mwirth-epo/epo-nmt-datasets huggingface dataset:
In Figur 2sind die Luftabstände zwischen den Linsen, beziehungsweise die Dicken d1 bis d21 der optischen Elemente sowie die Korrekturfunktion LA1 und LA2 dargestellt.
FIG. 2depicts the air gaps between the lenses and the thicknesses d1to d21of the optical elements, and the corrective functions LA1and LA2.
Die Korrekturfunktion LA2 dient zur Beseitigung sphärischer Aberrationen über die Veränderung des Luftabstandes d8 im Stellbereich des Nijboer-Zernike Koeffizienten 3. Ordnung.
The corrective function LA2eliminates spherical aberrations by changing the air gap d8in the adjusting range of the Nijboer-Zernike coefficient of the 3rd order.
Über die Korrekturfunktion LA1 erfolgt eine Einstellung des Farblängsfehlers durch Drehung der Kurve s(λ), welche die Abhängigkeit des Farbortes s von der Wellenlänge λ beschreibt.
The corrective function LA1is used for adjusting the longitudinal chromatic aberration by rotating the curve s(λ), which describes the color point s as a function of the wavelength λ.
Dazu ist der Luftabstand d3 in einem Stellbereich von ± 0,17 mm veränderbar.
For that purpose, the air gap d3is adjustable within an adjusting range of ±0.17 mm.
Figur 3zeigt das erfindungsgemäße Mikroskopobjektiv mit den Radien r0 bis r21 der einzelnen Linsen L2 bis L15.
FIG. 3shows the microscope objective according to the invention with the radii r0to r21of the single lenses L2to L15.
In Figur 4wird das Mikroskopobjektiv mit dem nachgeschalteten Tubuslinsensystem, welches durch die Linsen L1T bis L4T, deren Dicken, beziehungsweise Luftabstände zwischen den optischen Elementen d1T bis d5T sowie deren Radien r1T bis r6T charakterisiert ist, dargestellt.
FIG. 4depicts the microscope objective with the downstream tube lens system, which is characterized through the lenses L1T to L4T, their thicknesses and/or air gaps between the optical elements d1T to d5T and their radii r1T to r6T.
Ein Farbkurvenverlauf bei Änderung des Luftabstandes d3 (Korrekturfunktion LA1) wird in Figur 6dargestellt.
FIG. 6shows a course of the chromatic curve with a change of the air gap d3(corrective function LA1).
L1 bis L15Linse Mikroskopobjektivd1 bis d21Dicke/Luftabstand MikroskopobjektivT1, T2, T3Teilsystem Mikroskopobjektivr0 bis r21Radien MikroskopobjektivLA1, LA2KorrekturfunktionOEObjektebeneL1T bis J4TLinse Tubuslinsensystemd1T bis d5TDicke/Luftabstand Tubuslinsensystemr1T bis r6TRadien TubuslinsensystemλWellenlängesFarbortneBrechzahlveAbbezahl Planapochromatisch korrigiertes Mikroskopobjektiv für hochauflösende Mikroskopieanwendungen mit wechselnden dispersiven Immersionsverhältnissen, welches aus mehreren Linsen und/oder Linsengruppen umfassenden Teilsystemen zusammengesetzt ist, eine Korrekturfunktion (LA2) zur Beseitigung sphärischer Aberration durch Veränderung von Luftabständen zwischen den Linsen oder Abstandskombinationen aufweist und eine weitere Korrekturfunktion (LA1) zur Beseitigung von Farblängsfehlern durch Veränderung von Luftabständen oder Abstandskombinationen besitzt, wobei die Einflussnahme auf den Farblängsfehler einer Drehung der Kurve s(λ), welche die Abhängigkeit des Farbortes (s) von der Wellenlänge (λ) beschreibt, entspricht.
A planapochromatically-corrected microscope objective for high-resolution microscopy applications with changing dispersive immersion conditions, comprising: a plurality of lenses and/or subsystems comprising lens groups, having a first corrective function (LA2) that minimizes spherical aberration by changing air gaps or air gap combinations between the lenses, anda second corrective function (LA1) that minimizes longitudinal chromatic aberration by changing air gaps or air gap combinations, wherein influence on the longitudinal chromatic aberration corresponds to a rotation of the curve s(λ) which describes color point (s) as a function of wavelength (λ). a plurality of lenses and/or subsystems comprising lens groups, having a first corrective function (LA2) that minimizes spherical aberration by changing air gaps or air gap combinations between the lenses, and a second corrective function (LA1) that minimizes longitudinal chromatic aberration by changing air gaps or air gap combinations, wherein influence on the longitudinal chromatic aberration corresponds to a rotation of the curve s(λ) which describes color point (s) as a function of wavelength (λ).
Planapochromatisches korrigiertes Mikroskopobjektiv nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dassdie Korrekturfunktion (LA1) zur Veränderung des Farblängsfehlers durch Verstellung des Luftabstandes (d3) zwischen der Linse (L2) und der Einzellinse (L3) des ersten Teilsystems (T1) durchführbar ist.
The planapochromatically-corrected microscope objective according to claim 1, wherein the corrective function (LA1) changes the longitudinal chromatic aberration by adjusting the air gap (d3) between the lens (L2) and the single lens (L3) of the first subsystem (T1).
Planapochromatisches korrigiertes Mikroskopobjektiv nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dassder Stellbereich zur Veränderung des Farblängsfehlers ± 0,17 mm ist.
The planapochromatically-corrected microscope objective according to claim 1, wherein the adjusting range for changing the longitudinal chromatic aberration is about ±0.17 mm.
Planapochromatisches korrigiertes Mikroskopobjektiv nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dassdie Korrekturfunktion (LA2) der sphärischen Aberration zur Veränderung des Nijboer-Zernike Koeffizienten 3. Ordnung über die Verstellung des Luftabstandes (d8) zwischen der zweiten Linse (L5) des ersten Zweifachkittgliedes und der ersten Linse (L6) des zweiten Kittgliedes vom zweiten Teilsystem (T2) durchführbar ist.
The planapochromatically-corrected microscope objective according to claim 2, wherein the corrective function (LA2) of the spherical aberration changes a Nijboer-Zernike coefficient of the 3rd order by adjusting an air gap (d8) between the second lens (L5) of the first double-cemented element and the first lens (L6) of the second double-cemented element of the second subsystem (T2).
Planapochromatisches korrigiertes Mikroskopobjektiv nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dasszur Veränderung der Luftabstände (d3,d8) zum Zwecke der Einstellung der Korrekturfunktionen (LA1, LA2)mechanische, von Hand betätigbare, Mittel vorhanden sind.
The planapochromatically-corrected microscope objective according to claim 1, further comprising mechanical, manually operatable structures for changing the air gaps (d3, d8) for the purpose of adjusting the corrective functions (LA1, LA2).
Planapochromatisches korrigiertes Mikroskopobjektiv nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dasszum Zwecke der Generierung geeigneter Luftabstände (d3,D8) das Objektiv mit einer Steuereinrichtung gekoppelt ist, mit welcher über Zielfunktionen von Optikprogrammen das Verlaufsverhalten der Luftabstände (d3,d8) erfass- und steuerbar ist.
The planapochromatically-corrected microscope objective according to claim 1further comprising a control device coupled with the objective that generates suitable air gaps (d3, d8), and wherein, using target functions of optics programs, said control device allows for recording and controlling course characteristics of the air gaps (d3, d8).
Planapochromatisches korrigiertes Mikroskopobjektiv nach den Ansprüchen 1 bis 5, gekennzeichnet durchfolgende Konstruktionsdaten mit Krümmungsradien r0 bis r21 in mm, den Dicken, beziehungsweise Luftabständen d1 bis d21 in mm, Brechzahlen ne, Abbezahlen ve und der Verwendung einer leicht variablen wasserähnlichen Immersion, bei einem Bildfeld von 23 mm, einer Vergrößerung von 20x, einer objektseitigen Apertur von 1.0, einem freien Arbeitsabstand von 5,6 mm sowie einer Abgleichlänge von 105 mm: Linse L1 - L15Krümmungsradius r0-r21 (mm)Dicke d1 - d21 (mm)Brechzahl neAbbezahl Ve1unendlich (Immersion)7,4231,3827151,642-12,23045,01,6089743,43-8,5343LA1 = 0,183-191,1274,181,6348363,50-21,75380,277422,71215,921,6514152,735-20,24221,811,6413242,2021,287LA2 = 2,426127,09758,41,5301976,587-12,68221,481,6413242,20-25,8510,28824,9388,11,43985494,499-15,96191,21,6413242,201012,05757,31,5944668,00-40,6790,29119,71566,01,5944668,001294,40844,981,8881540,525,3865,27413-7,2853,751,6522233,6014-6,9791,61,7373951,2415-30,946418,581,7900743,80-19,38786,556 Abstand zur Tubuslinsemit folgenden Konstruktionsdaten des Tubuslinsensystems, wobei r1T bis r6T die Krümmungsradien in mm und d1T bis d5T die Dicken, beziehungsweise Luftabstände in mm sind: Linse L1T - L4TKrümmungsradius r1T - r6T (mm)Dicke d1T-d5T (mm)Brechzahl neAbbezahl Ve145,64488,01,5712555,702-67,31344,51,7230829,3945,31620,23143,282714,61,5966735,034-34,22886,31,5187263,96-137,263363,36 Abstand zum Bildort
The planapochromatically corrected microscope objective according to claim 1, wherein the objective meets following design data with radii of curvature r0to r21in mm, thicknesses or air gaps d1to d21in mm, refractive indices ne, Abbe numbers ye, and the use of a slightly variable, water-like immersion, at an image field of 23 mm, a magnification of 20, an aperture of 1.0 facing the object, a free working distance of 5.6 mm and a parfocal length of 105 mm: Radius ofcurvatureThicknessRefractiveAbbeLensr0-r21d1-d21indexnumber L1-L15(mm)(mm)neνe1Infinite7.4231.3827151.64(immersion)2−12.23045.01.6089743.43−8.5343LA1 =0.183−191.1274.181.6348363.50−21.75380.277422.71215.921.6514152.735−20.24221.811.6413242.2021.287LA2 =2.426127.09758.41.5301976.587−12.68221.481.6413242.20−25.8510.28824.9388.11.43985494.499−15.96191.21.6413242.201012.05757.31.5944668.00−40.6790.29119.71566.01.5944668.001294.40844.981.8881540.525.3865.27413−7.2853.751.6522233.6014−6.9791.61.7373951.2415−30.946418.581.7900743.80−19.38786.556Distancetotube lens with following design data of the tube lens system, wherein r1T to r6T denote the radii of curvature in mm, and d1T to d5T denote the thicknesses or air gaps in mm: Radius ofLenscurvatureThicknessRefractiveAbbeL1T-r1T-r6Td1T-d5Tindexnumber L4T(mm)(mm)neνe145.64488.01.5712555.702−67.31344.51.7230829.3945.31620.23143.282714.61.5966735.034−34.22886.31.5187263.96−137.263363.36Distanceto imagelocation
Innerhalb der inaktiven Zonen 5a, 5b tritt in Stapelrichtung 14 gesehen keine Überlappung von benachbarten gegenpoligen Elektrodenschichten 4 auf.
No overlap of adjacent electrode layers 4of opposite polarities occurs within the inactive zones 5a, 5b, as seen in the stacking direction 14.
Auf zwei gegenüberliegende Außenseiten 2a, 2b des Stapels 2, die an die inaktiven Zonen 5a, 5b angrenzen, ist eine Grundmetallisierung 10 aufgebracht.
A base metallization 10is applied to two opposite outer sides 2a, 2b of the stack 2, said outer sides adjoining the inactive zones 5a, 5b.
Die Grundmetallisierung 10 wird vorzugsweise in Form einer Silber-Palladium-Paste oder einer kupferhaltigen Paste auf einen Teilbereich der Außenseite des Stapels 2 aufgetragen und beim Sintern des Stapels mit eingebrannt.
The base metallization 10is preferably applied in the form of a silver-palladium paste or a copper-containing paste to a partial region of the outer side of the stack 2and concomitantly fired during the sintering of the stack.
Die Außenelektroden 6a, 6b sind jeweils mittels einer Lotschicht 11 an der Grundmetallisierung 10 befestigt.
The outer electrodes 6a, 6b are in each case fixed to the base metallization 10by means of a solder layer 11.
Durch die Pressverformung der Außenelektrode 6 im zweiten Bereich 8, beispielsweise mittels eines Crimpwerkzeuges, unterscheidet sich die Außenelektrode 6 nach der Pressverformung in ihrer Dicke 18 im ersten Bereich 7 von ihrer Dicke 19 im zweiten Bereich 8. Insbesondere weist die Außenelek- trode 6 im ersten Bereich 7 eine geringere Dicke 18 auf als im zweiten Bereich 8. Durch die Pressverformung der Außenelektrode 6 im zweiten Bereich 8 kann die Geometrie des zweiten Bereiches 8 der Außenelektrode 6 den spezifischen geometrischen Anforderungen einer Weiterkontaktierung 12 angepasst werden.
As a result of the pressure-deformation of the external electrode 6in the second region 8, for example by means of a crimping tool, the external electrode 6differs in terms of its thickness 18in the first region 7from its thickness 19in the second region 8after the pressure-deformation.
Figur 3 zeigt eine seitliche Aufsicht des piezoelektrischen Vielschichtbauelements 1 gemäß Figur 1, wobei das Bauelement 1 im Vergleich zum Bauelement 1 in Figur 1 um 180 Grad bezüglich der Stapelrichtung 14 gedreht ist.
FIG. 3shows a lateral plan view of the piezoelectric multilayer component 1in accordance with FIG. 1, wherein the component 1is rotated by 180 degrees with respect to the stacking direction 14in comparison with the component 1in FIG. 1.
Die Außenelektrode 6 ist im ersten Bereich 7 flächig ausgeführt und weist eine Hauptfläche 15 auf, an der sie beispielsweise mittels eines Weichlots am Stapel 2 befestigt ist.
The external electrode 6is embodied in planar fashion in the first region 7and has a main area 15, at which it is fixed to the stack 2for example by means of a soft solder.
Durch die Pressverformung unterscheidet sich die Außenelektrode 6 in ihrer Breite 17 im zweiten Bereich 8 von ihrer Breite 16 im ersten Bereich 7. Durch eine schlankere Form der Außenelektrode 6 im zweiten Bereich 8 kann beispielsweise das Anbringen einer Weiterkontaktierung 12 erleichtert oder die Außenelektrode 6 ihrem Einbauraum angepasst werden.
By virtue of a more slender form of the external electrode 6in the second region 8, by way of example, the fitting of a further contact-connection 12can be facilitated or the external electrode 6can be adapted to its installation space.
Eine solche Weiterkontaktierung 12 dient der Spannungsversorgung und ist beispielsweise durch eine Lötung oder eine Schweißung im zweiten Bereich 8 an der Außenelektrode 6 befestigt.
Such a further contact-connection 12serves for supplying voltage and is fixed to the external electrode 6in the second region 8for example by means of a soldering or a welding.
Durch das Befestigen der Weiterkontaktierung 12 im zweiten Bereich 8 der Außenelektrode 6 kann beispielsweise können beispielsweise Löt- und Schweißprozesse an der Oberfläche des Stapels 2, welche zu einer Beschädigung des Stapels 2 führen können, vermieden oder reduziert werden.
As a result of the further contact-connection 12being fixed in the second region 8of the external electrode 6, it is possible for example it is possible for example to avoid or reduce soldering and welding processes at the surface of the stack 2which may lead to damage to the stack 2.
Die Figuren 4A, 4B und 4C zeigen Verfahrensschritte eines Verfahrens zur Ausbildung einer Außenelektrode bei einem piezoelektrischen Vielschichtbauelement.
FIGS. 4A, 4B and 4C show method steps of a method for forming an external electrode in a piezoelectric multilayer component.
Figur 4A zeigt einen Stapel 2 aus piezoelektrischen Schichten 3 und dazwischen angeordneten Elektrodenschichten (hier nicht gezeigt), an welchem ein leitfähiges Element 9 aufweisend einen ersten Bereich 7 und einen zweiten Bereich 8 angeordnet und befestigt wird.
FIG. 4Ashows a stack 2of piezoelectric layers 3and electrode layers (not shown here) arranged therebetween, at which stack a conductive element 9having a first region 7and a second region 8is arranged and fixed.
Der zweite Bereich 8 stellt eine Verlängerung des ersten Bereichs 7 dar.
The second region 8constitutes an extension of the first region 7.
Das Element 9 ist flächig geformt, d.h. es ist flach ausgebildet und erstreckt sich über einen großen zweidimensionalen Bereich.
The element 9is shaped in planar fashion, i.e., it is embodied such that it is flat and extends over a large two-dimensional region.
Der flächig geformte Bereich im ersten Bereich 7 wird als Hauptfläche 15 des Elements 9 bezeichnet.
The region shaped in planar fashion in the first region 7is designated as a main area 15of the element 9.
Das leitfähige Element 9 wird so am Stapel 2 angeordnet, dass es im ersten Bereich 7 mit seiner Hauptfläche 15 vollflächig am Stapel 2 anliegt und im zweiten Bereich 8 in Stapelrichtung 14 über den Stapel 2 übersteht.
The conductive element 9is arranged at the stack 2such that it bears on the stack 2over the whole area with its main area 15in the first region 7and projects beyond the stack 2in the stacking direction 14in the second region 8.
Anschließend wird das Element 9, beispielsweise mittels Lötens, im ersten Bereich 7 mit seiner Hauptfläche 15 am Stapel 2 befestigt.
Afterward, the element 9is fixed to the stack 2by its main area 15in the first region 7, for example by means of soldering.
Figur 4B zeigt den Stapel 2 und das leitfähige Element 9 nach dem Befestigen des Elements 9 am Stapel 2 und stellt das Pressverformen eines Teiles des zweiten Bereiches 8 des Elements 9 mittels eines Presswerkzeuges 13 dar.
FIG. 4Bshows the stack 2and the conductive element 9after the element 9has been fixed to the stack 2and illustrates the pressure-deforming of a part of the second region 8of the element 9by means of a pressing tool 13.
Dabei wird ein Presswerkzeug 13 mit Presszangen im zweiten Bereich 8 an zwei verschiedenen Seiten des Elements 9 angeordnet und danach zusammengepresst.
In this case, a pressing tool 13comprising pressing tongues is arranged in the second region 8at two different sides of the element 9and then pressed together.
Als Presswerkzeug 13 kann zum Beispiel ein Crimpwerkzeug verwendet werden.
By way of example, a crimping tool can be used as the pressing tool 13.
Figur 4C zeigt das leitfähige Element 9 nach dem Schritt des Pressverformens.
FIG. 4Cshows the conductive element 9after the pressure-deforming step.
Durch das im zweiten Bereich 8 zumindest teilweise pressverformte leitfähige Element 9, welches am Stapel 2 befestigt ist, ist eine Außenelektrode 6 ausgebildet.
An external electrode 6is formed by the conductive element 9which is at least partly pres sure-deformed in the second region 8and which is fixed to the stack 2.
Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung an Hand der Ausführungsbeispiele auf diese beschränkt, sondern umfasst jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen.
The invention is not restricted to the exemplary embodiments by the description on the basis of said exemplary embodiments, but rather encompasses any novel feature and also any combination of features.
Dies beinhaltet insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.
This includes, in particular, any combination of features in the patent claims, even if this feature or this combination itself is not explicitly specified in the patent claims or exemplary embodiments.
Bezugs zeichenliste 1 piezoelektrisches Vielschichtbauelement 2 Stapel 2a, 2b Außenseite 3 piezoelektrische Schicht 4 Elektrodenschicht 5a, 5b inaktive Zone 6, 6a, 6b Außenelektrode 7 erster Bereich 8 zweiter Bereich 9 Element 9a erste Teilfläche 9b zweite Teilfläche 10 Grundmetallisierung 11 Lotschicht 12 Weiterkontaktierung 13 Presswerkzeug 14 Stapelrichtung 15 Hauptfläche 16 Breite im ersten Bereich 17 Breite im zweiten Bereich 18 Dicke im ersten Bereich 19 Dicke im zweiten Bereich 20 Draht Piezoelektrisches Vielschichtbauelement (1) - mit einem Stapel (2) aus piezoelektrischen Schichten (3) und dazwischen angeordneten Elektrodenschichten (4) und - mit mindestens einer Außenelektrode (6, 6a, 6b) aufweisend einen ersten Bereich (7), der am Stapel (2) befestigt ist, und einen zweiten Bereich (8), der über den Stapel (2) übersteht, - wobei die Außenelektrode (6, 6a, 6b) im zweiten Bereich (8) zumindest teilweise pressverformt ist.
A piezoelectric multilayer component comprising: a stack of piezoelectric layers and electrode layers arranged therebetween; andan external electrode having a first region, that is fixed to the stack, and a second region that projects beyond the stack, wherein the external electrode is at least partly pressure-deformed in the second region. a stack of piezoelectric layers and electrode layers arranged therebetween; and an external electrode having a first region, that is fixed to the stack, and a second region that projects beyond the stack, wherein the external electrode is at least partly pressure-deformed in the second region.
Vielschichtbauelement nach Anspruch 1, - wobei der erste und der zweite Bereich (7, 8) aus einem gemeinsamen Element (9) gebildet sind.
The multilayer component according to claim 16, wherein the first and second regions are formed from a common element.
Vielschichtbauelement nach einem der Ansprüche 1 oder 2, - bei dem die Außenelektrode (6, 6a, 6b) zumindest teilweise flach ausgebildet ist und eine Hauptfläche (15) aufweist.
The multilayer component according to claim 16, wherein the external electrode is embodied such that it is at least partly flat and has a main area.
Vielschichtbauelement nach Anspruch 3, - wobei die Außenelektrode (6, 6a, 6b) im ersten Bereich (7) mit ihrer Hauptfläche (15) am Stapel (2) angeordnet ist.
The multilayer component according to claim 18, wherein the external electrode is arranged with its main area at the stack in the first region.
Vielschichtbauelement nach einem der Ansprüche 3 oder 4, - wobei im zweiten Bereich (8) mindestens eine Teilfläche (9a, 9b) der Außenelektrode (6, 6a, 6b) gegenüber der Hauptfläche (15) der Außenelektrode (6, 6a, 6b) geneigt ist.
The multilayer component according to claim 18, wherein, in the second region, at least one partial area of the external electrode is inclined relative to the main area of the external electrode.
6. Vielschichtbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 5, - wobei im zweiten Bereich (8) mindestens zwei Teilflächen (9a, 9b) der Außenelektrode (6, 6a, 6b) aneinander anliegen.
The multilayer component according to claim 16, wherein, in the second region, at least two partial areas of the external electrode bear against one another.
7. Vielschichtbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 6, - wobei die Außenelektrode (6, 6a, 6b) im zweiten Bereich (8) zumindest teilweise gefaltet ist.
The multilayer component according to claim 16, wherein the external electrode is at least partly folded in the second region.
8 Vielschichtbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 7, - bei dem die Außenelektrode (6, 6a, 6b) als Netz ausgebildet ist, - wobei das Netz Drähte (20) aufweist, die miteinander verwebt sind.
The multilayer component according to claim 16, wherein the external electrode is embodied as a net; andwherein the net has wires which are interwoven. wherein the external electrode is embodied as a net; and wherein the net has wires which are interwoven.
Vielschichtbauelement nach Anspruch 8, - bei dem wenigstens ein Draht (20) aus dem ersten Bereich (7) in den zweiten Bereich (8) hineinführt.
The multilayer component according to claim 23, wherein at least one of the wires leads from the first region into the second region.
10. Vielschichtbauelement nach einem der Ansprüche 8 oder 9, - bei dem im zweiten Bereich (8) wenigstens ein Draht (20) mindestens zwei Drahtabschnitte aufweist, - wobei der Draht (20) im ersten Drahtabschnitt eine andere Dicke aufweist als im zweiten Drahtabschnitt.
The multilayer component according to claim 23, wherein, in the second region, at least one of the wires has first and second wire sections, andwherein the wire has a different thickness in the first wire section than in the second wire section. wherein, in the second region, at least one of the wires has first and second wire sections, and wherein the wire has a different thickness in the first wire section than in the second wire section.
11. Vielschichtbauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 10, - bei dem die Außenelektrode (6, 6a, 6b) im zweiten Bereich (8) mindestens einen Teilbereich aufweist, in dem die Breite (17) der Außenelektrode (6, 6a, 6b) geringer ist als die Breite (16) der Außenelektrode (6, 6a, 6b) im ersten Bereich (7).
The multilayer component according to claim 16, wherein the external electrode has, in the second region, at least one partial region in which a width of the external electrode is less than a width of the external electrode in the first region.