mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
Procédé selon la revendication 5 dans lequel, à une valeur de temps donnée (t), la température (TAIretard) du fluide gazeux contenu dans la cavité interne du pneumatique servant à l'estimation de la température (Tzi) de la zone interne (ZI, C, N, B) d'un matériau constitutif du pneumatique est déterminée par une loi pré-établie du type : TAIretard (t = ¾/( + T■V(t)"(l ~ où TAI' représente, à l'instant t, la valeur de la dérivée de TAI(t), et où, pour une zone interne donnée (ZI, C, N, B) d'un type de pneumatique donné, ^représente une période de transfert thermique dont la valeur est ajustée selon que la valeur TAIt) est croissante ou décroissante, et At représente le temps entre deux mesures.
The method according to claim 20, wherein, at a given time value (t), the delay-adjusted temperature (TAIdelay) has a formula of:TAIdelay(t)=TAI(t)+τ·TAI′(t)·(1−eΔt/τ), TAIdelay(t)=TAI(t)+τ·TAI′(t)·(1−eΔt/τ), in whichTAI′ represents, at a time instant t, a value of a derivative of TAI(t),for a given internal zone of a given type of the tire, τ represents a period of heat transfer, τ have a value that is adjusted according to whether a value of TAI(t) is increasing or decreasing, andΔt represents an amount of time between two measurements.
Procédé selon l'une des revendications 1 à 6 dans lequel : - on mesure à intervalles réguliers la valeur d'une pression (P) du fluide gazeux contenu à l'intérieur de la cavité interne (8) du pneumatique, ainsi que la valeur d'une charge (Z) portée par le pneumatique, on corrige l'estimation de la valeur de la température (Tzi) d'une zone interne (ZI, C,N,B) d'un matériau constitutif du pneumatique en fonction des valeurs mesurées de la pression (P) et de la charge (Z).
TAI′ represents, at a time instant t, a value of a derivative of TAI(t), for a given internal zone of a given type of the tire, τ represents a period of heat transfer, τ have a value that is adjusted according to whether a value of TAI(t) is increasing or decreasing, and Δt represents an amount of time between two measurements.
Procédé selon la revendication 7, dans lequel, à une valeur de temps donné (t), la loi pré-établie permettant d'estimer la température de ladite zone interne (Tzi) des matériaux constitutifs du pneumatique, qui est une fonction de la température TAIdu fluide gazeux contenu dans la cavité interne du pneumatique, de la température Tj en un emplacement de la jante, de la pression P et de la charge z, est du type : Tzi = cTT ■TAI+ aTTz.'.
The method according to claim 16, further comprising steps of:measuring a pressure of the gaseous fluid contained inside the internal cavity of the tire at regular time intervals, in order to obtain a gas pressure (P) in the internal cavity of the tire;measuring a load borne by the tire at regular intervals, in order to obtain a tire load (Z); andcorrecting the estimated temperature (TZI) based on the gas pressure (P) and the tire load (Z). measuring a pressure of the gaseous fluid contained inside the internal cavity of the tire at regular time intervals, in order to obtain a gas pressure (P) in the internal cavity of the tire; measuring a load borne by the tire at regular intervals, in order to obtain a tire load (Z); and correcting the estimated temperature (TZI) based on the gas pressure (P) and the tire load (Z).
Tj + apTZI■P +Z + TZI0où, pour une zone interne donnée (ZI, C, N, B) d'un type de pneumatique donné, ατ^ζ, αρζι,ζζι, TZI0sont des coefficients déterminés expérimentalement.
The method according to claim 22, wherein, at a given time value (t), the pre-established law connecting the estimated temperature (TZI) to the fluid temperature (TAI) and the rim temperature (TJ) takes into account the gas pressure (P) and the tire load (Z), and has a formula of:TZI=αTAITZI·TAI+αTjTZI·Tj+αPTZI·P+αZTZI·Z+TZI0, TZI=αTAITZI·TAI+αTjTZI·Tj+αPTZI·P+αZTZI·Z+TZI0, in which, for a given internal zone of a given type of the tire, αTAITZI, αPTZI, αZTZI, TZI0 are coefficients that are determined experimentally.
Procédé selon l'une des revendications 1 à 8, dans lequel on estime la température interne des matériaux situés dans au moins une des zones du pneumatique (1 ) choisie parmi une extrémité d'une nappe de travail (N), un bourrelet (B), une bande de roulement (C).
The method according to claim 16, where the estimated temperature (TZI) at at least one internal zone of the materials of which the tire is made is an internal temperature of materials situated at at least one of:a zone at an end region (N) of a working ply of the tire,a zone at a bead region (B) of the tire,a zone at a tread region (C) of the tire. a zone at an end region (N) of a working ply of the tire, a zone at a bead region (B) of the tire, a zone at a tread region (C) of the tire.
Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel à chaque valeur de temps (t) on transmet les valeurs mesurées de températures (TAi, Tj) de pression (P) et de charge (z) à un opérateur distant.
The method according to claim 22, wherein, at each time value (t), values of the fluid temperature (TAI), the rim temperature (Tj), the gas pressure (P), and the tire load (Z) are transmitted to a remote operator.
Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel on transmet ladite température interne (TZi) d'un matériau constitutif du pneumatique à un opérateur distant.
The method according to claim 16, wherein the estimated temperature (TZI) at at least one internal zone of materials of which the tire is made is transmitted to a remote operator.
Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 11 dans lequel on émet une alerte lorsque ladite température interne (Tzi) du matériau constitutif du pneumatique dépasse un seuil donné pendant une période de temps donnée.
The method according to claim 16, further comprising a step of emitting an alert when the estimated temperature (TZI) at at least one internal zone of materials of which the tire is made exceeds a given threshold during a given time period.
Cette couche antireflet 128 est en oxyde de zinc dopé à l'aluminium ZnO:Al (déposé à partir d'une cible métallique constitué de zinc dopé à 2 % en masse d'aluminium).
The superjacent antireflection coating 160comprises: a dielectric layer 162made of aluminum-doped zinc oxide ZnO:Al (deposited from a metallic target consisting of zinc doped with 2% by weight of aluminum), a layer made of silicon nitride Si3N4:Al, the layer 164, deposited from a metallic target doped with 8% by weight of aluminum, and an oxide-based protective layer 168.
Le revêtement antireflet sus-jacent 160 comprend : - une couche diélectrique 162 en oxyde de zinc dopé à l'aluminium ZnO:Al (déposé à partir d'une cible métallique constituée de zinc dopé à 2 % en masse d'aluminium) - une couches en nitrure de silicium Si3N4:Al, la couche 164, déposée à partir d'une cible métallique dopée à 8 % en masse d'aluminium, et - une couche de protection 168 à base d'oxyde.
For all the examples below, the conditions for depositing the layers are: LayerTarget usedDeposition pressureGasSi3N4:AlSi:Al at 92:8 wt %1.5 × 10−3 mbarAr/(Ar + N2)at 45%TiOzTiOx2 × 10−3 mbarAr/(Ar + O2)at 90%TiTi7 × 10−3 mbarAr at 100%ZnO:AlZn:Al at 98:2 wt %2 × 10−3 mbarAr/(Ar + O2)at 52%except for layer162 of ex.
Pour tous les exemples ci-après, les conditions de dépôt des couches sont : Les couches déposées peuvent ainsi être classées en trois catégories : i- couches en matériau diélectrique, présentant un rapport n/k sur toute la plage de longueur d'onde du visible supérieur à 5 : Si3N4:Al, Ti02, ZnO:Al ii- couches fonctionnelles métalliques en matériau à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ ou dans le rayonnement solaire : Ag. iii- couches de sur-blocage et sous-blocage destinées à protéger la couche fonctionnelle contre une modification de sa nature lors du dépôt de l'empilement ; leur influence sur les propriétés optiques et énergétiques est en général ignoré.
2 and 3NiCrNiCr at 80:20 wt2 × 10−3 mbarAr at 100%AgAg2 × 10−3 mbarAr at 100% The layers deposited may thus be classed into three categories: i—layers made of dielectric material, having an n/k ratio over the entire visible wavelength range of greater than 5: Si3N4:Al, TiO2, ZnO:Al ii—metallic functional layers made of material having reflection properties in the infrared and/or in solar radiation: Ag iii—overblocker and underblocker layers intended to protect the functional layer against a modification of its nature during the deposition of the stack; their influence on the optical and energy properties is in general ignored.
Il a été constaté que l'argent présente aussi un rapport 0 < n/k < 5 sur toute la plage de longueur d'onde du visible, mais sa résistivité électrique à l'état massif est inférieure à 10"6Q.cm.
It was observed that the silver also has a ratio 0<n/k<5 over the entire visible wavelength range, but its bulk electrical resistivity is less than 10−6 Ω·cm.
Dans tous les exemples ci-après l'empilement de couches minces est déposé sur un substrat en verre sodo-calcique clair d'une épaisseur de 4 mm de la marque Planilux, distribué par la société SAINT-GOBAIN.
In all the examples below, the thin-films stack is deposited on a substrate made of clear soda-lime glass having a thickness of 4 mm of the Planilux brand, distributed by SAINT-GOBAIN.
Pour ces empilements, R indique la résistance par carré de l'empilement, mesurée en ohms par carré.
For these stacks, R indicates the sheet resistance of the stack, measured in ohms per square.
En outre, pour ces exemples, lorsque le substrat porteur de l'empilement est intégré dans un double vitrage, celui-ci présente la structure : 4-16-4 (Ar - 90%), c'est-à-dire que deux substrats en verre, chacun d'une épaisseur de 4 mm sont séparés par une lame de gaz constituée à 90 % d'argon et 10% d'air présentant une épaisseur de 16 mm.
For these examples, moreover, when the substrate bearing the stack is integrated into a double glazing, it has the structure: 4-16-4 (Ar—90%), that is to say that two glass substrates, each having a thickness of 4 mm, are separated by a gas-filled space consisting of 90% argon and 10% air having a thickness of 16 mm.
Tous ces exemples ont permis d'atteindre, dans cette configuration de double vitrage, un coefficient U, ou coefficient K, calculé selon la norme EN 673, de l'ordre de 1,0 W.m"2. ° K"1(c'est le coefficient de transmission thermique à travers le vitrage ; il désigne la quantité de chaleur traversant le substrat en régime stationnaire, par unité de surface et pour une différence de température unitaire entre la face du vitrage en contact avec l'espace extérieur et la face du vitrage en contact avec l'espace intérieur).
All these examples made it possible to achieve, in this double glazing configuration, a U value, or K value, calculated according to the EN 673 standard, of the order of 1.0 W·m−2·° K−1 (this is the thermal transmittance through the glazing; it indicates the amount of heat passing through the substrate in steady state, per unit area and for a unit temperature difference between the face of the glazing in contact with the outside space and the face of the glazing in contact with the inside space).
Les trois exemples ont été réalisés selon la structure d'empilement illustré en figure 1, mais sans revêtement de sous-blocage 130.
The three examples were carried out according to the stack structure illustrated in FIG. 1, but without underblocker coating 130.
Le tableau 1 ci -après illustre les épaisseurs géométriques ou physiques (et non pas les épaisseurs optiques) en nanomètres de chacune des couches de la série d'exemples : Tableau 1 Pour l'exemple 1, le flux d'oxygène pour déposer la couche 162 est de 400 sccm ; c'est le flux qui permet, dans les conditions de dépôt de cette couche, de déposer une couche présentant la stœchiométrie stable de ZniOi.
Table 1 below illustrates the geometric or physical thicknesses (and not the optical thicknesses) in nanometers of each of the layers of the series of examples: TABLE 1LayerMaterialThicknesses168TiO22164Si3N4:Al37162ZnO:Al5150Ti1.5140Ag10128ZnO:Al3126TiO216122Si3N4:Al23 For example 1, the flow of oxygen for depositing the layer 162is 400 sccm; this is the flow that makes it possible, under the conditions for depositing this layer, to deposit a layer having a stable stoichiometry of Zn1O1.
Il s'agit du rapport de O/Zn = 1 habituel pour cette couche ; l'exemple 1 constitue donc un contre-exemple de l'invention.
This is the ratio of O/Zn=1 standard for this layer; example 1 therefore constitutes a counterexample of the invention.
Pour l'exemple 2, le flux d'oxygène pour déposer la couche 162 est de 450 sccm ; ce flux permet de déposer une couche présentant la stœchiométrie de ΖηιΟι,ΐ 25 · Le rapport O/Zn est supérieur au rapport habituel ; la couche déposée est donc sur-stœchiométrique en oxygène.
For example 2, the flow of oxygen for depositing the layer 162is 450 sccm; this flow makes it possible to deposit a layer having the stoichiometry of Zn1O1.125.
Pour l'exemple 3, le flux d'oxygène pour déposer la couche 162 est de 500 sccm ; ce flux qui permet de déposer une couche présentant la stœchiométrie stable de ZniOi,25.
For example 3, the flow of oxygen for depositing the layer 162is 500 sccm; this flow makes it possible to deposit a layer having the stable stoichiometry of Zn1O1.25.
La couche déposée est encore plus sur- stœchiométrique en oxygène que celle de l'exemple 2.
The layer deposited is therefore even more superstoichiometric in oxygen than that of example 2.
Le tableau 2 ci-après expose la résistance par carrée R, en ohms/carré mesurée pour ces exemples 1 à 3 après le traitement de l'empilement.
Table 2 below states the sheet resistance R, in ohms/square measured for these examples 1 to 3 after the treatment of the stack.
3 R 2,91 2,85 2,79 Tableau 2 Ainsi, avec un supplément d'oxydation dans la couche intermédiaire 162 de 12,5 % (ex. 2) et de 25 % (ex. 3), la résistance par carré de l'empilement est améliorée après le traitement de l'empilement dans le sens où elle diminue.
3R2.912.852.79 Thus, with additional oxidation in the intermediate layer 162of 12.5% (ex.
Le traitement de l'empilement consiste à passer l'empilement, après le dépôt de toutes les couches, sous un rideau de laser à diodes, les diodes étant positionnées au-dessus de l'empilement en réfrence à la fig 1 et émettant en direction de l'empilement.
The treatment of the stack consists in passing the stack, after the deposition of all the layers, under a curtain of laser diodes, the diodes being positioned above the stack with reference to FIG. 1and emitting in the direction of the stack.
Les diodes émettent à la longueur d'onde de 980 nm, chaque diode émettant sur une longueur de 12 mm et une largeur de 50 μιτι.
The diodes emit at the wavelength of 980 nm, each diode emitting over a length of 12 mm and a width of 50 μm.
La vitesse de défilement du subtrat revêtu de l'empilement complet est de 7 m/minute.
The run speed of the substrate coated with the complete stack is 7 m/minute.
Il est important de noter que la couche intermédiaire selon l'invention peut être déposée à partir d'une cible céramique qui comporte l'oxygène nécessaire pour atteindre la sur-stœchiométrie visée et dans une atmosphère sans oxygène, ou peut être déposée à partir d'une cible céramique qui ne comporte pas tout l'oxygène nécessaire pour atteindre la sur-stœchiométrie visée et dans une atmosphère avec de l'oxygène.
It is important to note that the intermediate layer according to the invention may be deposited from a ceramic target that comprises the oxygen necessary for achieving the targeted superstoichiometry and in an oxygen-free atmosphere, or may be deposited from a ceramic target that does not comprise all the oxygen necessary for achieving the targeted superstoichiometry and in an oxygen-containing atmosphere.
La présente invention est décrite dans ce qui précède à titre d'exemple.
The present invention is described in the preceding text by way of example.
Il est entendu que l'homme du métier est à même de réaliser différentes variantes de l'invention sans pour autant sortir du cadre du brevet tel que défini par les revendications.
It will be understood that a person skilled in the art will be able to realize different variants of the invention without otherwise departing from the scope of the patent as defined by the claims.
Substrat (10) revêtu sur une face (1 1 ) d'un empilement de couches minces (14) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire comportant une seule couche fonctionnelle métallique (140), en particulier à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (120, 160), lesdits revêtements comportant chacun au moins une couche diélectrique (122, 164), ladite couche fonctionnelle (140) étant disposée entre les deux revêtements antireflet (120, 160), caractérisé en ce que au moins un desdits revêtements antireflet (120, 160) comporte une couche intermédiaire comprenant de l'oxyde de zinc ZniOi+xavec 0,05 < x < 0,3 et présentant une épaisseur physique comprise entre 0,5 nm et 20 nm, voire entre 2,5 nm et 10 nm.
A substrate coated on one face with a thin-films stack having reflection properties in the infrared and/or in solar radiation comprising a single metallic functional layer and two antireflection coatings, said coatings each comprising at least one dielectric layer, said functional layer being positioned between the two antireflection coatings, wherein at least one of said antireflection coatings comprises an intermediate layer comprising zinc oxide Zn1O1+x with 0.05<x<0.3 and having a physical thickness of between 0.5 nm and 20 nm.
Substrat (10) selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite couche intermédiaire comprend de l'oxyde de zinc ZniOi+xavec 0, 1 < x < 0,3, voire avec 0, 15 < x < 0,25.
The substrate as claimed in claim 1, wherein said intermediate layer comprises zinc oxide Zn1O1+x with 0.1<x<0.3.
Substrat (10) selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que ladite couche intermédiaire est située dans le revêtement antireflet (160) sus- jacent à la couche fonctionnelle (140), de préférence directement sur un revêtement de sur-blocage (150) situé directement sur ladite couche fonctionnelle (140).
The substrate as claimed in claim 1, wherein said intermediate layer is located in the antireflection coating superjacent to the functional layer.
Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que ladite couche intermédiaire est située dans ledit revêtement diélectrique (120) disposé en dessous de ladite couche fonctionnelle métallique (140), de préférence directement sous ladite couche fonctionnelle (140).
The substrate as claimed in claim 1, wherein said intermediate layer is located in said dielectric coating positioned beneath said metallic functional layer.
Substrat (10) selon la revendication 3 ou 4, caractérisé en ce que ladite couche intermédiaire est située, sur une autre face, directement en contact avec une couche diélectrique à base de nitrure présentant une épaisseur physique comprise entre 10 et 50 nm, cette couche étant de préférence à base de nitrure de silicium Si3N4.
The substrate as claimed in claim 3, wherein said intermediate layer is located, on another face, directly in contact with a nitride-based dielectric layer having a physical thickness of between 10 and 50 nm.
Substrat (10) selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, caractérisé en ce que ledit revêtement antireflet (120) disposé en dessous de ladite couche fonctionnelle métallique (140) comporte une couche haut indice (124) en un matériau présentant un indice de réfraction compris entre 2,3 et 2,7, cette couche étant de préférence à base d'oxyde.
The substrate as claimed in claim 1, wherein said antireflection coating positioned beneath said metallic functional layer comprises a high-index layer made of a material having a refractive index between 2.3 and 2.7.
Substrat (10) selon la revendication 6, caractérisé en ce que ladite couche haut indice (164) présente une épaisseur physique comprise entre 5 et 25 nm.
The substrate as claimed in claim 6, wherein said high-index layer has a physical thickness of between 5 and 25 nm.
Vitrage multiple (100) comportant au moins deux substrats (10, 30) qui sont maintenus ensemble par une structure de châssis (90), ledit vitrage réalisant une séparation entre un espace extérieur (ES) et un espace intérieur (IS), dans lequel au moins une lame de gaz intercalaire (15) est disposée entre les deux substrats, un substrat (10) étant selon l'une quelconque des revendications 1 à 7.
A multiple glazing comprising:at least two substrates which are held together by a frame structure, said glazing providing a separation between an external space and an internal space, wherein at least one intermediate gas-filled space is positioned between the two substrates, one of the two substrates being the substrate as claimed in claim 1. at least two substrates which are held together by a frame structure, said glazing providing a separation between an external space and an internal space, wherein at least one intermediate gas-filled space is positioned between the two substrates, one of the two substrates being the substrate as claimed in claim 1.
Procédé d'obtention d'un substrat (10) revêtu sur une face (1 1 ) d'un empilement de couches minces (14) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire comportant une seule couche fonctionnelle métallique (140), en particulier à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (120, 160), comprenant les étapes suivantes, dans l'ordre : le dépôt sur une face (1 1 ) dudit substrat (10) d'un empilement de couches minces (14) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire comportant une seule couche fonctionnelle métallique (140), en particulier à base d'argent ou d'alliage métallique contenant de l'argent, et deux revêtements antireflet (120, 160), selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, - le traitement dudit empilement de couches minces (14) à l'aide d'une source produisant un rayonnement et notamment un rayonnement infrarouge.
A process for obtaining a substrate coated on one face with a thin-films stack having reflection properties in the infrared and/or in solar radiation comprising a single metallic functional layer and two antireflection coatings, comprising the following steps, in order:the deposition depositing on one face of said substrate the thin-films stack having reflection properties in the infrared and/or in solar radiation comprising the single metallic functional layer and the two antireflection coatings, to form the substrate as claimed in claim 1,treating said thin-films stack using a source that produces radiation. the deposition depositing on one face of said substrate the thin-films stack having reflection properties in the infrared and/or in solar radiation comprising the single metallic functional layer and the two antireflection coatings, to form the substrate as claimed in claim 1, treating said thin-films stack using a source that produces radiation.
On peut aussi réaliser le cœur et la peau par tissage multicouches avec des armures différentes, notamment une armure de type satin en cœur et une armure de type toile ou sergé en peau.
It is also possible to make the core and the skin by multilayer weaving using different weaves, in particular a satin type weave in the core and a plain or twill type weave in the skin.
Il est possible aussi de faire varier l'armure de tissage tridimensionnel dans la partie de cœur, par exemple en combinant différentes armures interlock, ou une armure interlock et une armure de tissage multicouches, ou encore différentes armures de tissage multicouches.
It is also possible to vary the three-dimensional weave in the core portion, e.g. by combining different interlock weaves or by combining an interlock weave with a multilayer weave, or indeed by combining different multilayer weaves.
II est possible encore de faire varier l'armure de tissage en peau le long de la surface extérieure.
It is also possible to vary the weave in the skin along the outside surface.