MEMS

MEMS（メムス、Micro Electro Mechanical Systems）は、機械要素部品、センサ、アクチュエータ、電子回路を一つのシリコン基板、ガラス基板、有機材料などの上に微細加工技術によって集積化したデバイスを指す。プロセス上の制約や材料の違いなどにより、機械構造と電子回路が別なチップになる場合があるが、このようなハイブリッドの場合もMEMSという。 主要部分はLIGAプロセスや半導体集積回路作製技術にて作るが、立体形状や可動構造を形成するための犠牲層エッチングプロセスをも含む。 本来、MEMSはセンサなどの既存のデバイスの代替を主な目的として研究開発が進められていたが、近年はMEMSにしか許されない環境下での実験手段として注目されている。例えば、電子顕微鏡の中は高真空で微小な空間だが、MEMSならばその小ささと機械的性質を利用して電子顕微鏡下での実験を行うことができる。また、DNAや生体試料などのナノ・マイクロメートルの物質を操作・捕獲・分析するツールとしても活躍している。 現在、製品として市販されている物としては、インクジェットプリンタのヘッド、圧力センサ、加速度センサ、ジャイロスコープ、プロジェクタ・写真焼付機等に利用されるDMD、光造形式3Dプリンターやレーザープロジェクタ等に使用されるガルバノメータなどがあり、徐々に応用範囲は拡大しつつある。 市場規模が拡大して応用分野も多岐にわたるため、期待は大きく、第二のDRAMと言われたこともある。 歴史的には古くから機械構造を半導体製作技術で作製する方法が行われてきた。1951年にはRCA社によりシャドーマスクが製作され、1963年には既に豊田中央研究所により半導体圧力センサが発表されている。1970年頃にはスタンフォード大学でNASAの委託研究でガスクロマトグラフがシリコンウエハ上に作成された。MEMSの定義にもよるが、いくつかの文献では世界で最初のMEMSは1967年に発表されたH. C. Nathansonによる「The Resonant Gate Transistor」となっている。ただし、圧力センサもMEMSに分類されるので豊田中研の半導体圧力センサもMEMSと考えられ、どれが世界初であるかについては議論が分かれる。 このような微細な機械構造が注目を集めるきっかけとなったのは1987年のTransducers'87で発表されたマイクロギアやタービンである。その後、マイクロモータ、櫛歯型アクチュエータなどの発明により脚光を浴びる。初期の段階では動くだけで良かったが最近では応用を見据えたデバイスが主流である。 現在では後述のように多様な応用先があるため、MEMS応用の市場規模は日本国内だけでも数千億円にものぼり、将来的には数兆円規模になると言われている。 プロセスの見地では、最近まで半導体集積回路技術と近いサーフェイスマイクロマシニングが主流であったが、ICP-RIEによる深掘りエッチングやウエハ接合、LIGAプロセス技術などMEMS特有のプロセス技術の発展によりバルクマイクロマシニングが主流となってきている。 CMOS回路と組み合わせたデバイスはCMOS回路とのプロセス技術の整合性からサーフェイスマイクロマシニングを用いる場合が多いが、SOIウエハを用いてバルクマイクロマシニングとCMOS回路を組み合わせたデバイスも多くなってきている。 市販されている代表的なデバイス プリンタヘッド: 特にインクジェットプリンタ用 圧力センサ 加速度センサ ジャイロスコープ 光スキャナ (ガルバノメータ) AFM用カンチレバー 流路モジュール デジタルミラーデバイス(DMD) HDDのヘッド DNAチップ 光スイッチ ボロメータ型赤外線撮像素子 波長可変レーザー (共振器を可変長化する) 光変調器 研究段階の物や期待される応用分野 主に微小な高周波スイッチや共振器を実現する。 機械的な高周波スイッチの場合、半導体の高周波スイッチより動作速度は遅いものの、低損失のスイッチが実現できる。 共振器は小型で高いQ値を持つものが作製可能である。水晶を用いても高いQ値を実現できるが、シリコンで作製できるため集積回路との集積化が容易である。 高周波スイッチ フィルタ 発振器用振動子：水晶振動子と置き換えて使う 光通信用光スイッチ 光スキャナ 投射型ディスプレイ 電子ペーパ ヘッドマウントディスプレイ マイクロバルブ マイクロ流路 DNA分析チップ 蛋白質分析チップ 血液検査チップ 能動カテーテル ドラッグデリバリシステム 圧力センサ 触覚センサ 慣性センサ 加速度センサ ジャイロセンサ 化学センサ マイクロフォン：ECMの代わりに使う マイクロスラスタ マイクロカロリーメータ 集積回路作製技術以外にMEMSで用いられる技術 バルクマイクロマシニング(Bulk Micromachining) サーフェイスマイクロマシニング(Surface Micromachining) 犠牲層エッチング 深掘りエッチング:ICP-RIE 異方性エッチング 多段エッチング フォトリソグラフィ LIGA 3次元リソグラフィ 電子線直描 厚膜レジスト 直接接合 陽極接合 構造が簡単で小型化に向いている。発生力は他の方法に比べて小さい。MEMSでは最も使われる駆動原理 平行平板型静電アクチュエータ 櫛歯型静電アクチュエータ スクラッチドライブアクチュエータ (Scratch Drive Actuator:SDA) 静電マイクロモータ コイルや磁石が必要になるため、静電型に比べ構造が複雑で大きいが、大きな力を発生することができる。ヒステリシスやドリフトを伴うこともある。 電磁力アクチュエータ 磁歪アクチュエータ 大きな力を発生できるが、変位が小さい。 圧電型アクチュエータ 圧電バイモルフ 構造が簡単で、大きな力を発生できるが、ドリフトなどの不安定要素がある 熱バイモルフアクチュエータ 熱膨張型 圧縮気体を用いたもの 電気分解を用いたもの MEMSは微小構造物なので、解析を行う際には汎用的なシミュレーションソフトウェアでは、微小構造による特有の現象を考慮していないため正確な解析を行うことができない。近年ではPCのスペックも向上しているため汎用シミュレーションでも解析が可能であると紹介されているが、静電デバイスやシステム解析といった総合的なMEMS設計を考えると汎用ソフトウェアより専門ソフトウェアに優位性がある。 専門ソフトウェア ・IntelliSuite　(IntelliSense社)[1] ・CoventorWare ^ 宇宙船内の空気の成分を分析して宇宙飛行士の健康状態を調べる目的だったとされる。 ^ James B. Angell; Stephen C. Terry; Phillip W. Barth (1983年4月). “Silicon Micromechanical Devices”. サイエンティフィック・アメリカン 248 (4): 44 - 55.  ^ J.B.エンジェル、S.C.テリー、P.W.バース「シリコン基板に組み込んだマイクロセンサー」、『サイエンス』、日経サイエンス社、1983年6月号、 18頁。 ^ Nathanson, H.C. Newell, W.E. Wickstrom, R.A. Davis, J.R., Jr., "The resonant gate transistor," IEEE Transactions on Electron Devices, 1967, Volume 14, Issue 3 On pages 117- 133 ^ 出典:ＭＥＭＳ関連市場の現状と将来予測について。マイクロマシンセンター:http://mmc.la.coocan.jp/research/market/market2007/market2007.html James B. Angell; Stephen C. Terry; Phillip W. Barth (1983年4月). “Silicon Micromechanical Devices”. サイエンティフィック・アメリカン 248 (4): 44 - 55.  J.B.エンジェル、S.C.テリー、P.W.バース「シリコン基板に組み込んだマイクロセンサー」、『サイエンス』、日経サイエンス社、1983年6月号、 18頁。 江刺正喜 藤田博之 マイクロマシン、マイクロボット マイクロファブリケーション Transducers NEMS micro-TAS センサネットワーク スマートダスト(Smart dust) MEMS-IGZOディスプレイ ナノトライボロジー 動画のMEMSとそのアプリケーションに. アナログデバイセズ MEMSセンサー