mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
In particolare, la soluzione proposta per il procedimento per un Cross Traffic Alert è basata su una telecamera di basso costo ed è basata interamente sull’elaborazione dei dati di Flusso Ottico (OF, “Optical Flow”).
In particular, the proposed solution for Cross Traffic Alert method is based on a low cost camera and is entirely based on the processing of the Optical Flow (OF) data.
Il procedimento raggiunge prestazioni elevate usando solamente i dati di Flusso Ottico (OF).
The method reach high performances just using Optical Flow (OF) data.
Le rivendicazioni sono parte integrante dell’insegnamento tecnico della descrizione qui fornita.
The claims are an integral part of the technical teaching of the disclosure provided herein.
In una o più forme di attuazione, il procedimento comprende inoltre le fasi di: - filtrare il Flusso Ottico secondo l’orientamento, e selezionare soltanto i Vettori di Moto che giacciono sulla strada al fine di formare un insieme ridotto; - calcolare il Punto in Evanescenza (“Vanishing Point”) per ciascun fotogramma (“frame”) come la posizione media di tutte le intersezioni tra le linee generate dalle direzioni dei Vettori di Moto che appartengono all’insieme ridotto; - verificare il Punto in Evanescenza e stimare la posizione del Punto in Evanescenza VP nel frame corrente; - sovrapporre una griglia sopra l’immagine se la posizione del Punto in Evanescenza del frame corrente appartiene all’area centrale della griglia; e - calcolare la media aritmetica tra le posizioni valide del Punto in Evanescenza rispetto ai frame successivi.
In one or more embodiments, the method further comprises the steps of:filtering the Optical Flow according to the orientation, and selecting only the Motion Vectors laying on the road in order to form a reduced set;calculating the Vanishing Point for each frame as the average position of all intersections among lines generated by directions of Motion Vectors belonging to the reduced set;checking the Vanishing Point and estimating the Vanishing Point VP position in the current frame;overlying a grid over the image if the Vanishing Point position of the current frame belongs to the central area of the grid; andcalculating the arithmetic media between the valid Vanishing Point positions relative to subsequent frames.
In aggiunta, in una o più forme di attuazione calcolare il sottoinsieme di Filtro Orizzontale comprende le fasi di: - verificare la BB Bound Box e mantenere in detto sottoinsieme i Vettori di Moto all’interno della Lista delle Caselle di Delimitazione (“Bound Box List”) calcolata precedentemente; - effettuare una verifica orizzontale nella quale i vettori di moto al di fuori della Lista delle Caselle di Delimitazione calcolata precedentemente sono verificati e i Vettori di Moto MV orizzontali sono filtrati, e se il Vettore di Moto è considerato Orizzontale è mantenuto nel sottoinsieme, altrimenti è scartato.
Additionally, in one or more embodiments calculating the Horizontal Filter subset comprises the steps of:checking the BB and maintaining in said subset the Motion Vectors inside the previous calculated Bound Box List;performing an Horizontal Check wherein the Motion Vectors outside the previous calculated Bound Box List are checked and the horizontal Motion Vectors MVs are filtered and if the Motion Vector is considered Horizontal in maintained in the subset, otherwise is discarded.
Breve descrizione delle figure Le forme di attuazione della presente descrizione saranno ora descritte con riferimento ai disegni annessi, che sono forniti puramente a titolo di esempio non limitativo, e nei quali: - la Figura 1 rappresenta una forma di attuazione di un sistema per il Cross Traffic Alert secondo la presente descrizione, - la Figura 2 rappresenta una forma di attuazione della fasi del procedimento per un Cross Traffic Alert secondo la presente descrizione; - le Figure 3 e 4 rappresentano un esempio di una possibile implementazione di alcuni dettagli delle fasi del procedimento della Figura 2; - le Figure 5 e 6 rappresentano un esempio di una possibile implementazione di alcuni dettagli delle fasi della Figura 4, - le Figure 7A, 7B, 8A, 8B, 9A e 9B sono esempi delle uscite, rispettivamente della fase di Clustering e del sistema CTA.
Embodiments of the present disclosure will now be described with reference to the annexed drawings, which are provided purely by way of non-limiting example and in which:Figure 1 shows an embodiment of a system for the Cross Traffic Alert in accordance with the present disclosure,Figure 2 shows an embodiment of the Cross Traffic Alert method steps in accordance with the present disclosure;Figures 3 and 4 show an example of a possible implementation of some details of the method steps of Figure 2 ;Figure 5 and 6 show an example of a possible implementation of some details of the steps of Figure 4,Figure 7A, 7B, 8A, 8B, 9A and 9B are example of outputs, respectively of the Clustering step and of the CTA system.
Descrizione Dettagliata Nella descrizione che segue, sono forniti numerosi dettagli specifici per fornire una comprensione approfondita delle forme di attuazione.
In the following description, numerous specific details are given to provide a thorough understanding of embodiments.
Le forme di attuazione possono essere attuate senza uno o vari dettagli specifici o con altri procedimenti, componenti, materiali, ecc. In altri casi, operazioni, materiali o strutture ben note non sono rappresentate o descritte in dettaglio in modo da evitare di rendere poco chiari gli aspetti delle forme di attuazione.
The embodiments can be practiced without one or several specific details, or with other methods, components, materials, etc. In other instances, well-known structures, materials, or operations are not shown or described in detail to avoid obscuring aspects of the embodiments.
Un riferimento a “una forma di attuazione” in tutta questa descrizione significa che una particolare caratteristica, elemento distintivo o struttura descritta con riferimento alla forma di attuazione è inclusa in almeno una forma di attuazione.
Reference throughout this specification to "one embodiment" or "an embodiment" means that a particular feature, structure, or characteristic described in connection with the embodiment is included in at least one embodiment.
Così, le comparse delle frasi “in una forma di attuazione” in vari punti in tutta questa descrizione non fanno necessariamente riferimento tutte alla stessa forma di attuazione.
Thus, the appearances of the phrases "in one embodiment" or "in an embodiment" in various places throughout this specification are not necessarily all referring to the same embodiment.
Inoltre, le particolari caratteristiche, elementi distintivi o strutture possono essere combinate in un modo adeguato qualsiasi in una o più forme di attuazione.
Furthermore, the particular features, structures, or characteristics may be combined in any suitable manner in one or more embodiments.
I riferimenti forniti qui sono semplicemente per convenienza e non interpretano l’ambito o il significato delle forme di attuazione.
The headings provided herein are for convenience only and do not interpret the scope or meaning of the embodiments.
In particolare, il sistema di Cross Traffic Alert (CTA) è atto a rilevare veicoli che si muovono nel percorso di guida del veicolo dal lato sinistro o da quello destro.
In particular, the Cross Traffic Alert (CTA) system is able to detect vehicles that move into the vehicle driving path from the left or from the right side.
Si ipotizza che la telecamera che acquisisce un’immagine dell’area circostante sia non soltanto su un veicolo fermo, per es. arrestato a un semaforo o ad un’intersezione stradale, ma anche che si muova lentamente, per es. in una zona di parcheggio per auto.
The camera that acquires an image of the surrounding area is supposed to be not only on a vehicle still, e.g. stopped at a traffic light or at a road intersection, but also moving slowly, e.g. in a car park zone.
Siccome un numero crescente di aziende producono sensori di immagine con analisi del Flusso Ottico (OF) implementata in hardware, come descritto in A. A. Stocker e R. J. Douglas, “Analog integrated 2-D optical flow sensor with programmable pixels”, Proceedings of the 2004 International Symposium on Circuits and Systems (ISCAS), 2004, il sistema di Cross Traffic Alert (CTA) qui descritto può funzionare direttamente nel Processore di Segnale di Immagine (ISP, “Image Signal Processor”), interno alla telecamera di immagine, evitando di sovraccaricare l’Unità di Controllo del Motore (ECU) ed evitando di trasmettere l’intero flusso di immagine, senza necessità di avere un processore di immagine esterno.
Since a growing numbers of companies produce image sensors with hardware implemented Optical Flow (OF) analysis, as disclosed in A. A. Stocker and R. J. Douglas, "Analog integrated 2-D optical flow sensor with programmable pixels", Proceedings of the 2004 International Symposium on Circuits and Systems (ISCAS), 2004, the Cross Traffic Alert (CTA) system here described can work directly in the Image Signal Processor (ISP), internal to the image camera, avoiding to overload the Engine Control Unit (ECU) and avoiding to transmit the entire image flow, without the need to have an external image processor.
Ciò consente di ottenere un sistema per Cross Traffic Alert (CTA) in tempo reale con un basso sforzo computazionale supplementare, che offre buone prestazioni.
It allows obtaining a real time Cross Traffic Alert (CTA) system with low extra computational effort, offering good performance.
La Figura 1 rappresenta una possibile soluzione per un sistema di Cross Traffic Alert (CTA) di basso costo.
Figure 1 shows a possible solution for a low-cost Cross Traffic Alert (CTA) system.
Come menzionato in precedenza, il sistema di Cross Traffic Alert (CTA) può funzionare direttamente nel Processore di Segnale di Immagine (ISP) della telecamera, senza la necessità di avere un Processore di Immagine esterno.
As mentioned before, the Cross Traffic Alert (CTA) system can work directly in the Image Signal Processor (ISP) of the Camera, without the need to have an external Image Processor.
Nell’esempio considerato, almeno una telecamera di immagine 10 che genera un’immagine IMG è posta su un veicolo, quale un’auto, un camion o un motociclo.
In the example considered, at least one image camera 10 generating an image IMG is placed on a vehicle, such as a car, a truck or a motorcycle.
La telecamera di immagine 10 è posta sul veicolo ed è configurata per monitorare la situazione stradale anteriore, posteriore e/o laterale rispetto al veicolo.
The image camera 10 is placed on the vehicle and is configured to monitor the front, the back and/or the lateral road situation with respect to the vehicle.
La telecamera di immagine 10 comprende un modulo di elaborazione 20, per esempio un sistema per l’analisi di Cross Traffic Alert e la generazione di allarmi, che è atto ad analizzare la situazione stradale e a produrre un allarme al conducente secondo alcune circostanze.
The image camera 10 comprises a processing module 20, for example a system for the Cross Traffic Alert analysis and the alert generation, that is adapted to analyze the road situation and produce an alert to the driver under some circumstances.
Un tipico sistema di rilevazione può comprendere perciò una telecamera 10, un modulo di elaborazione 20 e un dispositivo di allarme 30, quale un visualizzatore (“display”) visivo, un elemento acustico e/o un attuatore aptico.
A typical detection system may therefore comprise a camera 10, a processing module 20 and an alert device 30, such as a visual display, an acoustic element and/or a haptic actuator.
Perciò, l’allarme fornito al conducente può essere di tipo differente.
Therefore, the alert given to the driver can be of different type.
Per esempio, il dispositivo di allarme può comprendere un elemento audio 32, un elemento di visualizzazione 34 e/o un attuatore aptico 36.
For example, the alert device may comprise an audio element 32, a display element 34, and/or a haptic actuator 36.
In particolare, la comunicazione aptica o cinestetica ricrea il senso del tocco applicando forze, vibrazioni o moti all’utente, e in particolare sul volante del veicolo.
In particular, the haptic or kinesthetic communication recreates the sense of touch by applying forces, vibrations, or motions to the user, and in particular on the steering wheel of the vehicle.
In varie forme di attuazione della presente descrizione, l’allarme può essere la somma o il mixaggio dell’allarme acustico, di quello visibile e di quello aptico.
In various embodiments of the present disclosure, the alert can be the sum or the mixing of the acoustic, the visible and the haptic alert.
Nella forma di attuazione considerata, per esempio, il sistema di Cross Traffic Alert (CTA) genera un video di uscita che rappresenta la scena di ingresso dove gli oggetti in movimento o i veicoli rilevati sono circondati da una Casella di Delimitazione BB (si veda per esempio la Figura 7A).
In the embodiment considered, for example, the Cross Traffic Alert (CTA) system generates an output video showing the input scene where the detected vehicles or moving objects are surrounded by a Bounding Box BB (see for example figure 7A ).
In particolare, il modulo di elaborazione 20 del Cross Traffic Alert (CTA) è basato interamente sul Flusso Ottico (OF), per es. la raccolta di Vettori di Moto (MV) che indicano il moto di un elemento distintivo nel frame corrente in confronto allo stesso elemento distintivo nel frame precedente.
In particular, the Cross Traffic Alert (CTA) processing module 20 is entirely based on the Optical Flow (OF), e.g. the collection of Motion Vectors (MVs) indicating the motion of a feature in the current frame compared with the same feature in the previous frame.
Il Flusso Ottico (OF) è calcolato direttamente all’interno del Processore di Segnale di Immagine (ISP) della telecamera 10, per esempio dal modulo di elaborazione 20, assicurando un’elaborazione in tempo reale.
The Optical Flow (OF) is computed directly inside the Image Signal Processor (ISP) of the camera 10, for example by the processing module 20, ensuring a real time processing.
Per essere più precisi, il sistema di Cross Traffic Alert (CTA) usa soltanto il Flusso Ottico (OF) disponibile dai sensori/ISP (per esempio, dal nuovo dispositivo sensore STV0991).
More to the point, the Cross Traffic Alert (CTA) system uses only the Optical Flow (OF) available from sensors/ISP (for example by the new device sensor STV0991).
Quindi, figura 7, si esegue un attacco chimico anisotropo in plasma per rimuovere progressivamente lo strato di materiale dielettrico 16 e il terzo strato di maschera 4c (entrambi di TEOS in questo esempio), fino a raggiungere il secondo strato di maschera 4b, qui di Si3N4, che funge da strato di interruzione attacco (“etch stop layer”).
Next ( Figure 7 ), anisotropic plasma chemical etching is carried out for progressive removal of the layer of dielectric material 16 and of the third mask layer 4c (both of which are of TEOS in this example), as far as the second mask layer 4b, here of Si3N4, which functions as etch-stop layer.
Una porzione 16’ dello strato di materiale dielettrico 16 permane internamente alla trincea 6, in corrispondenza del lato di fondo 6a, a copertura completa, e protezione, della regione dielettrica 14.
A portion 16' of the layer of dielectric material 16 remains inside the trench 6, on the bottom side 6a, to cover completely, and protect, the dielectric region 14.
Opzionalmente, si esegue un ulteriore attacco in HF (attacco umido) per completare la rimozione di un eventuale ossido ancora presente sulle pareti interne 6b della trincea 6.
Optionally, a further etch in HF (wet etch) is made to complete removal of any possible oxide still present on the inner walls 6b of the trench 6.
Quindi, figura 8, vengono eseguiti uno due attacchi chimici selettivo per rimuovere rispettivamente il secondo strato di maschera 4b ed il primo strato di maschera 4a sottostante, fino a scoprire il primo lato 2a dello strato strutturale 2.
Then ( Figure 8 ), two selective chemical etches are made for respective removal of the second mask layer 4b and the first underlying mask layer 4a, until the first side 2a of the structural layer 2 is exposed.
Quindi, figura 9, si procede con una fase di formazione, ad esempio mediante ossidazione termica, di uno strato di ossido di gate 20 in corrispondenza delle pareti laterali 6b della trincea 6 (ossia all’interfaccia con lo strato strutturale 2 esposto internamente alla trincea 6) e in corrispondenza del primo lato 2a dello strato strutturale 2.
There then follows ( Figure 9 ) a step of formation, for example by thermal oxidation, of a gate-oxide layer 20 on the side walls 6b of the trench 6 (i.e., at the interface with the structural layer 2 exposed inside the trench 6) and on the first side 2a of the structural layer 2.
Lo strato di ossido di gate 20 ha, ad esempio, spessore compreso tra 10 e 50 nm.
The gate-oxide layer 20 has, for example, a thickness comprised between 10 and 50 nm.
Quindi, figura 10, si esegue una deposizione di uno strato di polisilicio drogato 22, avente il primo tipo di conducibilità (N), e drogaggio compreso tra 1017atomi/cm3e 1019atomi/cm3, e, figura 11, successiva fase di attacco per rimuovere lo strato di polisilicio drogato 22 dal fronte della fetta 100 ad eccezione della trincea 6.
Next ( Figure 10 ), a layer of doped polysilicon 22, having the first conductivity type (N), and a doping level comprised between 1017at./cm3and 1019at./cm3is deposited, and ( Figure 11 ), a subsequent etching step is carried out for removal of the layer of doped polysilicon 22 from the front of the wafer 100 except for the trench 6.
In altre parole, una regione conduttiva di trincea 24, qui di polisilicio drogato N, si estende nella trincea 6 al di sopra della porzione 16’, riempiendo completamente la trincea 6.
In other words, a trench conductive region 24, here of doped polysilicon N, extends in the trench 6 on the portion 16', filling the trench 6 completely.
In una diversa forma di realizzazione, non illustrata, la regione conduttiva di trincea 24 riempie solo parzialmente la trincea 6, arrestandosi ad una distanza dal primo lato 2a, misurata lungo Z, compresa tra 100 nm e la profondità della trincea 6.
In a different embodiment, not illustrated, the trench conductive region 24 fills the trench 6 only partially, stopping at a distance from the first side 2a, measured along Z, comprised between 100 nm and the depth of the trench 6.
La regione conduttiva di trincea 24 forma, almeno in parte, l’elettrodo di gate, che risulta elettricamente isolato dallo strato strutturale 2 mediante lo strato di ossido di gate 20 (dielettrico di gate).
The trench conductive region 24 forms, at least in part, the gate electrode, which is electrically insulated from the structural layer 2 by the gate-oxide layer 20 (gate dielectric).
Quindi, con riferimento alla figura 12, con note tecniche di impianto di specie droganti e diffusione si formano una regione di corpo (“body”) 30, avente la seconda conducibilità (P), e una o più regioni di sorgente (“source”) 32, aventi la prima conducibilità (N), che risultano autoallineate alla trincea 6 (qui riempita come precedentemente descritto).
Then, with reference to Figure 12, formed with known techniques of implantation of dopant species and diffusion are a body region 30, having the second conductivity (P), and one or more source regions 32, having the first conductivity (N), which are self-aligned to the trench 6 (here filled as described previously).
La lavorazione della fetta 100 può quindi continuare, figura 13, con una deposizione di dielettrico di pre-metallizzazione 33, un attacco di quest’ultimo per l’apertura di contatti elettrici mediante fotolitografia per raggiungere ed esporre rispettive porzioni superficiali dell’elettrodo di porta 24 e delle regioni di sorgente 32, rispettive deposizioni di uno o più strati metallici che contattano l’elettrodo di porta 24 e le regioni di sorgente 32, e definizione fotolitografica di tali strati metallici 36 per completare la formazione degli elettrodi di sorgente e di porta (la sezione di figura 13 illustra esclusivamente la metallizzazione di porta 36).
Processing of the wafer 100 may then continue ( Figure 13 ) with deposition of pre-metallization dielectric 33, etching of the latter for opening electrical contacts by photolithography so as to reach and expose respective surface portions of the gate electrode 24 and of the source regions 32, respective depositions of one or more metal layers that contact the gate electrode 24 and the source regions 32, and photolithographic definition of said metal layers 36 for completing formation of the source and gate electrodes (the cross-sectional view of Figure 13 represents exclusively the gate metallization 36).
Una ulteriore deposizione sul retro della fetta (in corrispondenza del secondo lato 1b del substrato 1) consente di formare una metallizzazione di pozzo 38.
A further deposition on the back of the wafer (on the second side 1b of the substrate 1) enables formation of a drain metallization 38.
In dettaglio, la regione di corpo 30 è formata impiantando specie droganti di tipo P al fine di ottenere un drogaggio compreso tra circa 1·1017ioni/cm3e 5·1017ioni/cm3.
In detail, the body region 30 is formed by implanting dopant species of a P type in order to obtain a doping level comprised approximately between 1·1017ions/cm3and 5.1017ions/cm3.
Più in dettaglio, la regione di corpo 30 è formata nella regione strutturale 2 per una profondità lungo la direzione Z compresa, ad esempio, tra circa 0.5 µm e 1.0 µm.
In greater detail, the body region 30 is formed in the structural region 2 for a depth in the direction Z comprised, for example, approximately between 0.5 µm and 1.0 µm.
Le regioni di sorgente 32 si estendono nella regione di corpo 30, affacciate al primo lato 2a della regione strutturale 2, per una profondità lungo la direzione Z compresa, ad esempio, tra circa 100 nm e 150 nm.
The source regions 32 extend in the body region 30, facing the first side 2a of the structural region 2, for a depth in the direction Z comprised, for example, approximately between 100 nm and 150 nm.
Le regioni di sorgente 32 hanno ciascuna drogaggio ad esempio pari a circa 1·1020ioni/cm3, e si estendono in vista superiore, lateralmente all’elettrodo di porta 24, separate da quest’ultimo mediante il dielettrico 20.
The source regions 32 each have a doping level, for example, of approximately 1·1020ions/cm3, and extend in top plan view, alongside the gate electrode 24, separated from the latter by the dielectric 20.
Le metallizzazioni di porta e sorgente 36 sono formate depositando materiale conduttivo sulla fetta 100, in particolare metallo quale ad esempio Alluminio.
The gate and source metallizations 36 are formed by depositing conductive material on the wafer 100, in particular metal such as aluminium.
Analogamente, anche la metallizzazione di pozzo 38 viene formata mediante una fase di deposizione di materiale conduttivo, in particolare metallo, sul retro della fetta 100, completando la formazione del terminale di pozzo.
Likewise, also the drain metallization 38 is formed by a step of deposition of conductive material, in particular metal, on the back of the wafer 100, thus completing formation of the drain terminal.
Si forma così un dispositivo elettronico (qui, un MOSFET di potenza) 40 a conduzione verticale.
A vertical-conduction electronic device (here, a power MOSFET) 40 is thus formed.
Dunque, in uso, una corrente elettrica può fluire verticalmente (lungo Z) dalle regioni di sorgente 32 verso la metallizzazione di pozzo 38, attraverso la regione strutturale 2 ed il substrato 1.
Thus, in use, an electric current may flow vertically (along Z) from the source regions 32 to the drain metallization 38, through the structural region 2 and the substrate 1.