El grabado por plasma de baja presión con un componente direccional se denomina grabado iónico reactivo (RIE). El método de RIE es el proceso de aplicar una carga a la superficie de la pieza que se desea grabar. Esta carga acelera el grabado por plasma con la carga opuesta directamente en la muestra que se grabará. Esta aceleración direccional del plasma de grabado aumenta la velocidad de grabado de la muestra en una dirección. La velocidad de grabado direccional produce estructuras grabadas con paredes que son más verticales. Estas paredes verticales permiten la producción de características más pequeñas o más densas en comparación con las características grabadas sin un proceso direccional.