mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
当該方法は、Ｘ線後方散乱ディテクタを所定の形状に配向することであって、所定の形状が、ターゲット表面形状に実質的に近似する、Ｘ線後方散乱ディテクタを所定の形状に配向することと、Ｘ線ビームをターゲットに向けて発することとをさらに含む。
The method further includes, orienting the X-ray backscatter detector to a predetermined geometry with the predetermined geometry substantially approximating the target surface geometry; and emitting the X-ray beam toward the target.
さらなる態様によれば、開示された方法は、Ｘ線シンチレーション材料上のＸ線後方散乱を検出することをさらに含む。
According to further aspects, disclosed methods further include detecting X-ray backscatter on the X-ray scintillating material.
さらなる態様によれば、開示された方法は、検出されたＸ線後方散乱に反応して、画像データを生成することと、画像データを使用して、ターゲット画像を形成することと、ターゲットを非破壊的に検査することとをさらに含む。
According to further aspects, disclosed methods further include generating image data in response to the detected X-ray backscatter; forming a target image using the image data; and non-destructively inspecting the target.
別の態様では、Ｘ線後方散乱ディテクタは、Ｘ線ビームを発するように構成されたＸ線放射源であって、Ｘ線が、少なくとも部分的にターゲットを透過するように構成されている、Ｘ線放射源、Ｘ線放射源と通信するコリメータであって、Ｘ線放射源によって発せられたＸ線放射の一部を使用してビームを形成するように構成されている、コリメータ、及びビームがターゲットに遭遇したことに反応して形成されたＸ線後方散乱を検出するように構成されたＸ線後方散乱ディテクタを含む。
In another aspect, the X-ray backscatter detector includes an X-ray radiation source configured to emit X-rays, with the X-rays configured to at least partially penetrate the target surface; a collimator in communication with the X-ray radiation source, with the collimator configured to form a beam using a portion of X-ray radiation emitted by the X-ray radiation source; an X-ray backscatter detector, with the X-ray backscatter detector configured to detect X-ray backscatter formed in response to the beam encountering the target.
上述の特徴、機能、及び利点は、様々な態様において単独で実現することができ、又は、さらに別の態様において組み合わせることができるが、これらのさらなる詳細は、以下の説明及び添付図面を参照することによって確認することができる。
The features, functions and advantages that have been discussed can be achieved independently in various aspects or may be combined in yet other aspects, further details of which can be seen with reference to the following description and the drawings.
本開示の変形例について一般的な用語で説明してきたが、これから添付の図面をこれから参照する。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
図１Ａに示したＸ線後方散乱システムの拡大図であり、ディテクタとターゲット表面との間の実質的に一定の距離「ｄ」を示す。 
Having thus described variations of the disclosure in general terms, reference will now be made to the accompanying drawings, which are not necessarily drawn to scale, and wherein: FIG. 1A is an overhead or "top" view illustration of an X-ray backscatter system according to a present aspect; FIG. 1B is an enlarged view of the X-ray backscatter system, shown in FIG. 1A, and showing the substantially constant distance "d" between the detector and a target surface: FIG. 2A is a perspective side-view illustration of an X-ray backscatter system shown according to a present aspect; FIG. 2B is an overhead or "top" view illustration of the X-ray backscatter system shown in FIG. 2A, and according to present aspects; FIG. 2C is an X-ray image of the target; FIG. 2D is an X-ray image of the target; FIG. 3 is a flowchart outlining a process according to present aspects; and FIG. 4 is a flowchart outlining a further process according to present aspects.
ターゲットのＸ線画像である。 
DETAILED DESCRIPTION
Ｘ線撮像は、評価者が、Ｘ線を使用して、Ｘ線ビームを物体に方向付けし、Ｘ線がターゲット物体から「後方散乱」として散乱するにつれて、Ｘ線後方散乱を検出装置の読取り値として間接的に収集することにより、物体を間接的に検査することを可能にする。
X-ray backscatter analysis is a type of X-ray imaging that allows an evaluator to use X-rays to indirectly inspect an object by directing an X-ray beam at an object, and indirectly collecting X-ray backscatter as readings on a detection device, as the X-rays are scattered as "backscatter" from the target object.
収集されたＸ線後方散乱から生成された信号が適切なソフトウェアを介して解読されると、Ｘ線後方散乱技法は、例えば、欠陥を検出するか、又は、ターゲット物体領域（ターゲット物体表面及び／若しくはターゲット物体表面下など）を特徴付けるために、ターゲット−物体のある領域の視認可能な画像を生成することができる。
When signals generated from collected X-ray backscatter are interpreted via appropriate software, X-ray backscatter techniques can yield a viewable image of a region of target-object, for example, for the purpose of detecting flaws or otherwise characterizing a target object region such as, for example, a target object surface and/or a target object sub-surface.
ターゲット物体の形状によっては、Ｘ線後方散乱システムは、ターゲット物体の特徴を判定するのに適切な解像度を有しない場合がある。
Depending on the shape of the target object, X-ray backscatter systems are may not comprise adequate resolution for determining features of a target object.
例えば、Ｘ線ディテクタによって生成され、Ｘ線撮像システムに送信される信号から生成された画像は、ターゲット物体の検査失敗させ得る特定サイズの異常を確実に検出することを可能にする所望のコントラストをもたらさない場合がある（例えば、画像が、十分に鮮明でなく、十分に明瞭ではない場合がある）。
For example, images generated from signals generated by an X-ray detector and sent to an X-ray imaging system may not provide a desired contrast (e.g., images may not be sharp enough or clear enough) to enable one to reliably detect anomalies of a certain size that could cause a target object to fail inspection.
さらに、典型的なＸ線後方散乱システムは、通常、大型であり、扱いにくく、物体からＸ線後方散乱を収集するために典型的に平面形状に対して固定焦点を有する据え置き型ディテクタを使用する。
Further, typical X-ray backscatter systems are typically large, cumbersome and use stationary detectors having a fixed focus with typically planar shapes for collecting X-ray backscatter from an object.
典型的なＸ線後方散乱プロトコルでは、ターゲット物体の表面又は内部の種々の位置に対して画像データを生成することができるように、Ｘ線ビームを、ターゲット物体に対して選択されたパターン（例えば、ラスターパターン）で移動させることができる。
In a typical X-ray backscatter protocol, the X-ray beam can be moved relative to the target object in a selected pattern such as, for example, a raster patter, such that image data can be generated for different locations on or within the target object.
次いで、画像データは、Ｘ線後方散乱システムによって検査されたターゲット物体に局所に存在する不整合、異常、欠陥等を判定するために解読できる１つ又は複数の画像を形成し得る。
The image data can then form one or more images that can be interpreted for determining whether inconsistencies, anomalies, defects, etc. reside in the local of the target object inspected by the X-ray backscatter system.
例えば、特にターゲット物体表面が平面以外の形状を有する場合、Ｘ線後方散乱ディテクタの典型的な平面形状は、Ｘ線後方散乱検査体制が達成することが可能なコントラスト及び全体的な有用性を制限する恐れがある。
The typical planar shape of X-ray backscatter detectors can limit the achievable contrast and overall usefulness of X-ray backscatter inspection regimes; for example, such as, and especially if the target object surface has a geometry that is other than planar.
非平面ターゲット表面からの再方向付けされたＸ線は、入射角が変動するので、平面状のＸ線ディテクタによって受信するＸ線後方散乱の量では、必要な量の反射Ｘ線を補足して、有用な画像データを生成することに失敗することが多く、結果的に、画像の細部（例えば、画像の鮮明さや画像のコントラストなどを含む）が欠けることになる。
Redirected X-rays from a non-planar target surface have varied angles of incidence such that the amount of X-ray backscatter that is received by planar X-ray detector often fail to capture a requisite amount of reflected X-rays to yield useful image data, resulting in a lack of image detail including, for example, image sharpness, image contrast, etc.
本出願の態様は、ターゲット物体を非破壊的に検査するためのＸ線後方散乱検出システムを開示する。
According to further aspects, the presently disclosed apparatuses, systems, and methods incorporate a flexible X-ray backscatter detector that can be oriented or otherwise manipulated into a shape that approximates the profile of a target object.
Ｘ線後方散乱ディテクタは、実質的に連続的（例えば、単体）であり、非常に常にフレキシブルで、かつ非常に薄いフレキシブルＸ線後方散乱ディテクタ基板を含む。
According to present aspects, the flexible X-ray detector substrates are continuous (e.g., one continuous piece, or have a one-piece configuration).
当該基板は、堆積されかつ実質的に連続的なシンチレーション層を含む。
Scintillating layers comprising scintillating materials are deposited onto or otherwise incorporated into the flexible X-ray backscatter detectors.
シンチレーション層は、フレキシブル基板を覆い、非常にフレキシブルなＸ線後方散乱ディテクタを形成する。
The scintillating materials absorb the backscattered X-rays and convert the X-ray radiation into visible light.
Ｘ線後方散乱ディテクタは、ターゲット形状に適合するように配向され、ターゲット形状に適合する形状に維持され得る。
Photodetectors present in the detectors that are sensitive to visible light convert the light from the scintillator into electric signals that are interpreted into visual images.
ここでは、フレキシブルＸ線後方散乱ディテクタと「フレキシブルディテクタ」は、同等にかつ交換可能に使用される。
According to one present aspect, the scintillating layer can be printed onto a flexible X-ray backscatter detector, for example, by an additive manufacturing process such as, for example, ink-jet printing, etc.
さらなる態様によれば、本開示の装置、システム、及び方法は、フレキシブルＸ線後方散乱ディテクタを組み込む。
According to a present aspect, X-ray backscatter apparatuses, systems, and methods are disclosed that benefit from the present very thin, flexible, and preferably one-piece detector substrates that comprise a continuous thin layer of scintillating material, with the scintillating material substantially covering at least one surface of the flexible detector substrate.
フレキシブルＸ線後方散乱ディテクタを、ターゲット物体のプロファイルに近似する形状に配向したり、又はさもなければ補正したりすることができる。
The presently disclosed X-ray backscatter detectors that include the flexible detector substrate and the scintillating material layer are selected and fabricated to a total flexible detector thickness preferably ranging from about 50 µm to about 100 µm.
このフレキシブルＸ線後方散乱ディテクタは、増量した散乱Ｘ線を捕捉し、本開示のフレキシブルＸ線後方散乱ディテクタを覆うシンチレーション材料（ｓｃｉｎｔｉｌｌａｔｉｎｇ ｍａｔｅｒｉａｌ）（発光材料）によって生成された撮像信号から解読し得る撮像特性を著しく改善することを目的として、焦点を合わせることが可能である。
According to present aspects, X-ray backscatter techniques, and the resolution and contrast of the X-ray backscatter imaging made possible through the use of the presently discloses methods, apparatuses, and systems, are significantly improved through the use of the present highly flexible, conformable, one-piece, and continuous X-ray backscatter detectors that can be shaped and maintained into a desired geometry that closely approximates and/or substantially matches the geometry of a target surface.
本開示で使用される「フレキシブル」という用語は、「剛性」とは反対の状態のことを指し、フレキシブル基板が、破断や亀裂等がなく、その上のコーティングが堆積された基板表面から剥離、亀裂、離層することのない状態で、平面配向から変形して、任意の実際的な形又は形状に成形かつ配向され得る状態のことを指す。
As used herein, the term "non-planar" in the context of "non-planar" surfaces, are defined as surfaces that have at least an area that is not entirely lying or able to be confined within a single plane.
本開示によれば、フレキシブルＸ線ディテクタ基板は、連続的（例えば、１つの連続片、又は単体構成）である。
According to present aspects, such non-planar targets and target surfaces further include, in non-limiting fashion, geometries including: a concave geometry, a convex geometry, an irregular geometry, geometries comprising contour including complex contours, other complex geometries, and combinations thereof.
図５は、本発明の第１の実施形態に係るスライドレールアセンブリの概略図であり、レール部材に対して所定の位置にある第１のブラケットを示す。 
The first bracket is disposed adjacent to an end portion of the rail member, includes at least one first mounting member, and can be displaced with respect to the rail member.
図６は、本発明の第１の実施形態に係るスライドレールアセンブリの概略図であり、操作されてロック状態からロック解除状態に切り換えられたロック装置を示す。 
The second bracket is disposed away from the end portion of the rail member and includes at least one second mounting member.
図７は、本発明の第１の実施形態に係るスライドレールアセンブリの概略図であり、レール部材に対して所定の位置から別の所定の位置に第１の方向に変位された第１のブラケットを示す。 
The elastic member applies an elastic force to the first bracket.
図１０は、本発明の第１の実施形態に係るスライドレールアセンブリの概略図であり、ロック装置がロック解除状態にある、ラックの第１のポスト及び第２のポストに取り付けられたスライドレールアセンブリを示す。 
Preferably, the slide rail assembly further includes a locking device, and the locking device has a locking state and an unlocking state.
図１２は、本発明の第１の実施形態に係るスライドレールアセンブリの概略図であり、スライドレールアセンブリの第１のブラケットが第２の所定の位置にあり、第２のブラケットが第２のポストに取り付けられたままで第１のポストから取り外された状態を示す。 
When the first bracket is at a predetermined position with respect to the rail member and the locking device is in the locking state, the locking device and the rail member are in an interfering relationship that prevents the locking device from being displaced in a first direction; meanwhile, the elastic member applies to the first bracket an elastic force that acts in a second direction, which is the opposite direction of the first direction.
図１４は、本発明の第２の実施形態に係るスライドレールアセンブリの概略図であり、第１のブラケットがレール部材に対して所定の位置にあり、第１のポストに取り付けられた状態を示す。 
Preferably, when the first bracket is at the predetermined position with respect to the rail member and the locking device is in the unlocking state, the locking device and the rail member are not in the aforesaid interfering relationship such that the locking device is allowed to be displaced in the first direction.
図１８は、本発明の第３の実施形態に係るスライドレールアセンブリの概略斜視図であり、操作されてロック解除状態に切り替えられてロック装置を示す。 
Brief Description of the Drawings
図２１は、本発明の第４の実施形態に係るスライドレールアセンブリの概略図であり、操作されてロック解除状態に切り替えられたロック装置を示す。 
Detailed Description of the Invention
図１を参照して、本発明の第１の実施形態に係るスライドレールアセンブリは、ラックの第１のポスト２８ａ及び少なくとも１つの第２のポスト２８ｂにそれぞれ第１のブラケット２４及び少なくとも１つの第２のブラケット２６を介して取り付けられるレール部材２２を含む。
Referring to FIG. 1, the slide rail assembly according to the first embodiment of the present invention includes a rail member 22 mounted on a first post 28a and at least one second post 28b of a rack via a first bracket 24 and at least one second bracket 26 respectively.
本実施形態では、一例として、２つの第２のポスト２８ｂと共にそれぞれ用いるための２つの第２のブラケット２６がある。
In this embodiment, there are two second brackets 26 for use respectively with two second posts 28b by way of example.
他の実施形態では、１つの第２のポスト２８ｂと共に用いるための第２のブラケット２６を１つだけ含み得る。
In other embodiments, there may be only one second bracket 26 for use with a single second post 28b.
本発明は第２のブラケット２６及び第２のポスト２８ｂの数の面で限定されない。
The present invention has no limitation on the number of the second brackets 26 and of the second posts 28b.
図２、図３及び図４を参照して、第１のブラケット２４及びレール部材２２は、お互いに対して変位させることができる。
Referring to FIG. 2, FIG. 3, and FIG. 4, the first bracket 24 and the rail member 22 can be displaced with respect to each other.
本実施形態では、補助ベース２２ａはレール部材２２に固定接続されるため、レール部材２２の一部として見ることができる。
Preferably, the rail member 22 is provided with an auxiliary base 22a, which in this embodiment is fixedly connected to the rail member 22 and therefore can be viewed as a part of the rail member 22.
補助ベース２２ａはレール部材２２の第１の側に配置され、複数の可動レール（例えば、第１の可動レール２９ａ及び第２の可動レール２９ｂ）はレール部材２２の第２の側に配置され、レール部材２２に対して変位させることができる。
Preferably, the auxiliary base 22a is disposed on a first side of the rail member 22, and a plurality of movable rails (e.g., a first movable rail 29a and a second movable rail 29b) are disposed on a second side of the rail member 22 and can be displaced with respect to the rail member 22.
補助ベース２２ａは通路３０を含む。
The auxiliary base 22a includes a channel 30.
例えば、補助ベース２２ａは第１の壁３２、第２の壁３４及び補助ベース２２ａの第１の壁３２と第２の壁３４との間に接続される長手壁３６を有し、通路３０は、補助ベース２２ａの第１の壁３２、第２の壁３４及び長手壁３６により共に定義される。
For example, the auxiliary base 22a has a first wall 32, a second wall 34, and a longitudinal wall 36 connected between the first wall 32 and the second wall 34 of the auxiliary base 22a, and the channel 30 is defined jointly by the first wall 32, the second wall 34, and the longitudinal wall 36 of the auxiliary base 22a.
第１のブラケット２４は、補助ベース２２ａの通路３０内に受容されて、レール部材２２に対して第１のブラケット２４を変位可能にする伸長支持部材２４ａを含むことが好ましい。
Preferably, the first bracket 24 includes an extension supporting member 24a received in the channel 30 of the auxiliary base 22a and thus rendering the first bracket 24 displaceable with respect to the rail member 22, wherein the extension supporting member 24a is fixed to the first bracket 24 and hence can be viewed as a part of the first bracket 24.
ここで、第１のブラケット２４は、一例としてレール部材２２の端部Ｅ１に隣接している。
Here, the first bracket 24 is adjacent to an end portion E1 of the rail member 22 by way of example.
加えて、第１のブラケット２４は少なくとも１つの第１の取り付け部材３８を含む。
In addition, the first bracket 24 includes at least one first mounting member 38.
他方、第２のブラケット２６はレール部材２２の端部Ｅ１から離れた位置でレール部材２２に配置され（例えば、レール部材２２の反対側の端部Ｅ２に配置される）、少なくとも１つの第２の取り付け部材４０を含む。
The second bracket 26, on the other hand, is disposed on the rail member 22 at positions away from the end portion E1 of the rail member 22 (e.g., are disposed at the opposite end portion E2 of the rail member 22) and includes at least one second mounting member 40.
レール部材２２及び第１のブラケット２４のうちの一方にはブロック部４２が設けられ、レール部材２２及び第１のブラケット２４のうちの他方にはロック装置４４が設けられる。
One of the rail member 22 and the first bracket 24 is provided with a blocking feature 42, and the other of the rail member 22 and the first bracket 24 is provided with a locking device 44.
ここでは、一例として、レール部材２２にブロック部４２が設けられ、第１のブラケット２４にロック装置４４が設けられている。
Here, by way of example only, it is the rail member 22 that is provided with the blocking feature 42, and it is the first bracket 24 that is provided with the locking device 44.
ブロック部４２はレール部材２２の端部Ｅ１に隣接して配置され、限定されないが突起又は壁等の所定の構造体である。
Preferably, the blocking feature 42 is disposed adjacent to the end portion E1 of the rail member 22 and is a predetermined structure such as but not limited to a projection or a wall.
ロック装置４４はロック部材４６及び弾性部４８を含む。
The locking device 44 includes a locking member 46 and an elastic portion 48.
ロック部材４６は、弾性部４８によりロック部材４６に加えられる弾性力に対応して特定の状態に留まる。
The locking member 46 stays in a certain state in response to the elastic force applied by the elastic portion 48 to the locking member 46.
この実施形態では、弾性部４８は一例としてねじりバネであり、代替的な実施形態では、弾性部４８は、限定されないが弾性プレート、可撓性物体又は同様の弾性部品であり得る。
In this embodiment, the elastic portion 48 is a torsion spring by way of example; in an alternative embodiment, the elastic portion 48 may be an elastic plate, a flexible object, or a similar elastic component without limitation.
ロック部材４６は操作部４６ａ及びロック部４６ｂを含み、操作部４６ａとロック部４６ｂとの間には、ロック部材４６を第１のブラケット２４に枢結するためにシャフト４６ｃが配置されることが好ましい。
Preferably, the locking member 46 includes an operating portion 46a and a locking portion 46b, with a shaft 46c disposed between the operating portion 46a and the locking portion 46b to pivotally connect the locking member 46 to the first bracket 24.
第１のブラケット２４は側壁５０と、側壁５０に実質的に垂直に接続される端壁５２とを含むことが好ましい。
Preferably, the first bracket 24 includes a sidewall 50 and an end wall 52 substantially perpendicularly connected to the sidewall 50.
側壁５０は、第１のブラケット２４の両側を連通させる開口５４を有し、ロック部材４６は開口５４と位置が対応する。
The sidewall 50 has an opening 54 that brings two opposite sides of the first bracket 24 into communication, and the locking member 46 corresponds in position to the opening 54.
少なくとも１つの第１の取り付け部材３８が端壁５２に配置される。
The at least one first mounting member 38 is disposed at the end wall 52.
スライドレールアセンブリは、第１のブラケット２４に弾性力を加えるための弾性部材５６をさらに含むことが好ましい。
Preferably, the slide rail assembly further includes an elastic member 56 for applying an elastic force to the first bracket 24.
ここで、弾性部材５６は一例としてレール部材２２の補助ベース２２ａ及び第１のブラケット２４の伸長支持部材２４ａにそれぞれ接続される２つの部分を有する。
Here, the elastic member 56 has two portions connected respectively to the auxiliary base 22a of the rail member 22 and the extension supporting member 24a of the first bracket 24 by way of example.
図５を参照して、ロック装置４４はロック状態Ｓ１を有する。
Referring to FIG. 5, the locking device 44 has a locking state S1.
例えば、ロック装置４４のロック部材４６は、弾性部４８の弾性力に対応してロック状態Ｓ１に留まる。
For example, the locking member 46 of the locking device 44 stays in the locking state S1 in response to the elastic force of the elastic portion 48.
第１のブラケット２４がレール部材２２に対して所定の位置Ｐ１（例えば、伸長位置）にあり且つロック装置４４がロック状態Ｓ１にある場合、ロック装置４４は、第１のブラケット２４が所定の位置Ｐ１から第１の方向Ｄ１（図６に示す方向）に変位しないようにするために、ブロック部４２をブロックするとともにブロック部４２によりブロックされる。
When the first bracket 24 is at a predetermined position PI (e.g., an extended position) with respect to the rail member 22 and the locking device 44 is in the locking state S1, the locking device 44 blocks and is blocked by the blocking feature 42 such that the first bracket 24 is kept from being displaced from the predetermined position PI in a first direction D1 (which direction is indicated in FIG. 6 ).
その結果、レール部材２２のブロック部４２は、ロック部材４６のロック部４６ｂをブロックし、それにより第１のブラケット２４がレール部材２２に対して所定位置Ｐ１から第１の方向Ｄ１に変位するのが防止される。
More specifically, when the locking member 46 is in the locking state S1, the locking portion 46b of the locking member 46 corresponds in position to the blocking feature 42 of the rail member 22; as a result, the blocking feature 42 of the rail member 22 blocks the locking portion 46b of the locking member 46 and thereby prevents the first bracket 24 from being displaced with respect to the rail member 22 from the predetermined position PI in the first direction D1.
図６及び図７を参照して、ロック装置４４はさらにロック解除状態Ｓ２を有する。
Referring to FIG. 6 and FIG. 7, the locking device 44 further has an unlocking state S2.
第１のブラケット２４がレール部材２２に対して所定の位置Ｐ１にある場合、ロック装置４４とブロック部４２とが互いをブロックし合わないようにするために、ロック装置４４をロック解除状態Ｓ２に切り替えることができる。
When the first bracket 24 is at the predetermined position PI with respect to the rail member 22, the locking device 44 can be switched to the unlocking state S2 so that the locking device 44 and the blocking feature 42 are no longer blocked by each other, the objective being to allow the first bracket 24 to be displaced from the predetermined position PI in the first direction D1.
より具体的には、ロック部材４６のロック部４６ｂがレール部材２２のブロック部４２と位置がもはや対応せず、故にブロックされないようにするために、ロック装置４４のロック部材４６の操作部４６ａに力Ｆを加えて所定の角度ロック部材４６を枢動させることができる。
More specifically, a force F can be applied to the operating portion 46a of the locking member 46 of the locking device 44 to pivot the locking member 46 through an angle such that the locking portion 46b of the locking member 46 no longer corresponds in position to, and therefore is no longer blocked by, the blocking feature 42 of the rail member 22, allowing the first bracket 24 to be displaced with respect to the rail member 22 from the predetermined position PI to another predetermined position P2 (e.g., a retracted position) in the first direction D1.
なお、第１のブラケット２４は位置制限部５８をさらに含む。
It is worth mentioning that the first bracket 24 further includes a position limiting portion 58.
第１のブラケット２４が所定の位置Ｐ１にある場合、ロック状態Ｓ１にあるロック部材４６は、位置制限部５８に対して押し付けられる。
When the first bracket 24 is at the predetermined position PI, the locking member 46 in the locking state S1 is pressed against the position limiting portion 58.
図８及び図９を参照して、レール部材２２は、第１のブラケット２４及び第２のブラケット２６のそれぞれを介して第１のポスト２８ａ及び第２のポスト２８ｂに取り付けられている。
Referring to FIG. 8 and FIG. 9, the rail member 22 is mounted on the first post 28a and the second post 28b via the first bracket 24 and the second bracket 26 respectively.
より具体的には、図８の第１のブラケット２４はレール部材２２に対して所定の位置Ｐ１にあり、少なくとも１つの第１の取り付け部材３８は、第１のポスト２８ａの少なくとも１つの第１の対応部Ｈ１(例えば、少なくとも１つの第１の孔)に挿入されている。
More specifically, the first bracket 24 in FIG. 8 is at the predetermined position PI with respect to the rail member 22, with the at least one first mounting member 38 inserted in the at least one first corresponding feature HI (e.g., at least one first hole) of the first post 28a.
さらに、ロック装置４４がロック状態Ｓ１にあることで、ロック装置４４のロック部材４６はブロック部４２をブロックするとともにブロック部４２によりブロックされて（ロック状態Ｓ１にあるロック装置４４とレール部材２２とは、ロック装置４４が第１の方向Ｄ１に変位するのを防止する干渉関係にある）、第１のブラケット２４が所定の位置Ｐ１から第１の方向Ｄ１に変位するのを維持して、第１のブラケット２４の少なくとも１つの第１の取り付け部材３８が第１のポスト２８ａの少なくとも１つの第１の対応部Ｈ１から離されないようにする。
Furthermore, with the locking device 44 in the locking state S1, the locking member 46 of the locking device 44 blocks and is blocked by the blocking feature 42 (i.e., the locking device 44 in the locking state S1 and the rail member 22 are now in an interfering relationship that prevents displacement of the locking device 44 in the first direction D1) to keep the first bracket 24 from being displaced from the predetermined position PI in the first direction D1, lest the at least one first mounting member 38 of the first bracket 24 separate from the at least one first corresponding feature HI of the first post 28a.
訓練者の歩行を促すトレッドミルと、 前記訓練者が前記トレッドミル上を歩行しながら視認できるように設置された表示ユニットと、 前記訓練者の歩容が認識できる画角で前記訓練者を撮像するカメラユニットと、 前記カメラユニットで撮像した画像に基づいて歩行中における前記訓練者の体幹の傾きを演算する演算部と、 前記傾きに対応する体幹ライン、および前記体幹ラインのフレが許容される範囲の少なくとも端を示す指標を前記表示ユニットに表示する表示制御部と を備える歩行訓練システム。
A walking training system (100) comprising: a treadmill (131) configured to prompt a trainee (900) to walk; a display device (138) installed such that the trainee (900) views the display device (138) while walking on the treadmill (131); a camera (140) configured to image the trainee (900) at an angle of view at which a gait of the trainee (900) is recognizable; a calculation unit (210a) configured to calculate a tilt of a body core of the walking trainee (900) based on an image captured by the camera (140); and a display control unit (213) configured to control the display device (138) to display a body core line (330) associated with the tilt, and an index indicating at least an end of a permissible range of a deflection of the body core line (330).
前記表示制御部は、前記画像に重畳して前記体幹ラインと前記指標を前記表示ユニットに表示する請求項１に記載の歩行訓練システム。
The walking training system (100) according to claim 1, wherein the display control unit (213) is configured to cause the display device (138) to display the body core line (330) and the index such that the body core line (330) and the index are superimposed on the image.
前記表示制御部は、前記訓練者の患脚の踵近傍を基点として前記体幹ラインを描画する請求項２に記載の歩行訓練システム。
The walking training system (100) according to claim 2, wherein the display control unit (213) is configured to render the body core line (330) with a base point being defined near a heel of an affected leg of the trainee (900).