mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
Dans un mode de réalisation illustré à la figure 2, le matériau de remplissage 6 forme une couche plane 60 s'étendant entre la couche métallique 20 et la première surface 30 de la première couche 3, et le matériau de remplissage 6 est électriquement conducteur.
In an embodiment illustrated in FIG. 2, filling material 6forms a planar layer 60extending between metal layer 20and first surface 30of first layer 3, and filling material 6is electrically conductive.
Le matériau de remplissage 6 est avantageusement un oxyde, de préférence sélectionné dans le groupe comportant l'oxyde d'indium-étain, l'oxyde de zinc ZnO dopé à l'aluminium, à l'indium ou au gallium.
Filling material 6advantageously is an oxide, preferably selected from the group comprising indium-tin oxide, aluminum-doped zinc oxide ZnO, indium-doped zinc oxide ZnO, or gallium-doped zinc oxide ZnO.
Le niveau de dopage est adapté selon le niveau de conduction désiré.
The doping level is adapted according to the desired conduction level.
Le matériau de remplissage 6 est déposé sur la première surface 30 de la première couche 3 avant la formation de la couche métallique 20.
Filling material 6is deposited on first surface 30of first layer 3before the forming of metal layer 20.
La couche plane 60 est avantageusement obtenue par un polissage mécano-chimique.
Planar layer 60is advantageously obtained by chemical-mechanical polishing.
La couche plane 60 empêche tout contact direct entre la première couche 3 et la couche métallique 20.
Planar layer 60prevents any direct contact between first layer 3and metal layer 20.
Dans un mode de réalisation illustré à la figure 3, le matériau de remplissage 6 affleure la première surface 30 de la première couche 3, et la première surface 30 de la première couche 3 est en contact avec la couche métallique 20.
In an embodiment illustrated in FIG. 3, filling material 6is flush with first surface 30of first layer 3, and first surface 30of first layer 3is in contact with metal layer 20.
Puis l'affleurement est préférentiellement obtenu par un polissage mécano-chimique du matériau de remplissage 6 jusqu'à la première surface 30 de la première couche 3.
Then, the flush state is preferably obtained by a chemical-mechanical polishing of filling material 6down to first surface 30of first layer 3.
Le matériau de remplissage 6 est avantageusement sélectionné dans le groupe comportant le dioxyde de titane TiO2, le dioxyde de silicium SiO2, l'oxyde de zinc ZnO, l'oxyde de zinc ZnO dopé à l'aluminium, le nitrure de silicium SiN, l'oxyde d'indium-étain.
Filling material 6is advantageously selected from the group comprising titanium dioxide TiO2, silicon dioxide SiO2, zinc oxide ZnO, aluminum-doped zinc oxide ZnO, silicon nitride SiN, indium tin oxide.
La couche métallique 20 est en contact direct avec la première couche 3 et le matériau de remplissage 6.
Metal layer 20is in direct contact with first layer 3and filling material 6.
Dans un mode de réalisation illustré à la figure 4, le matériau de remplissage 6 forme des billes diélectriques 61, et la première surface 30 de la première couche 3 est en contact avec la couche métallique 20.
In an embodiment illustrated in FIG. 4, filling material 6forms dielectric balls 61, and first surface 30of first layer 3is in contact with metal layer 20.
De telles billes diélectriques 61 sont avantageusement formées par une évaporation d'une suspension colloïdale, dont un exemple de mise en oeuvre est donné dans le document T. Pinedo et al, « Assisted convective-capillary force assembly of gold colloids in a microfluid cell : Plasmonic properties of deterministic nanostructures », J. Vac.
Such dielectric balls 61are advantageously formed by evaporation of a colloidal suspension, an example of implementation thereof being given in T. Pinedo et al, “Assisted convective-capillary force assembly of gold colloids in a microfluid cell: Plasmonic properties of deterministic nanostructures”, J. Vac.
Technol., B 26(6), 2008, p. 2513-2519.
Technol., B 26(6), 2008, p.
Ce mode de réalisation est avantageux car un tel matériau de remplissage 6 possède une bonne planéité.
This embodiment is advantageous since such a filling material 6has a good flatness.
Plusieurs billes diélectriques 61 peuvent également occuper une cavité 300.
A plurality of dielectric balls 61may also occupy a cavity 300.
Les billes diélectriques 61 présentent avantageusement un rayon compris entre 2 nm et 20 nm de sorte que le matériau de remplissage 6 est en saillie ou en retrait de la première surface 30 de la première couche 3 avec une distance maximale inférieure ou égale à 10 nm.
Dielectric balls 61advantageously have a radius in the range from 2 nm to 20 nm, so that filling material 6protrudes or is recessed from first surface 30of first layer 3by a maximum distance smaller than or equal to 10 nm.
Une rugosité du matériau de remplissage 6 supérieure à 10 nm dégrade significativement la réflexion du rayonnement à l'interface entre le matériau de remplissage 6 et la couche métallique 20 en augmentant l'absorption.
A roughness of filling material 6greater than 10 nm significantly alters the reflection of the radiation at the interface between filling material 6and metal layer 20by increasing the absorption.
En outre, un tel rayon de billes diélectriques 61, très inférieur à la taille des cavités 300, permet à plusieurs billes diélectriques 61 d'occuper une cavité 300, ce qui permet une adaptation à différentes tailles de cavités 300.
Further, such a radius of dielectric balls 61, much smaller than the size of cavities 300, enables a plurality of dielectric balls 61to occupy a cavity 300, which enables to adapt to different sizes of cavities 300.
Par ailleurs, on recherchera une taille de bille diélectrique 61 la plus faible possible.
Further, as small as possible a size of dielectric balls 61will be searched for.
Le matériau de remplissage 6 est avantageusement sélectionné dans le groupe comportant le dioxyde de titane TiO2, le nitrure de silicium SiN, le dioxyde de silicium SiO2, l'oxyde de zinc ZnO.
Filling material 6is advantageously selected from the group comprising titanium dioxide TiO2, silicon nitride SiN, silicon dioxide SiO2, zinc oxide ZnO.
Dispositif (1) selon la revendication 2, caractérisé en ce quele matériau de remplissage (6) est un oxyde, de préférence sélectionné dans le groupe comportant l'oxyde d'indium-étain, l'oxyde de zinc ZnO dopé à l'aluminium, à l'indium, ou au gallium.
The device according to claim 2, wherein the filling material is an oxide, preferably selected from the group comprising indium-tin oxide, aluminum-doped zinc oxide ZnO, indium-doped zinc oxide ZnO, gallium-doped zinc oxide ZnO.
Dispositif (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce quele matériau de remplissage (6) affleure la première surface (30) de la première couche (3), et en ce quela première surface (30) de la première couche (3) est en contact avec la couche métallique (20).
The device according to claim 1, wherein the filling material is flush with the first surface of the first layer, and wherein the first surface of the first layer is in contact with the metal layer.
Dispositif (1) selon la revendication 4, caractérisé en ce quele matériau de remplissage (6) est sélectionné dans le groupe comportant le dioxyde de titane TiO2, le dioxyde de silicium SiO2, l'oxyde de zinc ZnO, l'oxyde de zinc ZnO dopé à l'aluminium, à l'indium ou au gallium, le nitrure de silicium SiN, l'oxyde d'indium-étain.
The device according to claim 4, wherein the filling material is selected from the group comprising titanium dioxide TiO2, silicon dioxide SiO2, zinc oxide ZnO, aluminum-doped zinc oxide ZnO, indium-doped zinc oxide ZnO, gallium-doped zinc oxide ZnO, silicon nitride SiN, indium tin oxide.
Dispositif (1) selon la revendication 1, caractérisé en ce quele matériau de remplissage (6) forme des billes diélectriques (61), et en ce quela première surface (30) de la première couche (3) est en contact avec la couche métallique (20).
The device according to claim 1, wherein the filling material forms dielectric balls, and wherein the first surface of the first layer is in contact with the metal layer.
Dispositif (1) selon la revendication 6, caractérisé en ce quele matériau de remplissage (6) est sélectionné dans le groupe comportant le dioxyde de titane TiO2, le nitrure de silicium SiN, le dioxyde de silicium SiO2, l'oxyde de zinc ZnO.
The device according to claim 6, wherein the filling material is selected from the group comprising titanium dioxide TiO2, silicon nitride SiN, silicon dioxide SiO2, zinc oxide ZnO.
Dispositif (1) selon l'une des revendications 1 à 7, caractérisé en ce quela couche métallique (20) est à base d'argent ou d'aluminium.
The device according to claim 1, wherein the metal layer is based on silver or on aluminum.
Dispositif (1) selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce quel'alliage des première et deuxième couches (3, 4) et de la couche électroluminescente (4) est un alliage binaire ou un alliage ternaire, l'alliage binaire étant de préférence à base de GaN, l'alliage ternaire étant de préférence à base d'InGaN ou d'AlGaN.
The device according to claim 1, wherein the alloy of the first and second layers and of the light-emitting layer is a binary alloy based on GaN, or a ternary alloy based on InGaN or on AlGaN.
Dispositif (1) selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en ce queles cavités (300) présentent une densité surfacique supérieure à 108cm-2à la première surface (30) de la première couche (3).
The device according to claim 1, wherein the cavities have a surface density greater than 108 cm−2 at the first surface of the first layer.
[0024] Le système de sertissage 1 doit également être configuré de manière à ce que la vibration puisse être initiée par des mouvements naturels du porteur de l'article d'horlogerie 6 ou de joaillerie.
The setting system 1must also be configured in such a way that the vibration can be initiated by natural movements of the wearer of the timepiece 6or jewelry item.
La vibration du système de sertissage 1 devrait également être entretenue dans le temps par ces mêmes mouvements naturels du porteur.
The vibration of the setting system 1should also be maintained over time by these same natural movements of the wearer.
[0025] Dans le cas où l'élément élastique 5 est modélisé comme une poutre flexible, la raideur est proportionnelle au produit de l'aire A de la poutre et du module d'Young E sur la longueur L de l'élément élastique:et la fréquence F peut être exprimée comme: [0026] L'équation (3) permet de déterminer les valeurs de raideur K minimale et maximale pour l'élément élastique 5 permettant de faire vibrer le support de sertissage 3 avec la pierre 2 dans la gamme de fréquences comprises entre 1 Hz et 30Hz.
In the case where the resilient member 5is modeled as a flexible beam, the stiffness is proportional to the product of the area A of the beam and the Young modulus E over the length L of the resilient member: K=A·EL;(2) and the frequency F can be expressed as: F=12πA·EL·M.(3) The equation (3) makes it possible to determine the minimum and maximum stiffness values K for the resilient member 5making it possible to have the crimping support 3with the stone 2vibrate in the frequency range between 1 Hz and 30 Hz.
La figure 7 montre des valeurs calculées de la raideur K en fonction de la masse M de l'ensemble support de sertissage 3 et pierre 2 donnant lieu à des fréquences de vibration perçues par l'œil l'humain, c'est-à-dire comprises entre 1 Hz et 30Hz.
FIG. 7shows calculated values of the stiffness K as a function of the mass M of the assembly comprising the crimping support 3and the stone 2, giving rise to frequencies of vibration perceived by the human eye, i.e. between 1 Hz and 30 Hz.
[0027] La table 1 rapporte des valeurs de dimensionnement de ressorts permettant à une masse de vibrer dans les fréquences perceptibles (1 Hz à 30 Hz).
Table 1 reports spring sizing values allowing a mass to vibrate in perceptible frequencies (1 Hz to 30 Hz).
Masse (g) hauteur / Matière / Longueur du Section Fréquence diamètre Raideur ressort (mm) (mm2) (Hz) (mm) (GPa) 0.25 3 / 2 acier / 219 0.0078 -14 200-210 0.25 3 / 2 Ti / 1 10-120 219 0.0038 -19 0.25 3 / 2 Al / 70 219 0.0038 -15 0.25 3 / 2 Nylon / 2-5 219 1.3 -10 Table 1 [0028] Dans un mode de réalisation, l'élément élastique 5 a une raideur K comprise entre 1.2x105N/m et 1.4x10+1N/m et la masse M combinée du support de sertissage 3 et de la pierre précieuse 2 est comprise entre 3x104g et 4x101g (voir la figure 7).
TABLE 1Length ofHeight/Material/thediameterstiffnessspringSectionFrequencyMass (g)(mm)(GPa)(mm)(mm2)(Hz)0.253/2steel/2190.0078~14200-2100.253/2Ti/110-1202190.0038~190.253/2Al/702190.0038~150.253/2nylon/2-52191.3~10 In one embodiment, the resilient member 5has a stiffness K comprised between 1.2×10−5 N/m and 1.4×10+1 N/m and the combined mass M of the crimping support 3and of the gemstone 2is comprised between 3×10−4 g and 4×10−1 g (see FIG. 7).
Dans cette configuration, le support de sertissage 3 peut osciller selon un mouvement axial et/ou radial, suite à un mouvement de l'article 6, avec une fréquence d'oscillation comprise entre 1 Hz et 30 Hz par rapport à l'axe de symétrie 15.
In this configuration, the crimping support 3can oscillate according to an axial and/or radial movement, following a movement of the item 6, with an oscillation frequency comprised between 1 Hz and 30 Hz relative to the axis of symmetry 15.
[0030] Dans un mode de réalisation, l'élément élastique comprend un ressort 5 à développement en hélicoïde (par la suite "ressort hélicoïdal ").
In one embodiment, the resilient member comprises a helical-developing spring (hereinafter “helical spring”).
Un tel ressort 5 comprenant des spires 10 enroulées en hélice permet d'obtenir un élément élastique ayant, à la fois, une longueur maximale et un encombrement minimal.
Such a spring 5comprising helically wound coils 10makes it possible to obtain a resilient member having at the same time a maximum length and a minimum bulk.
Dans la forme d'exécution de la figure 1, l'élément élastique comprend un ressort hélicoïdal 5 de section cylindrique.
In the embodiment of FIG. 1, the resilient member comprises a helical spring 5of cylindrical section.
Le support de sertissage 3 comprend une cheville 30, solidaire avec le support de sertissage 3 et venant se loger, au moins en partie, dans une première extrémité 13 du ressort 5, de manière à fixer la cheville 30 à l'élément élastique 5 par serrage.
The crimping support 3comprises a peg 30integral with the crimping support 3and at least partially housed in a first extremity 13of the spring 5, so as to fix the peg 30to the resilient member 5by tightening.
La seconde extrémité 17 du ressort 5 vient se fixer dans l'article 6 par au moins l'une des méthodes comprenant le serrage, chassage, clipsage ou soudage, ou encore toute autre méthode appropriée.
The second extremity 17of the spring 5is fixed in the item 6by at least one of the methods including clamping, driving, clipsing or welding, or any other suitable method.
[0031] Un ressort hélicoïdal, selon ce mode de fixation, oscille principalement en flexion, il permet un mode d'oscillation en basculement, c'est-à-dire une oscillation selon un mouvement radial, illustré par la flèche numérotée 151 sur la figure 1.
A helical spring, according to this mode of attachment, oscillates mainly in flexion, it allows a tilting oscillation mode, i.e. an oscillation according to a radial movement, illustrated by the arrow numbered 151in FIG. 1.
Le ressort hélicoïdal permet également un mode d'oscillation en pompage, c'est-à-dire une oscillation selon un mouvement axial, illustré par la flèche numérotée 152 sur la figure 1.
The helical spring also allows a mode of oscillation in pumping, i.e. an oscillation according to an axial movement, illustrated by the arrow numbered 152in FIG. 1.
Ce mode d'oscillation tend cependant à être négligeable par rapport à l'oscillation selon le mouvement radial.
This mode of oscillation, however, tends to be negligible relative to the oscillation according to the radial movement.
L'amplitude du mouvement axial du ressort 5 vers l'article 6 est limitée par la compression des spires 10 du ressort 5.
The amplitude of the axial movement of the spring 5towards the item 6is limited by the compression of the coils 10of the spring 5.
[0032] La figure 2 montre le système de sertissage 1 vu du dessus (côté pierre 2) et l'oscillation selon le mouvement radial 151 qui décrit une ellipse.
FIG. 2shows the setting system 1seen from above (on the side of the stone 2) and the oscillation according to the radial movement 151which expresses an ellipse.
Le mouvement radial favorise un effet de scintillement de la pierre 2.
The radial movement promotes a flickering effect of the stone 2.
[0033] Le support de sertissage 3 peut comprendre une partie frontale 9 de forme tronconique et servant de siège à la culasse 8 de la pierre 2.
The crimping support 3may comprise a front part 9of truncated cone shape and serving as a seat for the pavilion 8of the stone 2.
L'inclinaison du profil 7 de la partie frontale 9 peut être arrangée de façon à assurer le maintien de la culasse 8.
The inclination of the profile 7of the front part 9can be arranged so as to ensure that the pavilion 8is held.
Le support 3 peut également comporter un perçage 16 coaxial avec le support 3.
The support 3may also include a bore 16coaxial with the support 3.
[0034] Encore dans l'exemple de la figure 1, la seconde extrémité 17 du ressort 5 est fixée à l'article 6 par l'intermédiaire d'une goupille 14.
Still in the example of FIG. 1, the second extremity 17of the spring 5is attached to the item 6by means of a pin 14.
La goupille 14 est fixée, par exemple par chassage ou par vissage, dans l'article 6 et la seconde extrémité 17 du ressort 5 vient se fixer, par exemple par serrage, sur la goupille 14.
The pin 14is secured, for example by driving or screwing, into the item 6and the second extremity 17of the spring 5is attached, for example by clamping, to the pin 14.
L'extrémité distale de la barre 18 passe au travers un trou dans la goupille 14 et est fixée au support 6 par une méthode appropriée, telle que le chassage, serrage ou clipsage.
The distal end of the rod 18passes through a hole in the pin 14and is secured to the support 6by an appropriate method such as driving, clamping or clipsing.
[0035] La figure 3 montre un système de sertissage 1 comme celui de la figure 1, dans lequel la première extrémité 13 du ressort hélicoïdal 5 de section cylindrique comprend une rainure axiale 12 qui fait office de fente d'élasticité, permettant d'absorber radialement par déformation élastique et/ou plastique au moins une partie de l'effort de chassage de la cheville 30 sur le ressort 5.
FIG. 3shows a setting system 1as in FIG. 1, in which the first extremity 13of the helical spring 5of cylindrical section comprises an axial groove 12which acts as an elasticity slit, enabling it to absorb radially by elastic and/or plastic deformation at least part of the effort of driving the peg 30onto the spring 5.
Une telle rainure axiale 12 peut également être ménagée au niveau de la seconde extrémité 17 du ressort 5, par exemple pour faciliter le chassage, lorsque le ressort 5 est chassé dans la goupille 14.
Such an axial groove 12can also be provided at the second extremity 17of the spring 5, for example to facilitate the driving, when the spring 5is driven into the peg 14.
[0036] Le ressort hélicoïdal 5 peut également être de section conique.
The helical spring 5may also be of conical section.
Un tel système de sertissage avec un ressort hélicoïdal 5 de section conique est montré à la figure 4.
Such a setting system with a helical spring 5of conical section is shown in FIG. 4.
[0037] Dans un mode de réalisation illustré à la figure 5, le ressort hélicoïdal 5 est fabriqué par une découpe hélicoïdale au laser d'un tube 501.
In an embodiment illustrated in FIG. 5, the helical spring 5is produced by a helical cutting using a laser from a tube 501.
La découpe peut être réalisée en faisant tourner le tube 501 autour de son axe de symétrie 503 et simultanément en avançant le tube 501, de sorte qu'un faisceau laser 502 fixe peut découper la forme hélicoïdale des spires 10.
The cutout may be made by rotating the tube 501around its axis of symmetry 503and simultaneously advancing the tube 501, so that a fixed laser beam 502can cut the helical shape of the coils 10.
Dans la figure 5, on a représenté un tube 501 dont la découpe hélicoïdale a été partiellement effectuée.
FIG. 5shows a tube 501for which the helical cut has been partially done.
Pour la découpe, le tube 501 peut être monté sur une barre 504.
For cutting, the tube 501can be mounted on a rod 504.
Alternativement, le tube 501 à découper est fixe et le laser est mobile.
Alternatively, the tube 501to be cut is fixed and the laser is movable.
De façon préférée, le laser est de type laser femtoseconde, qui est adapté à l'usinage d'objets de petites dimensions.
Preferably, the laser is of the femtosecond laser type, which is suitable for machining small objects.
[0038] La vitesse de rotation du tube 501 est déterminée à partir du diamètre d du tube 501 pour correspondre à une vitesse de sublimation de la matière du tube 501 conditionnée par les propriétés du faisceau laser et le matériau du tube 501.
The speed of rotation of the tube 501is determined from the diameter d of the tube 501to correspond to a sublimation speed of the material of the tube 501conditioned by the properties of the laser beam and the material of the tube 501.
L'avance du tube 501, c'est-à-dire sa vitesse de déplacement le long de l'axe de symétrie 503, est ensuite déterminée de telle façon que le déplacement du tube, selon l'axe de symétrie 503 et pendant un temps correspondant à un tour complet du tube 501, avec la vitesse de rotation déterminée ci-dessus, correspond à l'épaisseur de spire 10 souhaitée pour le ressort 5 à fabriquer.
The advance of the tube 501, i.e. its speed of displacement along the axis of symmetry 503, is then determined in such a way that the displacement of the tube along the axis of symmetry 503and during a time period corresponding to a complete revolution of the tube 501, with the rotational speed determined above, corresponds to the desired thickness of the coil 10for the spring 5to be produced.
Cette détermination est valable pour un diamètre de sublimation généré par le laser, soit pour un certain niveau énergétique (ou puissance et pulsation) du laser.
This determination is valid for a sublimation diameter generated by the laser, i.e. for a certain energy level (or power and pulse) of the laser.
L'avance du tube 501 et sa rotation définissent donc le pas et la hauteur des spires 10 du ressort 5 ainsi fabriqué.
The advance of the tube 501and its rotation therefore define the pitch and the height of the coils 10of the spring 5thus manufactured.
L'épaisseur des spires 10 est définit par l'épaisseur de la paroi du tube 501.
The thickness of the coils 10is defined by the thickness of the wall of the tube 501.
Dans un tel mode de réalisation du ressort 5, la section des spires 10 est rectangulaire.
In such an embodiment of the spring 5, the section of the coils 10is rectangular.
[0039] La rainure axiale 12 peut être découpée lors du procédé décrit ci- dessus.
The axial groove 12can be cut in the above-described process.
Par exemple, la découpe est initiée à l'une des extrémités du tube 510 par la formation de la rainure axiale 12, par exemple au niveau de la première extrémité 13, et est poursuivie par la découpe des spires 10.
For example, the cut is initiated at one of the extremities of the tube 510by the formation of the axial groove 12, for example at the first extremity 13, and is followed by the cutting of the coils 10.
La découpe est terminée à l'autre extrémité du tube 510 par la formation d'une autre rainure axiale 12, par exemple au niveau de la seconde extrémité 17.
The cutting is terminated at the other extremity of the tube 510by the formation of another axial groove 12, for example at the second extremity 17.
[0040] La figure 6 représente un ressort hélicoïdal 5 fabriqué par découpe dans un tube.
FIG. 6shows a helical spring 5made by cutting in a tube.