mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
前記表示制御部は、前記範囲を、前記基点を要とする扇形形状に描画して表示する請求項３に記載の歩行訓練システム。
The walking training system (100) according to claim 3, wherein the display control unit (213) is configured to render and display the range as a sector having a pivot at the base point.
前記歩容を評価する評価部を備え、 前記表示制御部は、前記評価部の評価結果に基づくオブジェクトを表示する請求項４に記載の歩行訓練システム。
The walking training system (100) according to claim 4, further comprising an evaluation unit (210b) configured to evaluate the gait, wherein the display control unit (213) is configured to display an object based on an evaluation result from the evaluation unit (210b).
前記表示制御部は、前記扇形形状に内包される前記オブジェクトとしてのインジケータが前記評価結果に基づいて増減するように表示する請求項５に記載の歩行訓練システム。
The walking training system (100) according to claim 5, wherein the display control unit (213) is configured to display an indicator serving as the object included in the sector such that the indicator increases or decreases based on the evaluation unit.
前記表示制御部は、前記インジケータの全量が表示された場合に、レベルクリアのイベント表示を実行する請求項６に記載の歩行訓練システム。
The walking training system (100) according to claim 6, wherein the display control unit (213) is configured to display an event indicating that a level is cleared when the indicator is displayed in a full amount.
前記表示制御部は、前記評価部が前記歩容の不調を検出した場合に、前記基点の近傍に前記不調を示す前記オブジェクトを表示する請求項５から７のいずれか１項に記載の歩行訓練システム。
The walking training system (100) according to any one of claims 5 to 7, wherein the display control unit (213) is configured such that, when the evaluation unit (210b) detects inappropriateness of the gait, the object indicating the inappropriateness is displayed near the base point.
訓練者の歩行を促すトレッドミルと、前記訓練者が前記トレッドミル上を歩行しながら視認できるように設置された表示ユニットと、前記訓練者の歩容が認識できる画角で前記訓練者を撮像するカメラユニットとを備える歩行訓練システムの制御プログラムであって、 前記カメラユニットで撮像した画像に基づいて歩行中における前記訓練者の体幹の傾きを演算する演算ステップと、 前記傾きに対応する体幹ライン、および前記体幹ラインのフレが許容される範囲の少なくとも端を示す指標を前記表示ユニットに表示する表示ステップと をコンピュータに実行させる歩行訓練システムの制御プログラム。
A non-transitory storage medium storing a control program for a walking training system (100) including a treadmill (131) configured to prompt a trainee (900) to walk, a display device (138) installed such that the trainee (900) views the display device (138) while walking on the treadmill (131), and a camera (140) configured to image the trainee (900) at an angle of view at which a gait of the trainee (900) is recognizable, the non-transitory storage medium storing instructions that are executable by one or more processors and that cause the one or more processors to perform functions comprising: calculating a tilt of a body core of the walking trainee (900) based on an image captured by the camera (140); and causing the display device (138) to display a body core line (330) associated with the tilt, and an index indicating at least an end of a permissible range of a deflection of the body core line (330).
この場合、供給マニホールド２２および帰還マニホールド２３は、配列方向、幅方向および積層方向における各寸法が互いに等しくてもよい。
In this case, the supply manifold 22 and the return manifold 23 may have the same dimensions in the array direction, in a width direction, and in the stacking direction.
例えば、各マニホールドの断面積は１０００μｍ２以上であって、２０００μｍ２以下である。
For example, each of the manifolds 22 and 23 has a cross-sectional area of 1000 μm2or more and 2000 μm2or less.
供給マニホールド２２は、第８流路プレート４８〜第１１流路プレート５１を積層方向に貫通した貫通孔、および、第１２流路プレート５２の下面から窪んだ窪みが積層方向に重なって形成されている。
The supply manifold 22 is formed by through-holes penetrating in the stacking direction the eighth channel plate 48 through the 11th channel plate 51, and a recess recessed from a lower surface of the 12th channel plate 52.
このため、供給マニホールド２２の下端は第７流路プレート４７に覆われ、その上端は第１２流路プレート５２における上側部分に覆われている。
A lower end of the supply manifold 22 is covered by the seventh channel plate 47, and an upper end of the supply manifold 22 is covered by an upper portion of the 12th channel plate 52.
帰還マニホールド２３は、第２流路プレート４２〜第５流路プレート４５を積層方向に貫通した貫通孔、および、第６流路プレート４６の下面から窪んだ窪みが積層方向に重なって形成されている。
The return manifold 23 is formed by through-holes penetrating in the stacking direction the second channel plate 42 through the fifth channel plate 45, and a recess recessed from a lower surface of the sixth channel plate 46.
このため、帰還マニホールド２３の下端は第１流路プレート４１に覆われ、その上端は第６流路プレート４６における上側部分に覆われている。
A lower end of the return manifold 23 is covered by the first channel plate 41, and an upper end of the return manifold 23 is covered by an upper portion of the sixth channel plate 46.
供給マニホールド２２と帰還マニホールド２３との間には、バッファー空間であるダンパー部２４が配置されている。
The supply manifold 22 and the return manifold 23 define a damper 24 as a buffer space therebetween.
このダンパー部２４は、第７流路プレート４７の下面から窪んだ窪みにより形成されている。
The damper 24 is formed by a recess recessed from a lower surface of the seventh channel plate 47.
このため、積層方向において、供給マニホールド２２とダンパー部２４とは第７流路プレート４７の上側部分を介して隣接し、帰還マニホールド２３とダンパー部２４とは第６流路プレート４６の上側部分を介して隣接している。
In the stacking direction, the supply manifold 22 and the damper 24 are adjacent to each other via an upper portion of the seventh channel plate 47, and the return manifold 23 and the damper 24 are adjacent to each other via the upper portion of the sixth channel plate 46.
このように、供給マニホールド２２と帰還マニホールド２３との間にダンパー部２４を挟むことにより、供給マニホールド２２における液体の圧力と帰還マニホールド２３における液体の圧力とが相互に作用することを抑制することができる。
The damper 23 sandwiched between the supply manifold 22 and the return manifold 23 may reduce interaction between the liquid pressure in the supply manifold 22 and the liquid pressure in the return manifold 23.
供給マニホールド２２には、配列方向の一方端（図３では紙面の上側の端部）に供給口２２ｃが設けられている。
The supply manifold 22 includes a supply opening 22 cat its one end in the array direction (an end on an upper side of the drawing sheet of FIG. 3 ).
例えば、供給路２２ｂは、第１２流路プレート５２の上側部分、第１３流路プレート５３、第１４流路プレート５４、振動板５５および絶縁膜５６を貫通している。
In this embodiment, a supply passage 22 bis connected, at its lower end, to the supply opening 22 cand extends upward from the supply opening 22 c. For example, the supply passage 22 bpenetrates an upper portion of the 12th channel plate 52, the 13th channel plate 53, the 14th channel plate 54, the vibration plate 55, and an insulating film 56.
供給路２２ｂの上端は、例えば筒状の供給ポート２２ａの内部空間に接続されている。
An upper end of the supply passage 22 bis connected to an inner space of a cylindrical supply port 22 a.
また、帰還マニホールド２３には、配列方向の他方端（図３では紙面の下側の端部）に例えば筒状の帰還ポート２３ａが設けられている。
The return manifold 23 includes a return port 23 aat its other end in the array direction (an end on a lower side of the drawing sheet of FIG. 3 ).
この帰還ポート２３ａには図略の帰還路の下端が接続されている。
The return port 23 ais connected to a lower end of a return passage (not shown).
帰還路は帰還ポート２３ａから上方に延びている。
The return passage extends upward from the return port 23 a.
例えば、帰還路は第６流路プレート４６〜絶縁膜５６を貫通している。
For example, the return passage penetrates the sixth channel plate 46 through the vibration plate 55.
帰還路の上端は帰還ポート２３ａの内部空間に接続されている。
An upper end of the return passage is connected to an inner space of a cylindrical return port 23 a.
帰還ポート２３ａは例えば供給マニホールド２２の下流端よりも配列方向の他方端側に配置されている。
For example, the return port 23 ais located further to the other end in the array direction than a downstream end of the supply manifold 22.
複数の個別流路６４は供給マニホールド２２および帰還マニホールド２３に接続されている。
The plurality of individual channels 64 are connected to the supply manifold 22 and to the return manifold 23.
個別流路６４は、その上流端が供給マニホールド２２に接続され、その下流端が帰還マニホールド２３に接続されており、この間においてノズル２１の基端に接続されている。
Each individual channel 64 is connected, at its upstream end, to the supply manifold 22, connected, at its downstream end, to the return manifold 23, and connected, at its midstream, to a base end of a corresponding nozzle 21.
個別流路６４は、第１連通孔２５、個別絞り路である供給絞り路２６、第２連通孔２７、圧力室２８、ディセンダ２９、個別絞り路である帰還絞り路３１、および第３連通孔３２で構成され、これらはこの順で配置されている。
Each individual channel 64 includes a first communication hole 25, a supply throttle channel 26 as an individual throttle channel, a second communication hole 27, a pressure chamber 28, a descender 29, a return throttle channel 31 as an individual throttle channel, and a third communication hole 32, which are arranged in this order.
第１連通孔２５は、その下端が供給マニホールド２２の上端に接続し、供給マニホールド２２から積層方向の上方に延び、第１２流路プレート５２における上側部分を積層方向に貫通している。
The first communication hole 25 is connected, at its lower end, to an upper end of the supply manifold 22, and extends upward from the supply manifold 22 in the stacking direction to penetrate an upper portion of the 12th channel plate 52 in the stacking direction.
第１連通孔２５は、供給マニホールド２２の幅方向の中央よりも一方側（図２では右側）に配置されている。
The first communication hole 25 is offset to one side (a right side in FIG. 2 ) from a center of the supply manifold 22 in the width direction.
供給絞り路２６の一端２６ｂは第１連通孔２５の上端に接続されている。
One end 26 bof the supply throttle channel 26 is connected to an upper end of the first communication hole 25.
供給絞り路２６は、例えばハーフエッチング加工により形成され、第１３流路プレート５３の下面から窪んだ溝により構成されている。
The supply throttle channel 26 is formed, for example by half-etching, as a groove recessed from a lower surface of the 13th channel plate 53.
供給絞り路２６は平面視において幅方向と交差するように配置されている。
The supply throttle channel 26 is located to cross the width direction in plan view.
供給絞り路２６の延在方向と幅方向とがなす角度は、０°よりも大きく９０°よりも小さく設定される。
An angle between an extending direction of the supply throttle channel 26 and the width direction is set to be greater than 0° and less than 90°.
また、第２連通孔２７は、その下端が供給絞り路２６の他端２６ａに接続され、供給絞り路２６から積層方向の上方に延び、第１３流路プレート５３における上側部分を積層方向に貫通している。
The second communication hole 27 is connected, at its lower end, to the other end 26 aof the supply throttle channel 26, and extends from the supply throttle channel 26 upward in the stacking direction to penetrate an upper portion of the 13th channel plate 53 in the stacking direction.
第２連通孔２７は、幅方向における供給マニホールド２２の中央よりも他方側（図２では左側）に配置されている。
The second communication hole 27 is offset to the other side (a left side in FIG. 2 ) from the center of the supply manifold 22 in the width direction.
圧力室２８は、その一端２８ｂが第２連通孔２７の上端に接続されている。
The pressure chamber 28 is connected, at its one end 28 b, to an upper end of the second communication hole 27.
圧力室２８は、第１４流路プレート５４を積層方向に貫通して形成されている。
The pressure chamber 28 penetrates the 14th channel plate 54 in the stacking direction.
ディセンダ２９は、第１流路プレート４１〜第１３流路プレート５３を積層方向に貫通し、幅方向において供給マニホールド２２および帰還マニホールド２３よりも他方側（図２では左側）に配置されている。
The descender 29 penetrates the first channel plate 41 through the 13th channel plate 53 in the stacking direction and is located further to the other side (the left side in FIG. 2 ) in the width direction than the supply manifold 22 and the return manifold 23.
ディセンダ２９は、その上端が圧力室２８の他端２８ａに接続され、下端がノズル２１に接続されている。
The descender 29 is connected, at its upper end, to the other end 28 aof the pressure chamber 28, and is connected, at its lower end, to the nozzle 21.
例えば、ノズル２１は、積層方向においてディセンダ２９に重なり、積層方向に直交する方向においてディセンダ２９の中央に配置されている。
For example, the nozzle 21 is located to overlap the descender 29 in the stacking direction and is located at a center of the descender 29 in a direction orthogonal to the stacking direction.
なお、ディセンダ２９の断面積は、積層方向に一定であってもよいし、変化してもよい。
The descender 29 may have a cross-sectional area which is uniform or varies in the stacking direction.
例えば、ディセンダ２９の上部（例えば、第１２流路プレート５２〜第１３流路プレート５３におけるディセンダ２９の形成範囲）においては上端に近づくほど断面積が縮小していてもよい。
For example, an upper portion (defined by the 12th channel plate 52 and the 13th channel plate 53) of the descender 29 may have a cross-sectional area which decreases toward the upper end.
帰還絞り路３１は、その一端３１ｂがディセンダ２９の下端に接続されている。
The return throttle channel 31 is connected, at its one end 31 b, to a lower end of the descender 29.
帰還絞り路３１は、例えばハーフエッチング加工により形成され、第１流路プレート４１の下面から窪んだ溝により構成されている。
The return throttle channel 31 is formed, for example by half-etching, as a groove recessed from a lower surface of the first channel plate 41.
帰還絞り路３１は平面視において幅方向と交差するように配置されている。
The return throttle channel 31 is located to cross the width direction in plan view.
帰還絞り路３１の延在方向と幅方向とがなす角度は、０°よりも大きく９０°よりも小さく設定される。
An angle between an extending direction of the return throttle channel 31 and the width direction is set to be greater than 0° and less than 90°.
第３連通孔３２は、その下端が帰還絞り路３１の他端３１ａに接続され、帰還絞り路３１から積層方向の上方に延び、第１流路プレート４１における上側部分を積層方向に貫通している。
The third communication hole 32 is connected, at its lower end, to the other end 31 aof the return throttle channel 31 and extends from the return throttle channel 31 upward in the stacking direction to penetrate an upper portion of the first channel plate 41 in the stacking direction.
第３連通孔３２は、その上端が帰還マニホールド２３の下端に接続されている。
The third communication hole 32 is connected, at its upper end, to a lower end of the return manifold 23.
第３連通孔３２は、幅方向における帰還マニホールド２３の中央よりも他方側（図２では左側）に配置されている。
The third communication hole 32 is offset to the other side (the left side in FIG. 2 ) from the center of the return manifold 23 in the width direction.
ここで、本実施形態では、図３に示すように、隣り合う帰還絞り路３１同士を連通する繋ぎ絞り路３３が設けられている。
In this embodiment, as shown in FIG. 3, the liquid ejection head 20 includes connecting throttle channels 33 through each of which corresponding adjacent return throttle channels 31 communicate with each other.
繋ぎ絞り路３３は配列方向に延在している。
The connecting throttle channels 33 extend in the array direction.
繋ぎ絞り路３３は、隣り合う帰還絞り路３１同士の流路抵抗が同じになるように連通されている。
Through a connecting throttle channel 33, adjacent return throttles 31 communicate with each other so as to have the same channel resistance.
すなわち、繋ぎ絞り路３３は、隣り合う帰還絞り路３１の下流端同士を連通している。
Specifically, through the connecting throttle channel 33, portions of adjacent return throttle channels 31 communicate with each other.
繋ぎ絞り路３３の流路抵抗は帰還絞り路３１の流路抵抗以下である。
Each portion is offset from a center of the return throttle channel 31 toward the other end 31 ain a longitudinal direction.
この場合、繋ぎ絞り路３３の流路断面積は、帰還絞り路３１の流路断面積以下である。
In other words, through the connecting throttle channel 33, downstream end portions of adjacent return throttle channels 31 communicate with each other.
本実施形態では、繋ぎ絞り路３３の流路断面積は、帰還絞り路３１の流路断面積と同じである。
Each connecting throttle channel 33 has a channel resistance less than or equal to the channel resistance of each return throttle channel 31.
したがって、本発明の分散液（Ｄ）は、ポリマー粉末を水性媒体中に分散させることによって調製することができる水性スラリーと区別することができる。
wherein each of X1, X2and X3, equal to or different from each other, are independently H or F; and p is an integer from 1 to 5; among these compounds, mention can be made of CH2═CHCF2CF2I, I(CF2CF2)2CH═CH2, ICF2CF2CF═CH2, I(CF2CF2)2CF═CH2;
水性スラリー中に分散したポリマー又はコポリマーの粉末の平均粒径は、典型的には、ＩＳＯ１３３２１に従って測定して１μｍより大きい。
(CSM-1C) iodine-containing ethylenically unsaturated compounds of formula:
好ましくは、上記の分散液（Ｄ）中のポリマー（ＶＤＦ）の粒子の一次粒子平均径は、ＩＳＯ１３３２１に従って測定して５０ｎｍ超、より好ましくは１００ｎｍ超、更により好ましくは１５０ｎｍ超である。
CHR═CH—Z—CH2CHR—I
好ましくは、一次粒子平均径は、ＩＳＯ１３３２１に従って測定して６００ｎｍ未満、より好ましくは４００ｎｍ未満、更により好ましくは３５０ｎｍ未満である。
wherein R is H or CH3, Z is a C1-C18(per)fluoroalkylene radical, linear or branched, optionally containing one or more ether oxygen atoms, or a (per)fluoropolyoxyalkylene radical; among these compounds, mention can be made of CH2═CH—(CF2)4CH2CH2I, CH2═CH—(CF2)6CH2CH2I, CH2═CH—(CF2)8CH2CH2I, CH2═CH—(CF2)2CH2CH2I;
より好ましくは、上記の分散液（Ｄ）中のポリマー（ＶＤＦ）の粒子の一次粒子平均径は、ＩＳＯ１３３２１に従って測定して１８０ｎｍ〜３２０ｎｍである。
(CSM-1D) bromo and/or iodo alpha-olefins containing from 2 to 10 carbon atoms such as bromotrifluoroethylene or bromotetrafluorobutene described, for example, in U.S. Pat. No. 4,035,565 (DU PONT) or other compounds bromo and/or iodo alpha-olefins disclosed in U.S. Pat. No. 4,694,045 (DU PONT).
上記のように、分散液（Ｄ）は、フッ素化界面活性剤を実質的に含まない。
Among cure-site containing monomers of type (CSM2), preferred monomers are those selected from the group consisting of:
分散液（Ｄ）中のフッ素化界面活性剤の量と組み合わせた表現「実質的に含まない」は、あらゆる有意な量の上記のフッ素化界面活性剤の存在を排除することが意図されるものであり、これは例えば分散液（Ｄ）の総重量に比べてフッ素化界面活性剤が１ｐｐｍ未満の量で存在することが必要となる。
(CSM2-A) perfluorovinyl ethers containing cyanide groups of formula
重合圧力は、典型的には、２０〜７０バール、好ましくは２５〜６５バールの範囲である。
CF2═CF—(OCF2CFXCN)m—O—(CF2)n—CN,
重合温度は、使用されるモノマーに基づき当業者が適切に選択することができる。
wherein
好ましくは、反応温度は８０℃〜１５０℃の範囲内である。
XCNis F or CF3; m is 0, 1, 2, 3 or 4; n is an integer from 1 to 12;
上記で詳述した水性乳化重合プロセスは、典型的には、少なくとも１つのラジカル開始剤の存在下で実施される。
(CSM2-B) perfluorovinyl ethers containing cyanide groups of formula
ラジカル開始剤は、任意選択的に、例えば２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド（ｄｉｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｌｄｅ）などのアゾ開始剤を含んでもよい。
CF2═CF—(OCF2CFXCN)m—O—CF2—CF(CF3)—CN,
ラジカル開始剤は酸化還元系を含んでもよい。
wherein
「酸化還元系」とは、酸化剤、還元剤、及び任意選択的に電子移動媒体を含む系を意味する。
XCNis F or CF3; m′ is 0, 1, 2, 3 or 4.
酸化剤としては、例えば、過硫酸塩；過酸化水素などの過酸化物；ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド及びクメンヒドロペルオキシドなどのヒドロペルオキシド；並びに、例えば硫酸第二鉄などの酸化金属塩が挙げられる。
Specific examples of cure-site containing monomers of type CSM2-A and
還元剤としては、例えば、ホルムアルデヒドスルホキシル酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム及び亜硫酸カリウム、アスコルビン酸、亜硫酸水素塩、メタ重亜硫酸塩、並びに還元金属塩が挙げられる。
CSM2-B suitable to the purposes of the present invention are notably those described in U.S. Pat. No. 4,281,092 (DU PONT), U.S. Pat. No. 5,447,993 (DU PONT) and U.S. Pat. No. 5,789,489 (DU PONT).
上記で定義された１つ以上のラジカル開始剤は、有利には水性媒体の重量を基準に０．
Preferably, said amorphous polymer (VDFC) comprises iodine or bromine cure sites in an amount of 0.001 to 10 wt. %.
００１重量％〜２重量％の範囲の量で、又は上記の化合物（Ａ）の総重量を基準に０．
Among these, iodine cure sites are those selected for maximizing curing rate, so that (per)fluoroelastomers comprising iodine cure-sites are preferred.
５重量％〜２．
According to this embodiment, for ensuring acceptable reactivity it is generally understood that the content of iodine and/or bromine in the amorphous polymer (VDFC) should be of at least 0.05 wt. %, preferably of at least 0.1 wt. %, more preferably of at least 0.15 wt. %, with respect to the total weight of said amorphous polymer (VDFC).
５重量％の量で、上記で定義された水性媒体に添加することができる。
On the other side, amounts of iodine and/or bromine not exceeding preferably 7% wt., more specifically not exceeding 5% wt., or even not exceeding 4% wt., with respect to the total weight of said amorphous polymer (VDFC), are those generally selected for avoiding side reactions and/or detrimental effects on thermal stability.
上記の水性媒体は、有利には水、より好ましくは脱イオン水である。
These iodine or bromine cure sites of these preferred embodiments of the invention might be comprised as pending groups bound to the backbone of said amorphous polymer (VDFC) (by means of incorporation in the polymer chain of recurring units derived from monomers of (CSM-1) type, as above described, and preferably of monomers of (CSM-1A) to (CSM1-D), as above detailed) or might be comprised as terminal groups of said polymer chain.
参照により本明細書に援用される任意の特許、特許出願、及び刊行物の開示が用語を不明瞭にさせ得る程度まで本出願の記載と矛盾する場合、本記載が優先するものとする。
According to a first embodiment, the iodine and/or bromine cure sites are comprised as pending groups bound to the backbone of the amorphous polymer (VDFC) chain.
本発明を、これから以下の実施例を参照してより詳細に説明するが、その目的は例示にすぎず、本発明の範囲を限定するものではない。
The amorphous polymers (VDFC) according to this embodiment generally comprise recurring units derived from iodine or bromine containing monomers (CSM-1) in amounts of 0.05 to 5 mol per 100 mol of all other recurring units of the (per)fluoroelastomer, so as to advantageously ensure above mentioned iodine and/or bromine weight content.
実験の部 材料及び方法 ビニルスルホン酸ナトリウム塩（ＶＳＡ）溶液２５重量％をＳｉｇｍａから入手した。
According to a second preferred embodiment, the iodine and/or bromine cure sites are comprised as terminal groups of the amorphous polymer (VDFC) chain.
ラテックスの平均粒径をＩＳＯ１３３２１に従って測定した。
Amorphous polymers (VDFC) according to this embodiment are generally obtained by addition to the polymerization medium during fluoroelastomer manufacture of anyone of:
平均数分子量（Ｍｎ）及び平均重量分子量（Ｍｗ）を、ＩＳＯ１６０１４に従い、溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、及び較正のためのポリスチレン狭標準（ｎａｒｒｏｗ ｓｔａｎｄａｒｄ）を用いたＧＰＣ分析によって判定した。
iodinated and/or brominated chain-transfer agent(s); suitable chain-chain transfer agents are typically those of formula Rf(I)x(Br)y, in which Rfis a (per)fluoroalkyl or a (per)fluorochloroalkyl containing from 1 to 8 carbon atoms, while x and y are integers between 0 and 2, with 1≤x+y≤2 (see, for example, U.S. Pat. No. 4,243,770 (DAIKIN IND., LTD.) and U.S. Pat. No. 4,943,622 (NIPPON MEKTRON KK.); and
５ｍｍの５０２−８（Ｎｏｒｅｌｌ，Ｉｎｃ）ＮＭＲ試料管を備えるＴｒｉｐｌｅ ＨＦＣＰ−ＰＦＧプローブを用いて、１Ｈの場合４９９．
alkali metal or alkaline-earth metal iodides and/or bromides, such as described notably in U.S. Pat. No. 5,173,553 (AUSIMONT SRL.).
８６ＭＨｚ、及び１９Ｆの場合４７０．
Preferred polymers (VDFC) are those having following compositions (in mol. %): vinylidene fluoride (VDF) 35-85%, hexafluoropropene (HFP) 10-45%, tetrafluoroethylene (TFE) 0-30%, perfluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 0-15%, bis-olefin (OF) 0-5%; vinylidene fluoride (VDF) 50-80%, perfluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 5-50%, tetrafluoroethylene (TFE) 0-20%, bis-olefin (OF) 0-5%; vinylidene fluoride (VDF) 20-30%, C2-C8non-fluorinated olefins (01) 10-30%, hexafluoropropene (HFP) and/or perfluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 18-27%, tetrafluoroethylene (TFE) 10-30%, bis-olefin (OF) 0-5%; tetrafluoroethylene (TFE) 50-80%, perfluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 20-50%, bis-olefin (OF) 0-5%; tetrafluoroethylene (TFE) 45-65%, C2-C8non-fluorinated olefins (01) 20-55%, vinylidene fluoride 0-30%, bis-olefin (OF) 0-5%; tetrafluoroethylene (TFE) 32-60% mol %, C2-C8non-fluorinated olefins (01) 10-40%, perfluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 20-40%, fluorovinyl ethers (MOVE) 0-30%, bis-olefin (OF) 0-5%; tetrafluoroethylene (TFE) 33-75%, perfluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 15-45%, vinylidene fluoride (VDF) 5-30%, hexafluoropropene HFP 0-30%, bis-olefin (OF) 0-5%; vinylidene fluoride (VDF) 35-85%, fluorovinyl ethers (MOVE) 5-40%, per-fluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 0-30%, tetrafluoroethylene (TFE) 0-40%, hexa-fluoropropene (HFP) 0-30%, bis-olefin (OF) 0-5%; tetrafluoroethylene (TFE) 20-70%, fluorovinyl ethers (MOVE) 30-80%, per-fluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 0-50%, bis-olefin (OF) 0-5%.
２８ＭＨｚで稼働するＶａｒｉａｎ ＶＮＭＳ５００ ＮＭＲ分光計上で、６０℃でＮＭＲスペクトルを記録することによって、ポリマーの末端基をＮＭＲ分析により定量化（ｑｕａｎｔｉｆｉｃａｔｅｄ）した。
More preferred polymers (VDFC) are those comprising vinylidene fluoride (VDF) 35-85%, hexafluoropropene (HFP) 10-45%, tetrafluoroethylene (TFE) 0-30%, perfluoroalkyl vinyl ethers (PAVE) 0-15%, bis-olefin (OF) 0-5%.
７５ｍＬの重水素化アセトン（９９．９％Ｄ、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈより入手）中の４０ｍｇの試料溶液を用いて、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）を内部標準として用いて、ＮＭＲ実験を実施した。
Advantageously, particles of said polymer (VDF) are obtained at the end of step (IV) of the method of the present invention.
１Ｈを、５．
Preferably, the particles of polymer (VDF) possess a primary particle average size of less than 1 μm.
０５μｓの４５度パルス長、５秒の緩和遅延、２．
For the purpose of the present invention, the term “primary particles” is intended to denote primary particles of polymer (VDF) deriving directly from aqueous emulsion polymerization process, without isolation of the polymer from the emulsion.
３秒の取得時間、１６Ｋの複合点（ｃｏｍｐｌｅｘ ｐｏｉｎｔ）、７ｋＨｚのスペクトル幅、及び１５００回の反復を用いて実施した。
Primary particles of polymer (VDF) are thus to be intended distinguishable from agglomerates (i.e. collection of primary particles), which might be obtained by recovery and conditioning steps of such polymer manufacture such as concentration and/or coagulation of aqueous latexes of the polymer (VDF) and subsequent drying and homogenization to yield the respective powder.
１９Ｆを、４．
According to a preferred embodiment, at the end of said step (IV) a dispersion [dispersion (D)] comprising particles of said polymer (VDF) is obtained.
４４μｓの４５度パルス長、５秒の緩和遅延、０．
The average particle size of powders of a polymer or copolymer dispersed in an aqueous slurry is typically higher than 1 μm, as measured according to ISO 13321.
６９５秒の取得時間、１６Ｋの複合点、２３．
Preferably, the primary particles average size of the particles of polymer (VDF) in said dispersion (D) is above 50 nm, more preferably above 100 nm, even more preferably above 150 nm as measured according to ISO 13321.
５ｋＨｚのスペクトル幅、及び２０００回の反復を用いて実施した。
Preferably, the primary particles average size is below 600 nm, more preferably below 400 nm and even more preferably below 350 nm as measured according to ISO 13321.
モル／１００００ＶＤＦ単位で表される末端基（ＥＧ）の量の判定を、以下の式を用いて計算し： ［ＥＧ］［モル／１００００ＶＤＦ単位］＝１００００ｘＩＥＧ／ＩＴＯＴ 式中、ＩＥＧは対応する末端基シグナルの正規化積分強度であり、ＩＴＯＴは、ＥＧ及びＶＤＦ単位の全ての正規化積分強度の和である。
More preferably, the primary particles average size of the particles of polymer (VDF) in said dispersion (D) is from 180 nm to 320 nm as measured according to ISO 13321.
合成１ ７．
As said, dispersion (D) is substantially free from fluorinated surfactants.
５リットルの横向きに配置されたステンレス鋼反応容器に、０．
The expression “substantially free” in combination with the amount of fluorinated surfactants in dispersion (D) is to be meant to exclude the presence of any significant amount of said fluorinated surfactants, e.g. requiring the fluorinated surfactants to be present in an amount of less than 1 ppm, with respect to the total weight of dispersion (D).
００４ｋｇのパラフィンワックス、及び続いて５．
Polymerization pressure ranges typically between 20 and 70 bar, preferably between 25 and 65 bar.
３１ｋｇの脱イオン水を投入した。
Polymerization temperature can be properly selected by the person skilled in the art on the basis of the monomers used.