mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
Durante un processo di deposizione epitassiale, la posizione di nessuna spira dell’induttore viene modificata, ossia la posizione di ciascuna spira è mantenuta; l’induttore viene alimentato elettricamente mediante un “controllo ad anello chiuso”.
During an epitaxial deposition process, the position of no turn of the inductor is modified, i.e. the position of each turn is maintained; the inductor is supplied electrical power by means of a “closed loop control”.
Durante il controllo “ad anello chiuso”, si può rilevare la temperatura ad esempio tramite una termocamera, e la potenza elettrica da fornire all’induttore viene calcolata sulla base della differenza tra la temperatura desiderata (ossia quella di processo ad esempio impostata dall’operatore) e la temperatura rilevata dalla termocamera (ad esempio la temperatura media del substrato).
During the “closed loop” control, the temperature can be measured for example by means of a thermographic camera, and the electrical power to be supplied to the inductor is calculated on the basis of the difference between the desired temperature (i.e. the process temperature for example set by the operator) and the temperature measured by the thermographic camera (for example the average temperature of the substrate).
In alcune applicazioni, durante la parte finale del riscaldamento (ad esempio durante gli ultimi 50-100°C di riscaldamento), può essere preferibile mantenere fisse le spire ed attuare un controllo elettrico dell’induttore “ad anello chiuso”.
In some applications, during the final part of the heating operation (e.g. during the last 50-100° C. of heating), it can be preferable to maintain the turn fixed and implement a “closed loop” electrical control of the inductor.
Metodo di riscaldamento per un reattore (1) per deposizione epitassiale; in cui il reattore (1) comprende un suscettore (2) ed un induttore (4); in cui l’induttore (4) è atto a riscaldare il suscettore (2) per induzione elettromagnetica quando alimentato elettricamente; in cui l’induttore (4) comprende una pluralità di spire (41-47); in cui, durante il riscaldamento del suscettore (2) da una prima temperatura ed una seconda temperatura, la posizione di almeno una prima spira (43) rispetto a detto suscettore (2) viene modificata.
Heating method for a reactor for epitaxial deposition;wherein the reactor comprises a susceptor and an inductor;wherein the inductor is adapted to heat the susceptor by electromagnetic induction when electrically powered;wherein the inductor comprises a plurality of turns;wherein, during heating of the susceptor from a first temperature to a second temperature, before an epitaxial deposition process, the position of at least one first turn of the inductor with respect to said susceptor and with respect to other turns of the inductor is changed. wherein the reactor comprises a susceptor and an inductor; wherein the inductor is adapted to heat the susceptor by electromagnetic induction when electrically powered; wherein the inductor comprises a plurality of turns; wherein, during heating of the susceptor from a first temperature to a second temperature, before an epitaxial deposition process, the position of at least one first turn of the inductor with respect to said susceptor and with respect to other turns of the inductor is changed.
Metodo di riscaldamento secondo la rivendicazione 1, in cui, durante il riscaldamento del suscettore da una prima temperatura ed una seconda temperatura, la posizione di almeno una seconda spira (45, 46) rispetto a detto suscettore (2) viene modificata.
Heating method according to claim 1, wherein, during heating of the susceptor from a first temperature to a second temperature, before an epitaxial deposition process, the position of at least one second turn of the inductor with respect to said susceptor and with respect to other turns of the inductor is changed.
Metodo di riscaldamento secondo la rivendicazione 1 oppure 2, in cui, durante il riscaldamento del suscettore da una prima temperatura ed una seconda temperatura, la posizione di detta almeno una spira (43) e/o di detta almeno una seconda spira (45, 46) viene modificata mediante un “controllo ad anello aperto” (8).
Heating method according to claim 1, wherein, during heating of the susceptor from a first temperature to a second temperature, before an epitaxial deposition process, the position of said at least one turn and/or of said at least one second turn is changed through an open loop control.
Metodo di riscaldamento secondo la rivendicazione 1 oppure 2 oppure 3, in cui, durante il riscaldamento del suscettore da una prima temperatura ed una seconda temperatura, detto induttore (4) viene alimentato elettricamente mediante un “controllo ad anello aperto” (8).
Heating method according to claim 1, wherein, during the heating of the susceptor from a first temperature to a second temperature, before an epitaxial deposition process, said inductor is electrically powered through an open loop control.
Metodo di riscaldamento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui, durante un processo di deposizione epitassiale, la posizione di nessuna spira (41-48) di detto induttore (4) viene modificata.
Heating method according to claim 1, wherein, during an epitaxial deposition process, the position of none of the turns (41-48) of said inductor is changed.
Metodo di riscaldamento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui, durante un processo di deposizione epitassiale, detto induttore (4) viene alimentato elettricamente mediante un “controllo ad anello chiuso” (8).
Heating method according to claim 1, wherein, during an epitaxial deposition process, said inductor is electrically powered through a closed loop control.
Metodo di riscaldamento secondo una qualsiasi delle rivendicazioni precedenti, in cui detta seconda temperatura corrisponde ad una temperatura di processo di un processo di deposizione epitassiale.
Heating method according to claim 1, wherein said first temperature corresponds to a loading temperature of an epitaxial deposition process, and/or wherein said second temperature corresponds to a process temperature of an epitaxial deposition process.
Reattore (1) per deposizione epitassiale comprendente almeno un suscettore (2) con una porzione discoidale atta a supportare direttamente o indirettamente uno o più substrati (100), ed un induttore (4) a spire (41-47) atto a riscaldare detta porzione discoidale (2) e ad essere regolato mediante modifica della posizione delle spire (41-47), caratterizzato dal fatto di comprendere: - un primo motore (61) atto a modificare la posizione di almeno una prima spira (43) di detto induttore (4) per effetto del suo moto, - una prima pluralità di attuatori (62) traslanti atti ad agire su una corrispondente pluralità di punti (Fig. 3) di detta almeno una prima spira (43) e provocarne traslazioni, e - una prima trasmissione (63) atta a trasmettere il moto di detto primo motore (61) a detta prima pluralità di attuatori (62).
Reactor for epitaxial deposition comprising at least one susceptor with a disk-like portion adapted to directly or indirectly support one or more substrates, and an inductor with turns adapted to heat said disk-like portion and to be controlled by changing the position of the turns, the reactor comprising:a first motor adapted to change the position of at least one first turn of said inductor as a result of its motion,a first plurality of translating actuators adapted to act on a corresponding plurality of points (FIG. 3) of said at least one first turn and causing translations thereof, anda first transmission adapted to transmit the motion of said first motor (61) to said first plurality of actuators. a first motor adapted to change the position of at least one first turn of said inductor as a result of its motion, a first plurality of translating actuators adapted to act on a corresponding plurality of points (FIG. 3) of said at least one first turn and causing translations thereof, and a first transmission adapted to transmit the motion of said first motor (61) to said first plurality of actuators.
Reattore per deposizione epitassiale secondo la rivendicazione 8, comprendente: - un secondo motore atto a modificare la posizione di almeno una seconda spira (45, 46) di detto induttore (4) per effetto del suo moto, - una seconda pluralità di attuatori traslanti atti ad agire su una corrispondente pluralità di punti (Fig. 3) di detta almeno una seconda spira (45, 46) e provocarne traslazioni, e - una seconda trasmissione atta a trasmettere il moto di detto secondo motore a detta seconda pluralità di attuatori.
Reactor for epitaxial deposition according to claim 10, comprising:a second motor adapted to change the position of at least one second turn of said inductor as a result of its motion,a second plurality of translating actuators adapted to act on a corresponding plurality of points (FIG. 3) of said at least one second turn and causing translations thereof, anda second transmission adapted to transmit the motion of said second motor to said second plurality of actuators. a second motor adapted to change the position of at least one second turn of said inductor as a result of its motion, a second plurality of translating actuators adapted to act on a corresponding plurality of points (FIG. 3) of said at least one second turn and causing translations thereof, and a second transmission adapted to transmit the motion of said second motor to said second plurality of actuators.
Reattore per deposizione epitassiale secondo la rivendicazione 8 e/o 9, in cui detta prima trasmissione (63) e/o detta seconda trasmissione è costituita da una e/o due cinghie o catene.
Reactor for epitaxial deposition according to claim 10, wherein said first transmission and/or said second transmission consists of one and/or two belts or chains.
Reattore per deposizione epitassiale secondo la rivendicazione 8 oppure 9 oppure 10, in cui detto induttore (4) è costituito da un conduttore continuo in un solo pezzo meccanico elastico.
Reactor for epitaxial deposition according to claim 10, wherein said inductor comprises a continuous conductor in a single elastic mechanical piece.
Reattore per deposizione epitassiale secondo la rivendicazione 8 oppure 9 oppure 10 oppure 11, comprendente potenziometri usati per rilevare rotazioni di detti attuatori.
Reactor for epitaxial deposition according to claim from 10, comprising potentiometers used to detect rotations of said actuators.
Reattore per deposizione epitassiale secondo una qualsiasi delle rivendicazioni da 8 a 12, comprendente mezzi (8) atti specificamente ad implementare il metodo di riscaldamento secondo qualsiasi delle rivendicazioni da 1 a 7.
Reactor for epitaxial deposition adapted to implement the heating method according to claim from 1and comprising at least one motor (61), at least one plurality of actuators (62) and at least one transmission (63).
DISPOSITIVO PER LA PRODUZIONE DI FILI O FILATI FIAMMATI Descrizione Campo Tecnico La presente invenzione concerne il settore della produzione di fili e filati.
The present invention relates to the field of yarn production.
Più in particolare, forme di realizzazione qui descritte riguardano perfezionamenti ai dispositivi per la produzione di filati fiammati (filati “slub”).
More in particular, embodiments described herein relate to improvements to the devices for the production of slub yarns.
Arte Anteriore Nel settore tessile vi è una continua ricerca di nuovi filati per ottenere particolari effetti tecnici ed estetici.
In the textile industry, new yarns are continuously developed in order to achieve particular technical and aesthetical effects.
E’ noto nella tecnologia tessile realizzare filati fantasia cosiddetti “fiammati”, in cui, tramite un opportuno dispositivo di fiammatura o unità di fiammatura, vengono inserite nel filato zone di accumulo, cioè irregolarità dello spessore del filato medesimo.
In the textile technology, it is well known to produce so-called "slub" fancy yarns, i.e. yarns in which accumulation areas, i.e. irregularities in the thickness, are provided by means of a suitable slubbing device or unit.
Esempi di dispositivi di fiammatura sono descritti in EP0299131, US6820405, US4368612.
Slubbing devices are disclosed, for instance, in EP0299131, US6820405, US4368612.
Questi dispositivi sono disposti lungo il percorso di alimentazione del filato e afferrano periodicamente il filato alimentato per modificarne ed allungarne temporaneamente il percorso.
These devices are arranged along the yarn feeding path and periodically grab the yarn in order temporarily to modify and to lengthen the path thereof.
Una volta allungato il percorso del filato, questo viene rilasciato così da formare un accumulo che, nel prodotto finito, genera un effetto di fiammatura.
Once the yarn path has been lengthened, the yarn is released so that it forms an accumulation generating a slub effect in the finished product.
Per ottenere un’alimentazione corretta del filo lungo il suo percorso verso una zona di avvolgimento è necessario che il dispositivo di fiammatura non provochi irregolarità nell’alimentazione, ad esempio che non provochi accidentali pinzature del filo.
In order to have a correct yarn feeding along the path towards a winding area, the slubbing device shall not cause feeding irregularities, for instances it shall not accidentally pinch the yarn.
I dispositivi di fiammatura dell’arte corrente non sono sceveri da problemi sotto questo punto di vista.
From this point of view, the prior art slubbing devices have proved unsatisfactory.
Vi è quindi la perdurante necessità di perfezionare i dispositivi di fiammatura per renderli più funzionali e modulari, dando la possibilità di creare fiammature casuali, non ripetitive per determinare l'effetto sul tessuto finale.
Therefore, a need still exits for improving the slubbing devices in order to make them more functional and more reliable..
Sommario Al fine risolvere in tutto od in parte uno o più dei problemi dei dispositivi di fiammatura dell’arte corrente, viene previsto un dispositivo di fiammatura di fili comprendente: un elemento lineare estendentesi trasversalmente ad un percorso del filo; uno scivolo di rilascio del filo, con una superficie di scorrimento del filo, estendentesi dall’elemento lineare e inclinata rispetto ad esso; un cursore mobile di moto alternato parallelamente all’elemento lineare e configurato per spingere il filo lungo la superficie inclinata dello scivolo di rilascio del filo.
In order to solve or alleviate one or more of the drawbacks of the slubbing devices of the prior art, a yarn slubbing device is provided comprising: a linear element extending transversally to a yarn path; a slide or deflecting member, for releasing the yarn, with a yarn sliding surface that extends from the linear element and is inclined with respect thereto; a cursor or slider movable, preferably with a reciprocating motion, parallel to the linear element and configured so as to push the yarn along the inclined surface of the yarn releasing slide.
Vantaggiosamente, l’elemento lineare presenta una scanalatura longitudinale parallela allo sviluppo longitudinale dell’elemento lineare, e la superficie di scorrimento dello scivolo di rilascio del filo si estende all’interno della scanalatura longitudinale, cioè penetra all’interno di essa.
Advantageously, the linear element has a longitudinal groove parallel to the longitudinal extension of the linear element, and the sliding surface of the yarn releasing slide extends inside the longitudinal groove, i.e. it penetrates therein.
L’elemento lineare è in generale un componente avente una dimensione longitudinale sostanzialmente maggiore delle dimensioni trasversali, ad esempio una barra, stecca o asta.
Generally, the linear element is a component having a longitudinal dimension which is substantially greater than the transverse dimensions, for instance a bar, a stick or a rod.
Nel seguito l’elemento lineare viene indicato anche semplicemente come “asta”.
Herein, the linear element will be also indicated simply with the term "rod".
Per facilitare lo scorrimento del filato, l’asta può essere realizzata in materiale ceramico, ad esempio allumina (Al2O3), biossido di titanio (TiO2), biossido di zirconio (ZrO2).
In order to facilitate sliding of the yarn, the rod may be made of ceramic material, for example aluminum oxide (Al2O3), titanium dioxide (TiO2), zirconium dioxide (ZrO2).
In altre forme di realizzazione l’asta può essere realizzata in acciaio speciale con trattamento superficiale per aumentarne durezza e abbassarne coefficiente di attrito.
In other embodiments, the rod may be made of special steel with a surface treatment to increase the hardness and decrease the friction coefficient thereof.
Ulteriori caratteristiche e forme di realizzazione del dispositivo di fiammatura secondo l’invenzione sono descritte nel seguito e nelle allegate rivendicazioni, che formano parte integrante della presente descrizione.
Further features and embodiments of the yarn slubbing device according to the present invention will be described hereunder and in the attached claims, which form an integral part of the present description.
Breve Descrizione dei Disegni L'invenzione verrà meglio compresa seguendo la descrizione e l'unito disegno, il quale mostra pratiche forme di realizzazione non limitative dell'invenzione.
The invention will be better understood by perusal of the description and the accompanying drawing, which shows non-limiting practical embodiments of the invention.
Più in particolare, nel disegno: la Fig.1 mostra una vista frontale di un dispositivo di fiammatura in una possibile forma di realizzazione; la Fig.2 mostra una vista in pianta secondo la linea II-II di Fig.1; la Fig.3 mostra una vista assonometrica del dispositivo delle Figg.1 e 2; la Fig.3A mostra un ingrandimento del dettaglio indicato con A in Fig.3; la Fig.4 mostra una vista frontale, simile alla Fig.1, di un dispositivo di fiammatura in un’ulteriore forma di realizzazione; la Fig.5 mostra una vista in pianta secondo la linea V-V di Fig.4; la Fig.6 mostra una vista assonometrica del dispositivo delle Figg.4 e 5; la Fig.6A mostra un ingrandimento del dettaglio indicato con A in Fig.6.
More particularly, in the drawing:Fig. 1 is a front view of a yarn slubbing device in a possible embodiment;Fig. 2 is a plan view according to the line II-II of Fig. 1 ;Fig. 3 is an axonometric view of the device of Figs. 1 and 2 ;Fig. 3A is an enlargement of the detail indicated with A in Fig. 3 ;Fig. 4 is a front view, similar to that of Fig. 1, of a yarn slubbing device in a further embodiment;Fig. 5 is a plan view according to the line V-V of Fig. 4 ;Fig. 6 is an axonometric view of the device of Figs. 4 and 5 ;Fig. 6A is an enlargement of the detail indicated with A in Fig. 6.
Descrizione Dettagliata di Forme di Attuazione La descrizione dettagliata che segue di forme di realizzazione esemplificative si riferisce ai disegni allegati.
The following detailed description of the exemplary embodiments refers to the accompanying drawings.
Gli stessi numeri di riferimento in disegni differenti identificano elementi uguali o simili.
The same reference numbers in different drawings identify the same or similar elements.
Inoltre, i disegni non sono necessariamente in scala.
Additionally, the drawings are not necessarily drawn to scale.
La descrizione dettagliata che segue non limita l’invenzione.
Also, the following detailed description does not limit the invention.
Piuttosto, l’ambito dell’invenzione è definito dalle rivendicazioni accluse.
Instead, the scope of the invention is defined by the appended claims.
Il riferimento in tutta la descrizione a “una forma di realizzazione” o “la forma di realizzazione” o “alcune forme di realizzazione” significa che una particolare caratteristica, struttura o elemento descritto in relazione ad una forma di realizzazione è compresa in almeno una forma di realizzazione dell’oggetto descritto.
Reference throughout the specification to "one embodiment" or "an embodiment" or "some embodiments" means that the particular feature, structure or characteristic described in connection with an embodiment is included in at least one embodiment of the subject matter disclosed.
Pertanto la frase “in una forma di realizzazione” o “nella forma di realizzazione” o “in alcune forme di realizzazione” in vari punti lungo la descrizione non si riferisce necessariamente alla stessa o alle stesse forme di realizzazione.
Thus, the appearance of the phrase "in one embodiment" or "in an embodiment" or "in some embodiments" in various places throughout the specification is not necessarily referring to the same embodiment(s).
Inoltre le particolari caratteristiche, strutture od elementi possono essere combinati in qualunque modo idoneo in una o più forme di realizzazione.
Further, the particular features, structures or characteristics may be combined in any suitable manner in one or more embodiments.
Con iniziale riferimento alle Figg.1 - 3 e 3A viene descritta una prima forma di realizzazione del dispositivo di fiammatura, complessivamente indicato con 1.
With initial reference to Figs. 1-3 and 3A, a first embodiment is described of the yarn slubbing device, indicated as a whole with number 1.
Il dispositivo di fiammatura 1 può essere multiplo, cioè può comprendere una pluralità di sezioni tra loro uguali, disposte in sequenza per lavorare fili o filati alimentati in parallelo.
The yarn slubbing device 1 may be multiple, i.e. it may comprise a plurality of equal sections arranged in sequence, so as to process yarns fed in parallel.
Nel seguito viene descritta una sola sezione del dispositivo di fiammatura 1.
Below, only one section of the slubbing device 1 will be described.
Il dispositivo di fiammatura 1 comprende una coppia di guidafili 3, 5 tra loro sostanzialmente coassiali, attraverso i quali viene guidato un filo F. Ai guidafili 3, 5 è associato un elemento lineare 7 in forma di asta o barra, che si estende circa ortogonalmente al percorso del filo F definito dai due guidafili 3, 5 coassiali. nel seguito l’elemento lineare 7 verrà indicato brevemente come asta 7.
A linear element 7 is associated with the thread guides 3, 5, the linear element being in the form of a rod or a bar and extending approximately orthogonally to the path of the yarn F defined by the two coaxial thread guides 3, 5.
L’asta 7 presenta una scanalatura longitudinale 8.
The rod 7 has a longitudinal groove 8.
Nella forma di realizzazione illustrata la scanalatura longitudinale 8 si estendente secondo la dimensione maggiore dell’asta 7 per l’intera lunghezza dell’asta 7.
In the illustrated embodiment, the longitudinal groove 8 extends according to the greater dimension of the rod 7 for the whole length of the rod 7.
In altre forme di realizzazione la scanalatura longitudinale 8 può estendersi solo per una parte della lunghezza dell’asta 7, come apparirà chiaro dalla descrizione che segue.
In other embodiments, the longitudinal groove 8 may extend only for a part of the length of the rod 7, as it will be clearly apparent from the following description.
L’asta 7 si estende tra i guidafili 3, 5 ed un scivolo 9, che presenta un bordo 9A formante una superficie di scorrimento del filo F, per gli scopi chiariti in seguito.
The rod 7 extends between the thread guides 3, 5 and a slide 9, which is provided with an edge 9A forming a sliding surface for the yarn F, for purposes that will be explained below.
Come visibile in particolare nell’ingrandimento di Fig. 3A, lo scivolo 9 è disposto in maniera tale che la superficie di scorrimento 9A del filo F è inclinata rispetto allo sviluppo longitudinale dell’asta 7, formando con essa un angolo α (Fig.2) maggiore di 90°.
As shown in particular in the enlargement of Fig. 3A, the slide 9 is arranged so that the sliding surface 9A for the yarn F is inclined with respect to the longitudinal extension of the rod 7, forming therewith an angle α ( Fig. 2 ) greater than 90°.
Inoltre, la superficie di scorrimento 9A penetra all’interno della scanalatura 8.
Moreover, the sliding surface 9A extends inside the groove 8.