system 7intersect at a site 11within a shared working region of the two particle beam columns 3, 7at an angle α, which can have a value of for example 45° to 55°, with result that an object 13to be structured having a surface 15can both be processed in a region of the site 11using an ion beam 17which is emitted along the main axis 9of the ion beam system 7and be examined using an electron beam 19which is emitted along the main axis 5of the electron microscopy system 3.
Voor het vasthouden van het object is een schematisch aangeduide houder 16 verschaft, die het object 13 met betrekking tot de afstand tot en de oriëntatie ten opzichte van het elektronenmicroscopiesysteem resp. het ionenstraalsysteem kan instellen.
For holding the object, a schematically indicated holder 16is provided, which can adjust the object 13with respect to its distance from and orientation with respect to the electron microscopy system or the ion beam system.
Hiervoor omvat het elektronenmicroscopiesysteem 3 voor de productie van de primaire-elektronenstraal 19een elektronenbron 21, die schematisch door middel van een kathode 23 en een anode 27 en een hiertussen aangebrachte onderdrukkings-elektrode 25 en een op afstand hiervanaangebrachte onttrekkingselektrode 26 is weergegeven.
To this end, the electron microscopy system 3includes, for producing the primary electron beam 19, an electron source 21, which is illustrated schematically by way of a cathode 23and an anode 27and a suppressor electrode 25, which is arranged between the two, and an extractor electrode 26, which is arranged at a distance therefrom.
Inrichting voor het afdalen van personen uit een gebouw BESCHRIJVING: Gebied van de uitvinding De uitvinding heeft betrekking op een inrichting voor het afdalen van personen uit bijvoorbeeld een gebouw, omvattende: een plafondunit voorzien van een uitschuifbare arm met aan het vrije uiteinde een kabelgeleider, een kabeltrommel voorzien van een rem die de rotatiesnelheid van de kabeltrommel beperkt, een op de kabeltrommel gewikkelde en over de kabelgeleider geslagen afdaalkabel met aan het uiteinde koppelmiddelen voor koppeling met een harnas.
The invention relates to a device for descending people from, for example, a building, comprising:a ceiling unit provided with an extendable arm having a cable guide at the free end,a cable drum provided with a brake that restricts the rotation speed of the cable drum,a descending cable wound on the cable drum and turned over the cable guide having at its end coupling means for coupling to a harness.
Stand van de techniek Een dergelijke inrichting is bekend uit WO 2007/113886 Al.
Such a device is known from WO 2007/113886 A1.
Bij het evacueren wordt een persoon een harnas omgedaan en dit harnas verbonden met de koppelmiddelen.
When evacuating a harness is put on a person and this harness is connected to the coupling means.
Vervolgens stapt de persoon uit het raam en wikkelt de afdaalkabel zich gecontroleerd af van de kabeltrommel.
Then the person gets out of the window and the descending cable unwinds controlled from the cable drum.
De rem zorgt ervoor dat de afdaalkabel zich niet te snel afwikkelt.
The brake ensures that the descending cable does not unwind to quickly.
Nadat deze persoon onder is, maakt deze zich los van het harnas waarna de afdaalkabel zich weer op de kabeltrommel wikkelt door in de kabeltrommel aanwezige wikkelveren.
After this person is down, he/she puts off the harness, after which the descending cable again winds on the cable drum by winding springs present in the cable drum.
Nu kan een tweede persoon op dezelfde wijze afdalen.
Now, a second person can descend in the same manner.
Samenvatting van de uitvinding Een doel van de uitvinding is het verschaffen van een inrichting van de in de aanhef omschreven soort waarmee personen sneller geëvacueerd kunnen worden dan met de bekende inrichting.
An object of the invention is to provide a device of the type described in the opening paragraph which enables people to be evacuated more rapidly than with the known apparatus.
Hiertoe is de inrichting volgens de uitvinding gekenmerkt, doordat de inrichting voorts ten minste één afdaalunit omvat die in de plafondunit op de afdaalkabel aanwezig is en langs de afdaalkabel verplaatsbaar is, welke afdaalunit een behuizing omvat, alsmede een daarmee verbonden kabelwielas, een op de kabelwielas aanwezig, draaibaar kabelwiel waarom de afdaalkabel is geslagen en dat via een vrijloop en via een centrifugaalrem met de behuizing is verbonden, twee geleidingswielen die de afdaalkabel van en naar het kabelwiel geleiden, en verdere koppelmiddelen voor koppeling met een verder harnas, welke centrifugaalrem twee met elkaar koppelbare delen omvat, waarvan een eerste deel is verbonden met het kabelwiel en een tweede deel in rotatierichting is gefixeerd ten opzichte van de behuizing.
To this end, the device according to the invention, is characterized in that the device further comprises at least one descending unit which is present on the descending cable in the ceiling unit and is movable along the descending cable, which descending unit comprises:a housing, as well asa cable wheel shaft connected to the housing,a rotatable cable wheel present on the cable wheel shaft, over which wheel the descending cable is turned and which wheel is connected to the housing via a freewheel and a centrifugal brake,two guide wheels which guide the descending cable to and from the cable wheel, andfurther coupling means for coupling to a further harness, which centrifugal brake comprises two coupling parts connected with each other comprises, of which a first part is connected to the cable wheel and a second part, in the direction of rotation, is fixed relative to the housing.
Nadat een eerste persoon zich door de kabeltrommel laat af dalen, kunnen verdere personen met behulp van de afdaalunits langs de afdaalkabel af dalen.
After a first person is descending by the cable drum, further persons may descend along the descending cable with the aid of the descending units.
Er hoeft niet gewacht te worden tot de eerste persoon helemaal beneden is.
There is no need to wait until the first person is completely down.
Ook hoeft niet gewacht te worden tot de tweede persoon beneden is maar kan kort na de tweede persoon de derde persoon beginnen met afdalen.
One does not have to wait until the second person is down but shortly after the second person the third person can start to descend.
De afdaalkabel hoeft dus niet tekens na het afdalen van een persoon op gewikkeld te worden.
The descending cable does not have to be wound on the cable drum every time a person has descended.
Hierdoor kunnen personen sneller geëvacueerd worden dan met de bekende inrichting.
This allows people to be evacuated more rapidly than with the known apparatus.
De vrijloop is ervoor om te voorkomen dat de centrifugaalrem geactiveerd wordt bij het afdalen van de eerste persoon.
The freewheel prevents activation of the centrifugal brake during the descent of the first person.
Het kabelwiel kan hierbij op de kabelwielas gefixeerd zijn en de kabelwielas kan in de behuizing gelagerd zijn of de kabelwielas kan in de behuizing gefixeerd zijn en het kabelwiel kan op de kabelwielas gelagerd zijn.
The cable wheel can hereby be fixed on the cable wheel shaft and the cable wheel shaft may be journalled in the housing or the cable wheel shaft may be fixed in the housing and the cable wheel mounted on the cable wheel shaft.
Een uitvoeringsvorm van de inrichting volgens de uitvinding is gekenmerkt, doordat de afdaalunit een planetaire tandwielset omvat met drie rotatielichamen, waarvan een eerste rotatielichaam is verbonden het kabelwiel en een tweede rotatielichaam is verbonden met het eerste deel van de centrifugaalrem.
An embodiment of the device according to the invention is characterized in that the descending unit comprises a planetary gear set with three rotation bodies, of which a first rotation body is connected to said cable wheel and a second rotating body is connected to the first part of the centrifugal brake.
Het derde rotatielichaam kan hierbij bevestigd zijn aan de behuizing of de kabelwielas indien deze laatste is bevestigd aan de behuizing.
Hereby, the third rotation body can be attached to the housing or to the cable wheel shaft if the latter is attached to the housing.
De centrifugaalrem remt de afdaalunit tijdens het afdalen langs de afdaalkabel af.
The centrifugal brake brakes the descending unit while descending along the descending cable.
Door toepassing van een planetaire tandwielset kan de afdaalunit compact gehouden worden.
Using a planetary gear set, the descending unit can be kept compact.
Een verdere uitvoeringsvorm van de inrichting volgens de uitvinding is gekenmerkt, doordat het derde rotatielichaam van de planetaire tandwielset is bevestigd aan een verdere centrifugaalrem omvattende twee met elkaar koppelbare verdere delen, waarvan een eerste verder deel is verbonden met het kabelwiel en een tweede verder deel in rotatierichting is gefixeerd ten opzichte van de behuizing.
A further embodiment of the device according to the invention is characterized in that a third rotation body of the planetary gear set is attached to a further centrifugal brake comprising two inter-connectable further parts, of which a first further part is connected to the cable wheel and a second further part, in the direction of rotation, is fixed relative to the housing.
Deze verdere centrifugaalrem zorgt ervoor dat bij het afdalen van een zwaar persoon extra geremd wordt indien de afdaalsnelheid boven een bepaalde grenswaarde dreigt uit te komen doordat de centrifugaalrem niet voldoende kan remmen.
This further centrifugal brake ensures that the descent of a heavy additional person is inhibited if the descent rate is likely to rise above a certain limit due to insufficient braking capacity of the centrifugal brake.
Nog een verdere uitvoeringsvorm van de inrichting volgens de uitvinding is gekenmerkt, doordat: de afdaalunit voorts een sterwiel omvat voorzien van tanden, welk sterwiel draaibaar met de behuizing is verbonden, waarbij de tanden elk nabij het uiteinde zijn voorzien van een geleidingsgroef, waarbij de geleidingsgroeven in de tanden zich langs een cirkelboog uitstrekken, en waarbij de verdere koppelmiddelen zijn voorzien van een geleidingsprofiel dat zich over een afstand langs een deel van de cirkelboog uitstrekt, welke afstand groter is dan of gelijk is aan twee keer de afstand langs de cirkelboog waarlangs de geleidingsgroeven zich uitstrekken tussen twee naburige tanden.
A further embodiment of the device according to the invention, in that:the descending unit further comprises a star wheel provided with teeth, said star wheel is rotatably connected to the housing,wherein the teeth each are provided with a guide groove near the end,wherein the guide grooves in the teeth extend along a circular arc, andwherein the further coupling means are provided with a guide profile extending over a distance along a portion of the circular arc, which distance is greater than or equal to two times the distance along the arc of a circle along which the guide grooves extends between two adjacent teeth.
Deze constructie maakt het mogelijk dat de afdaalunit de kabelgeleider kan passeren.
This construction makes it possible that the descending unit can pass the cable guide.
De kabelgeleider is gevormd door een draaibaar kabelwiel die op een wielas aanwezig is.
The cable guide is formed by a rotatable cable wheel which is present on a wheel axle.
Het sterwiel botst tijdens het afdalen met een tand tegen de wielas en draait daarbij om de wielas over een hoek van ongeveer 90 graden van een horizontale naar een verticale stand.
The star wheel collides during descent with a tooth against the wheel axle and rotates about the wheel axle through an angle of about 90 degrees from a horizontal to a vertical position.
Tijdens het draaien van de afdaalunit en het sterwiel verplaatsen de verdere koppelmiddelen zich door de geleidingsgroeven in de tanden van het sterwiel waarbij de verdere koppelmiddelen dezelfde oriëntatie behouden.
During the rotation of the descending unit and the star wheel the further coupling means move through the guide grooves in the teeth of the star wheel and the further coupling means maintain the same orientation.
Bij voorkeur heeft de afdaalunit twee sterwielen, een aan elke zijde van de afdaalkabel.
Preferably, the descending unit has two star wheels, one on each side of the descending cable.
Bij voorkeur is de afdaalkabel over een hoek van ten minste 240 graden om het kabelwiel geslagen.
Preferably, the descending cable is turned around the cable wheel over an angle of at least 240 degrees.
Hierdoor is de kans op slippen van de afdaalkabel over het kabelwiel sterk gereduceerd.
As a result, the chance of slipping of the descending cable over the cable wheel is greatly reduced.