mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
Das Destillat, gezeigt in einer transmissionselektronenmikroskopischen (TEM) Aufnahme ( Fig. 3), wurde anschließend mit einem Gemisch aus 20 g H2O und 5 g 70-prozentiger HNO3versetzt.
The distillate, shown in a transmission electron microscopy (TEM) image (FIG. 3), was subsequently admixed with a mixture of 20 g of H2O and 5 g of 70 per cent HNO3.
Die Angaben"70-prozentige HNO3"und "HNO3(70%)" sind im Rahmen der vorliegenden Erfindung gleichbedeutend und dem Fachmann geläufig als ein Gemisch aus HNO3und Wasser in den entsprechenden Mengenanteilen.
The expressions “70 per cent HNO3” and “HNO3 (70%)” are equivalent in the context of the present invention and are familiar to the person skilled in the art as a mixture of HNO3 and water in the corresponding proportions.
Nach dem Ablauf von 3,5 Tagen war die Umsetzung abgeklungen, und es lag ein heller Rückstand vor.
After 3.5 days had passed, the reaction had abated, and a light-coloured residue was present.
Dieser wurde mit 10 g 5-prozentiger Flusssäure versetzt.
10 g of 5 per cent hydrofluoric acid were added thereto.
Nach dem Abklingen der damit bewirkten Umsetzungsreaktion wurde ein fester Rückstand erhalten, den man abfiltrierte.
After the conversion reaction brought about thereby had abated, a solid residue was obtained, which was filtered off.
In der TEM Aufnahme zeigte dieser feste Rückstand die erfindungsgemäß erhaltenen Hohlkörper ( Fig. 2).
In the TEM image, this solid residue showed the hollow bodies obtained in accordance with the invention (FIG. 2).
Wie Beispiel 1, jedoch mit folgenden Unterschieden.
As Example 1, but with the differences which follow.
Nachdem das Destillat mit einem Gemisch aus 20 g H2O und 5 g HNO3(70 %) versetzt worden und man die Umsetzungsreaktion 1,2 Tage hat stattfinden lassen, wurde erneut ein Gemisch aus 20 g H2O und 5 g HNO3(70 %) dazugegeben.
After the distillate had been admixed with a mixture of 20 g of H2O and 5 g of HNO3 (70%) and the conversion reaction had been left to take place for 1.2 days, another mixture of 20 g of H2O and 5 g of HNO3 (70%) was added.
Nach dem Abklingen der Umsetzungsreaktion wurden 40 g 5-prozentige Flusssäure dazugegeben.
After the conversion reaction had abated, 40 g of 5 per cent hydrofluoric acid were added.
Nach dem Abklingen der nun stattfindenden Umsetzungsreaktion wurde ein fester Rückstand erhalten, den man abfiltrierte.
After the conversion reaction that then took place had abated, a solid residue was obtained, which was filtered off.
Man erhielt die erfindungsgemäßen Hohlkörper.
The hollow bodies according to the invention were obtained.
Die resultierende Phase wurde in einem Gemisch aus 5 g H20 und 10 g HNO3(70 %) dispergiert und destilliert.
The resulting phase was dispersed in a mixture of 5 g of H2O and 10 g of HNO3 (70%) and distilled.
Nachdem das Destillat mit 5 g HNO3(70 %) und anschließend mit 45 g 10-prozentiger Flusssäure versetzt worden war, ließ man die Umsetzungsreaktion für eine Dauer von 3 Tagen stattfinden.
After the distillate had been admixed with 5 g of HNO3 (70%) and then with 45 g of 10 per cent hydrofluoric acid, the conversion reaction was left to take place for a period of 3 days.
Nach Ablauf dieser Dauer wurde die Umsetzungsreaktion durch die Zugabe von 100 g Wasser beendet.
After this period had elapsed, the conversion reaction was ended by the addition of 100 g of water.
Nach dem Beenden war ein fester Rückstand erhalten, den man abfiltrierte und der die erfindungsgemäßen Hohlkörper aufwies.
After the ending, a solid residue was obtained, which was filtered off and which comprised the hollow bodies according to the invention.
Wie Beispiel 3, jedoch mit dem Unterschied, dass man die Umsetzungsreaktion nach der Zugabe der 45 g 10-prozentiger Flusssäure nicht beendete, sondern abklingen ließ.
As Example 3, except that the conversion reaction was not ended after the addition of the 45 g of 10 per cent hydrofluoric acid, but was left to abate.
Es wurde kein fester Rückstand erhalten.
No solid residue was obtained.
Verfahren zur Herstellung von Hohlkörpern mit einer Silicium aufweisenden Hülle, indem manin einem Gas, das zumindest ein Silan der allgemeinen Formel SinH2n+2-mXmmit n = 1 bis 4, m = 0 bis 2n+2 und X = Halogen aufweist,(a) ein nichtthermisches Plasma mittels einer Wechselspannung der Frequenz f anregt,oder einen Lichtbogen betreibt,oder in dieses Gas elektromagnetische Energie im Infrarotbereich einträgt,wobei eine resultierende Phase erhalten wird, die man(b) in einem Benetzungsmittel dispergiert und abdestilliert, und man anschließend(c) das Destillat zumindest einmalig mit einem Gemisch aus zumindest zwei der Substanzen Flusssäure, Salpetersäure, Wasser in Kontakt bringt,wobei nach dem Abklingen oder Beenden der Umsetzungsreaktion des Destillates mit dem Gemisch ein fester Rückstand erhalten wird, der Hohlkörper mit einer Silicium aufweisenden Hülle enthält. (a) ein nichtthermisches Plasma mittels einer Wechselspannung der Frequenz f anregt,oder einen Lichtbogen betreibt,oder in dieses Gas elektromagnetische Energie im Infrarotbereich einträgt,wobei eine resultierende Phase erhalten wird, die man (b) in einem Benetzungsmittel dispergiert und abdestilliert, und man anschließend (c) das Destillat zumindest einmalig mit einem Gemisch aus zumindest zwei der Substanzen Flusssäure, Salpetersäure, Wasser in Kontakt bringt,wobei nach dem Abklingen oder Beenden der Umsetzungsreaktion des Destillates mit dem Gemisch ein fester Rückstand erhalten wird, der Hohlkörper mit einer Silicium aufweisenden Hülle enthält.
European patent application EP14195300 filed Nov. 28, 2014, is incorporated herein by reference.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei im Schritt (a) ein Plasmareaktor, Induktionsreaktor, Pyrolyseofen, oder Lichtbogenofen eingesetzt wird, und der Reaktionsraum des Reaktors oder Ofens aus Glas, Oxidkeramik, Carbidkeramik oder Graphit gefertigt ist.
The process according to claim 1, wherein in step (a) a plasma reactor, induction reactor, pyrolysis furnace or light arc furnace is used, and the reaction space of the reactor or furnace has been manufactured from glass, oxide ceramic, carbide ceramic or graphite.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei im Schritt (b) die resultierende Phase zunächst entgast und anschließend in einem Benetzungsmittel, ausgewählt aus Wasser und Ethanol, dispergiert wird.
The process according to claim 1, wherein in step (b) the resulting phase is first degassed and then dispersed in a wetting agent selected from water and ethanol.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei im Schritt (c) das Destillat zunächst mit einem Gemisch aus Wasser und Salpetersäure und anschließend mit Flusssäure in Kontakt gebracht wird, wobeinach dem Abklingen der Umsetzungsreaktion ein fester Rückstand erhalten ist, der gewaschen, filtriert und/oder getrocknet wird.
The process according to claim 1, wherein in step (c) the distillate is contacted first with a mixture of water and nitric acid and then with hydrofluoric acid, givinga solid residue after the conversion reaction has abated, which is washed, filtered and/or dried. a solid residue after the conversion reaction has abated, which is washed, filtered and/or dried.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 4, wobei man den festen Rückstand wäscht, filtriert und/oder trocknet, oder man die Umsetzungsreaktion beendet, vorzugsweise durch Zugabe von Wasser, und den festen Rückstand anschließend wäscht, filtriert und/oder trocknet.
The process according to claim 1, wherein the solid residue is washed, filtered and/or dried, or the conversion reaction is ended, preferably by adding water, and the solid residue is then washed, filtered and/or dried.
Hohlkörper mit einer Silicium aufweisenden Hülle, erhalten nach einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 - 5. Hohlkörper nach Anspruch 6, deren Silicium aufweisende Hülle eine transmissionselektronenmikroskopisch ermittelte Dicke von 5 bis 40 nm aufweist.
The hollow body according to claim 10, wherein the silicon-comprising shell has a thickness, determined by transmission electron microscopy, of 5 to 40 nm.
Verwendung der Hohlkörper gemäß Anspruch 6 oder 7 zur Herstellung von Solarzellen oder von Elektrodenmaterial in Energiespeicherzellen.
An electrode material in energy storage cells, comprising the hollow body according to claim 10.
Die (durch das Radkreuz angedeutete) Übergabeposition 15 des Greifers 8 befindet sich an derselben (x, z)-Position wie die sich in ihrer Aufnahmeposition befindliche obere Aufnahme 12. An der hier angedeuteten Übergabeposition 15 befindet sich genauer gesagt die durch den Greifer 8 gehaltene Einzelleitung (o. Abb.).
Thus, the individual conductor held by the gripper 8(not shown) is located in the transfer position 15.
Zur Bestückung ist die zugehörige obere Klemmbacke 14 geöffnet und schließt sich mit eingebrachter Einzelleitung.
For loading, the associated upper clamping jaw 14is open and closes when the individual conductor has been introduced.
Nach der Bestückung mit einer Einzelleitung wird der Verdrillkopf 4 um 90° weitergedreht, so dass eine weitere Einzelleitung in eine weitere Aufnahme 12 eingebracht werden kann.
After being loaded with an individual conductor, the twisting head 4is rotated by 90°, so that a further individual conductor can be introduced into a further holder 12.
Allgemein kann der Verdrillkopf, z.B. der gezeigte Verdrillkopf 4, 4a, auch in einer z-Richtung verfahren werden.
In general, the twisting head, such as the shown twisting head 4, 4a, may also be displaced in a z-direction.
Ebenso kann der Greifer, z.B. der Greifer 8, allgemein auch in einer z-Richtung verfahren werden.
Likewise, the gripper, such as the gripper 8, may, in general, also be displaced in a z-direction.
Fig. 6zeigt in einer Ansicht von schräg vorne detaillierter die Verdrilleinheit 5 mit einem weiteren möglichen Verdrillkopf 4, 4b.
FIG. 6shows a front view of the twisting unit 5comprising a further possible twisting head 4, 4b in greater detail.
Der Verdrillkopf 4b ist ähnlich zu dem Verdrillkopf 4a aufgebaut, weist aber nun ein zentrales Widerlager 16 in Form eines senkrechten Kreuzes auf.
The twisting head 4b is designed similarly to the twisting head 4a, but here comprises a central abutment 16in the form of a vertical cross.
Alle Klemmbacken 14 sind in ihrer geöffneten Stellung gezeigt.
All clamping jaws 14are shown in the open position thereof.
Fig. 7zeigt in einer Ansicht von schräg oben einen Ausschnitt aus einer Tandem-Verdrillanlage T3 mit einer Bestückeinrichtung 17 zwischen den beiden einzelnen Verdrillanlagen 1a und 1b.
FIG. 7shows a section of a tandem twisting system T3, comprising a loading device 17between the two individual twisting systems 1a and 1b.
Die beiden Verdrillanlagen 1a und 1b sind nun so umgebaut, dass anstelle der Spannklemmeinheiten 3 jeweils eine Entdrilleinheit 18 mit einem Entdrillkopf 19 vorhanden ist.
As depicted in FIG. 7, the two twisting systems 1a and 1b include a respective untwisting unit 18comprising an untwisting head 19.
Zumindest der Entdrillkopf 19 und die Spannklemmeinheit 3, ggf. auch der Verdrillkopf 4, können modular ausgestaltet sein und sich durch standardisierte Schnittstellen einfach an- und abbauen lassen.
At least the untwisting head 19and the tensioning clamping unit 3, and, in certain aspects, also the twisting head 4, may have modular designs and be easy to attach and remove using standardized interfaces.
Der Entdrillkopf 19 weist ebenfalls vier Aufnahmen (o. Abb.) auf, die mit jeweiligen Einzelleitungen (o. Abb.) zu bestücken sind.
The untwisting head 19likewise comprises four holders (not shown), which are to be loaded with respective individual conductors (not shown).
Diese Einzelleitungen sind nun abgelängt und müssen einerseits in eine Aufnahme 12 des Verdrillkopfs 4 und andererseits in eine Aufnahme des Entdrillkopfs 19 eingebracht werden.
The individual conductors are cut to length introduced into a holder 12of the twisting head 4on the one hand, and into a holder of the untwisting head 19on the other hand.
Für eine solche beidseitige Bestückung weist die Bestückeinrichtung 17 zwei Greifer 8, 8a und 8, 8b auf, die auf jeweiligen Querschienen 9, 9a bzw. 9, 9b in y-Richtung verfahrbar sind.
To facilitate this two-sided loading, the loading device 17comprises two grippers 8, 8a and 8, 8b, which can be displaced in the y-direction on respective transverse rails 9, 9a and 9, 9b.
Beide Querschienen 9a und 9b sind an stationären Längsschienen 20 in x-Richtung verfahrbar.
Both transverse rails 9a and 9b can be displaced in the x-direction on stationary longitudinal rails 20.
Die Längsschienen 20 erstrecken sich nun bis zu den Verdrilleinheiten 5 in deren Übernahmeposition.
The longitudinal rails 20extend up to the twisting units 5in the receiving position.
Die Verdrilleinheiten 5 verbleiben zum Verdrillen auch mehrerer Kabel in der gleichen Übernahmeposition.
The twisting units 5remain in the same receiving position even for twisting multiple cables.
In der gezeigten Ausgangsstellung der Greifer 8a und 8b kann zunächst ein erstes Ende einer Einzelleitung L (siehe Fig. 8und Fig. 9) von einem dem Verdrillkopf 4 näheren Greifer 8a gegriffen werden und dann der Greifer 8a in x-Richtung zu dem Verdrillkopf 4 hin verfahren werden.
In the shown starting position of the grippers 8a and 8b, initially a first end of an individual conductor L (see FIG. 8and FIG. 9) can be gripped by a gripper 8a closer to the twisting head 4, and then the gripper 8a can be displaced in the x-direction toward the twisting head 4.
Erreicht das zweite Ende der Einzelleitung L den zweiten Greifer 8b, greift der zweite Greifer 8b die Einzelleitung L im Bereich ihres zweiten Endes.
When the second end of the individual conductor L reaches the second gripper 8b, the second gripper 8b grips the individual conductor L in the region of the second end thereof.
Wie in Fig. 8gezeigt, verfahren die beiden Greifer 8a und 8b, die hier in x-Richtung hintereinander angeordnet sind, die Einzelleitung L in x-Richtung so weit, dass sie seitlich neben einer noch freien Strecke zwischen dem Verdrillkopf 4 und dem Entdrillkopf 19 angeordnet sind.
As depicted in FIG. 8, the two grippers 8a and 8b, which are arranged behind one another in the x-direction here, displace the individual conductor L so much in the x-direction that they are arranged laterally next to a section between the twisting head 4and the untwisting head 19, which is still free.
Wie Fig. 9zeigt, werden die Greifer 8a und 8b folgend an den Querschienen 9a bzw. 9b seitlich bzw. in y-Richtung verfahren, so dass sie an ihre jeweilige Übernahmeposition vor dem Verdrillkopf 4 bzw. vor dem Entdrillkopf 19 gelangen und dort oder von dort in die zugehörigen Aufnahmen 12 des Verdrillkopfs 4 bzw. des Entdrillkopfs 19 eingebracht.
As further depicted in FIG. 9, the grippers 8a and 8b are displaced laterally or in the y-direction, following along the transverse rails 9a and 9b, so that they reach their respective receiving position in front of the twisting head 4or in front of the untwisting head 19and there, or from there, are introduced into the associated holders 12of the twisting head 4or of the untwisting head 19.
Der Bestückvorgang kann wie für die Tandem-Verdrillanlage T2 beschrieben wiederholt werden, d.h., mit einer revolverartigen Drehung des Verdrillkopfs 4 und des Entdrillkopfs 19 bei gleichen Übergabepositionen der Greifer 8a bzw. 8b usw. Selbstverständlich ist die vorliegende Erfindung nicht auf das gezeigte Ausführungsbeispiel beschränkt.
The loading process may be repeated as described for the tandem twisting system T2, for example, by using a turret-like rotation of the twisting head 4and of the untwisting head 19at identical transfer positions of the grippers 8a and 8b, and the like.
So können nach einer fertigen Bestückung des Verdrillkopfs 4 bzw. des Verdrillkopfs 4 und des Entdrillkopfs 19 und ggf. noch vor dem Beginn des Verdrillvorgangs als solchem weitere Funktionseinheiten dazwischen eingebracht werden, z.B. eine Schlaglängenpositioniereinheit oder "Verdrillschiff", eine Leitungsstabilisierungseinheit oder eine Leitungsunterstützungseinheit.
For example, after the loading of the twisting head 4, or the twisting head 4and the untwisting head 19, has been completed and, in certain aspects, even before the actual twisting operation begins, further functional units may be introduced, for example, a lay length positioning unit or “twisting slide,” a conductor stabilization unit, or a conductor support unit.
Verdrillanlage ( 1a, 1b ) nach Anspruch 1, wobei die Verdrillanlage ( 1a, 1b ) zusätzlich – einen drehbaren Entdrillkopf ( 19 ) mit mehreren Aufnahmen für Einzelleitungen (L) eines zu verdrillenden Kabels aufweist, – die Bestückeinrichtung ( 17 ) dazu eingerichtet ist, zur Bestückung des Entdrillkopfs ( 19 ) zu einer für alle Einzelleitungen (L) gleichen weiteren Übergabeposition ( 15 ) verfahren zu werden und – der Entdrillkopf ( 19 ) dazu eingerichtet ist, eine freie Aufnahme des Entdrillkopfs ( 19 ) zur Bestückung mit einer Einzelleitung (L) zu einer passenden Übernahmeposition zu drehen.
The system of claim 10, further comprising:a rotatable untwisting head having multiple holders configured to hold a plurality of conductors for twisting into a single cable and having a free holder rotatable into a loading position,wherein the loading device is further configured to move into a second transfer position for loading the untwisting head. a rotatable untwisting head having multiple holders configured to hold a plurality of conductors for twisting into a single cable and having a free holder rotatable into a loading position, wherein the loading device is further configured to move into a second transfer position for loading the untwisting head.
Verdrillanlage ( 1a, 1b ) nach den Ansprüchen 1 und 2, bei der die Bestückeinrichtung ( 17 ) dazu eingerichtet ist, abgelängte Einzelleitungen (L) beidseitig handzuhaben und deren beide Enden gleichzeitig zu dem Verdrillkopf ( 4 ) und/oder zu dem Entdrillkopf ( 19 ) zu verfahren.
The system of claim 12, wherein the loading device is further configured to displace two ends of the conductors simultaneously to the untwisting head.
Verdrillanlage ( 1a, 1b ) nach Anspruch 1, bei der die Bestückeinrichtung ( 7 ) dazu eingerichtet ist, Einzelleitungen (L1, L2) einseitig handzuhaben und das zugehörige Ende zu dem Verdrillkopf ( 4 ) zu verfahren.
The system of claim 10, wherein the loading device is further configured to hold a first end of the conductors and to displace a second end of the conductors to the twisting head.
Verdrillanlage ( 1a, 1b ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Einzelleitungen (L1, L2; L) mittels der Bestückeinrichtung ( 7 ; 17 ) verschieden tief in die Aufnahmen ( 12 ) einbringbar sind.
The system of claim 18, wherein the cross slide table includes at least one longitudinal rail extending in a first direction, and at least one transverse rail extending in a second direction, wherein the second direction is perpendicular to the first direction.
Verdrillanlage ( 1a, 1b ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Bestückeinrichtung ( 7 ; 17 ) einen Kreuztisch ( 9, 19 ; 9a, 9b, 29 ) zum Verfahren mindestens eines Greifers ( 8 ; 8a, 8b ) aufweist.
The system of claim 19, wherein the at least one gripper is movable along the at least one longitudinal rail and movable along the at least one transverse rail.
Verdrillanlage ( 1a, 1b ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der Verdrillkopf ( 4 ) mindestens zwei relativ zu einem Widerlager ( 13 ; 16 ) bewegbare Greiferbacken ( 14 ) aufweist, die eine jeweilige Aufnahme ( 12 ) zwischen sich bilden, wobei die Greiferbacken ( 14 ) zum Festklemmen einer zugehörigen Einzelleitung unabhängig voneinander an das Widerlager ( 13 ; 16 ) andrückbar sind.
The system of claim 10, wherein the twisting head includes at least two gripper jaws movable relative to an abutment of the twisting head and configured to press and fix a conductor against the abutment.
Tandem-Verdrillanlage (T2; T3), aufweisend zwei nebeneinander angeordnete Verdrillanlagen ( 1a, 1b ) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zwischen den Verdrillanlagen ( 1a, 1b ) eine gemeinsame Bestückeinrichtung ( 7 ; 17 ) angeordnet ist.
The system of claim 22, wherein the shared loading device is further configured to move into a first transfer position for loading the first twisting head.
Verfahren zum Bestücken eines Verdrillkopfs ( 4, 4a ; 4, 4b ) mit Einzelleitungen (L1, L2; L), bei dem a) eine Bestückeinrichtung ( 7 ; 17 ) eine Einzelleitung (L1, L2; L) zu einer Übergabeposition ( 15 ) bringt und diese Einzelleitung (L1, L2; L) dort in eine an einer Übernahmeposition befindliche freie Aufnahme ( 12 ) eines Verdrillkopfs ( 4, 4a ; 4, 4b ) eingebracht wird, b) der Verdrillkopf ( 4, 4a ; 4, 4b ) so weit gedreht wird, dass eine weitere freie Aufnahme ( 12 ) an die Übernahmeposition gebracht wird und c) die Bestückeinrichtung ( 7 ; 17 ) eine weitere Einzelleitung (L1, L2; L) mittels der Bestückeinrichtung ( 7 ; 17 ) zu derselben Übergabeposition ( 15 ) gebracht wird und diese weitere Einzelleitung (L1, L2; L) dort in die weitere freie Aufnahme ( 12 ) des Verdrillkopfs ( 4, 4a ; 4, 4b ) eingebracht wird.
A method for loading a twisting head with a plurality of conductors, comprising:placing, by using a loading device, a first conductor of the plurality of conductors into a transfer position;introducing a first conductor of the plurality of conductors into a first free holder of the twisting head located in a receiving position;rotating the twisting head such that a second free holder of the twisting head is placed in the receiving position;placing a second conductor of the plurality of conductors into the transfer position by using the loading device; andintroducing the second conductor into the second free holder of the twisting head. placing, by using a loading device, a first conductor of the plurality of conductors into a transfer position; introducing a first conductor of the plurality of conductors into a first free holder of the twisting head located in a receiving position; rotating the twisting head such that a second free holder of the twisting head is placed in the receiving position; placing a second conductor of the plurality of conductors into the transfer position by using the loading device; and introducing the second conductor into the second free holder of the twisting head.
So wird die Seitenkopierung (20) bei einer Schienenlücke zu einem erhöhten Messausschlag führen und anschließend in die Gegenrichtung zur Gleismitte hin ausgelenkt, dass sie auf der Radlenkerseite (30) bzw. Flügelschienenseite (31) zur Anlage kommt.
The lateral copying unit (20) will thus result in an increased measurement deflection at a rail gap and subsequently will be deflected in the opposite direction toward the track center, so that it comes into contact on the check rail side (30) or wing rail side (31).
Somit ist die Seitenkopierung (20) vor der als nächstes kommenden Störstelle wie zum Beispiel der Herzstückspitze (32) geschützt.
The lateral copying unit (20) is thus protected from the next occurring interfering point, for example, the frog tip (32).
Kommt es zu keiner Anlage der Seitenkopierung (20) und wird die Seitenkopierung (20) bis zu einer definierten Endlage in Richtung Gleismitte ausgelenkt, handelt es sich in diesem Fall beim Überfahren der Schienenlücke um keine Spurkanalkreuzung wie beim Herzstück (32) einer Weiche bzw. zum Beispiel beim Einfachherzstück (32) oder Doppelherzstück einer Kreuzung, sondern aufgrund eines Nichterreichens einer Anlaufkontur um ein Überfahren einer Schienenstoßlücke.
If there is no contact of the lateral copying unit (20) and the lateral copying unit (20) is deflected up to a defined end position in the direction of the track center, in this case, during the passage over the rail gap, there is not a track channel crossing as in the case of the frog (20) of a shunt or, for example, in the case of a single frog (32) or double frog of an intersection, but rather a travel over a rail butt joint gap, because of not reaching a starting contour.